EP2129478B1 - Verfahren zur bereitstellung eines reinigungsmediums und verfahren und reinigungsvorrichtung zur reinigung eines werkstücks - Google Patents

Verfahren zur bereitstellung eines reinigungsmediums und verfahren und reinigungsvorrichtung zur reinigung eines werkstücks Download PDF

Info

Publication number
EP2129478B1
EP2129478B1 EP08734933.8A EP08734933A EP2129478B1 EP 2129478 B1 EP2129478 B1 EP 2129478B1 EP 08734933 A EP08734933 A EP 08734933A EP 2129478 B1 EP2129478 B1 EP 2129478B1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
cleaning
reservoir
cleaning fluid
pressure
cleaning gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Not-in-force
Application number
EP08734933.8A
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
EP2129478A1 (de
Inventor
Egon KÄSKE
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ecoclean GmbH
Original Assignee
Duerr Ecoclean GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Duerr Ecoclean GmbH filed Critical Duerr Ecoclean GmbH
Publication of EP2129478A1 publication Critical patent/EP2129478A1/de
Application granted granted Critical
Publication of EP2129478B1 publication Critical patent/EP2129478B1/de
Not-in-force legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B7/00—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
    • B05B7/24—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas with means, e.g. a container, for supplying liquid or other fluent material to a discharge device
    • B05B7/26—Apparatus in which liquids or other fluent materials from different sources are brought together before entering the discharge device
    • B05B7/262—Apparatus in which liquids or other fluent materials from different sources are brought together before entering the discharge device a liquid and a gas being brought together before entering the discharge device
    • B05B7/267—Apparatus in which liquids or other fluent materials from different sources are brought together before entering the discharge device a liquid and a gas being brought together before entering the discharge device the liquid and the gas being both under pressure
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02—Cleaning by the force of jets or sprays

Definitions

  • the present invention relates to a method for providing a cleaning medium.
  • a cleaning liquid is pressurized and sprayed onto the workpiece in order to ablate or rinse off the contaminants from the workpiece.
  • the WO 99/34422 A discloses a method for cleaning a silicon wafer in which a cleaning liquid is introduced by means of a pump from a liquid storage in a mixing chamber and injected under an elevated pressure carrier gas by means of a small-sized blowing tube into the cleaning chamber located in the mixing liquid, wherein the injected carrier gas is saturated with a vapor of the cleaning liquid.
  • the saturated with the vapor of the cleaning liquid carrier gas leaves the mixing chamber immediately and passes through a cooling device, whereby the vapor of the cleaning liquid condenses at least partially.
  • the carrier gas with the contained therein drops of cleaning fluid through nozzles on the silicon wafer.
  • the present invention has for its object to provide a method for providing a cleaning medium, the efficiency of which is improved over known methods.
  • This object is achieved in a method for providing a cleaning medium in that a cleaning gas, in particular air, is introduced into a memory, and that a pressurized cleaning liquid for pressurizing the standing under an outlet pressure cleaning gas is introduced into the memory.
  • the method according to the invention makes it possible to provide a cleaning medium comprising a cleaning gas and a cleaning liquid. Since the cleaning liquid is pressurized, the cleaning gas under an initial pressure can be pressurized with the aid of the cleaning liquid. This has the advantage that no further devices, in particular compressors, are required for pressurizing the cleaning gas. This simplifies the provision of a cleaning medium comprising a high-pressure cleaning gas.
  • the cleaning gas and the cleaning liquid are successively introduced into the memory. This has the advantage that the partial volumes that occupy the cleaning gas and the cleaning liquid in the memory, can be particularly well matched.
  • the cleaning gas and then the cleaning liquid is introduced into the reservoir.
  • the amount of cleaning gas introduced into the memory can be set particularly accurately.
  • the cleaning gas and the cleaning liquid can be introduced simultaneously into the memory.
  • This has the advantage that the total time required to provide the cleaning medium can be reduced. Furthermore, it is possible to first introduce cleaning gas into the storage, then for a certain time to introduce cleaning gas and cleaning liquid simultaneously into the storage and finally to introduce only cleaning liquid into the storage.
  • the cleaning gas and the cleaning liquid are brought into direct contact with each other in the reservoir.
  • the memory can be constructed very easily, without a separating element between the cleaning gas and the cleaning liquid.
  • the memory may be in the form of a storage container which provides a common storage volume for the cleaning gas and the cleaning liquid.
  • the cleaning gas before its pressurization by the cleaning liquid is at an outlet pressure which is equal to an ambient pressure.
  • the cleaning gas may be under an initial pressure of at least approximately 1 bar before it is pressurized by the cleaning fluid. This has the advantage that the cleaning gas, in particular air, can be taken directly from the environment of the memory and introduced into the memory.
  • the cleaning gas may be under an initial pressure of at least approximately 2 bar before it is pressurized by the cleaning fluid.
  • the increase in the outlet pressure of the cleaning gas has the advantage that a larger volume fraction for the cleaning gas is available for a given storage volume than at lower outlet pressures.
  • the cleaning gas before its pressurization by the cleaning liquid under an outlet pressure of at most about 10 bar stands.
  • the cleaning gas can be brought to a relative to an ambient pressure increased outlet pressure using simple compressor, without the use of expensive compressors is required.
  • the cleaning gas is provided by means of a cleaning gas supply device, which supplies the cleaning gas with a cleaning gas supply pressure.
  • This cleaning gas supply pressure can in the simplest case correspond to the ambient pressure.
  • the cleaning gas supply device enables a compression of the cleaning gas, for example, to apply this from an ambient pressure of for example about 1 bar with an increased cleaning gas supply pressure of for example at least about 2 bar up to about 10 bar. This makes it possible to introduce a larger amount of cleaning gas in a given storage volume.
  • the introduction of the cleaning gas is controlled in the memory by means of a locking device.
  • the amount of cleaning gas to be introduced into the reservoir can be set particularly well.
  • the cleaning gas is provided by means of a cleaning gas supply device, which supplies the cleaning gas with a cleaning gas supply pressure, and the barrier device is opened from a closed state until the cleaning gas introduced thereby into the reservoir is at an outlet pressure is equal to the cleaning gas supply pressure, and then the locking device is closed.
  • the blocking device can thus be opened until the cleaning gas which has been introduced into the reservoir is under the same pressure, with which the cleaning gas supply device under cleaning gas supply pressure provides standing cleaning gas.
  • the outlet pressure of the cleaning gas that is to say the pressure of the cleaning gas in the reservoir before the pressurization with the cleaning fluid, can be set exactly to the value of the cleaning gas supply pressure.
  • the cleaning gas is provided by means of a cleaning gas supply device, which supplies the cleaning gas with a cleaning gas supply pressure, and the locking device is opened from a closed state only so long that the thereby introduced into the memory cleaning gas under a Output pressure is less than the cleaning gas supply pressure, and then the locking device is closed.
  • the cleaning fluid is brought to a working pressure that exceeds the outlet pressure of the cleaning gas before it is introduced into the reservoir. As a result, the pressurization of the cleaning liquid can take place outside the store.
  • the cleaning liquid is brought to a working pressure of at least about 2 bar prior to introduction into the storage.
  • a working pressure of at least about 2 bar for example, under an initial pressure of 1 bar standing cleaning gas can be applied with twice the pressure.
  • the cleaning liquid is brought to a working pressure of at least about 5 bar prior to introduction into the storage.
  • the cleaning gas can be subjected to a corresponding pressure, so that it can be provided with a pressure which allows a good cleaning effect.
  • the cleaning liquid is brought before introduction into the memory to a working pressure of at most about 80 bar.
  • These pressures can be provided by means of comparatively simple pumps.
  • the cleaning liquid is brought to a working pressure of at most about 40 bar prior to introduction into the storage.
  • a working pressure of at most about 40 bar prior to introduction into the storage.
  • the cleaning liquid is provided by means of a cleaning liquid supply device, which supplies the cleaning liquid with a cleaning liquid supply pressure. This allows easy control of the working pressure with which the cleaning liquid pressurizes the cleaning gas.
  • the introduction of cleaning liquid into the memory is controlled by means of a shut-off device. This allows a precise adjustment of the amount of cleaning liquid that is introduced into the memory.
  • the cleaning liquid is provided by means of a cleaning liquid supply means, which supplies the cleaning liquid with a cleaning liquid supply pressure, and the shut-off device is opened from a closed state until the cleaning liquid introduced thereby into the storage unit removes the cleaning gas with the cleaning liquid.
  • Supply pressure of the cleaning liquid beaufstein, and then the shut-off device is closed.
  • the cleaning liquid may be introduced into the reservoir until the working pressure with which the cleaning liquid acts on the cleaning gas corresponds to the cleaning liquid supply pressure. This allows easy adjustment of the working pressure with which the cleaning fluid acts on the cleaning gas.
  • the cleaning liquid is provided by means of a cleaning liquid supply means, which acts on the cleaning liquid with a cleaning liquid supply pressure, and the shut-off device is opened from a closed state only so long that the thereby introduced into the memory cleaning liquid, the cleaning gas applied to a working pressure which is smaller than the cleaning liquid supply pressure of the cleaning liquid, and then the shut-off device is closed.
  • a cleaning liquid supply means acts on the cleaning liquid with a cleaning liquid supply pressure
  • the shut-off device is opened from a closed state only so long that the thereby introduced into the memory cleaning liquid, the cleaning gas applied to a working pressure which is smaller than the cleaning liquid supply pressure of the cleaning liquid, and then the shut-off device is closed.
  • the cleaning fluid is filtered by means of a filter device. This can be prevented that deposit solids in the memory.
  • the cleaning fluid is removed from a storage container.
  • the cleaning liquid can be provided in sufficiently large quantities even if the process according to the invention is run several times.
  • cleaning liquid under cleaning fluid supply pressure may be returned to the storage container. This ensures that even when not in use of the cleaning liquid it can be kept ready under cleaning fluid supply pressure to then stand in their use, so when introducing the cleaning fluid into the memory, without delay.
  • the present invention further relates to a method of cleaning a workpiece comprising providing a cleaning medium by a method of providing a cleaning medium described above, and supplying the cleaning gas from the memory to the workpiece.
  • the method according to the invention for cleaning a workpiece is particularly suitable for machined workpieces. These may include processing residues such as metal shavings, blast media, foundry sand, and processing fluids that can be removed from the workpiece with the aid of the cleaning gas. Particularly well, the inventive method for removing residues from cavities of engine parts, in particular of cylinder heads.
  • the cleaning method according to the invention can be carried out directly in a processing station in which the workpiece to be cleaned has been processed or is to be processed.
  • the method for cleaning a workpiece comprises feeding the cleaning fluid from the reservoir to the workpiece.
  • This makes it possible to clean the workpiece both with the aid of cleaning gas and with the help of cleaning fluid.
  • a particularly good cleaning effect can be achieved.
  • it is not necessary to provide separate systems for cleaning gas and for cleaning fluid. Rather, a common memory both cleaning gas and cleaning fluid can be removed. This will be at only one very low equipment expense allows a combined application of cleaning gas and cleaning fluid on the same workpiece.
  • the cleaning gas and the cleaning liquid are sequentially fed from the reservoir to the workpiece. In this way, any undesired mixing of the cleaning gas with the cleaning fluid and a premature reduction of the working pressure of the cleaning gas can be avoided.
  • the cleaning gas and then the cleaning liquid is led from the reservoir to the workpiece.
  • This has the advantage that first with the help of the cleaning gas impurities detached from the workpiece and then the contaminants detached from the workpiece with the aid of the cleaning liquid can be rinsed or sprayed. As a result, a particularly good cleaning effect can be achieved.
  • the supply of cleaning gas and / or cleaning liquid from the reservoir to the workpiece is controlled by means of a flow control device. This allows easy adjustment of the volume flow of the cleaning gas and / or the cleaning liquid.
  • the cleaning gas and / or the cleaning liquid can be supplied to the workpiece with an at least approximately temporally constant volume flow. As a result, a particularly uniform cleaning effect can be achieved.
  • the cleaning gas and / or the cleaning liquid can be supplied to the workpiece with a pulsating volume flow.
  • the amount of the supplied cleaning gas and / or the supplied cleaning liquid varies between different volume flow values. This variation can be done at a given frequency.
  • the pulsating volume flow may optionally further increase the cleaning effect.
  • a further embodiment of the invention provides that the cleaning gas is completely or substantially completely displaced from the reservoir before or during the supply of cleaning liquid to the workpiece. This makes it possible to use the entire amount of cleaning gas available in the store.
  • the invention further relates to a cleaning device for cleaning a workpiece, with a memory for storing a cleaning medium - and with a feed device for the supply of the cleaning medium from the memory to the workpiece.
  • the invention is based on the further object to provide a cleaning device with which an efficient provision of a cleaning medium is made possible.
  • This object is achieved in a cleaning device having the features of the preamble of claim 37 according to the invention that the memory with a cleaning gas supply device for introducing a cleaning gas, in particular air, is connected to the memory and that for pressurizing the cleaning gas of the memory with a Cleaning liquid supply device is connected to the introduction of pressurized cleaning liquid in the memory.
  • the cleaning gas supply device comprises a venting device which communicates with the environment of the cleaning device.
  • the cleaning gas supply device comprises a cleaning gas supply line for connecting the cleaning gas supply device with the memory. This makes it possible to supply cleaning gas from a spatially remote cleaning gas source to the memory.
  • the cleaning gas supply line opens or in an upper area in the position of use of the storage.
  • This has the advantage that the cleaning gas can be fed directly to an upper area of the memory. In this way, any undesired mixing with the cleaning liquid can be avoided. This mixing can be avoided, in particular, if the cleaning gas supply line opens on or in an uppermost region of the storage in the position of use of the storage.
  • the cleaning liquid supply device comprises a pressurizing device for pressurizing the cleaning liquid.
  • a pressurizing device for pressurizing the cleaning liquid.
  • the pressurization device comprises a pump. This can be designed and controlled appropriately for desired quantities and desired cleaning liquid supply pressures.
  • the cleaning fluid supply device comprises a switching device which selectively supplies the cleaning fluid to the reservoir or the reservoir.
  • a switching device which selectively supplies the cleaning fluid to the reservoir or the reservoir. This has the advantage that an optionally provided pump can be operated in continuous operation. When not in use, the cleaning liquid can be supplied to the reservoir. If necessary, standing under the cleaning liquid supply pressure cleaning fluid is available without delay for introduction into the memory.
  • the cleaning device comprises a drain device, which can assume a closed position and an open position, in which the drain device cleaning liquid and / or cleaning gas derives from the memory.
  • the drain device has the advantage that the memory can be emptied without the feed device of the cleaning device having to be used for this purpose.
  • the drain device comprises a drain line. This makes it possible to lead cleaning gas and / or cleaning fluid away from the reservoir.
  • the drain line is fed by a lower position in the use position of the memory, so that the largest possible amount of cleaning gas and / or cleaning liquid can be derived.
  • the drain line is fed by a lowermost in the use position area of the memory, so that the memory can be completely emptied.
  • drain line opens on or in the reservoir of the cleaning fluid supply device. In this way, introduced into the memory cleaning liquid can be returned to the reservoir and introduced from there again in the memory.
  • the supply device comprises a device for generating a pulsating volume flow of cleaning gas and / or cleaning liquid.
  • a device for generating a pulsating volume flow of cleaning gas and / or cleaning liquid is in the WO 03/036144 A1 described, the disclosure of which is hereby incorporated by reference.
  • the feed device comprises a discharge device which discharges the cleaning gas and / or the cleaning liquid in the direction of the workpiece.
  • the application device makes it possible to influence the local distribution with which the cleaning gas and / or the cleaning liquid is conducted onto the workpiece or introduced into the workpiece.
  • the application device comprises at least one nozzle unit, so that the cleaning medium can be applied finely distributed to the workpiece.
  • the present invention further relates to the use of a cleaning device according to one of claims 37 to 61 for carrying out a method according to one of claims 1 to 36.
  • the cleaning device 2 comprises a reservoir 6 into which cleaning gas can be introduced by means of a cleaning gas supply device 8.
  • the cleaning device further comprises a cleaning liquid supply device 10, by means of which cleaning liquid can be introduced into the storage 6.
  • the cleaning device 2 further comprises a feed device 12 for supplying cleaning gas and / or cleaning liquid from the reservoir 6 to the workpiece 4.
  • the cleaning gas supply device 8 comprises a compressor 16 which compresses cleaning gas, in particular air, and pressurizes it with a cleaning gas supply pressure.
  • the cleaning gas supply device 8 further comprises a cleaning gas supply line 18 which directs the cleaning gas from the compressor 16 to the reservoir 6.
  • the cleaning gas supply device 8 further comprises a pressure measuring device 20 with which the cleaning gas supply pressure can be detected.
  • the pressure measuring device 20 is arranged downstream of the compressor 16 when viewed in the flow direction of the cleaning gas. Downstream of the pressure measuring device 20, a locking device 22 is provided, which is designed as a check valve 24. Downstream of the barrier device 22, a venting device 26 is provided, which comprises a venting valve 28, via which the cleaning gas supply line 18 can communicate with an environment 30 of the cleaning device 2.
  • the cleaning gas supply line 18 opens at an uppermost region 32 of the storage 6, which contains a storage volume 34.
  • the cleaning fluid supply device 10 comprises a reservoir 36 for storing cleaning fluid 38.
  • the reservoir 36 feeds a cleaning fluid supply line 40, via which cleaning fluid can be supplied from the reservoir 36 to a pressurization device 42.
  • the pressurizing device 42 is in shape a pump 44 is formed.
  • the pump 44 has both a conveying function to convey cleaning liquid 38 from the reservoir 36 into the reservoir 6, as well as a pressurizing function to apply a cleaning liquid supply pressure to the cleaning liquid 38.
  • the cleaning liquid 38 is passed from the pump 44 to a filter device 46, which is designed as a filter 48. Downstream of the filter 48 branches off at a junction 50, a return line 52, which opens into the reservoir 36.
  • the return line 52 can be opened or closed by means of a first switching valve 54.
  • a second switching valve 56 Downstream of the branch 50, a second switching valve 56 is also provided.
  • the first switching valve 54 and the second switching valve 56 together form a switching device 58.
  • the cleaning fluid supply line 40 leads to a shut-off device 60. This is formed in the form of a shut-off valve 62. Downstream of the shut-off valve 62, the cleaning liquid supply line 40 opens at a lower region 64 of the memory 6.
  • the feeding device 12 comprises a feed line 66, which is fed by an upper region 68 of the memory 6.
  • the feeder 12 further comprises a flow control device 70, which is designed as a flow control valve 72.
  • the supply line 66 opens at a discharge device 74, which comprises a nozzle unit 76. With the nozzle unit 76, cleaning gas and / or cleaning liquid 38 can be discharged in the direction of the workpiece 4.
  • the drain device 14 includes a drain line 78 which is fed by a lowermost portion 80 of the memory 6.
  • the drain device 14 comprises Further, a valve 82, so that the drain device 14 can assume a closed position and an open position in which the drain device 14 cleaning liquid 38 and / or cleaning gas can be derived from the memory 6.
  • the drain line 78 opens at or in the reservoir 36.
  • the check valve 24 of the cleaning gas supply device 8 is closed, so that cleaning gas can not get into the memory 6.
  • the venting valve 28 of the venting device 26 is open, so that the cleaning gas supply device 8 downstream of the check valve 24 and the memory 6 are depressurized.
  • the first switching valve 54 of the cleaning liquid supply device 10 is opened, while the second switching valve 56 is closed.
  • the pump 44 suction cleaning liquid 38 from the reservoir 36 and pressurize with a cleaning fluid supply pressure.
  • the pressurized cleaning liquid is filtered by means of the filter 48 and returned via the return line 52 back into the reservoir 36, so that a circulation circuit for the cleaning liquid is formed by the filter device 46.
  • the shut-off valve 62 of the cleaning liquid supply device 10 and the flow control valve 72 of the feeder 12 are closed.
  • the valve 82 of the drain device 14 is open.
  • the memory 6 is completely emptied.
  • the memory 6 can be filled with a cleaning medium. This will be explained below with reference to Fig. 2 described.
  • valve 82 of the drain device 14 is first closed. Subsequently, the vent valve 28 of the cleaning gas supply device 8 is closed and the check valve 24 is opened. As a result, cleaning gas 84 flows from the compressor 16 via the cleaning gas supply line 18 into the reservoir 6. The cleaning gas 84 is then in the reservoir 6 at an outlet pressure.
  • the cleaning gas 84 may also be in the reservoir 6 under an outlet pressure that corresponds to the pressure in the environment 30. In this case, it is not required to densify the purge gas 84 by means of the compressor 16.
  • the check valve 24 is closed. Subsequently, the switching device 58 of the cleaning liquid supply device 10 is driven so that the first switching valve 54 is closed and the second switching valve 56 is opened. This causes the pump 44 no longer directs cleaning liquid 38 via the return line 52 into the reservoir 36, but via the cleaning liquid supply line 40 to the check valve 62. When this is now opened from its closed state, the cleaning liquid flows into the memory. 6 so that the cleaning gas 84 already contained in the reservoir 6 is pressurized from its outlet pressure with the aid of the cleaning fluid 38. The pressure with which the cleaning liquid 38 acts on the cleaning gas 84 is referred to below as working pressure.
  • the memory 6 is sealed in this phase except for the shut-off valve 62.
  • the cleaning liquid 38 can be introduced into the memory 6 until the cleaning liquid 38 and the cleaning gas 84 in the memory 6 under a Pressure corresponding to the cleaning fluid supply pressure, which is predetermined by the pump 44. In this state, the cleaning liquid 38 supplies the cleaning gas 84 with a working pressure equal to the cleaning liquid supply pressure.
  • the flow control valve 72 preferably abruptly, so in the shortest possible time, opened so that the cleaning gas 84 supplied via the supply line 66 of the applicator 74 and with the aid of the nozzle unit 76 the workpiece 4 is blown (see Fig. 3 ).
  • impurities (not shown) are detached from the surfaces and / or from the interior spaces of the workpiece 4.
  • cleaning fluid supply device 10 During the supply of cleaning gas 84 from the reservoir 6 to the workpiece 4, it is advantageous for the cleaning fluid supply device 10 to continuously introduce cleaning fluid 38 into the reservoir 6. As a result, the cleaning gas 84 can be completely displaced from the reservoir 6 until it is completely filled with cleaning fluid 38 ( Fig. 4 ). When the flow control valve 72 remains open, cleaning liquid 38 is directed toward the workpiece 4 from this point on so that they flush the contaminants previously dissolved by the cleaning gas from the surfaces and / or from the interiors of the workpiece 4 from the workpiece or cumshot or rinse out of the workpiece.
  • a device 86 is indicated in broken lines, which may be provided in a variant of the described cleaning device 2 as part of the feeder 12, for example along the supply line 66 between the memory 6 and the flow control valve 72.
  • the device 86 is designed as a pulse valve and serves to a pulsating volume flow of cleaning gas 84 and / or cleaning fluid 38 to produce.
  • Such a device is in the WO 03/036144 A1 the same applicant, the disclosure of which with respect to the construction and operation of such a device is hereby incorporated by reference.
  • the volume flow of the cleaning gas and / or the cleaning liquid are influenced so that it varies between lower and higher volume flows. As a result, the cleaning effect of the cleaning device 2 can be further increased.
  • the shut-off valve 62 is closed, so that further introduction of cleaning liquid 38 is prevented in the memory 6. Further, the second switching valve 56 is closed and the first switching valve 54 is opened, so that the pump 44 promotes cleaning liquid 38 into the reservoir 36. Further, the flow control valve 72 of the feeder 12 is closed to prevent inadvertent discharge of cleaning fluid 38 by the applicator 74.
  • the valve 82 In order to empty the reservoir 6, the valve 82 is opened, so that cleaning liquid 38 is conducted from the reservoir 6 via the drain line 78 into the reservoir 36. In order to avoid the formation of a negative pressure in the upper region 68 of the accumulator 6, it is favorable to open the venting valve 28 during emptying of the accumulator 6.
  • the check valve 24 can remain closed. As an alternative or in addition thereto, it is also possible to open the check valve 24 in this phase in order to assist or accelerate the emptying of the store 6 and the discharge of cleaning liquid 38 with the aid of the cleaning gas 84.

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bereitstellung eines Reinigungsmediums.
  • Um Werkstücke von Verunreinigungen zu befreien, ist es bekannt, einen Druckluftstrom auf ein verunreinigtes Werkstück zu leiten und die Verunreinigungen mit Hilfe des Druckluftstroms von dem Werkstück abzublasen.
  • Eine weitere Möglichkeit zur Reinigung von Werkstücken besteht darin, dass eine Reinigungsflüssigkeit mit Druck beaufschlagt und auf das Werkstück gespritzt wird, um die Verunreinigungen von dem Werkstück abzuspritzen oder abzuspülen.
  • Für viele Anwendungsfälle kann es wünschenswert sein, Werkstücke mit Hilfe von Druckluft und mit Hilfe einer Reinigungsflüssigkeit zu reinigen. Dies geht jedoch mit einem verhältnismäßig hohen gerätetechnischen Aufwand einher, da sowohl ein System zur Bereitstellung der Druckluft als auch ein System zur Bereitstellung der Reinigungsflüssigkeit benötigt wird.
  • Die WO 99/34422 A offenbart ein Verfahren zum Reinigen eines Silizium-Wafers, bei dem eine Reinigungsflüssigkeit mittels einer Pumpe aus einem Flüssigkeitsspeicher in eine Mischkammer eingebracht und ein unter einem erhöhten Druck stehendes Trägergas mittels eines kleine Öffnungen aufweisenden Einblasrohrs in die in der Mischkammer befindliche Reinigungsflüssigkeit eingeblasen wird, wobei das eingeblasene Trägergas mit einem Dampf der Reinigungsflüssigkeit gesättigt wird. Das mit dem Dampf der Reinigungsflüssigkeit gesättigte Trägergas verlässt die Mischkammer sofort und durchläuft eine Kühlvorrichtung, wodurch der Dampf der Reinigungsflüssigkeit zumindest teilweise auskondensiert. Anschließend wird das Trägergas mit den darin enthaltenen Tropfen der Reinigungsflüssigkeit durch Düsen auf den Silizium-Wafer abgegeben.
  • Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Bereitstellung eines Reinigungsmediums zu schaffen, dessen Effizienz gegenüber bekannten Verfahren verbessert ist.
  • Diese Aufgabe wird bei einem Verfahren zur Bereitstellung eines Reinigungsmediums dadurch gelöst, dass ein Reinigungsgas, insbesondere Luft, in einen Speicher eingebracht wird, und dass eine mit Druck beaufschlagte Reinigungsflüssigkeit zur Druckbeaufschlagung des unter einem Ausgangsdruck stehenden Reinigungsgases in den Speicher eingebracht wird.
  • Das erfindungsgemäße Verfahren ermöglicht es, ein Reinigungsmedium bereitzustellen, das ein Reinigungsgas und eine Reinigungsflüssigkeit umfasst. Da die Reinigungsflüssigkeit mit Druck beaufschlagt ist, kann das unter einem Ausgangsdruck stehende Reinigungsgas mit Hilfe der Reinigungsflüssigkeit mit Druck beaufschlagt werden. Dies hat den Vorteil, dass zur Druckbeaufschlagung des Reinigungsgases keine weiteren Einrichtungen, insbesondere Kompressoren, erforderlich sind. Hierdurch vereinfacht sich die Bereitstellung eines Reinigungsmediums, das ein unter hohem Druck stehendes Reinigungsgas umfasst.
  • Nach einer Ausführungsform der Erfindung werden das Reinigungsgas und die Reinigungsflüssigkeit nacheinander in den Speicher eingebracht. Dies hat den Vorteil, dass die Teilvolumina, die das Reinigungsgas und die Reinigungsflüssigkeit in dem Speicher einnehmen, besonders gut aufeinander abgestimmt werden können.
  • Vorzugsweise wird zuerst das Reinigungsgas und dann die Reinigungsflüssigkeit in den Speicher eingebracht. Hierdurch lässt sich die Menge des in den Speicher eingebrachten Reinigungsgases besonders genau einstellen.
  • Nach einer weiteren Ausführungsform der Erfindung können das Reinigungsgas und die Reinigungsflüssigkeit gleichzeitig in den Speicher eingebracht werden. Dies hat den Vorteil, dass die insgesamt zur Bereitstellung des Reinigungsmediums benötigte Zeitdauer verringert werden kann. Ferner ist es möglich, zunächst Reinigungsgas in den Speicher einzubringen, dann für eine bestimmte Zeit Reinigungsgas und Reinigungsflüssigkeit gleichzeitig in den Speicher einzubringen und abschließend nur Reinigungsflüssigkeit in den Speicher einzubringen.
  • Vorzugsweise werden das Reinigungsgas und die Reinigungsflüssigkeit in dem Speicher miteinander in unmittelbaren Kontakt gebracht. Dies hat den Vorteil, dass der Speicher sehr einfach, ohne ein Trennelement zwischen dem Reinigungsgas und der Reinigungsflüssigkeit, aufgebaut sein kann. Beispielsweise kann der Speicher in Form eines Speicherbehälters ausgebildet sein, der ein gemeinsames Speichervolumen für das Reinigungsgas und die Reinigungsflüssigkeit bereitstellt.
  • Nach einer Ausführungsform der Erfindung steht das Reinigungsgas vor seiner Druckbeaufschlagung durch die Reinigungsflüssigkeit unter einem Ausgangsdruck, der gleich einem Umgebungsdruck ist. Dies hat den Vorteil, dass das Reinigungsgas auch ohne weitere Hilfsmittel in den Speicher eingebracht werden kann, beispielsweise indem eine Verbindung zwischen dem Speichervolumen des Speichers und der Umgebung des Speichers geschaffen wird. Im einfachsten Fall kann es also genügen, das Speichervolumen mit der Umgebung des Speichers zu verbinden, um zu erreichen, dass unter Umgebungsdruck stehende Luft in den Speicher eingebracht wird, die mit Hilfe der Reinigungsflüssigkeit mit Druck beaufschlagt werden kann.
  • Es kann vorteilhaft sein, dass das Reinigungsgas vor seiner Druckbeaufschlagung durch die Reinigungsflüssigkeit unter einem Ausgangsdruck von mindestens ungefähr 1 bar steht. Dies hat den Vorteil, dass das Reinigungsgas, insbesondere Luft, direkt aus der Umgebung des Speichers entnommen und in den Speicher eingebracht werden kann.
  • Es kann vorteilhaft sein, dass das Reinigungsgas vor seiner Druckbeaufschlagung durch die Reinigungsflüssigkeit unter einem Ausgangsdruck von mindestens ungefähr 2 bar steht. Die Erhöhung des Ausgangsdrucks des Reinigungsgases hat den Vorteil, dass bei einem vorgegebenen Speichervolumen ein größerer Volumenanteil für das Reinigungsgas zur Verfügung steht als bei niedrigeren Ausgangsdrücken.
  • Vorteilhaft ist es, wenn das Reinigungsgas vor seiner Druckbeaufschlagung durch die Reinigungsflüssigkeit unter einem Ausgangsdruck von höchstens ungefähr 10 bar steht. Hierdurch kann das Reinigungsgas mit Hilfe einfacher Verdichter auf einen gegenüber einem Umgebungsdruck erhöhten Ausgangsdruck gebracht werden, ohne dass der Einsatz teurer Kompressoren erforderlich ist.
  • In vorteilhafter Weise wird das Reinigungsgas mittels einer Reinigungsgas-Versorgungseinrichtung bereitgestellt, die das Reinigungsgas mit einem Reinigungsgas-Versorgungsdruck beaufschlägt. Dieser Reinigungsgas-Versorgungsdruck kann im einfachsten Fall dem Umgebungsdruck entsprechen. Es ist jedoch vorteilhaft, wenn die Reinigungsgas-Versorgungseinrichtung eine Verdichtung des Reinigungsgases ermöglicht, beispielsweise um dieses ausgehend von einem Umgebungsdruck von beispielsweise ungefähr 1 bar mit einem erhöhten Reinigungsgas-Versorgungsdruck von beispielsweise mindestens ungefähr 2 bar bis zu beispielsweise ungefähr 10 bar zu beaufschlagen. Dies ermöglicht es, eine größere Menge Reinigungsgas in ein vorgegebenes Speichervolumen einzubringen.
  • In vorteilhafter Weise wird die Einbringung des Reinigungsgases in den Speicher mittels eines Sperreinrichtung gesteuert. Hierdurch kann die in den Speicher einzubringende Reinigungsgasmenge besonders gut eingestellt werden.
  • Nach einer Ausführungsform der Erfindung wird das Reinigungsgas mittels einer Reinigungsgas-Versorgungseinrichtung bereitgestellt, die das Reinigungsgas mit einem Reinigungsgas-Versorgungsdruck beaufschlägt, und wird die Sperreinrichtung ausgehend von einem geschlossenen Zustand geöffnet, bis das hierdurch in den Speicher eingebrachte Reinigungsgas unter einem Ausgangsdruck steht, der gleich dem Reinigungsgas-Versorgungsdruck ist, und wird anschließend die Sperreinrichtung geschlossen. Die Sperreinrichtung kann also so lange geöffnet werden, bis das Reinigungsgas, das in den Speicher eingebracht wurde, unter demselben Druck steht, mit dem die Reinigungsgas-Versorgungseinrichtung unter Reinigungsgas-Versorgungsdruck stehendes Reinigungsgas bereitstellt. Hierdurch kann der Ausgangsdruck des Reinigungsgases, also der Druck des Reinigungsgases in dem Speicher vor der Druckbeaufschlagung mit der Reinigungsflüssigkeit, exakt auf den Wert des Reinigungsgas-Versorgungsdrucks eingestellt werden.
  • Nach einer weiteren Ausführungsform der Erfindung wird das Reinigungsgas mittels einer Reinigungsgas-Versorgungseinrichtung bereitgestellt, die das Reinigungsgas mit einem Reinigungsgas-Versorgungsdruck beaufschlägt, und wird die Sperreinrichtung ausgehend von einem geschlossenen Zustand nur so lange geöffnet, dass das hierdurch in den Speicher eingebrachte Reinigungsgas unter einem Ausgangsdruck steht, der kleiner ist als der Reinigungsgas-Versorgungsdruck, und wird dann die Sperreinrichtung geschlossen. Hierdurch ist es möglich, das Reinigungsgas in besonders kurzer Zeit in den Speicher einzubringen.
  • Vorteilhaft ist es, wenn die Reinigungsflüssigkeit vor Einbringung in den Speicher auf einen den Ausgangsdruck des Reinigungsgases übersteigenden Arbeitsdruck gebracht wird. Hierdurch kann die Druckbeaufschlagung der Reinigungsflüssigkeit außerhalb des Speichers erfolgen.
  • Vorzugsweise wird die Reinigungsflüssigkeit vor Einbringung in den Speicher auf einen Arbeitsdruck von mindestens ungefähr 2 bar gebracht. Hierdurch kann beispielsweise unter einem Ausgangsdruck von 1 bar stehendes Reinigungsgas mit dem doppelten Druck beaufschlagt werden.
  • Insbesondere wird die Reinigungsflüssigkeit vor Einbringung in den Speicher auf einen Arbeitsdruck von mindestens ungefähr 5 bar gebracht. Hierdurch kann das Reinigungsgas mit einem entsprechenden Druck beaufschlagt werden, so dass es mit einem Druck bereitgestellt werden kann, der eine gute Reinigungswirkung ermöglicht.
  • Vorzugsweise wird die Reinigungsflüssigkeit vor Einbringung in den Speicher auf einen Arbeitsdruck von höchstens ungefähr 80 bar gebracht. Diese Drücke können mit Hilfe vergleichsweise einfacher Pumpen bereitgestellt werden.
  • Insbesondere wird die Reinigungsflüssigkeit vor Einbringung in den Speicher auf einen Arbeitsdruck von höchstens ungefähr 40 bar gebracht. Hierdurch können noch weniger aufwändig aufgebaute Pumpen eingesetzt werden.
  • Es kann vorgesehen sein, dass die Reinigungsflüssigkeit mittels einer Reinigungsflüssigkeits-Versorgungseinrichtung bereitgestellt wird, welche die Reinigungsflüssigkeit mit einem Reinigungsflüssigkeits-Versorgungsdruck beaufschlägt. Dies ermöglicht eine einfache Steuerung des Arbeitsdrucks, mit dem die Reinigungsflüssigkeit das Reinigungsgas mit Druck beaufschlägt.
  • Vorzugsweise wird die Einbringung von Reinigungsflüssigkeit in den Speicher mittels einer Absperreinrichtung gesteuert. Dies ermöglicht eine genaue Einstellung der Menge von Reinigungsflüssigkeit, die in den Speicher eingebracht wird.
  • Nach einer Ausführungsform der Erfindung wird die Reinigungsflüssigkeit mittels einer Reinigungsflüssigkeits-Versorgungseinrichtung bereitgestellt, welche die Reinigungsflüssigkeit mit einem Reinigungsflüssigkeits-Versorgungsdruck beaufschlägt, und wird die Absperreinrichtung ausgehend von einem geschlossenen Zustand geöffnet, bis die hierdurch in den Speicher eingebrachte Reinigungsflüssigkeit das Reinigungsgas mit dem Reinigungsflüssigkeits-Versorgungsdruck der Reinigungsflüssigkeit beaufschlägt, und wird anschließend die Absperreinrichtung geschlossen. In diesem Fall kann die Reinigungsflüssigkeit in den Speicher eingebracht werden, bis der Arbeitsdruck, mit dem die Reinigungsftüssigkeit das Reinigungsgas beaufschlägt, dem Reinigungsflüssigkeits-Versorgungsdruck entspricht. Dies ermöglicht eine einfache Einstellung des Arbeitsdrucks, mit dem die Reinigungsflüssigkeit das Reinigungsgas beaufschlägt.
  • Nach einer weiteren Ausführungsform der Erfindung wird die Reinigungsflüssigkeit mittels einer Reinigungsflüssigkeits-Versorgungseinrichtung bereitgestellt, welche die Reinigungsflüssigkeit mit einem Reinigungsflüssigkeits-Versorgungsdruck beaufschlägt, und wird die Absperreinrichtung ausgehend von einem geschlossenen Zustand nur so lange geöffnet, dass die hierdurch in den Speicher eingebrachte Reinigungsflüssigkeit das Reinigungsgas mit einem Arbeitsdruck beaufschlägt, der kleiner ist als der Reinigurigsflüssigkeits-Versorgungsdruck der Reinigungsflüssigkeit, und wird dann die Absperreinrichtung geschlossen. Dies ermöglicht eine besonders schnelle Einleitung der Reinigungsflüssigkeit in den Speicher, womit eine besonders schnelle Druckbeaufschlagung des Reinigungsgases einhergeht.
  • Weiterhin kann es vorteilhaft sein, dass die Reinigungsflüssigkeit mittels einer Filtereinrichtung gefiltert wird. Hierdurch kann verhindert werden, dass sich Feststoffe in dem Speicher ablagern.
  • Günstig ist es, wenn die Reinigungsflüssigkeit einem Vorratsbehälter entnommen wird. Hierdurch kann die Reinigungsflüssigkeit auch bei einem mehrfachen Durchlauf des erfindungsgemäßen Verfahrens in genügend großen Mengen bereitgestellt werden.
  • Es kann vorteilhaft sein, dass unter Reinigungsflüssigkeits-Versorgungsdruck stehende Reinigungsflüssigkeit in den Vorratsbehälter zurückgeführt wird. Hierdurch wird erreicht, dass auch bei Nichtgebrauch der Reinigungsflüssigkeit diese unter Reinigungsflüssigkeits-Versorgungsdruck bereitgehalten werden kann, um dann bei ihrem Gebrauch, also bei dem Einbringen der Reinigungsflüssigkeit in den Speicher, ohne zeitliche Verzögerung zur Verfügung zu stehen.
  • Die vorliegende Erfindung betrifft ferner einer Verfahren zur Reinigung eines Werkstücks, das die Bereitstellung eines Reinigungsmediums durch ein vorstehend beschriebenes Verfahren zur Bereitstellung eines Reinigungsmediums umfasst sowie die Zuführung des Reinigungsgases aus dem Speicher zu dem Werkstück.
  • Das erfindungsgemäße Verfahrren zur Reinigung eines Werkstücks eignet sich insbesondere für spanend bearbeitete Werkstücke. Diese können Bearbeitungsrückstände, wie beispielsweise Metallspäne, Strahlmittel, Formsand und Bearbeitungsflüssigkeiten aufweisen, die mit Hilfe des Reinigungsgases von dem Werkstück entfernt werden können. Besonders gut eignet sich das erfindungsgemäße Verfahren zur Entfernung von Rückständen aus Hohlräumen von Motorteilen, insbesondere von Zylinderköpfen.
  • Durch eine hohe Geschwindigkeit des Reinigungsgases aufgrund eines erhöhten Reinigungsgas-Arbeitsdruckes entstehen am und im Werkstück starke Verwirbelungen, die eine gute Schmutzablösewirkung mit sich bringen.
  • Das erfindungsgemäße Reinigungsverfahren kann direkt in einer Bearbeitungsstation, in welcher das zu reinigende Werkstück bearbeitet worden ist oder bearbeitet werden soll, erfolgen.
  • Besonders vorteilhaft ist es, wenn das Verfahren zur Reinigung eines Werkstücks eine Zuführung der Reinigungsflüssigkeit aus dem Speicher zu dem Werkstück umfasst. Dies ermöglicht es, das Werkstück sowohl mit Hilfe von Reinigungsgas als auch mit Hilfe von Reinigungsflüssigkeit reinigen zu können. Hierdurch kann eine besonders gute Reinigungswirkung erzielt werden. Hierfür ist es im Unterschied zum Stand der Technik nicht erforderlich, voneinander separate Systeme für Reinigungsgas und für Reinigungsflüssigkeit bereitzustellen. Vielmehr kann einem gemeinsamen Speicher sowohl Reinigungsgas als auch Reinigungsflüssigkeit entnommen werden. Hierdurch wird bei einem nur sehr geringen gerätetechnischen Aufwand eine kombinierte Anwendung von Reinigungsgas und von Reinigungsflüssigkeit an demselben Werkstück ermöglicht.
  • Vorzugsweise werden das Reinigungsgas und die Reinigungsflüssigkeit nacheinander aus dem Speicher zu dem Werkstück geführt. Hierdurch kann eine gegebenenfalls unerwünschte Vermischung des Reinigungsgases mit der Reinigungsflüssigkeit und eine vorzeitige Reduktion des Arbeitsdruckes des Reinigungsgases vermieden werden.
  • Vorzugsweise wird zuerst das Reinigungsgas und dann die Reinigungsflüssigkeit aus dem Speicher zu dem Werkstück geführt. Dies hat den Vorteil, dass zunächst mit Hilfe des Reinigungsgases Verunreinigungen von dem Werkstück abgelöst und dann die von dem Werkstück abgelösten Verunreinigungen mit Hilfe der Reinigungsflüssigkeit abgespült oder abgespritzt werden können. Hierdurch kann eine besonders gute Reinigungswirkung erzielt werden.
  • Vorzugsweise wird die Zuführung von Reinigungsgas und/oder Reinigungsflüssigkeit aus dem Speicher zu dem Werkstück mittels einer Durchfluss-Steuereinrichtung gesteuert. Dies ermöglicht eine einfache Einstellung des Volumenstroms des Reinigungsgases und/oder der Reinigungsflüssigkeit.
  • Es kann vorteilhaft sein, die Durchfluss-Steuereinrichtung ausgehend von einem geschlossenen Zustand für eine Zuführung des Reinigungsgases aus dem Speicher zu dem Werkstück schlagartig zu öffnen. Insbesondere ist es vorteilhaft, wenn der Übergang von dem geschlossenen in den geöffneten Zustand, vorzugsweise in den vollständig geöffneten Zustand, innerhalb eines Zeitraums von höchstens ungefähr 2 Sekunden, vorzugsweise von höchstens ungefähr 0,5 Sekunden erfolgt. Hierdurch wird erreicht, dass das mit Druck beaufschlagte Reinigungsgas dem Werkstück mit einer hohen Strömungsgeschwindigkeit zugeführt werden kann.
  • Nach einer Ausführungsform der Erfindung können das Reinigungsgas und/oder die Reinigungsflüssigkeit dem Werkstück mit einem zumindest annähernd zeitlich konstanten Volumenstrom zugeführt werden. Hierdurch kann eine besonders gleichmäßige Reinigungswirkung erzielt werden.
  • Nach einer Ausführungsform der Erfindung können das Reinigungsgas und/oder die Reinigungsflüssigkeit dem Werkstück mit einem pulsierenden Volumenstrom zugeführt werden. Hierbei variiert die Menge des zugeführten Reinigungsgases und/oder der zugeführten Reinigungsflüssigkeit zwischen verschiedenen Volumenstromwerten. Diese Variation kann mit einer vorgegebenen Frequenz erfolgen. Der pulsierende Volumenstrom kann die Reinigungswirkung gegebenenfalls weiter erhöhen.
  • Vorzugsweise wird während der Zuführung von Reinigungsgas und/oder Reinigungsflüssigkeit aus dem Speicher zu dem Werkstück mit einem Druck beaufschlagte Reinigungsflüssigkeit in den Speicher eingebracht. Dies hat den Vorteil, dass der Druck, mit dem das Reinigungsgas und/oder die Reinigungsflüssigkeit in dem Speicher beaufschlagt ist, aufrechterhalten werden kann. Hierdurch kann eine konstante Reinigungswirkung sichergestellt werden.
  • Eine weitere Ausführungsform der Erfindung sieht vor, dass das Reinigungsgas vor oder während der Zuführung von Reinigungsflüssigkeit zu dem Werkstück vollständig oder im wesentlichen vollständig aus dem Speicher verdrängt wird. Hierdurch wird die Verwendung der gesamten in dem Speicher zur Verfügung stehenden Reinigungsgasmenge ermöglicht.
  • Die Erfindung betrifft ferner eine Reinigungsvorrichtung zur Reinigung eines Werkstücks, mit einem Speicher zur Speicherung eines Reinigungsmediums - und mit einer Zuführeinrichtung für die Zuführung des Reinigungsmediums aus dem Speicher zu dem Werkstück.
  • Der Erfindung liegt die weitere Aufgabe zugrunde, eine Reinigungsvorrichtung zu schaffen, mit der eine effiziente Bereitstellung eines Reinigungsmediums ermöglicht ist. Diese Aufgabe wird bei einer Reinigungsvorrichtung mit den Merkmalen des Oberbegriffs von Anspruch 37 erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass der Speicher mit einer Reinigungsgas-Versorgungseinrichtung zur Einbringung eines Reinigungsgases, insbesondere Luft, in den Speicher verbunden ist und dass für eine Druckbeaufschlagung des Reinigungsgases der Speicher mit einer Reinigungsflüssigkeits-Versorgungseinrichtung zur Einbringung von mit Druck beaufschlagter Reinigungsflüssigkeit in den Speicher verbunden ist.
  • Besondere Ausgestaltungen der erfindungsgemäßen Reinigungsvorrichtung sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche 38 bis 61, deren Vorteile zum Teil bereits vorstehend im Zusammenhang mit den besonderen Ausgestaltungen der erfindungsgemäßen Verfahren erläutert worden sind. Daher wird im folgenden nur noch auf jene Ausgestaltungen der erfindungsgemäßen Reinigungsvorrichtung eingegangen, deren Vorteile nicht bereits vorstehend erläutert wurden.
  • Es kann vorteilhaft sein, wenn die Reinigungsgas-Versorgungseinrichtung eine Entlüftungseinrichtung umfasst, die mit der Umgebung der Reinigungsvorrichtung kommuniziert. Dies hat den Vorteil, dass die Reinigungsgas-Versorgungseinrichtung zumindest abschnittsweise entlüftet und auf den Druck der Umgebung der Reinigungsvorrichtung gebracht werden kann. Dies kann beispielsweise für Wartungszwecke vorteilhaft sein.
  • In vorteilhafter Weise umfasst die Reinigungsgas-Versorgungseinrichtung eine Reinigungsgaszuleitung zur Verbindung der Reinigungsgas-Versorgungseinrichtung mit dem Speicher. Dies ermöglicht es, Reinigungsgas von einer räumlich entfernten Reinigungsgasquelle dem Speicher zuzuführen.
  • In vorteilhafter Weise mündet die Reinigungsgaszuleitung an oder in einem in Gebrauchslage des Speichers oberen Bereich. Dies hat den Vorteil, dass das Reinigungsgas direkt einem oberen Bereich des Speichers zugeleitet werden kann. Hierdurch kann eine gegebenenfalls unerwünschte Durchmischung mit der Reinigungsflüssigkeit vermieden werden. Diese Durchmischung kann insbesondere vermieden werden, wenn die Reinigungsgaszuleitung an oder in einem in Gebrauchslage des Speichers obersten Bereich des Speichers mündet.
  • Vorzugsweise umfasst die Reinigungsflüssigkeits-Versorgungseinrichtung eine Druckbeaufschlagungsvorrichtung zur Druckbeaufschlagung der Reinigungsflüssigkeit. Dies hat den Vorteil, dass sowohl die Förderung der Reinigungsflüssigkeit in den Speicher als auch die Druckbeaufschlagung mit Hilfe der Reinigungsflüssigkeits-Versorgungseinrichtung erfolgen kann.
  • Besonders vorteilhaft ist es, wenn die Druckbeaufschlagungsvorrichtung eine Pumpe umfasst. Diese kann für gewünschte Mengen und gewünschte Reinigungsflüssigkeit-Versorgungsdrücke entsprechend ausgelegt und angesteuert werden.
  • Es kann vorteilhaft sein, wenn die Reinigungsflüssigkeits-Versorgungseinrichtung eine Umschalteinrichtung umfasst, welche die Reinigungsflüssigkeit wahlweise dem Speicher oder dem Vorratsbehälter zuleitet. Dies hat den Vorteil, dass eine gegebenenfalls vorgesehene Pumpe im Dauerbetrieb betrieben werden kann. Bei Nichtgebrauch kann die Reinigungsflüssigkeit dem Vorratsbehälter zugeleitet werden. Bei Bedarf steht die unter dem Reinigungsflüssigkeits-Versorgungsdruck stehende Reinigungsflüssigkeit ohne zeitliche Verzögerung für ein Einbringen in den Speicher zur Verfügung.
  • In vorteilhafter Weise umfasst die Reinigungsvorrichtung eine Ablaufeinrichtung, die eine Schließstellung einnehmen kann und eine Öffnungsstellung, in der die Ablaufeinrichtung Reinigungsflüssigkeit und/oder Reinigungsgas aus dem Speicher ableitet. Die Ablaufeinrichtung hat den Vorteil, dass der Speicher entleert werden kann, ohne dass hierfür die Zuführeinrichtung der Reinigungsvorrichtung verwendet werden muss.
  • Vorzugsweise umfasst die Ablaufeinrichtung eine Ablaufleitung. Dies ermöglicht es, Reinigungsgas und/oder Reinigungsflüssigkeit von dem Speicher wegzuleiten.
  • Vorzugsweise ist die Ablaufleitung von einem in Gebrauchslage unteren Bereich des Speichers gespeist, so dass eine möglichst große Menge von Reinigungsgas und/oder Reinigungsflüssigkeit abgeleitet werden kann.
  • Vorzugsweise ist die Ablaufleitung von einem in Gebrauchslage untersten Bereich des Speichers gespeist, so dass der Speicher vollständig entleert werden kann.
  • Besonders vorteilhaft ist es, wenn die Ablaufleitung an oder in dem Vorratsbehälter der Reinigungsflüssigkeits-Versorgungseinrichtung mündet. Hierdurch kann in den Speicher eingebrachte Reinigungsflüssigkeit wieder dem Vorratsbehälter zugeführt und von dort erneut in den Speicher eingebracht werden.
  • Es kann vorteilhaft sein, dass die Zuführeinrichtung eine Vorrichtung zur Erzeugung eines pulsierenden Volumenstroms von Reinigungsgas und/oder Reinigungsflüssigkeit umfasst. Eine solche Vorrichtung ist in der WO 03/036144 A1 beschrieben, auf deren Offenbarung hiermit Bezug genommen wird.
  • Vorzugsweise umfasst die Zuführeinrichtung eine Ausbringungseinrichtung, die das Reinigungsgas und/oder die Reinigungsflüssigkein in Richtung auf das Werkstück ausbringt. Die Ausbringungseinrichtung ermöglicht es, die lokale Verteilung, mit der das Reinigungsgas und/oder die Reinigungsflüssigkeit auf das Werkstück geleitet oder in das Werkstück eingeleitet wird, zu beeinflussen.
  • Vorzugsweise umfasst die Ausbringungseinrichtung mindestens eine Düseneinheit, so dass das Reinigungsmedium fein verteilt auf das Werkstück ausgebracht werden kann.
  • Die vorliegende Erfindung betrifft ferner die Verwendung einer Reinigungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 37 bis 61 zur Durchführung eines Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 36.
  • Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung sind Gegenstand der nachfolgenden Beschreibung und der zeichnerischen Darstellung eines Ausführungsbeispiels.
  • In den Zeichnungen zeigen:
    • Fig. 1
    eine schematische Darstellung einer Reinigungsvorrichtung zur Reinigung eines Werkstücks, wobei die Reinigungsvorrichtung einen Speicher umfasst, der in einer ersten Phase eines Reinigungsverfahrens mit einem Reinigungsgas gefüllt ist;
    Fig. 2
    die Reinigungsvorrichtung gemäß Fig. 1 in einer zweiten Phase des Reinigungsverfahrens, in welcher Reinigungsflüssigkeit in den Speicher eingebracht wird;
    Fig. 3
    die Reinigungsvorrichtung gemäß Fig. 1 in einer dritten Phase des Reinigungsverfahrens, in welcher Reinigungsgas aus dem Speicher einem Werkstück zugeführt wird; und
    Fig. 4
    die Reinigungsvorrichtung gemäß Fig. 1 in einer vierten Phase des Reinigungsverfahrens, in welcher Reinigungsflüssigkeit aus dem Speicher dem Werkstück zugeführt wird.
  • Eine in den Fig. 1 bis 4 dargestellte und als Ganzes mit 2 bezeichnete Reinigungsvorrichtung dient zur Reinigung eines Werkstücks 4, beispielsweise eines Zylinderkopfes oder eines Kurbelgehäuses. Die Reinigungsvorrichtung 2 umfasst einen Speicher 6, in den mit Hilfe einer Reinigungsgas-Versorgungseinrichtung 8 Reinigungsgas eingebracht werden kann. Die Reinigungsvorrichtung umfasst ferner eine Reinigungsflüssigkeits-Versorgungseinrichtung 10, mittels welcher Reinigungsflüssigkeit in den Speicher 6 eingebracht werden kann. Die Reinigungsvorrichtung 2 umfasst ferner eine Zuführeinrichtung 12 für die Zuführung von Reinigungsgas und/oder Reinigungsflüssigkeit von dem Speicher 6 zu dem Werkstück 4.
  • Die Reinigungsgas-Versorgungseinrichtung 8 umfasst einen Verdichter 16, der Reinigungsgas, insbesondere Luft, verdichtet und mit einem Reinigungsgas-Versorgungsdruck beaufschlägt. Die Reinigungsgas Versorgungseinrichtung 8 umfasst ferner eine Reinigungsgaszuleitung 18, die das Reinigungsgas von dem Verdichter 16 zu dem Speicher 6 leitet. Die Reinigungsgas-Versorgungseinrichtung 8 umfasst ferner eine Druckmesseinrichtung 20, mit welcher der Reinigungsgas-Versorgungsdruck erfasst werden kann. Die Druckmesseinrichtung 20 ist in Strömungsrichtung des Reinigungsgases gesehen stromabwärts des Verdichters 16 angeordnet. Stromabwärts der Druckmesseinrichtung 20 ist eine Sperreinrichtung 22 vorgesehen, die als Sperrventil 24 ausgebildet ist. Stromabwärts der Sperreinrichtung 22 ist eine Entlüftungseinrichtung 26 vorgesehen, die ein Entlüftungsventil 28 umfasst, über welches die Reinigungsgaszuleitung 18 mit einer Umgebung 30 der Reinigungsvorrichtung 2 kommunizieren kann. Die Reinigungsgaszuleitung 18 mündet an einem obersten Bereich 32 des Speichers 6, der ein Speichervolumen 34 enthält.
  • Die Reinigungsflüssigkeits-Versorgungseinrichtung 10 umfasst einen Vorratsbehälter 36 zur Bevorratung von Reinigungsflüssigkeit 38. Der Vorratsbehälter 36 speist eine Reinigungsflüssigkeitszuleitung 40, über die Reinigungsflüssigkeit aus dem Vorratsbehälter 36 einer Druckbeaufschlagungsvorrichtung 42 zugeführt werden kann. Die Druckbeaufschlagungsvorrichtung 42 ist in Form einer Pumpe 44 ausgebildet. Die Pumpe 44 hat sowohl eine Förderfunktion, um Reinigungsflüssigkeit 38 aus dem Vorratsbehälter 36 in den Speicher 6 zu fördern, als auch eine Druckbeaufschlagungsfunktion, um die Reinigungsflüssigkeit 38 mit einem Reinigungsflüssigkeits-Versorgungsdruck zu beaufschlagen.
  • Über die Reinigungsgaszuleitung 40 wird die Reinigungsflüssigkeit 38 von der Pumpe 44 zu einer Filtereinrichtung 46 geleitet, die als Filter 48 ausgebildet ist. Stromabwärts des Filters 48 zweigt an einer Abzweigung 50 eine Rückleitung 52 ab, die in den Vorratsbehälter 36 mündet. Die Rückleitung 52 kann mit Hilfe eines ersten Umschaltventils 54 geöffnet oder gesperrt werden.
  • Stromabwärts der Abzweigung 50 ist außerdem ein zweites Umschaltventil 56 vorgesehen. Das erste Umschaltventil 54 und das zweite Umschaltventil 56 bilden gemeinsam eine Umschalteinrichtung 58. Stromabwärts des zweiten Umschaltventils 56 führt die Reinigungsflüssigkeitszuleitung 40 zu einer Absperreinrichtung 60. Diese ist in Form-eines Absperrventils 62 ausgebildet. Stromabwärts des Absperrventils 62 mündet die Reinigungsflüssigkeitszuleitung 40 an einem unteren Bereich 64 des Speichers 6.
  • Die Zuführeinrichtung 12 umfasst eine Zuführleitung 66, die von einem oberen Bereich 68 des Speichers 6 gespeist ist. Die Zuführeinrichtung 12 umfasst ferner eine Durchfluss-Steuereinrichtung 70, die als Durchfluss-Steuerventil 72 ausgebildet ist. Die Zuführleitung 66 mündet an einer Ausbringungseinrichtung 74, die eine Düseneinheit 76 umfasst. Mit der Düseneinheit 76 kann Reinigungsgas und/oder Reinigungsflüssigkeit 38 in Richtung auf das Werkstück 4 ausgebracht werden.
  • Die Ablaufeinrichtung 14 umfasst eine Ablaufleitung 78, die von einem untersten Bereich 80 des Speichers 6 gespeist ist. Die Ablaufeinrichtung 14 umfasst ferner ein Ventil 82, so dass die Ablaufeinrichtung 14 eine Schließstellung einnehmen kann und eine Öffnungsstellung, in der die Ablaufeinrichtung 14 Reinigungsflüssigkeit 38 und/oder Reinigungsgas aus dem Speicher 6 ableiten kann. Die Ablaufleitung 78 mündet an oder in dem Vorratsbehälter 36.
  • In dem in Fig. 1 dargestellten Zustand der Reinigungsvorrichtung 2 ist das Sperrventil 24 der Reinigungsgas-Versorgungseinrichtung 8 geschlossen, so dass Reinigungsgas nicht in den Speicher 6 gelangen kann. Das Entlüftungsventil 28 der Entlüftungseinrichtung 26 ist geöffnet, so dass die Reinigungsgas-Versorgungseinrichtung 8 stromabwärts des Sperrventils 24 und der Speicher 6 drucklos sind.
  • Das erste Umschaltventil 54 der Reinigungsflüssigkeits-Versorgungseinrichtung 10 ist geöffnet, während das zweite Umschaltventil 56 geschlossen ist. Hierdurch kann die Pumpe 44 Reinigungsflüssigkeit 38 aus dem Vorratsbehälter 36 ansaugen und mit einem Reinigungsflüssigkeits-Versorgungsdruck beaufschlagen. Die mit Druck beaufschlagte Reinigungsflüssigkeit wird mit Hilfe des Filters 48 gefiltert und über die Rückleitung 52 wieder zurück in den Vorratsbehälter 36 geleitet, so dass ein Umwälzkreislauf für die Reinigungsflüssigkeit durch die Filtereinrichtung 46 gebildet ist.
  • Das Absperrventil 62 der Reinigungsflüssigkeits-Versorgungseinrichtung 10 und das Durchfluss-Steuerventil 72 der Zuführeinrichtung 12 sind geschlossen. Das Ventil 82 der Ablaufeinrichtung 14 ist geöffnet. Der Speicher 6 ist vollständig entleert.
  • Ausgehend von dem unter Bezugnahme auf Fig. 1 beschriebenen Zustand der Reinigungsvorrichtung 2 kann der Speicher 6 mit einem Reinigungsmedium befüllt werden. Dies wird im folgenden unter Bezugnahme auf Fig. 2 beschrieben.
  • Um ein Reinigungsgas 84 in den Speicher 6 einzubringen, wird zunächst das Ventil 82 der Ablaufeinrichtung 14 geschlossen. Anschließend wird das Entlüftungsventil 28 der Reinigungsgas-Versorgungseinrichtung 8 geschlossen und das Sperrventil 24 geöffnet. Hierdurch strömt Reinigungsgas 84 von dem Verdichter 16 über die Reinigungsgaszuleitung 18 in den Speicher 6. Das Reinigungsgas 84 steht dann in dem Speicher 6 unter einem Ausgangsdruck.
  • Das Reinigungsgas 84 kann in dem Speicher 6 auch unter einem Ausgangsdruck stehen, der dem Druck in der Umgebung 30 entspricht. In diesem Fall ist es nicht erfordertich, das Reinigungsgas 84 mit Hilfe des Verdichters 16 zu verdichten.
  • Nachdem das Reinigungsgas 84 in den Speicher 6 eingeleitet wurde, wird das Sperrventil 24 geschlossen. Anschließend wird die Umschalteinrichtung 58 der Reinigungsflüssigkeits-Versorgungseinrichtung 10 so angesteuert, dass das erste Umschaltventil 54 geschlossen und das zweite Umschaltventil 56 geöffnet wird. Dies bewirkt, dass die Pumpe 44 nun Reinigungsflüssigkeit 38 nicht mehr über die Rückleitung 52 in den Vorratsbehälter 36 leitet, sondern über die Reinigungsflüssigkeitszuleitung 40 zu dem Absperrventil 62. Wenn dieses nun ausgehend von seinem geschlossenen Zustand geöffnet wird, strömt die Reinigungsflüssigkeit in den Speicher 6, so dass das in dem Speicher 6 bereits enthaltene Reinigungsgas 84 ausgehend von seinem Ausgangsdruck mit Hilfe der Reinigungsflüssigkeit 38 mit Druck beaufschlagt wird. Der Druck, mit dem die Reinigungsflüssigkeit 38 das Reinigungsgas 84 beaufschlägt, wird im folgenden als Arbeitsdruck bezeichnet.
  • Der Speicher 6 ist in dieser Phase bis auf das Absperrventil 62 dicht verschlossen.
  • Wenn das Absperrventil 62 lange genug geöffnet bleibt, kann die Reinigungsflüssigkeit 38 so lange in den Speicher 6 eingebracht werden, bis die Reinigungsflüssigkeit 38 und das Reinigungsgas 84 in dem Speicher 6 unter einem Druck stehen der dem Reinigungsflüssigkeits-Versorgungsdruck entspricht, der durch die Pumpe 44 vorgegeben ist. In diesem Zustand beaufschlägt die Reinigungsflüssigkeit 38 das Reinigungsgas 84 mit einem Arbeitsdruck, der gleich dem Reinigungsflüssigkeits-Versorgungsdruck ist.
  • Ausgehend von dem unter Bezugnahme auf Fig. 2 beschriebenen Zustand der Reinigungsvorrichtung 2 wird nun für eine Reinigung des Werkstücks 4 das Durchfluss-Steuerventil 72 vorzugsweise schlagartig, also in einer möglichst kurzen Zeit, geöffnet, so dass das Reinigungsgas 84 über die Zuführleitung 66 der Ausbringungseinrichtung 74 zugeführt und mit Hilfe der Düseneinheit 76 auf das Werkstück 4 geblasen wird (siehe Fig. 3). Hierdurch werden (nicht dargestellte) Verunreinigungen von den Oberflächen und/oder aus den Innenräumen des Werkstücks 4 abgelöst.
  • Während der Zuführung von Reinigungsgas 84 aus dem Speicher 6 zu dem Werkstück 4 ist es vorteilhaft, wenn die Reinigungsflüssigkeits-Versorgungseinrichtung 10 fortwährend Reinigungsflüssigkeit 38 in den Speicher 6 einbringt. Hierdurch kann das Reinigungsgas 84 vollständig aus dem Speicher 6 verdrängt werden, bis dieser vollständig mit Reinigungsflüssigkeit 38 gefüllt ist (Fig. 4). Wenn das Durchfluss-Steuerventil 72 geöffnet bleibt, wird ab diesem Zeitpunkt Reinigungsflüssigkeit 38 in Richtung auf das Werkstück 4 geleitet, so dass diese die zuvor mit Hilfe des Reinigungsgases von den Oberflächen und/oder aus den Innenräumen des Werkstücks 4 gelösten Verunreinigungen von dem Werkstück abspülen oder abspritzen oder aus dem Werkstück ausspülen kann.
  • In Fig. 4 ist in gebrochenen Linien eine Vorrichtung 86 angedeutet, die bei einer Variante der beschriebenen Reinigungsvorrichtung 2 als Teil der Zuführeinrichtung 12 beispielsweise entlang der Zuführleitung 66 zwischen dem Speicher 6 und dem Durchfluss-Steuerventil 72 vorgesehen sein kann. Die Vorrichtung 86 ist als Pulsventil ausgebildet und dient dazu, einen pulsierenden Volumenstrom von Reinigungsgas 84 und/oder Reinigungsflüssigkeit 38 zu erzeugen. Eine solche Vorrichtung ist in der WO 03/036144 A1 derselben Anmelderin beschrieben, auf deren Offenbarung hinsichtlich des Aufbaus und der Funktionsweise einer solchen Vorrichtung hiermit Bezug genommen wird. Mit Hilfe der Vorrichtung 86 kann während der Zuführung von Reinigungsgas 84 auf das Werkstück 4 (Fig. 3) und/oder während der Zuführung von Reinigungsflüssigkeit 38 auf das Werkstück 4 (Fig. 4) der Volumenstrom des Reinigungsgases und/oder der Reinigungsflüssigkeit so beeinflusst werden, dass dieser zwischen niedrigeren und höheren Volumenströmen variiert. Hierdurch kann die Reinigungswirkung der Reinigungsvorrichtung 2 weiter erhöht werden.
  • Um die Reinigungsvorrichtung 2 nach Abschluss der Reinigung des Werkstücks 4 wieder zurück in die unter Bezugnahme auf Fig. 1 beschriebene Grundstellung zu bringen, wird das Absperrventil 62 geschlossen, so dass ein weiteres Einbringen von Reinigungsflüssigkeit 38 in den Speicher 6 verhindert wird. Ferner wird das zweite Umschaltventil 56 geschlossen und das erste Umschaltventil 54 geöffnet, so dass die Pumpe 44 Reinigungsflüssigkeit 38 in den Vorratsbehälter 36 fördert. Ferner wird das Durchfluss-Steuerventil 72 der Zuführeinrichtung 12 geschlossen, um ein unbeabsichtigtes Ausbringen von Reinigungsflüssigkeit 38 durch die Ausbringungseinrichtung 74 zu vermeiden.
  • Um den Speicher 6 zu entleeren, wird das Ventil 82 geöffnet, so dass Reinigungsflüssigkeit 38 aus dem Speicher 6 über die Ablaufleitung 78 in den Vorratsbehälter 36 geleitet wird. Um die Entstehung eines Unterdrucks im oberen Bereich 68 des Speichers 6 zu vermeiden, ist es günstig, während der Entleerung des Speichers 6 das Entlüftungsventil 28 zu öffnen. Das Sperrventil 24 kann dabei geschlossen bleiben. Es ist alternativ oder ergänzend hierzu auch möglich, das Sperrventil 24 in dieser Phase zu öffnen, um die Entleerung des Speichers 6 und das Ableiten von Reinigungsflüssigkeit 38 mit Hilfe des Reinigungsgases 84 zu unterstützen oder zu beschleunigen.

Claims (15)

  1. Verfahren zur Bereitstellung eines Reinigungsmediums, umfassend folgende Verfahrensschritte:
    - ein Reinigungsgas (84), insbesondere Luft, wird in einen Speicher (6) eingebracht,
    - eine mit Druck beaufschlagte Reinigungsflüssigkeit (38) wird zur Druckbeaufschlagung des unter einem Ausgangsdruck stehenden Reinigungsgases (84) in den Speicher (6) eingebracht,
    wobei die Reinigungsflüssigkeit (38) vor Einbringung in den Speicher (6) auf einen den Ausgangsdruck des Reinigungsgases (84) übersteigenden Arbeitsdruck gebracht wird.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Reinigungsgas (84) und die Reinigungsflüssigkeit (38) in dem Speicher (6) miteinander in unmittelbaren Kontakt gebracht werden und
    dass das Reinigungsgas (84) vor seiner Druckbeaufschlagung durch die Reinigungsflüssigkeit (38) unter einem Ausgangsdruck steht, der gleich einem Umgebungsdruck ist.
  3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Einbringung des Reinigungsgases (84) in den Speicher (6) mittels einer Sperreinrichtung (22) gesteuert wird,
    dass das Reinigungsgas (84) mittels einer Reinigungsgas-Versorgungseinrichtung (8) bereitgestellt wird, die das Reinigungsgas (84) mit einem Reinigungsgas-Versorgungsdruck beaufschlägt, und
    dass die Sperreinrichtung (22) ausgehend von einem geschlossenen Zustand geöffnet wird, bis das hierdurch in den Speicher (6) eingebrachte Reinigungsgas (84) unter einem Ausgangsdruck steht, der gleich dem Reinigungsgas-Versorgungsdruck ist, und dass anschließend die Sperreinrichtung (22) geschlossen wird.
  4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Einbringung des Reinigungsgases (84) in den Speicher (6) mittels einer Sperreinrichtung (22) gesteuert wird,
    dass das Reinigungsgas (84) mittels einer Reinigungsgas-Versorgungseinrichtung (8) bereitgestellt wird, die das Reinigungsgas (84) mit einem Reinigungsgas-Versorgungsdruck beaufschlägt, und
    dass die Sperreinrichtung (22) ausgehend von einem geschlossenen Zustand nur so lange geöffnet wird, dass das hierdurch in den Speicher (6) eingebrachte Reinigungsgas (84) unter einem Ausgangsdruck steht, der kleiner ist als der Reinigungsgas-Versorgungsdruck, und dass dann die Sperreinrichtung (22) geschlossen wird.
  5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Einbringung von Reinigungsflüssigkeit (38) in den Speicher (6) mittels einer Absperreinrichtung (60) gesteuert wird,
    dass die Reinigungsflüssigkeit (38) mittels einer Reinigungsflüssigkeits-Versorgungseinrichtung (10) bereitgestellt wird, welche die Reinigungsflüssigkeit (38) mit einem Reinigungsflüssigkeits-Versorgungsdruck beaufschlägt, und
    dass die Absperreinrichtung (60) ausgehend von einem geschlossenen Zustand geöffnet wird, bis die hierdurch in den Speicher (6) eingebrachte Reinigungsflüssigkeit (38) das Reinigungsgas (84) mit dem Reinigungsflüssigkeits-Versorgungsdruck der Reinigungsflüssigkeit (38) beaufschlägt, und dass anschließend die Absperreinrichtung (60) geschlossen wird.
  6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Einbringung von Reinigungsflüssigkeit (38) in den Speicher (6) mittels einer Absperreinrichtung (60) gesteuert wird,
    dass die Reinigungsflüssigkeit (38) mittels einer Reinigungsflüssigkeits-Versorgungseinrichtung (10) bereitgestellt wird, welche die Reinigungsflüssigkeit (38) mit einem Reinigungsflüssigkeits-Versorgungsdruck beaufschlägt, und
    dass die Absperreinrichtung (60) ausgehend von einem geschlossenen Zustand nur so lange geöffnet wird, dass die hierdurch in den Speicher (6) eingebrachte Reinigungsflüssigkeit (38) das Reinigungsgas (84) mit einem Arbeitsdruck beaufschlägt, der kleiner ist als der Reinigungsflüssigkeits-Versorgungsdruck der Reinigungsflüssigkeit (38), und dass dann die Absperreinrichtung (60) geschlossen wird.
  7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass unter Reinigungsflüssigkeits-Versorgungsdruck stehende Reinigungsflüssigkeit (38) in den Vorratsbehälter (36) zurückgeführt wird.
  8. Verfahren zur Reinigung eines Werkstücks (4), umfassend folgende Verfahrensschritte:
    - Bereitstellung eines Reinigungsmediums durch ein Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7;
    - Zuführung des Reinigungsgases (84) aus dem Speicher (6) zu dem Werkstück (4),
    wobei das Verfahren eine Zuführung der Reinigungsflüssigkeit (38) aus dem Speicher (6) zu dem Werkstück (4) umfasst und das Reinigungsgas (84) und die Reinigungsflüssigkeit (38) nacheinander aus dem Speicher (6) zu dem Werkstück (4) geführt werden.
  9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass zuerst das Reinigungsgas (84) und dann die Reinigungsflüssigkeit (38) aus dem Speicher (6) zu dem Werkstück (4) geführt wird und
    dass während der Zuführung von Reinigungsgas (84) und/oder Reinigungsflüssigkeit (38) aus dem Speicher (6) zu dem Werkstück (4) mit einem Druck beaufschlagte Reinigungsflüssigkeit (38) in den Speicher (6) eingebracht wird.
  10. Reinigungsvorrichtung (2) zur Reinigung eines Werkstücks (4) zur Durchführung eines Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 9, mit einem Speicher (6) zur Speicherung eines Reinigungsmediums und mit einer Zuführeinrichtung (12) für die Zuführung des Reinigungsmediums aus dem Speicher (6) zu dem Werkstück (4), dadurch gekennzeichnet, dass der Speicher (6) mit einer Reinigungsgas-Versorgungseinrichtung (8) zur Einbringung eines Reinigungsgases (84), insbesondere Luft, in den Speicher (6) verbunden ist und dass für eine Druckbeaufschlagung des unter einem Ausgangsdruck stehenden Reinigungsgases (84) der Speicher (6) mit einer Reinigungsflüssigkeits-Versorgungseinrichtung (10) zur Einbringung von mit Druck beaufschlagter Reinigungsflüssigkeit (38) in den Speicher (6) verbunden ist,
    wobei die Reinigungsflüssigkeits-Versorgungseinrichtung (10) eine Druckbeaufschlagungsvorrichtung (42) zur Druckbeaufschlagung der Reinigungsflüssigkeit (38) umfasst, mittels welcher die Reinigungsflüssigkeit vor Einbringung in den Speicher (6) auf einen den Ausgangsdruck des Reinigungsgases (84) übersteigenden Arbeitsdruck bringbar ist.
  11. Reinigungsvorrichtung (2) nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigungsflüssigkeits-Versorgungseinrichtung (10) einen Vorratsbehälter (36) zur Bevorratung von Reinigungsflüssigkeit (38) umfasst und
    dass die Reinigungsflüssigkeits-Versorgungseinrichtung (10) eine Umschalteinrichtung (58) umfasst, welche die Reinigungsflüssigkeit (38) wahlweise dem Speicher (6) oder dem Vorratsbehälter (36) zuleitet.
  12. Reinigungsvorrichtung (2) nach einem der Ansprüche 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigungsvorrichtung (2) eine Ablaufeinrichtung (14) umfasst, die eine Schließstellung einnehmen kann und eine Öffnungsstellung, in der die Ablaufeinrichtung (14) Reinigungsflüssigkeit (38) und/oder Reinigungsgas (84) aus dem Speicher (6) ableitet.
  13. Reinigungsvorrichtung (2) nach einem der Ansprüche 10 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Zuführeinrichtung (12) eine Durchfluss-Steuereinrichtung (70) umfasst, mit der die Zuführung von Reinigungsgas (84) und/oder Reinigungsflüssigkeit (38) aus dem Speicher (6) zu dem Werkstück (4) steuerbar ist.
  14. Reinigungsvorrichtung (2) nach einem der Ansprüche 10 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Zuführeinrichtung (12) eine Vorrichtung (86) zur Erzeugung eines pulsierenden Volumenstroms von Reinigungsgas (84) und/oder Reinigungsflüssigkeit (38) umfasst.
  15. Verwendung einer Reinigungsvorrichtung (2) nach einem der Ansprüche 10 bis 14 zur Durchführung eines Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 9.
EP08734933.8A 2007-04-04 2008-04-01 Verfahren zur bereitstellung eines reinigungsmediums und verfahren und reinigungsvorrichtung zur reinigung eines werkstücks Not-in-force EP2129478B1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102007016246.6A DE102007016246B4 (de) 2007-04-04 2007-04-04 Verfahren zur Bereitstellung eines Reinigungsmediums und Verfahren und Reinigungsvorrichtung zur Reinigung eines Werkstücks
PCT/EP2008/002581 WO2008122383A1 (de) 2007-04-04 2008-04-01 Verfahren zur bereitstellung eines reinigungsmediums und verfahren und reinigungsvorrichtung zur reinigung eines werkstücks

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EP2129478A1 EP2129478A1 (de) 2009-12-09
EP2129478B1 true EP2129478B1 (de) 2016-02-10

Family

ID=39637692

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP08734933.8A Not-in-force EP2129478B1 (de) 2007-04-04 2008-04-01 Verfahren zur bereitstellung eines reinigungsmediums und verfahren und reinigungsvorrichtung zur reinigung eines werkstücks

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9278366B2 (de)
EP (1) EP2129478B1 (de)
CN (1) CN101652192B (de)
DE (1) DE102007016246B4 (de)
WO (1) WO2008122383A1 (de)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5482359B2 (ja) * 2009-03-27 2014-05-07 ブラザー工業株式会社 工具洗浄装置
JP5321404B2 (ja) * 2009-10-19 2013-10-23 ブラザー工業株式会社 工作機械の工具洗浄装置
JP5321412B2 (ja) * 2009-10-28 2013-10-23 ブラザー工業株式会社 工作機械の工具洗浄装置
JP5402668B2 (ja) * 2010-01-22 2014-01-29 ブラザー工業株式会社 工作機械の工具洗浄装置
DE102010002633A1 (de) * 2010-03-05 2011-09-08 Dürr Ecoclean GmbH Werkzeug für das Reinigen und/oder Trocknen eines Hohlraums
JP2014176812A (ja) * 2013-03-15 2014-09-25 Dainippon Screen Mfg Co Ltd ノズル洗浄装置、塗布装置、ノズル洗浄方法、および塗布方法
CN103277148A (zh) * 2013-06-05 2013-09-04 中国南方航空工业(集团)有限公司 冲洗装置及涡轮发动机的清洗方法
FR3055227B1 (fr) 2016-08-26 2020-11-06 Ridel Machine de lavage/sechage pneumatique
CN106311664B (zh) * 2016-09-22 2019-03-29 东风本田发动机有限公司 一种发动机缸盖清洗方法
US10395930B2 (en) * 2016-12-30 2019-08-27 Semes Co., Ltd. Substrate treating apparatus and substrate treating method
CN113002808A (zh) * 2021-02-07 2021-06-22 上海宇航***工程研究所 一种火箭吹除集中供气***

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2621596A (en) * 1945-11-13 1952-12-16 Jacuzzi Bros Inc Pressure system
US2594833A (en) * 1948-01-07 1952-04-29 Starley M White Pumping system and storage tank
US2709964A (en) * 1952-10-14 1955-06-07 Jr Francis E Brady Differential accumulator for water systems
US5385168A (en) * 1991-05-03 1995-01-31 Act Distribution, Inc. Hot water demand appliance and system
DE4138432C1 (de) * 1991-11-22 1993-02-18 Aichelin Gmbh, 7015 Korntal-Muenchingen, De
DE4138400C1 (de) * 1991-11-22 1993-02-18 Aichelin Gmbh, 7015 Korntal-Muenchingen, De
DE19611663A1 (de) * 1996-03-25 1997-10-02 Steffen Jurke Niederdruckzerstäubungsverfahren zur Staubbindung an Baumaschinen und landwirtschaftlichen Geräten
US5868280A (en) * 1996-11-08 1999-02-09 Schroeder; David H. Bladderless precharged pressurized liquid delivery system
US6332470B1 (en) 1997-12-30 2001-12-25 Boris Fishkin Aerosol substrate cleaner
DE10151864B4 (de) 2001-10-24 2006-01-26 Boll & Kirch Filterbau Gmbh Verfahren zum Betrieb eines Filters für Flüssigkeiten und System zur Durchführung des Verfahrens
CA2481047C (en) * 2003-09-11 2010-08-17 Ga-Rew Corporation Fluid spraying device and fluid spraying nozzle
DE102004019981A1 (de) * 2004-04-23 2005-11-17 Mann + Hummel Gmbh Filtrierverfahren
EP1690579A1 (de) * 2005-02-14 2006-08-16 Kärcher Futuretech GmbH Filteranordnung und Verfahren zum Filtrieren von Schmutzwasser, insbesondere bei der Trinkwasseraufbereitung
CZ299412B6 (cs) 2005-03-15 2008-07-16 Ústav geoniky AV CR, v.v.i. Zpusob generování tlakových pulzací a zarízení pro provádení tohoto zpusobu

Also Published As

Publication number Publication date
DE102007016246A1 (de) 2008-10-09
DE102007016246B4 (de) 2019-02-21
US20100043841A1 (en) 2010-02-25
EP2129478A1 (de) 2009-12-09
CN101652192B (zh) 2011-10-19
WO2008122383A1 (de) 2008-10-16
CN101652192A (zh) 2010-02-17
US9278366B2 (en) 2016-03-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2129478B1 (de) Verfahren zur bereitstellung eines reinigungsmediums und verfahren und reinigungsvorrichtung zur reinigung eines werkstücks
DE10140216B4 (de) Verfahren und Vorrichtung an einer Lackiereinrichtung zum Reinigen einer Lack-Förderleitung
EP1566352B1 (de) Pulverförderpumpe und zugehöriges Betriebsverfahren
DE102019125970B4 (de) Sensorreinigungssystem für Fahrzeuge
DE19933147C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Entsalzen von Wasser
DE102007045330A1 (de) Beschichtungspulver-Förderverfahren, Beschichtungspulver-Fördervorrichtung und elektrostatische Pulversprühbeschichtungsvorrichtung
DE2548842C3 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Betrieb einer Filterpresse mit nachgeschaltetem Windkessel
DE4125315C2 (de) Vorrichtung zum Reinigen von Rohrleitungen
EP2588261B1 (de) Verfahren zum befüllen des formhohlraums einer druckgiessvorrichtung sowie ventilanordnung und druckgiessvorrichtung zur durchführung des verfahrens
DE2805204C3 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Filtrieren von Schlamm o.dgl. Filtergut in einer Filterpresse
AT501891B1 (de) Einrichtung zur einbringung von fluid
DE1461443C3 (de) Verfahren zum Filtrieren, insbeson dere zum Entwässern von Abwasserschlam
DE102021117798A1 (de) Pulverförderkammer für eine pulverdichtstrompumpe sowie pulverdichtstrompumpe mit einer pulverförderkammer
DE102020109973A1 (de) Beschichtungsmittelpumpe, Beschichtungsanlage und zugehöriges Betriebsverfahren
EP3150285B1 (de) Anordnung zum aufbringen von wachs auf karosseriebauteile eines fahrzeugs
DE60224120T2 (de) Wasserstrahlapparat und zugehöriges Verfahren
DE102016101000B4 (de) Verfahren zur Filterung einer Flüssigkeit durch eine Filtrationsmembran sowie Filtrationsanlage
WO2004091818A1 (de) Niederdruckspritzmodul und verfahren zur niederdruckspritzreinigung mit restschmutzanalyse von bauteilen
EP2643196A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum reinigen von leitungen, insbesondere von versorgungsleitugen in druckluftbremssystemen
WO2018046303A1 (de) Düseneinheit, mobile schmierungsvorrichtung und verfahren zum schmieren eines objekts
DE4237028A1 (de) Verfahren und Einrichtung zur Versorgung einer Maschinenanlage mit im Kreislauf über ein Filtersystem umgewälzter Flüssigkeit, wie Kühlschmiermittel, Suspension oder Öl u. dgl.
EP0506028A2 (de) Reinigungsvorrichtung
EP1369182A2 (de) Lackiereinrichtung
EP3154709A1 (de) Verfahren zur hohlraumkonservierung eines hohlraums einer fahrzeugkarosserie und vorrichtung hierfür
DE102007063241A1 (de) Filtereinrichtung und zugehöriges Betriebsverfahren

Legal Events

Date Code Title Description
PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

17P Request for examination filed

Effective date: 20090826

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MT NL NO PL PT RO SE SI SK TR

DAX Request for extension of the european patent (deleted)
TPAC Observations filed by third parties

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNTIPA

17Q First examination report despatched

Effective date: 20141211

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R079

Ref document number: 502008013813

Country of ref document: DE

Free format text: PREVIOUS MAIN CLASS: B08B0003000000

Ipc: B05B0007260000

GRAP Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR1

INTG Intention to grant announced

Effective date: 20150814

RIC1 Information provided on ipc code assigned before grant

Ipc: B05B 7/26 20060101AFI20150803BHEP

Ipc: B08B 3/00 20060101ALI20150803BHEP

Ipc: B08B 3/02 20060101ALI20150803BHEP

GRAS Grant fee paid

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR3

GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: B1

Designated state(s): AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MT NL NO PL PT RO SE SI SK TR

REG Reference to a national code

Ref country code: GB

Ref legal event code: FG4D

Free format text: NOT ENGLISH

REG Reference to a national code

Ref country code: AT

Ref legal event code: REF

Ref document number: 774382

Country of ref document: AT

Kind code of ref document: T

Effective date: 20160215

Ref country code: CH

Ref legal event code: EP

REG Reference to a national code

Ref country code: IE

Ref legal event code: FG4D

Free format text: LANGUAGE OF EP DOCUMENT: GERMAN

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R096

Ref document number: 502008013813

Country of ref document: DE

REG Reference to a national code

Ref country code: FR

Ref legal event code: PLFP

Year of fee payment: 9

REG Reference to a national code

Ref country code: LT

Ref legal event code: MG4D

REG Reference to a national code

Ref country code: NL

Ref legal event code: MP

Effective date: 20160210

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: HR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20160210

Ref country code: GR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20160511

Ref country code: ES

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20160210

Ref country code: FI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20160210

Ref country code: NO

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20160510

Ref country code: IT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20160210

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: PT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20160613

Ref country code: NL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20160210

Ref country code: PL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20160210

Ref country code: SE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20160210

Ref country code: LT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20160210

Ref country code: IS

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20160610

Ref country code: LV

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20160210

Ref country code: BE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20160430

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: EE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20160210

Ref country code: DK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20160210

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R097

Ref document number: 502008013813

Country of ref document: DE

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20160210

Ref country code: CZ

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20160210

Ref country code: RO

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20160210

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: PL

PLBE No opposition filed within time limit

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009261

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: NO OPPOSITION FILED WITHIN TIME LIMIT

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LU

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20160401

26N No opposition filed

Effective date: 20161111

GBPC Gb: european patent ceased through non-payment of renewal fee

Effective date: 20160510

REG Reference to a national code

Ref country code: IE

Ref legal event code: MM4A

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20160430

Ref country code: CH

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20160430

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: BG

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20160510

Ref country code: SI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20160210

REG Reference to a national code

Ref country code: FR

Ref legal event code: PLFP

Year of fee payment: 10

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20160401

Ref country code: GB

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20160510

REG Reference to a national code

Ref country code: FR

Ref legal event code: PLFP

Year of fee payment: 11

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: CY

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20160210

Ref country code: HU

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT; INVALID AB INITIO

Effective date: 20080401

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: TR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20160210

Ref country code: MT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20160210

Ref country code: MC

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20160210

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: AT

Payment date: 20180419

Year of fee payment: 11

Ref country code: FR

Payment date: 20180420

Year of fee payment: 11

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R081

Ref document number: 502008013813

Country of ref document: DE

Owner name: ECOCLEAN GMBH, DE

Free format text: FORMER OWNER: DUERR ECOCLEAN GMBH, 70794 FILDERSTADT, DE

REG Reference to a national code

Ref country code: AT

Ref legal event code: HC

Ref document number: 774382

Country of ref document: AT

Kind code of ref document: T

Owner name: ECOCLEAN GMBH, DE

Effective date: 20181024

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Payment date: 20190418

Year of fee payment: 12

REG Reference to a national code

Ref country code: AT

Ref legal event code: MM01

Ref document number: 774382

Country of ref document: AT

Kind code of ref document: T

Effective date: 20190401

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: AT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20190401

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20190430

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R119

Ref document number: 502008013813

Country of ref document: DE

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20201103