DE69227336T2 - Lichtempfindliches photographisches Silberhalogenidmaterial - Google Patents
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Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft ein lichtempfindliches photographisches Silberhalogenidaufzeichnungsmaterial zur Filmherstellung, insbesondere ein lichtempfindliches photographisches Aufzeichnungsmaterial zur Filmherstellung mit (allenfalls) geringfügiger (üblicher) Aufrollneigung.
- Bei der Herstellung von Filmen für Druckzwecke bedient man sich zweier Arten von Filmen, nämlich Rollfilmen in Form einer um einen Kern gewickelten langgestreckten Filmlage und Filmbögen in Form eines auf eine gegebene Größe zurechtgeschnittenen blatt- oder bogenförmigen Films. Rollfilme werden wegen ihrer Vorteile, z. B. der einfachen Handhabbarkeit und ihres geringen Preises, bevorzugt.
- Solche Rollfilme tendieren jedoch infolge ihrer Rollneigung zum Aufrollen, was bei ihrer Verwendung in Lagenform zu Handhabungsproblemen führt. Diesbezüglich bedarf es einer Verbesserung.
- Zur Lösung des Problems eines üblichen Aufrollens nach der Entwicklung wurden bereits verschiedene Verfahren vorgeschlagen. Hierzu gehört das Verfahren gemäß der japanischen O. P. I.-Veröffentlichung Nr. 244446/1989. Dieses bedient sich eines Films aus einem copolymerisierten Polyester mit einer aromatischen Dicarbonsäure mit einem Metallsulfonat. Gegen das übliche Aufrollen bei unbehandelten Filmen stellt dies jedoch noch keine wirksame Maßnahme dar.
- Die DE-A-25 14 352 beschreibt ein Verfahren zur Herstellung thermoplastischer Filme verminderter Aufrollneigung. Die Filme werden auf eine Temperatur im Bereich zwischen 30ºC und einer Temperatur von 5ºC unter der Einfriertemperatur des thermoplastischen Werkstoffs erwärmt. Die betreffenden Temperaturen liegen im Bereich von 60 bis 95ºC.
- Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht in der Bereitstellung eines lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials geringer gewohnheitsmäßiger Aufrollneigung in unbehandeltem Zustand.
- Verfahren zur Herstellung eines lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials, umfassend einen Polyesterschichtträger mit- einer ersten hydrophilen Schicht mit einer Silberhalogenidemulsionsschicht auf einer ersten Schichtträgeroberfläche und einer zweiten hydrophilen Schicht in Form einer antistatischen Schicht auf einer zweiten Schichtträgeroberfläche in folgenden Stufen:
- (a) Auftragen der ersten hydrophilen Schicht und der zweiten hydrophilen Schicht auf den Polyesterschichtträger;
- (b) Trocknen der aufgetragenen Schichten zur Fertigstellung eines lichtempfindlichen Films; danach
- (c) Aufwickeln des Films auf einen ersten Kern, wobei die Silberhalogenidemulsionsschicht-Seite nach außen weist;
- (d) nicht weniger als 12stündiges Erwärmen des gewickelten Films auf eine Temperatur von 30 bis 55ºC bei einer absoluten Feuchtigkeit von nicht mehr als 1%;
- (e) Entfernen des Films vom ersten Kern und Schneiden des Films, und danach
- (f) Aufwickeln des geschnittenen Films auf einen zweiten Kern, wobei die Silberhalogenidschicht-Seite nach innen weist,
- dadurch gekennzeichnet, daß sowohl die erste hydrophile Schicht als auch die zweite hydrophile Schicht Gelatine in einer Menge von nicht mehr als 2,5 g/m² enthalten.
- Die Menge der auf die Innenseite des Polyesterschichtträgers aufgetragenen hydrophilen Kolloidschichtgelatine beträgt für beide Schichtträgerseiten vorzugsweise nicht mehr als 2,5 g/m².
- Die vorliegende Erfindung wird im folgenden detailliert beschrieben.
- Obwohl der erfindungsgemäß vorgesehenen antistatischen Schicht keine besonderen Grenzen gesetzt sind, umfaßt sie vorzugsweise ein hydrophiles Kolloid mit einem Metalloxid oder ein Reaktionsprodukt eines wasserlöslichen Polymers, eines hydrophoben Polymerlatex und eines Härtungsmittels.
- Das wasserlösliche elektrisch leitende Polymer besitzt mindestens eine elektrisch leitende Gruppe, ausgewählt aus Sulfonsäuregruppen, Schwefelsäureestergruppen, quaternären Ämmonlumsalzen, tertiären Ammoniumsalzen und Carboxylgruppen. Die elektrisch leitende Gruppe sollte in einer Menge von nicht weniger als 5 Gew.-% pro Polymermolekül vorhanden sein. Das wasserlösliche elektrisch leitende Polymer kann eine Hydroxylgruppe, Aminogruppe, Epoxygruppe, Aziridingruppe, aktive Methingruppe, Sulfinsäuregruppe, Aldehydgruppe und Vinylsulfongruppe enthalten.
- Das anzahlgemittelte Molekulargewicht des Polymers beträgt 3000 bis 100000, vorzugsweise 3500 bis 50000.
- Beispiel für die wasserlöslichen elektrisch leitenden Polymerverbindungen umfassen die Beispiel A-1 bis A-21 aus der japanischen Patentanmeldung Nr. 146629/1990, Seiten 6-11 (japanische Patent-O. P. I.-Veröffentlichung 4/39651/1992). Typische, jedoch nicht beschränkende Beispiele hierfür sind im folgenden angegeben:
- Bei den Beispielen P-1 bis P-10 bedeutet Mn das durch GPC bestimmte und als Polyethylenglycol angegebene durchschnittliche Molekulargewicht (das durchschnittliche Molekulargewicht entspricht in dieser Beschreibung dem anzahlgemittelten Molekulargewicht).
- Der in der wasserlöslich elektrisch leitenden Polymerschicht enthaltene hydrophobe Polymerlatex ist praktisch wasserunlöslich. Den hydrophoben Polymerlatex erhält man durch Polymerisieren einer beliebigen Kombination von Monomeren, ausgewählt aus Styrol, Styrolderivaten, Alkylacrylaten, Alkylmethacrylaten, Olefinderivaten, halogenierten Ethylenderivaten, Vinylesterderivaten und Acrylnitril. Er enthält zweckmäßigerweise mindestens 30, vorzugsweise nicht weniger als 50 Mol-% an einem Styrolderivat, Alkylacrylat oder Alkylmethacrylat.
- Beispiele für solche hydrophobe Latizes sind die Verbindungen L-1 bis L-26 gemäß der japanischen Patentanmeldung Nr. 146629/1990, Seiten 13-19 (japanische Patent-O. P. I.- Veröffentlichung 4/39651/1992). Typische Beispiele hierfür sind folgende:
- Als Härtungsmittel wird vorzugsweise eine Epoxyverbindung verwendet.
- Es können beliebige Epoxyhärtungsmittel verwendet werden, sofern sie nur eine Epoxygruppe enthalten. Sie können in Kombination mit einem oder mehreren anderen Härtungsmittel(n), z. B. Aldehydhärtungsmitteln und Vinylsulfonhärtungsmitteln, verwendet werden.
- Die Epoxyverbindung enthält vorzugsweise eine Hydroxylgruppe oder eine Etherkondensationsbindung. Erfindungsgemäß gewinnt man die Epoxyäquivalenz nach folgender Gleichung:
- Epoxyäquivalenz = Molekulargewicht/Anzahl der Epoxygruppen in einem Molekül.
- Dieser Wert läßt sich auch colorimetrisch nach der in "Shin Jikken Kagaku Koza, Band 13 (I), Yuki Kozo", Seite 58, verlegt bei Maruzen beschriebenen Methode bestimmen.
- Die Epoxyäquivalenz beträgt zweckmäßigerweise 50 bis 300, vorzugsweise 80 bis 210. Epoxyäquivalenzwerte über 300 führen zu einer unzureichenden Härtung. Die Auftragfähigkeit verschlechtert sich mit zunehmender Menge. Eine unzureichende Härtung kann zur Kratzerbildung führen. Epoxyäquivalenzwerte unter 50 sorgen für eine starke Härtung, führen jedoch zu einer Trübung und zu einer Beeinträchtigung der Restfärbung. Selbst bei Verringerung der Menge läßt sich keine Verbesserung erzielen.
- Beispiele für die Epoxyverbindungen sind die Verbindungen E-1 bis E-11 gemäß der japanischen Patentanmeldung Nr. 146629/1990 (japanische Patent-O. P. I.-Veröffentlichung 4/39651/1992). Typische Beispiele hierfür sind (die Zahlenangaben in Klammern stellen die Werte für die Epoxyäquivlenz dar): Epoxyäquivalenz Epoxyäquivalenz Epoxyäquivalenz
- Die Menge an zugesetztem Epoxyhärtungsmittel beträgt vorzugsweise 5 mg/m² bis 1 g/m².
- Die genannten Epoxyverbindungen werden nicht nur in der antistatischen Schicht sondern auch in einer Unterschicht, einer Emulsionsschicht, einer Rückschicht oder einer Schutzschicht verwendet. Die Epoxyverbindung wird vorzugsweise in der in Kontakt mit der antistatischen Schicht befindlichen hydrophilen Kolloidschicht verwendet, da auf diese Weise die Haftungseigenschaften verbessert werden.
- Das Metalloxid für die antistatische Schicht kann aus Indiumoxid, Zinnoxid, Vanadiumoxid oder einem mit Antimon- oder Silberatomen dotierten Metalloxid oder einer beliebigen Kombination hiervon bestehen.
- Es sind zwei Arten von Indiumoxiden, nämlich Indium(I)oxid (In&sub2;O) und Indium (III)oxid (In&sub2;O&sub3;) bekannt, vorzugsweise wird erfindungsgemäß Indium(III)oxid verwendet.
- Es gibt zwei Arten von Zinnoxiden, nämlich Zinn(II)oxid (SnO) und Zinn (IV) oxid (SnO&sub2;), erfindungsgemäß wird Zinn(IV)oxid bevorzugt. Als Vanadiumoxid wird vorzugsweise Vanadium(V)oxid verwendet. Beispiele für mit Antimonatomen dotierte Metalloxide sind Zinn- und Iridiumoxid. Ein Beispiel für ein mit Silberatomen dotiertes Metalloxid ist Vanadium(V)oxid. Zur Dotierung dieser Metalloxide mit Antimon oder Silber werden ein Halogenid, ein Alkoxyderivat oder ein Nitrat von Zinn oder Indium oder Vanadium und ein Halogenid, ein Alkoxyderivat oder ein Nitrat von Antimon oder Silber gemischt, oxidiert und gebrannt. Diese Metallverbindungen sind ohne Schwierigkeiten von Herstellern von Metallverbindungen, z. B. Nippon Yttrium Co., Ltd., erhältlich. Der Antimon- oder Silberfremdatomgehalt beträgt vorzugsweise 0,5 bis 10 Gew.-% des Zinns oder Indiums oder Vanadiums. Diese anorganischen Verbindungen werden vorzugsweise als Dispersion in einem hydrophilen Kolloid, z. B. Gelatine, oder in einer polymeren Verbindung, z. B. Acrylsäure oder Maleinsäure, zugegeben. Die Zugabemenge, bezogen auf das Bindemittel, beträgt vorzugsweise 1 bis 100 Gew.-%.
- Der pH-Wert der Filmoberfläche der elektrisch leitenden Schicht beträgt erfindungsgemäß zweckmäßigerweise nicht mehr als 8,0, vorzugsweise 3,0 bis 7,5. Zu niedrige Filmoberflächen-pH-Werte sind aus Gründen der Filmstabilität unerwünscht.
- Die elektrisch leitende Schicht kann erfindungsgemäß auf der lichtempfindlichen Schichtträgerseite oder auf der gegenüberliegenden Schichtträgerseite vorgesehen sein.
- Erfindungsgemäß wird der Film nach dem Beschichten und Trocknen mit der nach außen weisenden Emulsionsschichtseite um einen Kern (den ersten Kern) gewickelt. Der Kern besitzt vorzugsweise aus Gründen der Wirksamkeit und Produktivität einen Außendurchmesser von 100 bis 500 mm. Der gewickelte Film wird dann auf eine gegebene Größe (250 mm bis 700 mm) zurechtgeschnitten, mit der nach innen weisenden Emulsionsschichtseite auf einen Kern (50 mm bis 100 mm) aufgewickelt und verpackt. Die erfindungsgemäße Wärmebehandlung erfolgt vor dem Schneiden. Obwohl die Erwärmungstemperatur über 30 ºC liegen muß, um eine akzeptable Wirkung zu erreichen, beträgt sie vorzugsweise 34ºC bis 55ºC.
- Trotz temperaturabhängiger Schwankungen beträgt die Dauer der Erwärmungsbehandlung bei einer Temperatur von 40ºC nicht weniger als etwa 12 h. Die Feuchtigkeit bei der Wärmebehandlung beträgt nicht mehr als 1% absolute Feuchtigkeit. Die absolute Luftfeuchtigkeit ist als Gewichtsverhältnis Wasserdampf/Luft definiert. So entspricht beispielsweise eine 1%ige absolute Feuchtigkeit einer relativen Luftfeuchtigkeit von etwa 50% relative Luftfeuchtigkeit bei 29ºC bzw. etwa 21% relative Luftfeuchtigkeit bei 40ºC.
- Erfindungsgemäß wird der Polyesterschichtträger auf beiden Seiten mit hydrophilen Kolloidschichten einschließlich mindestens einer Silberhalogenidemulsionsschicht beschichtet. Die Menge an aufgetragenem Gelatinebindemittel einschließlich der auf jeder Seite verwendeten gesamten Gelatine beträgt für jede Fläche insgesamt vorzugsweise nicht mehr als 2,5 g/m².
- Bei Verwendung des erfindungsgemäßen lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials zur Filmherstellung werden vorzugsweise sehr kontrastreiche Bilder angestrebt. Zu diesem Zweck wird mindestens einer Schicht auf der Emulsionsschichtseite eine Tetrazoliumverbindung oder Hydrazinverbindung einverleibt.
- Beispiele für die Tetrazoliumverbindungen sind solche der Formel I gemäß der japanischen Patentanmeldung Nr. 107056/1990 (japanische Patent-O. P. I.-Veröffentlichung 3/287158/1991). Beispiele für bevorzugt verwendbare Tetrazoliumverbindungen sind die Verbindungen I-1 bis I-27 in Tabelle 1 auf Seite 9 der genannten Patentanmeldung.
- Beispiele für die Hydrazinverbindungen sind der solche der Formeln A und B gemäß der japanischen Patentanmeldung Nr. 234203/1990 (japanischen Patent-O. P. I.-Veröffentlichung 4/114145/1992). Beispiele für bevorzugt verwendbare Tetrazoliumverbindungen sind die Verbindungen 1 bis 177 auf Seiten 12-48 der genannten Patentanmeldung.
- Die erfindungsgemäß erzielbare Wirkung läßt sich noch verstärken, indem man die hydrophile Kolloidschichtlösung einschließlich einer Silberhalogenidemulsionsschicht innerhalb von 5 min. nachdem die durchschnittliche Oberflächentemperatur der aufgetragenen Schicht einen Wert 1ºC unterhalb der durchschnittlichen Temperatur der Umgebungsluft zum Trocknen erreicht hat, 5 s bis 1 min mit 35 bis 80ºC warmer Luft kontaktiert.
- Nach Beendigung der geschilderten Maßnahme muß der Film innerhalb von 5 min auf den Kern aufgewickelt werden. Es muß nicht zwingend mit der nach außen weisenden Emulsionsschichtseite gewickelt werden, da der Film unmittelbar vor der Wärmebehandlung mit der nach außen weisenden Emulsionsschichtseite neu gewickelt werden kann. Die Wärmebehandlung muß jedoch so früh wie möglich und nicht später als 30 Tage vom Datum der Einstellung erfolgen.
- Die folgenden, jedoch nicht beschränkenden Beispiele sollen die vorliegende Erfindung näher erläutern.
- Nach einer Koronaentladung mit einer Energieintensität von 10 W/(m² min) wird Polyethylenterephthalat mit Vinylidenchlorid grundiert und dann erneut einer Koronaentladung ei ner Energieintensität von 10 w/(m² min) unterworfen. Danach wird eine Beschichtungslösung für eine antistatische Schicht der folgenden Zusammensetzung aufgetragen:
- wasserlösliches elektrisch leitendes Polymer P-3 2,5 g/m²
- Hydrophober Latex L-3' 1,7 g/m²
- Ammoniumsulfat 20 mg/m²
- Härtungsmittel-IE-6 500 mg/m²
- Härtungsmittel-II E-2 200 mg/m²
- Polyethylenglycol 5 mg/m²
- Entsprechend dem Auftrag der polymeren antistatischen Schicht wurde eine Beschichtungslösung für eine antistatische Metalloxidschicht der folgenden Zusammensetzung aufgetragen:
- Gelatine 0,2 g/m²
- Styrol/Maleinsäure-Copolymer 50 mg/m²
- Polyethylenglycol 2 mg/m²
- Metalloxid (mit Antimon dotiertes Zinnoxid) 0,1 g/m²
- Härtungsmittel E-7 50 mg/m²
- Es wurde eine Silberchlorbromidemulsion eines Silberbromidgehalts von 2 Mol-% wie folgt zubereitet:
- Eine Gelatinelösung mit 20 mg Rhodiumnatriumhexabromid, Natriumchlorid und Kaliumbromid pro 60 g Silbernitrat und eine wäßrige Silbernitratlösung wurden nach dem Doppelstrahlverfahren bei 40ºC 25 min lang miteinander gemischt und verrührt, wobei eine Silberchlorbromidemulsion einer durchschnittlichen Korngröße von 0,2 um erhalten wurde.
- Diese Emulsion wurde mit 180 mg 6-Methyl-4-hydroxy- 1,3,3a,7-tetrazainden versetzt und dann in üblicher bekann ter Weise gewaschen und entsalzt.
- Nach Zugabe von 20 mg 6-Methyl-4-hydroxy-1,3,3a,7- tetrazainden wurde die Emulsion schwefelsensibilisiert und danach mit Wasser auf 300 ml fertige Emulsion verdünnt.
- Auftragen der Silberhalogenidemulsionsschicht Die erhaltene Emulsion wurde mit den folgenden Zusätzen in den folgenden Auftragmengen versetzt. Nach dem Grundieren mit einem Poly(Styrol/Butylacrylat/Glycidylmethycrylat)- Latex wurde die der antistatischen Schicht des Polyethylenterephthalatschichtträgers entgegengesetzte Seite mit der Emulsion beschichtet.
- Latexpolymer: Styrol/Butylacrylat/Acrylsäure-Terpolymer 1,0 g/m²
- Tetraphenylphosphoniumchlorid 30 mg/m²
- Saponin 200 mg/m²
- Polyethylenglycol 100 mg/m²
- Natriumdodecylbenzolsulfonat 100 mg/m²
- Hydrochinon 150 mg/m²
- Phenidon 100 mg/m²
- Natriumstyrolsulfonat/Maleinsäure-Polymer (Mw = 250000) 150 mg/m²
- Butylgallat 500 mg/m²
- 5-Methylbenzotriazol 30 mg/m²
- 2-Mercaptobenzimidazol-5-sulfonsäure 30 mg/m²
- Inerte Osselngelatine vgl.
- (isoelektrischer Punkt: 4,9) Tabelle 1
- Silber 2,g g/m² Tetrazoliumverbindung
- Es wurde eine Schutzschicht für die Emulsionsschicht mit folgenden Auftragmengen aufgetragen:
- Fluoriertes Dioctylsulfosuccinat 300 mg/m²
- Aufrauhmittel: Methylpolymethacrylat (durchschnittliche Korngröße: 3,5 am) 100 mg/m²
- Gelatine vgl. Tabelle 1
- Amorphes Siliciumdioxid (durchschnittliche Korngröße: 4,0 um) 50 mg/m²
- Natriumstyrolsulfonat/Maleinsäure-Copolymer 100 mg/m²
- Die Emulsionsschicht bzw. die Schutzschicht wurde mit den im folgenden genannten Härtungsmitteln gehärtet.
- Nach der Koronaentladung mit einer Energieintensität von 25 W/(m²·min) auf der (der Emulsionsschicht) entgegengesetzten antistatischen Schichtseite des Schichtträgers wurden eine farbige Rückschicht der folgenden Zusammensetzung und eine Schutzschicht für die Rückschicht aufgetragen.
- Hydrochinon 50 mg/m²
- Phenidon 10 mg/m²
- Latexpolymer: Butylacrylat/Styrol-Copolymer 500 mg/m²
- Styrol/Maleinsäure-Copolymer 100 mg/m²
- Citronensäure 40 mg/m²
- Benzotriazol 100 mg/m²
- Styrolsulfonsäure/Maleinsäure-Copolymer 100 mg/m²
- Lithiumnitrat 30 mg/m²
- Farbstoffe für die Rückschicht a, b, c, d, e
- Osseingelatine vgl. Tabelle 1
- Glyoxal 100 mg/m²
- Epoxyhärtungsmittel (E-8) 50 mg/m²
- Die Beschichtungslösung wurde vor dem Auftragen auf einen pH-Wert von 5,4 eingestellt.
- Nach Zugabe der folgenden Zusätze in den folgenden Auftragmengen wurde die Beschichtungslösung nach dem Doppelstrahlverfahren auf die Oberseite der Rückschicht aufgetragen.
- Dioctylsulfosuccinat 200 mg/m²
- Aufrauhmittel: Polymethylmethacrylat (durchschnittliche Korngröße: 4,0 um) 50 mg/m²
- Alkalibehandelte Gelatine vgl.
- (isoelektrischer Punkt: 4,9) Tabelle 1
- Fluoriertes Natriumdodecylbenzolsulfonat 50 mg/m²
- Bis(vinylsulfonylmethyl)ether 20 mg/m²
- Nach dem Auftragen der Emulsionsschicht, der Schutzschicht für die Emulsionsschicht, der Rückschicht und der Schutzschicht für die Rückschicht (Auftragtemperatur für die Beschichtungslösung: 35ºC) wurde der Film 6 s lang zum Abkühlen und Erstarrenlassen mit 5ºC kühler Luft behandelt. Danach wurde er bis zum Erreichen eines Wassergehaltes von 1600 in der aufgetragenen Gelatineschicht bei einer Schichtoberflächentemperatur von 10ºC mittels Trocknungsluft einer Trockenkugeltemperatur von 23ºC und einer relativen Luftfeuchtigkeit von 20% getrocknet. Anschließend wurde der Film unter Verwendung von Trocknungsluft einer Trockenkugeltemperatur von 27ºC und einer relativen Luftfeuchtigkeit von 20% getrocknet. Schließlich wurde der Film mittels Trocknungsluft einer Trockenkugeltemperatur von 34ºC und einer relativen Luftfeuchtigkeit von 43% bis zum Erreichen einer durchschnittlichen Temperatur von 33ºC auf der trocknenden Schichtoberfläche getrocknet. Nach 5 s wurde der Film 40 s lang mit Trocknungsluft einer Trockenkugeltemperatur von 60ºC und einer relativen Luftfeuchtigkeit von 5% mit einem Wärmeleitungskoeffizienten von 100 kcal/(m² h ºC) behandelt.
- Anschließend wurde der Film innerhalb von 5 min mit der nach außen weisenden Emulsionsschichtseite um einen Kern eines Außendurchmessers von 200 mm gewickelt und 3 Tage später wärmebehandelt. Nach der Wärmebehandlung unter den in Tabelle 1 angegebenen Bedingungen und weiteren 3 Tagen wurde die Rolle auf eine gegebene Größe zurechtgeschnitten, mit der nach innen weisenden Emulsionsschichtseite bei 23 ºC und einer relativen Luftfeuchtigkeit von 50% um einen weiteren Kern eines Außendurchmessers von 76,5 mm gewickelt und schließlich verpackt.
- Der erhaltene Rollfilm wurde 30 Tage lang bei einer Temperatur von 25ºC und einer relativen Luftfeuchtigkeit von 50 % gelagert und dann zu Bögen einer Länge von 300 mm zurechtgeschnitten. Bei einer Temperatur von 25ºC und einer relativen Luftfeuchtigkeit von 50% wurde dann die Krümmung des geschnittenen Films gemessen. Tabelle 1
- * 1: Ausgedrückt als Gesamtwert für die Emulsionsschicht und die Schutzschicht für die Emulsionsschicht.
- * 2: Ausgedrückt als Gesamtwert für die Rückschicht und die Schutzschicht für die Rückschicht.
- Aus den Ergebnissen der Tabelle 1 geht hervor, daß die erfindungsgemäßen Prüflinge nur eine geringe Krümmung zeigen, das heißt, bei ihnen ist die ihnen eigene Aufrollneigung gut unterdrückt. Bei den Prüflingen, 8 bis 10, bei denen die aufgetragene Gelatinemenge nicht als 2,5 g/m² betrug, war die (solchen Filmen eigene) Aufrollneigung besonders gut unterdrückt.
- Die vorliegende Erfindung sorgt für ein lichtempfindliches photographisches Silberhalogenidaufzeichnungsmaterial mit (nur) geringer (ihnen eigener) Aufrollneigung und zwar insbesondere in Form unbehandelter Filme.
Claims (11)
1. Verfahren zur Herstellung eines lichtempfindlichen
photographischen
Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials, umfassend einen Polyesterschichtträger mit einer
ersten hydrophilen Schicht mit einer
Silberhalogenidemulsionsschicht auf einer ersten
Schichtträgeroberfläche und einer zweiten hydrophilen Schicht in Form
einer antistatischen Schicht auf einer zweiten
Schichtträgeroberfläche in folgenden Stufen:
(a) Auftragen der ersten hydrophilen Schicht und der
zweiten hydrophilen Schicht auf den
Polyesterschichtträger;
(b) Trocknen der aufgetragenen Schichten zur
Fertigstellung eines lichtempfindlichen Films; danach
(c) Aufwickeln des Films auf einen ersten Kern, wobei
die Silberhalogenidemulsionsschicht-Seite nach außen
weist;
(d) nicht weniger als 12stündiges Erwärmen des
gewickelten Films auf eine Temperatur von 30 bis 55ºC bei
einer absoluten Feuchtigkeit von nicht mehr als 1%;
(e) Entfernen des Films vom ersten Kern und Schneiden
des Films, und danach
(f) Aufwickeln des geschnittenen Films auf einen
zweiten Kern, wobei die Silberhalogenidschicht-Seite nach
innen weist,
dadurch gekennzeichnet, daß sowohl die erste
hydrophile Schicht als auch die zweite hydrophile Schicht
Gelatine in einer Menge von nicht mehr als 2,5 g/m²
ent
halten.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
der gewickelte Film auf eine Temperatur von 34 bis 55
ºC erwärmt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die antistatische Schicht aus einer hydrophilen
Kolloidschicht mit einem Metalloxid oder einem
Reaktionsprodukt eines wasserlöslichen elektrisch leitenden
Polymers, eines hydrophoben Polymerlatex und eines
Härtungsmittels besteht.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß
das wasserlösliche elektrisch leitende Polymer eine
Sulfonsäuregruppe, eine Schwefelsäureestergruppe, eine
quaternäre Ammoniumgruppe, eine tertiäre
Ammoniumgruppe oder eine Carboxylgruppe enthält.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 4, dadurch
gekennzeichnet, daß dem Auftragen der hydrophilen
Schichten und dem Trocknen der aufgetragenen Schichten
eine Einstellstufe zu einem 5- bis 60minütigen Kontakt
mit Luft bei 35 bis 80ºC zu einem Zeitpunkt, an
welchem die Oberflächentemperatur der Schichten eine
Temperatur 1ºC unter der Temperatur der Trocknungsluft
erreicht, nachgeschaltet wird.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
der Film innerhalb von 5 min nach der Einstellstufe
vom ersten Kern aufgenommen werden und die Erwärmung
innerhalb von 30 Tagen durchgeführt werden müssen.
7. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß
der hydrophobe Polymerlatex von Styrol, einem
Styrol
derivat, einem Alkylacrylat, einem Alkylmethacrylat,
einem Olefinderivat oder einem Acrylnitril herrührt.
8. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß
das Härtungsmittel aus einer Epoxyverbindung besteht.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß
die Epoxyverbindung eine Hydroxylgruppe oder eine
Etherkondensationsbindung enthält.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß
das Härtungsmittel ein Epoxyäquivalent
(Molekulargewicht dividiert durch die Anzahl der Epoxygruppen in
einem Molekül) von 50 bis 300 aufweist.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet,
daß das Härtungsmittel ein Epoxyäquivalent
(Molekulargewicht dividiert durch die Anzahl der
Epoxygruppen in einem Molekül) von 80 bis 210
aufweist.
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Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5589324A (en) * | 1993-07-13 | 1996-12-31 | International Paper Company | Antistatic layer for photographic elements comprising polymerized polyfunctional aziridine monomers |
EP0674218B1 (de) * | 1994-02-25 | 2002-11-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Verfahren zur Wärmebehandlung photographischer Polyesterträger |
JPH08142210A (ja) * | 1994-11-22 | 1996-06-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 写真用支持体の熱処理方法 |
JPH1069027A (ja) * | 1996-08-27 | 1998-03-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 135型写真フィルム用支持体 |
US5795512A (en) * | 1996-08-29 | 1998-08-18 | Eastman Kodak Company | Method and apparatus for reducing curl in wound rolls of photographic film |
US6071682A (en) * | 1997-10-09 | 2000-06-06 | Eastman Kodak Company | Control of core-set curl of photographic film supports by coated layers |
US6428221B1 (en) * | 1999-07-16 | 2002-08-06 | International Imaging Materials, Inc. | Package with web roll and take-up core |
US6485896B2 (en) | 2000-12-06 | 2002-11-26 | Eastman Kodak Company | Emulsion composition to control film core-set |
US6942831B2 (en) * | 2003-08-01 | 2005-09-13 | Eastman Kodak Company | Process for rapid annealing of a polyester film base to control film curl |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3806574A (en) * | 1972-05-03 | 1974-04-23 | H Arvidson | Flat photographic sheets produced by forward and reverse rewinding of photographic material |
AR206814A1 (es) * | 1974-04-02 | 1976-08-23 | Eastman Kodak Co | Proceso para reducir la curvatura de una pelicula polimerica termoplastica |
US4141735A (en) * | 1975-03-31 | 1979-02-27 | Eastman Kodak Company | Process for reducing core-set curling tendency and core-set curl of polymeric film elements |
JPS6049894B2 (ja) * | 1980-12-23 | 1985-11-05 | 富士写真フイルム株式会社 | 写真感光材料 |
JP2683735B2 (ja) * | 1986-12-08 | 1997-12-03 | コニカ株式会社 | 迅速処理可能なハロゲン化銀写真感光材料 |
US5026622A (en) * | 1988-10-31 | 1991-06-25 | Konica Corporation | Silver halide photographic light-sensitive material restrained from producing pin-holes |
US5135843A (en) * | 1989-07-28 | 1992-08-04 | Konica Corporation | Silver halide photographic element |
US5098822A (en) * | 1989-12-13 | 1992-03-24 | Konica Corporation | Antistatic layer containing hydrophobic polymer particles and conductive polymer |
-
1991
- 1991-03-26 JP JP3061930A patent/JPH04295844A/ja active Pending
-
1992
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