DE69006606T2

DE69006606T2 - Vorsensibilisierte Platte für Trockenflächendruck.

Info

Publication number: DE69006606T2
Application number: DE69006606T
Authority: DE
Inventors: Tatsuji Higashi; Nobuyuki Kita; Kei Okuno; Yoshihiko Urabe
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1989-03-10
Filing date: 1990-03-09
Publication date: 1994-05-26
Anticipated expiration: 2010-03-10
Also published as: JPH02236550A; EP0386777B1; EP0386777A3; DE69006606D1; JP2577630B2; EP0386777A2; US5126228A

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine vorsensibilisierte Platte (PS-Platte) zur Verwendung bei der Herstellung einer lithographischen Druckplatte, welche es ermöglicht, das Drucken ohne die Verwendung von Befeuchtungswasser durchzuführen.
Verschiedene Arten von vorsensibilisierten Platten zur Verwendung bei der Herstellung von lithographischen Druckplatten sind bereits bekannt, welche den Druckbetrieb ohne die Verwendung von Befeuchtungswasser ermöglichen (im folgenden als "wasserlose PS-Platte" bezeichnet). Insbesondere solche, die auf einem Träger eine lichtempfindliche Harzschicht und eine Siliconkautschukschicht in dieser Reihenfolge aufweisen, zeigen eine ausgezeichnete Qualität. Beispiele solcher wasserloser PS-Platten sind z.B. in dem US-Patent Nr. 3,894,873 und in dem britischen Patent Nr. 1,419,643 offenbart.
Die Siliconkautschukschichten, die herkömmlicherweise in diesen wasserlosen PS-Platten eingesetzt werden, sind solche, die durch das teilweise Vernetzen mit einem Vernetzungsinittel, einem Polymer mit hohem Molekulargewicht mit einem Polysiloxan als einem Hauptskelett gewonnen werden. Auf der anderen Seite umfassen die lichtempfindlichen Harzschichten für positiv arbeitende, wasserlose PS-Platten photopolymerisierbare, lichtempfindliche Schicht, eine photodimerisierbare, lichtempfindliche Harzschicht oder eine lichtempfindliche Harzschicht vom Diazotyp, welche durch Belichtung ausgehärtet werden kann.
Die wasserlose PS-Platte mit solch einer Schichtstruktur wird herkömmlicherweise wie folgt verarbeitet, um Bilder herzustellen. Die wasserlose PS-Platte wird belichtet, um die lichtempfindliche Harzschicht auszuhärten und, sofern notwendig, um Photoadhäsion der Schicht zu der oberen Siliconkautschukschicht an ihrer Grenze zu bewirken, so daß beide Schicht fest miteinander vereinigt werden. Als ein Ergebnis kann die Permeation eines Entwicklers und die begleitende Auflösung der lichtempfindlichen Harzschicht durch die Siliconkautschukschicht verhindert werden, und daher werden Nicht-Bildflächen, bestehend aus Siliconkautschukschicht, gebildet. Auf der anderen Seiten können Bildflächen durch das Durchdringen eines Entwicklers durch die Siliconkautschukschicht gebildet werden, um einen Teil oder das Gesamte der nichtgehärteten, lichtempfindlichen Schicht aufzulösen und anschließend die Siliconkautschukschicht zu entfernen, welche auf der nichtgehärteten, lichtempfindlichen Schicht durch eine physikalische Kraft gehalten wird. Zur Erzielung einer ausgezeichneten bildbildenden Fähigkeit ist es wichtig, daß die Siliconkautschukschicht fest an der lichtempfindlichen Harzschicht haftet, um das Entfernen der Nicht-Bildflächen während der Entwicklung oder im Verlauf des nachfolgenden Druckens zu verhindern. Verschiedene lichtempfindliche Harzschichten, welche für diesen Zweck geeignet sind, wurden vorgeschlagen. Wird z.B., wenn ein Allylmethacrylat-Copolymer, beschrieben in DE 38 11 832 A, als ein Bindemittel verwendet, kann die Adhäsion der photopolymerisierbaren, lichtempfindlichen Harzschicht mit der auf dieser angeordneten Siliconkautschukschicht bis zu einem gewissen Maße sichergestellt werden, und ausgezeichnete bildbildende Eigenschaften können durch das geeignete Auswählen der Zusammensetzung der Siliconkautschukschicht erzielt werden.
Die Allylmethacrylat-Copolymere weisen jedoch das Problem auf, daß ihre Glasübergangstemperatur hoch ist, daß die photoausgehärtete, lichtempfindliche Harzschicht steif und brüchig ist und daß solch eine Schicht schlechte Druckeigenschaften aufweist.
Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, eine wasserlose PS-Platte mit ausgezeichneten bildbildenden Eigenschaften und Druckeigenschaften bereitzustellen.
Nach intensiven Untersuchungen, welche zu dem Zwecke durchgeführt wurden, die obenbeschriebene Aufgabe zu lösen, fanden die Erfinder heraus, daß eine wasserlose PS-Platte mit beiden obenbeschriebenen Eigenschaften, und umfassend auf einem Träger eine lichtempfindliche Harzschicht und eine Siliconkautschukschicht in dieser Reihenfolge dadurch erzielt werden kann, daß in die lichtempfindliche Schicht ein in organischem Lösungsmittel lösliches Polyurethanharz eingebaut wird, welches eine Glasumwandlungstemperatur von 20 ºC oder weniger aufweist und als ein Bindemittel einen Film bilden kann. Die vorliegende Erfindung wurde auf der Basis dieser Erkenntnisse vervollständigt.
Die vorliegende Erfindung betrifft eine vorsensibilisierte Platte zur Verwendung bei der Herstellung einer lithographischen Platte, die kein Befeuchtungswasser erfordert und auf einem Träger eine lichtempfindliche Harzschicht und eine Siliconkautschukschicht in dieser Reihenfolge umfaßt, wobei die Siliconkautschukschicht durch Additionsreaktion einer --> SiH-Gruppe mit einer -CH=CH-Gruppe vernetzt ist, worin die lichtempfindliche Harzschicht die folgenden Komponenten umfaßt:
(1) ein Monomer oder Oligomer mit mindestens einer photopolymerisierbaren oder photovernetzbaren und olefinisch ungesättigten Doppelbindung,
(2) ein in organischen Lösungsmitteln lösliches Polyurethanharz mit einer Glasübergangstemperatur von 20 ºC oder tiefer, welches einen Film bilden kann, und
(3) einen Photopolymerisationsinitiator.
Es ist notwendig, daß die wasserlose PS-Platte der vorliegenden Erfindung sowohl eine ausreichende Flexibilität aufweist, damit die Platte auf einer normalen lithographischen Presse befestigt werden kann als auch eine ausreichend hohe Festigkeit, um der Last zu widerstehen, welche auf diese während des Druckens ausgeübt wird. Typische Beispiele der Träger sind daher beschichtetes Papier, Metallplatte, wie eine Aluminiumplatte, Kunststoffilme, wie Polyethylen, Terephthalatschicht, Kautschuk und die Verbundträger dieser. Der Träger kann mit einer Beschichtung, wie einer Grundierschicht, bedeckt werden kann, um Lichthofbildung zu verhindern oder zu anderen Zwecken.
Eine Vielzahl von Grundierschichten kann in der vorliegenden Erfindung eingesetzt werden, um die Adhäsion zwischen dem Träger und der lichtempfindlichen Harzschicht zu steigern, Lichthofbildung zu verhindern, die resultierenden Bilder zu färben und die Druckeigenschaften der resultierenden, lithographischen Druckplatte zu verbessern. Als solche Grundierschichten können z.B. solche genannt werden, die durch das Belichten einer Vielzahl von lichtempfindlichen Polymeren zur Aushärtung vor der Laminierung der lichtempfindlichen Harzschicht erzielt werden, wie in der japanischen, ungeprüften, veröffentlichten Patentanmeldung (im folgenden als "J.P. KOKAI" bezeichnet) Nr. Sho 60-22903 offenbart; solche, erzielt durch das Wärmefixieren eines Epoxyharzes, wie in J.P. KOKAI Nr. Sho 62-50760 offenbart; solche hergestellt durch das Härten einer Gelatineschicht, wie in dem US-Patent Nr. 4,861,698 offenbart; und solche erhalten durch das Härten einer Caseinschicht. Zusätzlich kann die Grundierschicht des weiteren wenigstens ein Polymer mit einem Glasübergangspunkt von nicht mehr als Raumtemperatur umfassen, wie Polyurethane, Polyamide, Styrol/Butadienkautschuke, carboxymodifizierte Styrol/Butadienkautschuke, Acrylonitril/Butadienkautschuke, carbonsäuremodifizierte Acrylonitril/Butadienkautschuke, Polyisoprene, Acrylatkautschuke, Polyethylene, chlorinierte Polyethylene und chlorinierte Polypropylene, um die Grundierschicht flexibel zu machen. Die zu der Grundierschicht hinzuzufügende Menge dieser ist nicht kritisch, solange die Bildung der Grundierschicht sichergestellt wird. Des weiteren kann die Grundierschicht weitere Zusatzstoffe enthalten, z.B. Farbstoffe, pH-Indikatoren, Mittel oder Zusammensetzung zum Erzielen eines sichtbaren Bildes unmittelbar nach der Belichtung, photopolymerisierbare Initiatoren, Haftmittel (wie polymerisierbare Monomere, Diazoharze, Silankupplungsmittel, Titanatkupplungsmittel oder Aluminiumkupplungsmittel), weiße Pigmente und Siliciumdioxidpulver, um die vorgenannten Zwecke zu erzielen. Die Menge der Grundierschicht, welche aufgebracht wird, liegt im allgemeinen zwischen 2 bis 20 g/m² (bestimmt nach dem Trocknen)
Die für die vorliegende Erfindung geeignete lichtempfindliche Harzschicht umfaßt
(1) ein Monomer oder Gligomer mit mindestens einer photopolymerisierbaren oder photovernetzbaren und olefinisch ungesättigten Doppelbindung,
(2) ein in organischen Lösungsmitteln lösliches Polyurethanharz mit einer Glasübergangstemperatur von 20 ºC oder tiefer, welches einen Film bilden kann, und
(3) einen Photopolymerisationsinitiator.
Sofern notwendig, kann
(4) eine weitere Polymerverbindung eingebaut werden, die einen Film bilden kann und in einem organischen Lösungsmittel löslich ist.

Bestandteil (1) : Monomer oder Oligomer mit wenigstens einer photopolymerisierbaren oder photovernetzbaren und olefinisch ungesättigten Doppelbindung:

Die Monomere und Oligomere, die für die vorliegende Erfindung geeignet sind, umfassen z.B. einwertige Acrylate und Methacrylate, wie Polyethylenglycol-mono(meth)acrylat, Polypropylenglycol-mono(meth)acrylat, Phenoxyethyl(meth)acrylat, 2-(Meth)acryloxyethyl-hydrogenphthalat und 2-(Meth)acryloxyethyl-hydrogensuccinat; Polyethylenglycol-di(meth)acrylat, Trimethylolethan-tri(meth)acrylat, Neopentylglycol-di(meth)acrylat, Pentaerythrit-tri(meth)acrylat, Pentaerythrit-tetra(meth)acrylat, Dipentaerythrit-hexa(meth)acrylat, Hexandiol-di (meth)acrylat, Trimethylolpropan-tri(acryloyloxypropyl)ether, Tri(acryloyloxyethyl)isocyanurat, Calcium(meth)acrylat, Natrium(meth)acrylat, und Verbindungen, die erhalten werden durch Addieren von Ethylenoxid oder Propylenoxid an einen mehrwertigen Alkohol, wie Glycerin und Trimethylolethan, und anschließend das Produkt in dessen (Meth)acrylat umwandeln; Urethanacrylate, beschrieben in der japanischen Patentveröffentlichung zu Einspruchszwecken (im folgenden als "J.P. KOKOKU" bezeichnet) Nr. 48-41708 und 50-6034 und J.P. KOKAI Nr. 51-37193; Polyesteracrylate, beschrieben in J.P. KOKAI Nr. 48-64183 und J.P. KOKOKU Nr. 49-43191 und 52-30490; mehrwertige Acrylate und Methacrylate, wie Epoxyacrylate, hergestellt durch das Reagieren eines Epoxyharzes mit (Meth)acrylsäure; und N-Methylolacrylamidderivate, beschrieben in dem US-Patent Nr. 4,540,649. Des weiteren sind photoaushärtbare Monomere und Oligomere, beschrieben auf den Seiten 300 bis 308 in Journal of the Adhesion Society of Japan, Band 20, Nr. 7 (1984), ebenfalls geeignet. Andere Verbindungen, die in dieser vorliegenden Erfindung verwendet werden können, umfassen Reaktionsprodukte eines Isocyanats mit einer Allylgruppe, wie einem Allylisocyanat, oder
mit einer hydroxylgruppenhaltigen (Meth)acrylatverbindung, wie Hydroxyethyl(meth)acrylat, Hydroxypropyl(meth)acrylat, Polyethylenglycol-mono(meth)acrylat, Polypropylenglycol-mono(meth)acrylat, Pentaerythrit-tri(meth)acrylat, Dipentaerythrit-tetra(meth)acrylat,
wobei R ein Wasserstoffatom, eine Methylgruppe; Reaktionsprodukte eines Glycidylethers mit einer Allylgruppe, wie einem Allylglycidylether mit einer (Meth)acrylatverbindung, welche eine Carbonsäuregruppe, wie eine (Meth)acrylsäure, (Meth)acryloxyethylhydrogenphthalat, (Meth)acrylethylhydrogensuccinat, (Meth)acryloxyethylhydrogenmaleat, (Meth)acryloxyethylhydrogen-tetrahydrophthalat oder (Meth)acryloxyethylhydrogen-hexahydrophthalat aufweist; und Reaktionsprodukte eines Alkohols mit einer Allylgruppe, wie einem Allylalkohol oder 2-Allyloxyethylalkohol mit der obenbeschriebenen (Meth) acrylatverbindung, welche eine Carbonsäuregruppe oder dessen Chlorsäuregruppe aufweist, darstellt.

Bestandteil (2): In organischen Lösungsmitteln lösliches Polyurethanharz mit einer Glasübergangstemperatur von 20 ºC oder tiefer und welches einen Film bilden kann:

Die obenbeschriebenen Polyurethanharze, die für die vorliegende Erfindung geeignet sind, umfassen solche, die durch die Reaktion eines Diisocyanats mit einem Diol hergestellt werden, z.B. in im wesentlichen gleichen Molarmengen. Die Diisocyanate umfassen z.B. Toluoldiisocyanat, Xylylendiisocyanat, Diphenylmethandiisocanat, Hexamethylendiisocyanat, Isophorondiisocyanat, Diphenyletherdiisocyanat, hydriertes Xylylendiisocyanat, Cyclohexandiisocyanat, hydriertes Diphenylmethandiisocyanat, Tetramethylxylendiisocyanat und Lysindiisocyanat.
Die Diole umfassen z.B. Polypropylenglycol, Polyethylenglycol, Polytetramethylenglycol, Ethylenoxid/Propylenoxid-Copolymer, Tetrahydrofuran/ Ethylenoxid-Copolymer, Tetrahydrofuran/Polypropylenoxid-Copolymer, Polyesterdiole (wie Polyethylenadipat, Polydiethylenadipat, Polypropylenadipat, Polyhexamethylenadipat, Polyneopentyladipat, Polyhexamethylen-neopentyladipat, Polyethylendiethylenadipat und Polyethylenhexamethylenadipat), Poly-&epsi;-caprolactondiol, Polyhexamethylencarbonatdiol und Polytetramethylenadipat. Verzweigte Polyurethanharze können auch verwendet werden. Sie umfassen Verbindungen, die durch das Ersetzen eines Teiles des oder das gesamte Diisocyanat durch eine dreiwertige oder höherwertige Isocyanatverbindung (wie einem Adduct mit 1 Mol Trimethylolpropan, mit 3 Mol 2,4-Toluoldiisocyanat; Undecan-triisocyanat, Dicycloheptan-triisocyanat oder 1,8-Diisocyanato-4-isocyanatomethyloctan) gebildet werden und gleichzeitigem Ersetzen eines Teiles des Diolbestandteils durch einen einwertigen Monoalkohol [wie einem Allylalkohol, Allyloxyethylalkohol, Hydroxyethyl(meth)acrylat, Polyethylenglycol-mono(meth)acrylat, Polypropylenglycol(meth)acrylat, Hydroxypropyl-mono(meth)acrylat, Benzylalkohol oder Ethylalkohol], um eine funktionelle Gruppe einzuführen. Des weiteren sind Polyurethanharze mit einem Diolbestandteil, umfassend eine spezifische funktionelle Gruppe, wie Alkyldialkanolamin, (Meth)acrylatgruppenhaltiges Diol oder ein carbonsäuregruppenhaltiges Diol sind auch geeignet. Insbesondere ein in einer wäßrigen, alkalischen Lösung lösliches Polyurethanharz kann durch das Verwenden eines Diols mit einer Carbonsäuregruppe, wie in J.P. KOKAI Nr. 63-287942 oder 63-287943 beschrieben, erzielt werden. Solch ein Polyurethanharz ist bevorzugt, wenn ein wasserlöslicher Entwickler verwendet wird.
Das Polyurethanharz (2) wird im allgemeinen in einer Menge von 15 bis 90 Gew.-%, vorzugsweise 30 bis 80 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der lichtempfindlichen Harzschicht verwendet.

Bestandteil (3): Photopolymerisationsinitiator:

Die Photopolymerisationsinitiatoren, welche in der vorliegenden Erfindung verwendet werden können, umfassen z.B. vicinale Polyketaldonylverbindungen, offenbart in dem US-Patent Nr. 2,367,660, α-Carbonylverbindungen, offenbart in den US-Patenten Nr. 2,367,661 und 2,367,670, Acyloinether, offenbart in dem US-Patent Nr. 2,448,828, aromatische Acyloinverbindungen, substituiert mit einer α-Kohlenwasserstoffgruppe und offenbart in dem US-Patent Nr. 2,722,512, mehrkernige Chinonverbindungen, offenbart in den US-Patenten Nr. 3,046,127 und 2,951,758, eine Kombination aus einem Triarylimidazoldimer und p-Aminophenylketon, offenbart in dem US-Patent Nr. 3,549,367, Verbindungen vom Benzothiazol-Typ, offenbart in dem US-Patent Nr. 3,870,524, Verbindung vom Benzothiazol-Typ/Verbindung vom Trihalogenmethyl-s-triazin-Typ, wie in dem US-Patent Nr. 4,239,850 offenbart, Acridin- und Phenazinverbindungen, beschrieben in dem US-Patent Nr. 3,751,258, Oxadiazolverbindungen, offenbart in dem US-Patent Nr. 4,212,970, Verbindungen vom Trihalogenmethyl-s-triazin-Typ mit einer chromophoren Gruppe, offenbart in dem US-Patent Nr. 3,954,475, J.P. KOKAI Nr. 53-133428, US-Patent Nr. 4,189,323, J.P. KOKAI Nr. 60-105667 und 62-58241 und in der japanischen Patentanmeldung Nr. 61-227489, und Peroxyesterverbindungen, enthaltend eine Benzophenongruppe, beschrieben in J.P. KOKAI Nr. 59-197401 und 60-76503.
Die verwendete Menge des Photopolymerisationsinitiators beträgt 0,1 bis 20 Gew.-%, vorzugsweise 1 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der lichtempfindlichen Harzschicht.

Bestandteil (4) : Andere polymere Verbindungen, die einen Film bilden können und anders als Bestandteil (2) sind:

Die anderen polymeren Verbindungen, die einen Film bilden können und in einem organischen Lösungsmittel löslich sind und, sofern notwendig, in der vorliegenden Erfindung verwendet werden können, umfassen z.B. Methacrylsäure-Copolymere, Acrylsäure-Copolymere, Crotonsäure-Copolymere, Maleinsäure-Copolymere, teilweise veresterte Maleinsäure-Copolymere, saure Cellulosederivate, Polyvinylpyrrolidon, Polyethylenoxid, alkohollösliches Nylon, Polyester, ungesättigte Polyester, Polystyrol, Epoxyharz, Phenoxyharz, Polyvinylbutyral, Polyvinylformal, Polyvinylchlorid, Polyvinylalkohol, teilweise acetalisiertes Polyvinylalkohol, wasserlösliches Nylon, Gelatine und wasserlösliche Cellulosederivate.
Die polymeren Verbindungen mit einer photopolymerisierbaren oder photovernetzbaren und olefinisch ungesättigten Doppelbindung an einer Seitenkette, umfassend z.B. Allyl(meth)acrylat/(Meth)acrylsäure/wahlweise andere zusätzliche polymerisierbare Vinylmonomer-Copolymere und Alkalimetallsalze oder Aminsalze derer, die in J.P. KOKAI Nr. 59-53836 offenbart sind; Reaktionsprodukte von einem Hydroxyethyl(meth)acrylat/(Meth)acrylsäure/Alkyl(meth)acrylat-Copolymer oder Alkalimetallsalze oder Aminsalze derer mit (Meth)acryloylchlorid, wie in J.P. KOKOKU Nr. 59-45979 offenbart; Reaktionsprodukte, gewonnen durch die Addition von Pentaerythrit-triacrylat zu einem Maleinanhydrid-Copolymer durch Halbveresterung oder Alkalimetallsalze oder Aminsalze dieser; Reaktionsprodukte, erzielt durch die Addition eines Monohydroxyalkyl(meth)acrylat, Polyethylenglycol-mono(meth)acrylat oder Polypropylenglycol-mono(meth)acrylat zu einem Styrol/Maleinanhydrid-Copolymer durch Halbveresterung oder Alkalimetallsalze oder Aminsalze derer; Reaktionsprodukte eines Teils einer Carbonsäure eines (Meth)acrylsäure-Copolymers oder Crotonsäure-Copolymers mit Glycidyl(meth)acrylat oder Alkalimetallsalzen oder Aminsalzen derer, Reaktionsprodukte eines Hydroxylalkyl(meth)acrylat-Copolymers, Polyvinylformals oder Polyvinylbutyrals mit Maleinanhydrid oder Itaconanhydrid und Alkalimetallsalze oder Aminsalze dieser; Reaktionsprodukt eines Hydroxyalkyl(meth)acrylat/(Meth)Acrylsäure-Copolymers mit 2,4-Tolylendiisocyanat/Hydroxyalkyl(meth) acrylat(1/1)adduct und Alkalimetallsalze oder Aminsalze dieser; (Meth)acrylsäure-Copolymere, teilweise reagiert mit Allylglycidylether und Alkalimetallsalze oder Aminsalze dieser, wie in J.P. KOKAI Nr. 59-53836 offenbart; Vinyl(meth)acrylat/(Meth)acrylsäure-Copolymer und Alkalimetallsalze oder Aminsalze dieser; Allyl(meth)acrylat/Natriumstyrolsulfonat-Copolymer; Vinyl(meth)acrylat/Natriumstyrolsulfonat-Copolymer; Allyl(meth)acrylat/Natriumacrylamido-1,1-dimethylethylensulfonat-Copolymer, Vinyl(meth)acrylat/Natriumacrylamido-1,1-dimethylethylensulfonat, 2-Allyloxyethylmethacrylat/Methacrylsäure-Copolymer und 2-Allyloxyethylmethacrylat/2-Methacryloxyethylhydrogensuccinat-Copolymer.
Das Gewichtsverhältnis der gesamten Polymere (2) und (4) zum Monomer oder Oligomer (1) liegt vorzugsweise in dem Bereich von 99:1 bis 30:70, insbesondere bevorzugt 97:3 bis 50:50.

Andere Bestandteile der lichtempfindlichen Harzschicht:

Die lichtempfindliche Harzschicht enthält vorzugsweise einen Wärmepolymerisationshemmer, wie Hydrochinon, p-Methoxyphenol, Di-t-butyl-p-cresol, Pyrogallol, t-Butylcatechol, Benzochinon, 4,4'-Thiobis(3-methyl-6-t-butylphenol) 2,2'-Methylenbis(4,4'-thiobis(4-methyl-6-t-butylphenol) und 2-Mercapto-benzoimidazol. Sofern notwendig, kann ein Farbstoff oder Pigment zum Färben der lichtempfindlichen Harzschicht und ein pH-Indikator oder Leucofarbstoff als ein Mittel oder Zusammensetzung zur Erzielung eines sichtbaren Bildes unmittelbar nach der bildweisen Belichtung in die lichtempfindliche Harzschicht eingebaut werden. Des weiteren kann diese Harzschicht eine geringe Menge einer Siliconverbindung enthalten, wie Polydimethylsiloxan, methylstyrolmodifiziertes Polydimethylsiloxan, olefinmodifiziertes Polydimethylsiloxan, polyethermodifiziertes Polydimethylsiloxan, Silankupplungsmittel, Silicondiacrylat und Silicondimethacrylat. Diese Harzschicht kann ein fluorhaltiges Benetzungsmittel oder ein fluorhaltiges, oberflächenorientierendes Mittel enthalten, welches dessen Beschichtungseigenschaften verbessert. Diese Schicht kann des weiteren ein Diazoharz enthalten, welches die Adhäsion der lichtempfindlichen Harzschicht an der Grundierschicht verbessert. Die Menge dieser Zusatzstoffe beträgt normalerweise nicht mehr als 10 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der lichtempfindlichen Harzschicht. Die Schicht kann nicht mehr als 50 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der lichtempfindllchen Harzschicht, eines Siliciumdioxidpulvers oder eines hydrophoben Siliciumdioxidpulvers enthalten, dessen Oberfläche mit einem Silankupplungsmittel mit einer (Meth)acryloylgruppe oder Arylgruppe behandelt wurde.
Die oben erläuterten Bestandteile werden in einem geeigneten Lösungsmittel aufgelöst, wie einem 2-Methoxyethanol, 2-Methoxyethylacetat, Methyllactat, Ethyllactat, Propylenglycol-monomethylether, Methanol, Ethanäl, Methylethylketon, Wasser oder eine geeignete Mischung dieser, und anschließend wird die Lösung auf die Oberfläche des Trägers in einer Menge von ungefähr 0,1 bis 10 g/m², vorzugsweise 0,5 bis 5 g/m² (bezogen auf das Trockengewicht) aufgebracht.
Die Siliconkautschukschicht, welche in der vorliegenden Erfindung verwendet wird und bei welcher das Vernetzen durch eine Additionsreaktion einer --> SiH-Gruppe mit einer -CH=CH-Gruppe durchgeführt wird, ist eine solche, die durch die Reaktion eines mehrwertigen Hydrogenorganopolysiloxans mit einer Polysiloxanverbindung mit zwei oder mehreren -CH=CH-Bindungen in einem Molekül gewonnen wird. Es wird vorzugsweise durch Aushärten und Vernetzen einer Zusammensetzung hergestellt, umfassend die folgenden Bestandteile:
(1) 100 Gewichtsteile eines Organopolysiloxans mit wenigstens zwei Alkenylgruppen (vorzugsweise Vinylgruppen), welche direkt mit den Siliciumatomen in einem Molekül verbunden sind,
(2) 0,1 bis 1000 Gewichtsteile eines Organohydrogenpolysiloxans mit wenigstens zwei --> SiH-Bindungen in einem Molekül und
(3) 0,00001 bis 10 Gewichtsteile eines Additionskatalysators.
Die Alkenylgruppe des Bestandteils (1) kann an jeder Position der Kette, wie an dem Ende oder an der mittleren Position, angeordnet sein. Die organische Gruppe, welche eine andere als die Alkenylgruppe ist, umfaßt substituierte oder unsubstituierte Alkyl- und Arylgruppen. Bestandteil (1) kann sehr geringe Mengen einer Hydroxylgruppe enthalten. Bestandteil (2) bildet eine Siliconkautschukschicht durch die Reaktion mit dem Bestandteil (1) und dient des weiteren als ein Haftungsmittel für die lichtempfindliche Schicht. Die Hydroxylgruppe der --> SiH-Gruppe des Bestandteils (2) kann an je der Position, wie dem Ende oder der mittleren Position der Kette, angeordnet sein. Die organische Gruppe, welche eine andere als solch ein Hydrogenatom ist, entspricht dem Bestandteil (1). Von dem Gesichtspunkt der Tintenabstoßung ist es bevorzugt, daß wenigstens 60 % der organischen Gruppen der Bestandteile (1) und (2) Methylgruppen enthalten. Die Molekularstrukturen der Bestandteile (1) und (2) können lineare, cyclische oder verzweigte Molekularstrukturen aufweisen. Von dem Gesichtspunkt der physikalischen Eigenschaften des Kautschuks ausgehend, ist es bevorzugt, daß wenigstens eines der Bestandteile (1) und (2) ein Molekulargewicht von mehr als 1000 aufweist und daß insbesondere das Molekulargewicht des Bestandteils (1) 1000 überschreitet. Beispiele des Bestandteils (1) umfassen α,ω-Divinylpolydimethylsiloxan und Methylvinylsiloxan/Dimethylsiloxane-Copolymer mit Methylgruppen an beiden Enden. Beispiele des Bestandteils (2) umfassen Polydimethylsiloxan mit Wasserstoffatomen an beiden Enden, α,ω-Dimethylpolymethylhydrogensiloxan, Methylhydrogensiloxan/Dimethylsiloxan-Copolymer mit Methylgruppen an beiden Enden und cyclisches Polymethylhydrogensiloxan.
Der Additionskatalysator (3) wird aus bekannten ausgewählt. Insbesondere Verbindungen vom Platintyp sind bevorzugt. Beispiele solcher Verbindungen vom Platintyp umfassen metallisches Platin, Platinchlorid, Chloroplatinsäure und Platin koordiniert mit Olefinen. Die Zusammensetzung zu Erzielung einer Siliconkautschukschicht kann des weiteren einen Vernetzungshemmer enthalten, wie ein vinylgruppenhaltiges Organopolysiloxan, z.B. Tetracyclo(methylvinyl)siloxan, ein C-C-dreibon-haltigen Alkohol, Aceton, Methylethylketon, Methanol, Ethanol und Propylenglycol-monoethylether, zu dem Zweck, die Aushärtungsgeschwindigkeit der Zusammensetzung zu steuern.
Die Additionsreaktion findet statt, und das Aushärten wird initiiert, sobald die drei Komponenten miteinander vermischt werden. Die Aushärtegeschwindigkeit erhöht sich schnell, wenn die Reaktionstemperatur erhöht wird. Daher wird die Zusammensetzung vorzugsweise auf einer Temperatur gehalten, bei welcher sich die Eigenschaften des Trägers und der lichtempfindlichen Harzschicht nicht verändern, bis die Zusammensetzung vollständig ausgehärtet ist, um die Lebensdauer der Zusammensetzung zu verlängern und die Zeit zu verkürzen, welche zur Aushärtung der Zusammensetzung der lichtempfindlichen Harzschicht notwendig ist. Dies stellt des weiteren eine sehr stabile Adhäsion zwischen der resultierenden Siliconkautschukschicht und der lichtempfindlichen Harzschicht zur Verfügung.
Die Zusammensetzung für die Siliconkautschukschicht kann wahlweise zusätzlich zu den vorgenannten Bestandteilen bekannte Mittel enthalten, um der Siliconkautschukschicht adhäsive Eigenschaften zu verleihen, wie Alkenyltrialkoxysilane; hydroxylgruppenhaltige Organopolysiloxane, welche Bestandteile der Siliconkautschukschichten vom Kondensationstyp sind; und/oder hydrolisierbare, funktionellgruppenhaltige Silene (oder Siloxane). Die Zusammensetzung kann des weiteren bekannte Füllstoffe, wie Siliciumdioxid enthalten, um die Festigkeit der resultierenden Siliconkautschukschicht zu steigern.
Nach dem Plattenherstellungsverfahren dient die Siliconkautschukschicht der wasserlosen PS-Platte der vorliegenden Erfindung als eine farbabweisende Schicht. Ist die Siliconkautschukschicht zu dünn, ist deren Farbabweisung zu gering, und die Schicht kann leicht verletzt werden, ist sie dagegen zu dick, wird die Entwicklungsfähigkeit der resultierenden, wasserlosen PS-Platte verschlechtert. Daher sollte die Dicke der Siliconkautschukschicht vorzugsweise in dem Bereich zwischen 0,5 und 5 um liegen.
Die Siliconkautschukschicht vom Additionstyp, die in der vorliegenden Erfindung verwendet wird, weist den Vorteil auf, daß sie während des Aushärtens nur wenig durch Feuchtigkeit beeinflußt wird, daß sie mit hoher Geschwindigkeit vernetzt werden kann und daß die gewünschten Eigenschaften leicht erzielt werden. Auch wenn die lichtempfindliche Harzschicht eine Carbonsäure enthält, wird die Siliconkautschukschicht vom Additionstyp ausreichend ausgehärtet, während das Aushärten einer Siliconkautschukschicht vom Kondensationstyp durch das Vernetzungsmittel in solch einem Fall gehemmt wird. Da die lichtempfindliche Harzschicht die Carbonsäure enthalten kann, ist die Entwicklung mit einem Entwickler, welcher hauptsächlich Wasser oder eine wäßrige Alkalilösung enthält, möglich und die Herstellung der lichtempfindlichen Druckplatte ist leicht.
Verschiedene zusätzliche Siliconkautschukschichten können auf der Siliconkautschukschicht der vorliegenden wasserlosen PS-Platte ausgebildet werden. Eine Bindungsschicht kann zwischen der lichtempfindlichen Harzschicht und der Siliconkautschukschicht ausgebildet werden, um die Adhäsion zwischen der lichtempfindlichen Schicht und der Siliconkautschukschicht zu erhöhen und um das Vergiften des Katalysators in der Siliconkautschukzusammensetzung zu verhindern. Um die Oberfläche der Siliconkautschukschicht zu schützen, kann die Siliconkautschukschicht mit einem transparenten Film, wie einem Polyethylen, Polypropylen, Polyvinylchlorid, Polyvinylidenchlorid, Polyvinylalkohol, Polyethylenterephthalat oder Cellophan laminiert sein oder sie kann mit einem Polymer beschichtet sein.
Die wasserlose PS-Platte der vorliegenden Erfindung wird durch ein transparentes Original belichtet, und anschließend wird die Bildfläche (unbelichtete Fläche) mit einem Entwickler entwickelt, welcher sich auflöst, oder einen Teil oder die gesamte lichtempfindliche Harzschicht aufquillt, oder ein Entwickler, der die Siliconkautschukschicht aufquillt. In diesem Schritt werden beide, sowohl die lichtempfindliche Harzschicht als auch die Siliconkautschukschicht der Bildfläche entfernt oder alternativ wird nur die Siliconkautschukschicht der Bildfläche entfernt. Jeder Weg kann ausgewählt werden, abhängig von der Stärke des Entwicklers.
Die in der vorliegenden Erfindung verwendeten Entwickler sind solche, die als Entwickler für wasserlose PS-Platten bekannt sind. Sie umfassen z.B. aliphatische Kohlenwasserstoffe, wie Hexan, Heptan, "Isopar E, H oder G" (Warenzeichen der aliphatischen Kohlenwasserstoffe von Esso Chemicals Inc.), Benzin und Kerosin; aromatische Kohlenwasserstoffe, wie Toluol und Xylol; halogenierte Kohlenwasserstoffe, wie Trichloroethylen, zu welchen das folgende polare Lösungsmittel hinzugefügt wird; und die folgenden polaren Lösungsmittel per se:
Alkohole (wie Methanol, Ethanol, Propanol, Benzylalkohol, Ethylenglyclomonophenylether, 2-Methoxyethanol, 2-Ethoxyethanol, Carbitolmonoethylether, Carbitolmonomethylether, Triethylenglycolmonoethylether, Propylenglycolmonomethylether, Propylenglycolmonoethylether, Dipropylenglycolmonomethylether, Polyethylenglycolmonomethylether, Propylenglycol, Polypropylenglycol, Triethylenglycol und Tetraethylenglycol),
Ketone (wie Aceton und Methylethylketon)
Ester (wie Ethylacetat, Methyllactat, Ethyllactat, Butyllactat, Propylenglycolmonomethyletheracetat, Carbitolacetat, Dimethylphthalat und Diethylphthalat) und
andere (wie Triethylphosphat und Tricresylphosphat).
Es ist auch möglich, Entwickler zu verwenden, die durch die Zugabe von Wasser zu den vorgenannten Entwicklungsmitteln vom organischen Lösungsmitteltyp erzielt werden und solche, die durch das Lösen der vorgenannten organischen Lösungsmittel in Wasser mit Hilfe eines Benetzungsmittels oder dergleichen erzielt werden, zu welchen ein alkalisches Mittel (wie Natriumcarbonat, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid und Natriumborat) hinzugefügt werden können; sowie Leitungswasser an sich oder alkalisches Wasser an sich.
Diese Entwicklungsmittel können einen Farbstoff enthalten, wie Crystal Violett oder Atrazon Rot für die gleichzeitige Verfärbung der Bildflächen während der Entwicklung.
Die Entwicklung der wasser losen PS-Platte der vorliegenden Erfindung kann auf jede bekannte Art und Weise durchgeführt werden, z.B. durch das Reiben der Oberfläche der Platte mit einem Entwicklungsfarbkissen, welches ein Entwicklungsmittel enthält oder durch das Aufgießen eines Entwicklungsmittels auf die Oberfläche der Platte und anschließendes Reiben der Plattenoberfläche mit einer Entwicklungsbürste in Wasser. Dadurch werden die Anteil der Siliconkautschukschicht und der lichtempfindlichen Harzschicht von den Bildflächen entfernt, und als ein Ergebnis wird die Oberfläche des Trägers oder die Grundierschicht belichtet. In diesem Fall dienen die belichteten Bereiche als farbaufnehmende Teile. Alternativ können nur die Bereiche der Siliconkautschukschicht der Bildflächen durch die vorgehenden Entwicklungsverfahren entfernt werden. In diesem Fall wird die Oberfläche der lichtempfindlichen Harzschicht belichtet und daher dienen die belichteten Bereiche als farbaufnehmende Teile.
Die wasserlose PS-Platte der vorliegenden Erfindung ist, wie oben beschrieben, ausgebaut, und daher wird die Adhäsion zwischen der lichtempfindlichen Harzschicht und der Siliconkautschukschicht vom Additionstyp verbessert und ausgezeichnete bildbildende Eigenschaften und Druckbarkeit der wasserlosen PS-Platte werden sichergestellt.
Die folgenden Beispiele illustrieren die vorliegende Erfindung weiter, sollen jedoch die vorliegende Erfindung nicht begrenzen.

Beispiel 1

Eine Grundierschichtzusammensetzung, umfassend die folgenden Bestandteile, wurde auf aufgebracht in einer Menge von 10 g/m² (auf der Trockenbasis) , auf eine glatte JIS A 1050-Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,3 mm, welche sofort mit herkömmlichen Verfahren entfettet und anschließend auf 120 ºC 3 min erwärmt, um die Schicht zu trocknen und auszuhärten:
Milchcasein 48 Gewichtsteile
40 %ige wäßrige Glyoxallösung 5 Gewichtsteile
Styrol/Butadienkautschuklatex (Feststoffgehalt: 50 %, Tg des Films: -20 ºC) 100 Gewichtsteile
Na&sub2;CO&sub3; 2,6 Gewichtsteile
TiO&sub2; 1 Gewichtsteil
(Adhäsionsmittel für das Substrat) 3 Gewichtsteile
(gelber Farbstoff) 1,2 Gewichtsteile
reines Wasser 700 Gewichtsteile
(Benetzungsmittel) 0,5 Gewichtsteile
Eine lichtempfindliche Harzlösung, umfassend die folgenden Bestandteile, wurde in einer Menge von 3 g/m² (auf Trockenbasis) auf die auf der Aluminiumplatte bereitgestellte Grundierschicht aufgebracht und anschließend bei 100 ºC 1 min getrocknet:
Estan 5715 (Polyurethanharz mit einem Tg von -12 ºC; ein Produkt von Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 1 Gewichtsteil
Allylmethacrylat/Methacrylsäure(85/15 Mol-%)-Copolymer 1 Gewichtsteil
0,45 Gewichtsteile
0,45 Gewichtsteile
0,2 Gewichtsteile
Bromophenol Blau (pH-Indikator) 0,01 Gewichsteile
Defenser MCF 323 (ein Produkt von Dainippon Ink & Chemicals, Ind.) 0,02 Gewichtsteile
PF-Salz von p-Diazodiphenylamin/Formaldehydkondensat 0,002 Gewichtsteile
Propylenglycol-monomethylether 15 Gewichtsteile
Methylethylketon 10 Gewichtsteile
Anschließend wurden 2,0 g/m² (auf Trockenbasis) einer Siliconkautschukschichtzusammensetzung, umfassend die folgenden Bestandteile, auf die lichtempfindliche Harzschicht aufgebracht und anschließend bei 140 ºC 2 min getrocknet, um eine ausgehärtete Siliconkautschukschicht herzustellen:
ein ω-Divinylpolydimethylsiloxan (Grad der Polymerisation: ungefähr 700) 9 Gewichtsteile
1 Gewichtsteil
0,2 Gewichtsteile
Polydimethylsiloxan (Polymerisationsgrad: ungefähr 8000) 0,5 Gewichtsteile
Olefin/Chloroplatinsäure 0,2 Gewichtsteile
Hemmungsmittel 0,15 Gewichtsteile
Isopar G (ein Produkt von Esso Chemicals Inc.) 160 Gewichtsteile
Ein einseitig mattierter Polypropylenfilm mit einer Dicke von 9 um wurde auf die so erhaltene Siliconkautschukschicht laminiert, um eine wasserlose PS-Platte herzustellen.
Ein Positivfilm wurde auf der PS-Platte angeordnet und für 30 Zähler belichtet mit FT 26 V UDNS ULTRA-PLUS FLIP-TOP PLATE MAKER (ein Produkt von Nuarc) und anschließend wurde der Positivfilm abgenommen.
Die Platte wurde in ein Entwicklungsmittel, umfassend 12 Gewichtsteile Benzylalkohol, 5 Gewichtsteile Natriumisopropylnaphthalensulfonat, 1 Gewichtsteil Triethanolamin und 82 Gewichtsteile Wasser 1 min eingetaucht und anschließend mit einem Entwicklungsfarbkissen abgerieben, um sowohl die lichtempfindliche Harzschicht als auch die Siliconkautschukschicht der unbelichteten Flächen zu entfernen. So wurde die wasserlose PS-Platte, auf welcher das Bild des positiven Films auf der gesamten Oberfläche reproduziert wurde, hergestellt.
Die so hergestellte Platte wurde zum Drucken mit der Heidelberg GTO-Druckmaschine verwendet, von der eine Vorrichtung zum Zuführen von Befeuchtungswasser e unter Verwendung von TOYO KING ULTRA TUK wasser lose G sumi-Tinte (ein Produkt von Toyo Ink Mfg. Co., Ltd.) entfernt wurde. Als Ergebnis wurden Drucke mit reproduziertem Bild und frei von Schmierern hergestellt.

Beispiel 2

Eine lichtempfindliche Harzschichtzusammensetzung, umfassend die folgenden Bestandteile, wurde aufgebracht in einer Menge von 3,0 g/m2 (auf Trockenbasis) auf die Grundierschicht, welche auf dem Aluminiumträger bereitgestellt wurde, wobei der Träger der gleiche wie in Beispiel 1 war und anschließend bei 100 ºC 1 min getrocknet.
Allylmethacrylat/Tetraethylenglycolmonomethacrylat/2-Methacryloxyethylhydrogensuccinat (60/30/10 Mol)-Copolymer 1 Gewichtsteil
in wäßriger, alkalischer Lösung lösliches Polyurethanharz, umfassend Polyesterdiol (umfassend 1,6-Hexandiol/Neopentylclycol/Adipinsäure und mit einem Hydroxylwert von 60)/Dimethylolpropionsäure/ Diphenylmethandiisocyanat (1/1/2 Mol) (Glasübergangstemperatur: -7 ºC) 1 Gewichtsteil
0,6 Gewichtsteile
Victoria reines Blau BOH 0,01 Gewichtsteile
Defenser MCF 323 (ein Produkt von Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0,02 Gewichtsteile 0,2 Gewichtsteile
Propylenglycol-monomethylether 15 Gewichtsteile
Methylethylketon 10 Gewichtsteile
Anschließend wurde eine Siliconkautschukschichtzusammensetzung, umfassend die folgenden Bestandteile, in einer Menge von 2,0 g/m (auf Trockenbasis) auf die lichtempfindliche Harzschicht aufgebracht und bei 140 ºC 2 min getrocknet, um eine ausgehärtete Siliconkautschukschicht zu bilden:
Dimethylpolysiloxan mit einer Trivinylgruppe an beiden Enden (Polymerisationsgrad ungefähr 1300) 9 Gewichtsteile
1 Gewichsteil
0,6 Gewichtsteile
0,2 Gewichtsteile
Olefin/Chloroplatinsäure 0, 2 Gewichtsteile
Hemmungsmittel 0,15 Gewichtsteile
Isopar G (ein Produktion Esso Chemicals Inc.) 160 Gewichtsteile
Ein einseitig mattierter Polypropylenfilm mit einer Dicke von 9 um wurde auf die so erhaltene Siliconkautschukschicht laminiert, um eine wasserlose PS-Platte zu bilden.
Nach der Belichtung und Entwicklung auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 wurde eine wasser lose PS-Platte mit ausgezeichneten bildbildenden Eigenschaften erzielt.

Beispiel 3

Eine lichtempfindliche Grundierlösung mit der folgenden Zusammensetzung wurde auf eine entfettete, silicatbehandelte JIS A 1050 Aluminiumpiatte aufgebracht, welche eine Dicke von 0,3 mm aufwies, in einer Menge von 4 g/m² (auf Trockenbasis) und anschließend bei 140 ºC 5 min getrocknet.
Polyesterdiol, umfassend Adipinsäure/1,6-Hexandiol/Neopentylglycol (Hydroxylwert: ungefähr 60) 5 Gewichtsteile
Takenat D-110 N (75 %ige Lösung) 1,5 Gewichtsteile
(CH&sub2;=CHCOOCH)CC&sub2;H&sub5; 1 Gewichtsteil
0,3 Gewichtsteile
Victoria reines Blau BOH 0,005 Gewichtsteile
p-Diazodiphenylamin/p-Formaldehyd-Kondensat-dodecylbenzolsulfonat 0,02 Gewichtsteile
Methylethylketon 30 Gewichtsteile
Propylenglycol-monomethyletheracetat 30 Gewichtsteile
Defenser MCF 323 (ein Produkt von Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0,02 Gewichtsteile
Anschließend wurde eine lichtempfindliche Harzschichtzusammensetzung, umfassend die folgenden Bestandteile, auf die Grundierschicht auf der Aluminiumplatte in einer Menge von 3,0 g/m² auf Trockenbasis aufgebracht und bei 100 ºC 1 min getrocknet.
Polyurethanharz, umfassend Polyesterdiol (Adipinsäure/1,6-Hexandiol/Neopentylglycol) und Isophorondiisocyanat (Glasübergangstemperatur: -40 ºC) 2 Gewichtsteile
Reaktionsprodukt von 1 Mol Xylendiamin, 2 Mol Glycidylmethacrylat und 2 Mol Allylglycidylether 0,6 Gewichtsteile
0,3 Gewichtsteile
fluorhaltiges, nichtionisches Vernetzungsmittel 0,01 Gewichtsteile
0,2 Gewichtsteile
Propylenglycol-monomethylether 15 Gewichtsteile
Methylethylketon 10 Gewichtsteile
Die gleiche Siliconkautschukschichtzusammensetzung, die in Beispiel 2 verwendet wurde mit der Ausnahme, daß
weggelassen wurde, wurde in einer Menge von 2 g/m² (auf Trockenbasis) auf die lichtempfindliche Harzschicht aufgebracht und anschließend bei 140 ºC 2 min getrocknet, um die gehärtete Siliconkautschukschicht zu erhalten.
Ein einseitig mattierter Polyethylentherephthalatfilm mit einer Dicke von 6,5 um wurde auf die so erhaltene Siliconkautschukschicht laminiert, um die wasserlose PS-Platte zu bilden.
Die PS-Platte wurde für 30 Zähler belichtet mit der gleichen Vakuumbelichtungsvorrichtung, die in Beispiel 1 verwendet wurde. Anschließend wurde der Positivfilm abgelöst. Die Platte wurde in Triethylenglycol bei 30 ºC 1 min eingetaucht und anschließend mit einem Entwicklungsfarbkissen in Wasser abgerieben, um die Siliconkautschukschicht von den unbelichteten Teilen zu entfernen. So wurde die wasserlose PS-Platte, auf welcher das Bild des positiven Films über der gesamten Oberfläche reproduziert wurde, hergestellt.

Claims

1. Vorsensibilisierte Platte zur Verwendung bei der Herstellung einer lithographischen Platte, die kein Befeuchtungswasser erfordert und auf einem Träger eine lichtempfindliche Harzschicht und eine Siliconkautschukschicht in dieser Reihenfolge umfaßt, wobei die Siliconkautschukschicht durch Additionsreaktion einer --> SiH- Gruppe mit einer -CH=CH-Gruppe vernetzt ist, worin die lichtempfindliche Harzschicht die folgenden Komponenten umfaßt:

(1) ein Monomer oder Oligomer mit mindestens einer photopolymerisierbaren oder photovernetzbaren und olefinisch ungesättigten Doppelbindung,

(2) ein in organischen Lösungsmitteln lösliches Polyurethanharz mit einer Glasübergangstemperatur von 20ºC oder tiefer, welches einen Film bilden kann, und (3) einen Photopolymerisationsinitiator.

2. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, worin das Polyurethanharz (2) aus einem Diisocyanat und einem Diol hergestellt wird.

3. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 2, worin das Diisocyanat ausgewählt ist aus der Gruppe aus Toluoldiisocyanat, Xylylendiisocyanat, Diphenylmethandiisocyanat, Hexamethylendiisocyanat, Isophorondiisocyanat, Diphenyletherdiisocyanat, hydriertem Xylylendiisocyanat, Cyclohexandiisocyanat, hydriertem Diphenylmethandiisocyanat, Tetramethylxylylendiisocyanat, Lysindiisocyanat und dem Gemisch davon.

4. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 2, worin das Diol ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus Polypropylenglycol, Polyethylenglycol, Polytetramethylenglycol, Ethylenoxid/Propylenoxid-Copolymer, Tetrahydrofuran/Ethylenoxid-Copolymer, Tetrahydrofuran/Propylenoxid-Copolymer, Polyesterdiolen, Poly-&epsi;-caprolactondiol, Polyhexamethylencarbonatdiol, Polytetramethylenadipat und dem Gemisch davon.

5. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 4, worin das Polyesterdiol ausgewählt ist aus Polyethylenadipat, Polydiethylenadipat, Polypropylenadipat, Polyhexamethylenadipat, Polyneopentyladipat, Polyhexamethylenneopentyladipat, Polyethylenadipat und Polyethylenhexamethylenadipat.

6. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 4, worin das Diol eine Amingruppe, eine (Meth)acrylatgruppe oder eine Carboxylgruppe hat.

7. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, worin das Polyurethanharz (2) ein verzweigtes Polyurethanharz ist.

8. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, worin das Polyurethanharz (2) in einer Menge von 15 90 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der lichtempfindlichen Harzschicht, verwendet wird.

9. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 8, worin das Polyurethanharz (2) in einer Menge von 30 80 Gew.-% des Gesamtgewichts der lichtempfindlichen Harzschicht verwendet wird.

10. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, worin das Monomer oder Oligomer (1) ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus Polyethylenglycol-mono(meth)acrylat, Polypropylenglycol-mono(meth)acrylat, Phenoxyethyl(meth)acrylat, 2-(Meth)acryloxyethyl-hydrogenphthalat, 2-(Meth)acryloxyethyl-hydrogensuccinat, Polyethylenglycol-di(meth)acrylat, Trimethylolethan-tri(meth)acrylat, Neopentylglycol-di(meth)acrylat, Pentaerythrit-tri(meth)acrylat, Pentaerythrit-tetra(meth)acrylat, Dipentaerythrit-hexa(meth)acrylat, Hexandiol-di(meth)acrylat, Trimethylolpropan-tri(acryloyloxypropyl)ether, Tri(acryloyloxyethyl)isocyanurat, Calcium(meth)acrylat, Natrium(meth)acrylat, denjenigen, die erhalten werden durch Addieren von Ethylenoxid oder Propylenoxid an mehrwertige Alkohole, die ausgewählt sind aus Glycerin und Trimethylolethan, und dann Umwandeln des Produkts in (Meth)acrylat, Urethanacrylaten, Polyesteracrylaten, Epoxyacrylaten, die erhalten werden durch Umsetzen von Epoxyharzen mit (Meth)acrylsäuren, N-Methylolacrylamidderivaten, Reaktionsprodukten eines Isocyanats mit einer Allylgruppe mit einem hydroxylgruppenhaltigen (Meth)acrylat, Reaktionsprodukten aus einem Glycidylether mit einer Allylgruppe mit einem (Meth)acrylat mit einer Carbonsäuregruppe, Reaktionsprodukten aus einem Alkohol mit einer Allylgruppe mit einem (Meth)acrylat mit einer Carbonsäuregruppe oder seiner Säurechloridgruppe, und den Gemischen davon.

11. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, worin der Photopolymerisationsinitiator ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus vicinaler Polyketaldonylverbindung; -Carbonylverbindungen; Acyloinethern; aromatischen Acyloinverbindungen, die mit einer α-Kohlenwasserstoffgruppe substituiert sind; mehrkernigen Chinonverbindungen; einer Kombination aus einem Triarylimidazoldimer mit p-Aminophenylketon; Verbindungen vom Benzothiazol-Typ; Verbindungen vom Benzothiazol-Typ/Verbindungen vom Trihalogenmethyl-s-triazin-Typ; Acridin- und Phenazinverbindungen; Verbindungen vom Trihalogenmethyl-s- triazin-Typ mit einer chromophoren Gruppe; und Peroxyesterverbindungen, die eine Benzophenongruppe enthalten.

12. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, worin der Photopolymerisationsinitiator in einer Menge von 0,1 bis 20 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der lichtempfindlichen Harzschicht, verwendet wird.

13. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 12, worin der Photopolymerisationsinitiator in einer Menge von 1 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der lichtempfindlichen Harzschicht, verwendet wird.