DE60115504T2 - Filtereinrichtung - Google Patents
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Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft Filtervorrichtungen. Die vorliegende Erfindung betrifft insbesondere akustische Wellenfiltervorrichtungen, zum Beispiel akustische Oberflächenwellen (SAW)-Filtervorrichtungen und/oder akustische Volumenwellen (BAW)-Filtervorrichtungen.
- Die Notwendigkeit, Miniatur- und Hochleistungsfilter in drahtlosen Kommunikationsvorrichtungen zu verwenden, hat zu dem weit verbreiteten Gebrauch von akustischen Oberflächenwellen (SAW)-Filtern geführt. Zusätzlich zu den akustischen Oberflächenwellen (SAW)-Filtern können auch akustische Volumenwellen (BAW)-Filter verwendet werden. Akustische Volumenwellen (BAW)-Filter umfassen typisch mehrere akustische Volumenwellen (BAW)-Resonatoren. In einem akustischen Volumenwellen (BAW)-Filter breiten sich akustische Wellen in eine Richtung aus, die zu den Schichtenoberflächen des Filters senkrecht sind. Im Gegensatz dazu breiten sich akustische Wellen in einem Oberflächenwellen (SAW)-Filter in eine Richtung aus, die parallel zu den Schichtenoberflächen des Filters ist.
- Die Herstellung von monolithischen Filtern, die zumindest eine akustische Volumenwellen (BAW)-Resonatorvorrichtung (gemäß dem Stand der Technik auch "Thin Film Bulk Acoustic Resonators (FBARs)" genannt) ist bekannt. Akustische Volumenwellen (BAW)-Resonatoren enthalten typisch zwei Elektroden und eine einzige piezoelektrische Schicht, die zwischen den zwei Elektroden angeordnet ist. Eine oder mehrere akustische Isolationsschichten können auch zwischen der piezoelektrischen Schicht und einer Unterlage der jeweiligen Vorrichtungen verwendet werden.
- Akustische Volumenwellen (BAW)-Filter können hergestellt werden, um verschiedene bekannte Typen akustischer Volumenwellen (BAW)-Resonatoren zu enthalten. Diese bekannten Typen akustischer Volumenwellen (BAW)-Resonatoren umfassen drei grundlegende Abschnitte. Ein erster der Abschnitte, der zum Erzeugen akustischer Wellen verwendet wird, umfasst eine akustisch aktive piezoelektrische Schicht. Diese Schicht kann zum Beispiel Zinkoxid (ZnO), Aluminiumnitrid (AlN), Zink-Schwefel (ZnS) oder jedes andere geeignete piezoelektrische Material enthalten, das als Dünnfilm hergestellt werden kann. Ein zweiter dieser Abschnitte umfasst Elektroden, die an entgegengesetzten Seiten der piezoelektrischen Schicht ausgebildet sind. Ein dritter Abschnitt des akustischen Volumenwellen (BAW)-Resonators umfasst einen Mechanismus zum akustisches Isolieren des Substrats von Schwingungen, die von der piezoelektrischen Schicht erzeugt werden. Akustische Volumenwellen (BAW)-Resonatoren werden typisch auf Silicium-, Galliumarsenid- oder Glasunterlagen hergestellt, die Dünnfilmtechnologie anwenden (zum Beispiel Vakuumbedampfung, chemische Dampfablagerung usw.). Akustische Volumenwellen (BRW)-Resonatoren zeigen serielle und parallele Resonanzen, die zum Beispiel denen von Kristallresonatoren ähnlich sind. Die Resonanzfrequenzen akustischer Volumenwellen (BAW)-Resonatoren reichen typisch von etwa 0,5 GHz bis 5 GHz, abhängig von der Schichtdicke der Vorrichtungen.
-
8 zeigt ein Beispiel einer akustischen Wellenfiltervorrichtung, die in einer mobilen Anwendung verwendet wird. Im Allgemeinen wird ein HF-Signal von einer Antenne80 über einen Schalter81 eingegeben und zu einem Verstärker84 über eine akustische Wellenfiltervorrichtung82 , zum Beispiel eine akustische Volumenwellen (BAW)-Filtervorrichtung mit unsymmetrischen Anschlüssen und einer charakteristischen Impedanz von 50 Ω geleitet. In bestimmten Fällen ist der Verstärker ein rauscharmer Verstärker, der symmetrische Anschlüsse hat. Dieser Verstärker hat oft eine charakteristische Impedanz von etwa 150–200 Ω. - Aus diesem Grund waren ein geeigneter Schaltkreis zur Impedanzumwandlung und ein Symmetrierglied für den Anschluss an die Verstärkerseite erforderlich. Eine Symmetriergliedschaltung
83 (gewöhnlich Balun genannt) wurde für diese Funktion verwendet. Der Einsatz eines Baluns83 steigert jedoch beachtlich die Anzahl von Teilen und die Kosten, insbesondere weil Symmetrierglieder83 gewöhnlich diskrete Komponenten sind, die nicht in den Rest des Filtersystems82 oder in den Verstärker84 eingebaut werden, siehe zum Beispiel JP-2000-114917-A. Dementsprechend besteht eine Nachfrage nach der Verringerung der Anzahl von Komponenten und dem Verwirklichen einer integrierten akustischen Symmetrierglied-Wellenfiltervorrichtung. - Oben stehende und andere Probleme werden anhand einer Filtervorrichtung gemäß dem unabhängigen Anspruch 1 gelöst. Weitere vorteilhafte Merkmale, Aspekte und Details der Erfindung ergeben sich aus den abhängigen Ansprüchen, der Beschreibung und den begleitenden Zeichnungen. Die Ansprüche sollen als ein erster nicht einschränkender Ansatz zur Definition der Erfindung in allgemeinen Begriffen betrachtet werden.
- Die vorliegende Erfindung stellt eine Filtervorrichtung bereit, die Folgendes umfasst:
eine erste Filtereinheit mit mindestens einem Reihenresonator und mindestens einem Shunt-Resonator in einer Leiteranordnung und mit einem unsymmetrischen Anschluss, und
eine zweite Filtereinheit, die mit der ersten Filtereinheit über einen Reihenresonator der ersten Filtereinheit verbunden ist, wobei die zweite Filtereinheit mindestens vier Resonatoren in einer Kreuzanordnung und zwei symmetrische Anschlüsse umfasst. - Die vorliegende Erfindung stellt eine Filtervorrichtung bereit, die aus einer kombinierten Leiter-Kreuzanordnungstopologie aufgebaut ist. Die erfindungsgemäße Filtervorrichtung kombiniert synergetisch die positiven Merkmale der beiden Typen von Filtern. Die erste Filtereinheit in Leiteranordnung hat eine finite Sperrdämpfung, während die zweite Filtereinheit mindestens theoretisch eine unendliche Sperrdämpfung weit von dem Durchlassbereich hat. Die er findungsgemäße Filtervorrichtung hat grundlegend auch eine unendliche Sperrdämpfung weit von dem Durchlassbereich.
- Unter Verwendung der erfindungsgemäßen Filtervorrichtung kann eine integrierte Symmetriergliedfiltervorrichtung hergestellt werden. Ferner kann eine wesentliche Verringerung der Anzahl der Komponenten erzielt werden. Ferner kann die erfindungsgemäße Filtervorrichtung mit weiteren Komponenten integriert werden, vorzugsweise aktiven HF-Komponenten auf einem einzigen Chip.
- Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform ist die erfindungsgemäße Filtervorrichtung ein akustisches Wellenfilter, insbesondere ein akustisches Oberflächenwellen (SAW)-Filter, das akustische Oberflächenwellenresonatoren oder noch besser ein akustisches Volumenwellen (BAW)-Filter aufweist, das akustische Volumenwellenresonatoren enthält.
- Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform umfasst die erste Filtereinheit die gleichen Typen von Resonatoren wie die zweite Filtereinheit. Insbesondere können die erste und die zweite Filtereinheit hergestellt werden, indem nur zwei Resonatorentypen, nämlich Reihenresonatoren und Shunt-Resonatoren verwendet werden. Dabei wird bevorzugt, dass die Reihenresonatoren in der ersten Filtereinheit und die Reihenresonatoren in der zweiten Filtereinheit im Wesentlichen gleiche Resonanzfrequenzen zeigen. Ferner wird bevorzugt, dass die Shunt-Resonatoren in der ersten Filtereinheit und die Shunt-Resonatoren in der zweiten Filtereinheit im Wesentlichen gleiche Resonanzfrequenzen zeigen.
- Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform weist die erste Filtereinheit eine ungerade Anzahl von Resonatoren auf, vorzugsweise zumindest drei oder fünf Resonatoren (T-Topologie oder n-Topologie).
- Einige der oben genannten und andere detailliertere Aspekte der Erfindung werden in der folgenden Beschreibung beschrieben und teilweise unter Bezugnahme zu den Figuren dargestellt. In diesen Figuren:
- zeigt
1 schematisch einen Querschnitt eines beispielhaften akustischen Volumenwellen (BAW)-Resonators, der einen Luftspalt aufweist, - zeigt
2 eine Draufsicht des akustischen Volumenwellen (BAW)-Resonators der1 , - zeigt
3 schematisch einen Querschnitt eines beispielhaften akustischen Volumenwellen (BAW)-Resonators, der einen akustischen Spiegel aufweist, - zeigt
4 eine Filtervorrichtung gemäß einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, - zeigt
5 einen Vergleich verschiedener Filtertopologien, - zeigt
6 eine Filtervorrichtung gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, - zeigt
7 Filtervorrichtungen gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, die mit einem rauscharmen Filter (LNA) oder Leistungsverstärker auf einem einzigen Chip eingebaut sind, und - zeigt
8 ein Beispiel einer akustischen Oberflächenwellenfiltervorrichtung, die in einer mobilen Umgebung verwendet wird. -
1 und2 zeigen jeweils einen Querschnitt (Seitenansicht) und eine Draufsicht eines akustischen Volumenwellen (BAW)-Resonators10 , der eine Membran- oder Brückenstruktur11 hat. Der akustische Volumenwellen (BAW)-Resonator10 umfasst eine piezoelektrische Schicht12 , eine erste Schutzschicht13a , eine zweite Schutzschicht13b , eine erste Elektrode14 , eine zweite Elektrode15 , die Membran11 , Ätzfenster16a und16b , eine Luftspalte17 und eine Unterlage18 . Die piezoelektrische Schicht12 umfasst zum Beispiel ein piezoelektrisches Material, das als Dünnfilm hergestellt werden kann, wie zum Beispiel Zinkoxid (ZnO) oder Aluminiumnitrid (AlN). - Die Membran
11 umfasst zwei Schichten, nämlich die Oberschicht19 und eine Bodenschicht20 . Die Oberschicht19 besteht zum Beispiel aus einem Polysilicium oder Aluminiumnitrid (AlN), und die Bodenschicht20 besteht zum Beispiel aus Siliciumdioxid (SiO2) oder Galliumarsenid (GaAs). Das Substrat18 besteht aus einem Material wie zum Beispiel Silicium (Si), SiO2, GaAs oder Glas. Durch die Ätzfenster16a und16b wird ein Teil der Unterlage18 geätzt, um eine Luftspalte17 zu bilden, nachdem die Membranschichten über die Unterlage18 abgelagert wurden. - In
3 ist ein weiterer akustischer Volumenwellen (BAW)-Resonator30 gezeigt. Dieser Resonator hat einen ähnlichen Aufbau wie der des akustischen Volumenwellen (BAW)-Resonators10 der1 , mit der Ausnahme, dass nur eine einzige Schutzschicht13 bereitgestellt wird, und dass die Membran11 und die Luftspalte17 durch einen akustischen Spiegel31 ersetzt werden, der Schwingungen akustisch isoliert, die von der piezoelektrischen Schicht12 von der Unterlage18 her erzeugt werden. - Der akustische Spiegel
31 umfasst eine Anzahl von Schichten mit abwechselnden hohen und niedrigen akustischen Impedanzen, die angeordnet sind, so dass eine Reflexion der akustischen Welle an der Spiegel-Resonatorschnittfläche erzielt wird. Der akustische Spiegel31 , der in3 gezeigt ist, umfasst drei Schichten, nämlich eine Oberschicht31a , eine Mittelschicht31b und eine Bodenschicht31c . Jede Schicht31a ,31b und31c hat eine Stärke, die zum Beispiel gleich einer Viertelwellenlänge ist. Die Oberschicht31a und die Bodenschicht31c bestehen aus Werkstoffen, die niedrige akustische Impedanzen haben, wie zum Beispiel Silicium (Si), Polysilicium, Aluminium (Al) oder ein Polymer. Ferner besteht die Mittelschicht31b aus einem Werkstoff, der eine hohe akustische Impedanz hat, wie zum Beispiel Gold (Au), Molybdän (Mo) oder Wolfram (W). Die Unterlage18 kann aus verschiedenen Werkstoffen mit hoher akustischer Impedanz oder niedriger akustischer Impedanz bestehen (zum Beispiel Si, SiO2, GaAs, Glas oder Keramik). -
4 zeigt eine Filtervorrichtung gemäß einer ersten Ausführungsform der Erfindung. Die Filtervorrichtung, die in4 gezeigt ist, umfasst zwei Filtereinheiten, die direkt über einen Reihenresonator der ersten Filtereinheit verbunden sind. Die erste Filtereinheit41 umfasst vorzugsweise eine ungerade Anzahl von Resonatoren, im vorliegenden Beispiel drei, in Leiteranordnung. Die erste Filtereinheit41 ist ein akustisches Volumenwellen (BAW)-Filter, das zwei Typen akustischer Volumenwellenresonatoren aufweist, nämlich Reihenresonatoren42 und Shunt-Resonatoren43 . Vorzugsweise ist die erste Filtereinheit41 ein akustisches Volumenwellen (BRW)-Filter, das akustische Volumenwellenresonatoren wie in1 bis3 gezeigt aufweist. - Ferner umfasst die erste Filtereinheit
41 einen unsymmetrischen Anschluss44 , an den zum Beispiel das Ausgangssignal einer Antenne angeschlossen werden kann. Zusätzlich zu dem Anschluss44 umfasst die erste Filtereinheit41 den Anschluss45 , der im vorliegenden Beispiel mit der Erdung verbunden ist. - Die zweite Filtereinheit
46 umfasst vier Resonatoren in einer Kreuzanordnung. Wie die erste Filtereinheit41 , ist die zweite Filtereinheit ein akustisches Volumenwellen (BAW)-Filter, das zwei Typen akustischer Volumenwellenresonatoren, nämlich Reihenresonatoren42' und Shunt-Resonatoren43' aufweist. Dadurch zeigen die Reihenresonatoren42 in der ersten Filtereinheit41 und die Reihenresonatoren42' in der zweiten Filtereinheit46 im Wesentlichen gleiche Resonanzfrequenzen. Das gilt auch für die Shunt-Resonatoren43 in der ersten Filtereinheit41 und die Shunt-Resonatoren43' in der zweiten Filtereinheit46 , die ebenfalls im Wesentlichen gleiche Resonanzfrequenzen zeigen. Ferner umfasst die zweite Filtereinheit46 zwei symmetrische Anschlüsse47 und48 , an die zum Beispiel ein rauscharmer Verstärker (LNA) angeschlossen werden kann. - Die zweite Filtereinheit
46 ist mit der ersten Filtereinheit41 über einen Reihenresonator42 der ersten Filtereinheit41 verbunden, weil anderenfalls ein Impedanzversatz zwischen den zwei Filtereinheiten entstehen würde. Aufgrund der Tatsache, dass die erste Filtereinheit41 mit einem Reihenresonator endet und nicht mit einem Shunt-Resonator, sind die erste Filtereinheit41 und die zweite Filtereinheit46 gut angepasst. - Die erfindungsgemäße Filtereinheit zeigt eine ausgezeichnete Reaktion, besonders wenn der Knoten zwischen den Lasten auf der symmetrischen Seite nicht geerdet (schwimmend) ist. Ferner hat die erfindungsgemäße Filtervorrichtung einen steileren Übergang von dem Durchlassband zu dem Sperrband als ein symmetrisches Filter oder ein symmetrisches Filter mit unterschiedlichen Kapazitanzverhältnissen. Dementsprechend zeigt die erfindungsgemäße Filtervorrichtung bessere Selektivität als die zwei anderen Filter. Die Ergebnisse eines Vergleichs sind in
5 gezeigt. -
6 zeigt eine Filtervorrichtung gemäß einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Die in6 gezeigte Filtervorrichtung umfasst ebenfalls zwei Filtereinheiten, die direkt über einen Reihenresonator der ersten Filtereinheit verbunden sind. Die erste Filtereinheit51 umfasst vorzugsweise eine ungerade Anzahl von Resonatoren, in diesem Beispiel fünf, in einer Leiteranordnung. Die erste Filtereinheit51 ist wieder ein akustisches Volumenwellen (BRW)-Filter, das zwei Typen akustischer Volumenwellenresonatoren, nämlich Reihenresonatoren42 und Shunt-Resonatoren43 aufweist. -
7 zeigt Filtervorrichtungen gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, die mit einem rauscharmen Verstärker (LNA) oder einem Leistungsverstärker auf einem einzigen Chip integriert sind.7 zeigt schematisch die Empfangsseite (Rx) sowie die Übertragungsseite (Tx) einer Mobiltelekommunikationsvorrichtung. - Ein Signal, das von der Antenne
60 empfangen wird, wird über einen Schalter61 zu dem Chip62 geleitet, der eine Filtervorrichtung63 und einen rauscharmen Verstärker (LNA)64 umfasst. Die Filtervorrichtung63 zeigt eine erste Filtereinheit, die eine ungerade Anzahl von Resonatoren in einer Leiteranordnung aufweist, und eine zweite Filtereinheit, die mindestens vier Resonatoren in einer Kreuzanordnung aufweist. Die Filtervorrichtung63 filtert das Signal von der Antenne und führt eine Umwandlung von einem unsymmetrischen zu einem symmetrischen Signal durch. Das hervorgehende symmetrische Signal wird von dem rauscharmen Verstärker (LNA)64 verstärkt und zu einem Mischer65 geleitet. - Ein Signal, das über die Antenne
60 zu übertragen ist, wird von einem Mischer66 erzeugt und zu dem Chip67 geleitet, der eine Filtervorrichtung68 und einen Leistungsverstärker69 aufweist. Die Filtervorrichtung68 zeigt auch eine erste Filtereinheit, die eine ungerade Zahl von Resonatoren in einer Leiteranordnung umfasst, und eine zweite Filtereinheit, die mindestens vier Resonatoren in einer Kreuzanordnung umfasst. Die Filtervorrichtung68 filtert das Signal des Mischers und führt eine Umwandlung von einem symmetrischen zu einem unsymmetrischen Signal durch. Das daraus hervorgehende unsymmetrische Signal wird von dem Leistungsverstärker69 verstärkt und über den Schalter61 zu der Antenne60 geführt. - Der Gebrauch der erfindungsgemäßen Filtervorrichtung erlaubt das Herstellen einer Unsymmetrisch-Symmetrisch-Filtervorrichtung. Entsprechend kann eine wesentliche Verringerung der Anzahl von Bauteilen erzielt werden. Ferner kann die erfindungsgemäße Filtervorrichtung mit weiteren Komponenten, vorzugsweise einem rauscharmen Verstärker (LNA) auf einem einzigen Chip eingebaut werden. Zusätzlich verwendet die erfindungsgemäße Filtervorrichtung vorzugsweise BAW- Filter, da BAW-Filter kostengünstiger sind als existierende SAW-Filter.
Claims (10)
- Eine Filtervorrichtung, wobei die Filtervorrichtung umfasst: eine erste Filtereinheit (
41 ) mit mindestens einem Reihenresonator (42 ) und mindestens einem Shunt-Resonator (43 ) in einer Leiteranordnung und mit einem unsymmetrischen Anschluss (44 ); und eine zweite Filtereinheit (46 ), die mit der ersten Filtereinheit (41 ) über einen Reihenresonator (42 ) der ersten Filtereinheit (41 ) verbunden ist, wobei die zweite Filtereinheit (46 ) mindestens vier Resonatoren in einer Kreuzanordnung und zwei symmetrische Anschlüsse (47 ,48 ) umfasst. - Eine Filtervorrichtung nach Anspruch 1, wobei die Filtervorrichtung ein akustisches Wellenfilter ist.
- Eine Filtervorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Filtervorrichtung ein akustisches Oberflächenwellen (SAW)-Filter mit akustischen Oberflächenwellen-Resonatoren ist.
- Eine Filtervorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Filtervorrichtung ein akustisches Volumenwellen (BAW)-Filter mit akustischen Volumenwellen-Resonatoren ist.
- Eine Filtervorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die erste Filtereinheit (
41 ) eine ungerade Anzahl von Resonatoren umfasst. - Eine Filtervorrichtung nach Anspruch 5, wobei die erste Filtereinheit (
41 ) mindestens drei, vorzugsweise mindestens fünf Resonatoren umfasst. - Eine Filtervorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die erste Filtereinheit (
41 ) dieselben Resonatortypen wie die zweite Filtereinheit umfasst. - Eine Filtervorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Reihenresonatoren (
42 ) in der ersten Filtereinheit (41 ) und die Reihenresonatoren (42' ) in der zweiten Filtereinheit (46 ) im Wesentlichen gleiche Resonanzfrequenzen aufweisen. - Eine Filtervorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Shunt-Resonatoren (
43 ) in der ersten Filtereinheit (41 ) und die Shunt-Resonatoren (43' ) in der zweiten Filtereinheit (46 ) im Wesentlichen gleiche Resonanzfrequenzen aufweisen. - Eine Filtervorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Filtervorrichtung mit aktiven RF-Komponenten, vorzugsweise einem Verstärker, auf einem einzigen Chip integriert ist.
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Families Citing this family (54)
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---|---|---|---|---|
US6542055B1 (en) * | 2000-10-31 | 2003-04-01 | Agilent Technologies, Inc. | Integrated filter balun |
US7194247B2 (en) * | 2001-09-26 | 2007-03-20 | Nokia Corporation | Dual-channel passband filtering system using acoustic resonators in lattice topology |
US6600390B2 (en) * | 2001-12-13 | 2003-07-29 | Agilent Technologies, Inc. | Differential filters with common mode rejection and broadband rejection |
US7276994B2 (en) * | 2002-05-23 | 2007-10-02 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Piezoelectric thin-film resonator, piezoelectric filter, and electronic component including the piezoelectric filter |
AU2003285700A1 (en) * | 2003-01-20 | 2004-08-13 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Resonator filter structure with improved balance |
JP4468185B2 (ja) * | 2003-01-20 | 2010-05-26 | エヌエックスピー ビー ヴィ | 等しい共振周波数を有する共振器フィルタ構造体 |
US7275292B2 (en) | 2003-03-07 | 2007-10-02 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Method for fabricating an acoustical resonator on a substrate |
DE10317969B4 (de) * | 2003-04-17 | 2005-06-16 | Epcos Ag | Duplexer mit erweiterter Funktionalität |
US20070210876A1 (en) * | 2004-06-17 | 2007-09-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Fbar Filter |
WO2006018788A1 (en) * | 2004-08-20 | 2006-02-23 | Philips Intellectual Property & Standards Gmbh | Narrow band bulk acoustic wave filter |
US7388454B2 (en) | 2004-10-01 | 2008-06-17 | Avago Technologies Wireless Ip Pte Ltd | Acoustic resonator performance enhancement using alternating frame structure |
DE102004048715B4 (de) | 2004-10-06 | 2014-05-22 | Epcos Ag | SAW-Filter mit Impedanz-Transformation |
WO2006044866A2 (en) * | 2004-10-19 | 2006-04-27 | Earthcraft, Llc | Devices for high voltage ignition of combustible gas |
US8981876B2 (en) | 2004-11-15 | 2015-03-17 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Piezoelectric resonator structures and electrical filters having frame elements |
US7202560B2 (en) | 2004-12-15 | 2007-04-10 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Wafer bonding of micro-electro mechanical systems to active circuitry |
US7791434B2 (en) | 2004-12-22 | 2010-09-07 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic resonator performance enhancement using selective metal etch and having a trench in the piezoelectric |
US7369013B2 (en) | 2005-04-06 | 2008-05-06 | Avago Technologies Wireless Ip Pte Ltd | Acoustic resonator performance enhancement using filled recessed region |
DE602006009929D1 (de) * | 2005-06-20 | 2009-12-03 | Murata Manufacturing Co | Piezoelektrischer dünnschichtfilter |
JP2007036829A (ja) * | 2005-07-28 | 2007-02-08 | Toshiba Corp | 薄膜圧電共振器、フィルタ及び薄膜圧電共振器の製造方法 |
US7868522B2 (en) | 2005-09-09 | 2011-01-11 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Adjusted frequency temperature coefficient resonator |
US7675390B2 (en) | 2005-10-18 | 2010-03-09 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic galvanic isolator incorporating single decoupled stacked bulk acoustic resonator |
US7737807B2 (en) | 2005-10-18 | 2010-06-15 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic galvanic isolator incorporating series-connected decoupled stacked bulk acoustic resonators |
US7463499B2 (en) | 2005-10-31 | 2008-12-09 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte Ltd. | AC-DC power converter |
KR101238359B1 (ko) * | 2006-02-06 | 2013-03-04 | 삼성전자주식회사 | 듀플렉서 |
US7746677B2 (en) | 2006-03-09 | 2010-06-29 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | AC-DC converter circuit and power supply |
US7479685B2 (en) | 2006-03-10 | 2009-01-20 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Electronic device on substrate with cavity and mitigated parasitic leakage path |
US20080101263A1 (en) * | 2006-10-30 | 2008-05-01 | Skyworks Solutions, Inc. | Single-ended to differential duplexer filter |
US7791435B2 (en) | 2007-09-28 | 2010-09-07 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Single stack coupled resonators having differential output |
DE102008003820B4 (de) * | 2008-01-10 | 2013-01-17 | Epcos Ag | Frontendschaltung |
JP5136134B2 (ja) * | 2008-03-18 | 2013-02-06 | ソニー株式会社 | バンドパスフィルタ装置、その製造方法、テレビジョンチューナおよびテレビジョン受信機 |
US7732977B2 (en) | 2008-04-30 | 2010-06-08 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) | Transceiver circuit for film bulk acoustic resonator (FBAR) transducers |
US7855618B2 (en) | 2008-04-30 | 2010-12-21 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Bulk acoustic resonator electrical impedance transformers |
US7834720B2 (en) * | 2008-07-01 | 2010-11-16 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Bulk acoustic wave filter device and a method for trimming a bulk acoustic wave filter device |
US8902023B2 (en) | 2009-06-24 | 2014-12-02 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic resonator structure having an electrode with a cantilevered portion |
US8248185B2 (en) | 2009-06-24 | 2012-08-21 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic resonator structure comprising a bridge |
KR101634339B1 (ko) * | 2009-08-04 | 2016-06-28 | 삼성전자주식회사 | Bawr을 이용한 듀얼-입력 듀얼-출력의 필터링 장치 및 상기 bawr로서 이용할 수 있는 공진 장치 |
KR101628240B1 (ko) * | 2009-10-28 | 2016-06-08 | 삼성전자주식회사 | 박막 벌크 음향 공진기를 이용한 발룬 |
US8193877B2 (en) | 2009-11-30 | 2012-06-05 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Duplexer with negative phase shifting circuit |
US8796904B2 (en) | 2011-10-31 | 2014-08-05 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Bulk acoustic resonator comprising piezoelectric layer and inverse piezoelectric layer |
US9243316B2 (en) | 2010-01-22 | 2016-01-26 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Method of fabricating piezoelectric material with selected c-axis orientation |
KR101719325B1 (ko) * | 2010-07-19 | 2017-03-23 | 삼성전자주식회사 | Bawr을 이용한 밸런스 구조의 rf 듀플렉서 및 rf 필터 |
US8962443B2 (en) | 2011-01-31 | 2015-02-24 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Semiconductor device having an airbridge and method of fabricating the same |
US9148117B2 (en) | 2011-02-28 | 2015-09-29 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Coupled resonator filter comprising a bridge and frame elements |
US9425764B2 (en) | 2012-10-25 | 2016-08-23 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Accoustic resonator having composite electrodes with integrated lateral features |
US9136818B2 (en) | 2011-02-28 | 2015-09-15 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Stacked acoustic resonator comprising a bridge |
US9203374B2 (en) | 2011-02-28 | 2015-12-01 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Film bulk acoustic resonator comprising a bridge |
US9048812B2 (en) | 2011-02-28 | 2015-06-02 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Bulk acoustic wave resonator comprising bridge formed within piezoelectric layer |
US9083302B2 (en) | 2011-02-28 | 2015-07-14 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Stacked bulk acoustic resonator comprising a bridge and an acoustic reflector along a perimeter of the resonator |
US9154112B2 (en) | 2011-02-28 | 2015-10-06 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Coupled resonator filter comprising a bridge |
US8575820B2 (en) | 2011-03-29 | 2013-11-05 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Stacked bulk acoustic resonator |
US9444426B2 (en) | 2012-10-25 | 2016-09-13 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Accoustic resonator having integrated lateral feature and temperature compensation feature |
US8350445B1 (en) | 2011-06-16 | 2013-01-08 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Bulk acoustic resonator comprising non-piezoelectric layer and bridge |
US8922302B2 (en) | 2011-08-24 | 2014-12-30 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic resonator formed on a pedestal |
KR101919115B1 (ko) | 2012-02-29 | 2018-11-15 | 삼성전자주식회사 | Bawr 을 이용한 필터 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5847626A (en) * | 1994-02-22 | 1998-12-08 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Balanced-type surface acoustic wave lattice filter |
JPH08148968A (ja) * | 1994-11-24 | 1996-06-07 | Mitsubishi Electric Corp | 薄膜圧電素子 |
US5692279A (en) * | 1995-08-17 | 1997-12-02 | Motorola | Method of making a monolithic thin film resonator lattice filter |
JP3614234B2 (ja) * | 1996-03-14 | 2005-01-26 | 沖電気工業株式会社 | 共振器型弾性表面波フィルタ |
WO1998034345A1 (en) * | 1997-01-31 | 1998-08-06 | Motorola Inc. | Inline-coupled resonator with lattice filter and method |
JP2000114917A (ja) * | 1998-09-30 | 2000-04-21 | Kyocera Corp | バランス型弾性表面波フィルタ |
US6600390B2 (en) * | 2001-12-13 | 2003-07-29 | Agilent Technologies, Inc. | Differential filters with common mode rejection and broadband rejection |
-
2001
- 2001-03-23 AT AT01917108T patent/ATE311689T1/de not_active IP Right Cessation
- 2001-03-23 DE DE60115504T patent/DE60115504T2/de not_active Expired - Lifetime
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-
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