DE4335980A1 - Werkstückhalterung für Rotationsschleifmaschinen zum Schleifen von Halbleiterscheiben und Verfahren zum Positionieren der Werkstückhalterung - Google Patents

Werkstückhalterung für Rotationsschleifmaschinen zum Schleifen von Halbleiterscheiben und Verfahren zum Positionieren der Werkstückhalterung

Info

Publication number
DE4335980A1
DE4335980A1 DE4335980A DE4335980A DE4335980A1 DE 4335980 A1 DE4335980 A1 DE 4335980A1 DE 4335980 A DE4335980 A DE 4335980A DE 4335980 A DE4335980 A DE 4335980A DE 4335980 A1 DE4335980 A1 DE 4335980A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
workpiece holder
grinding
piezo elements
work
controlled
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE4335980A
Other languages
English (en)
Other versions
DE4335980C2 (de
Inventor
Anton Dipl Ing Huber
Robert Dipl Ing Weis
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siltronic AG
Original Assignee
Wacker Siltronic AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wacker Siltronic AG filed Critical Wacker Siltronic AG
Priority to DE4335980A priority Critical patent/DE4335980C2/de
Priority to MYPI94001699A priority patent/MY110610A/en
Priority to TW083106328A priority patent/TW245818B/zh
Priority to JP21073394A priority patent/JP2896746B2/ja
Priority to US08/310,048 priority patent/US5567199A/en
Priority to IT94RM000674A priority patent/IT1280040B1/it
Priority to KR1019940026844A priority patent/KR0159916B1/ko
Priority to CN94117575A priority patent/CN1070403C/zh
Publication of DE4335980A1 publication Critical patent/DE4335980A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE4335980C2 publication Critical patent/DE4335980C2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23QDETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
    • B23Q1/00Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
    • B23Q1/25Movable or adjustable work or tool supports
    • B23Q1/26Movable or adjustable work or tool supports characterised by constructional features relating to the co-operation of relatively movable members; Means for preventing relative movement of such members
    • B23Q1/34Relative movement obtained by use of deformable elements, e.g. piezoelectric, magnetostrictive, elastic or thermally-dilatable elements
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B41/00Component parts such as frames, beds, carriages, headstocks
    • B24B41/06Work supports, e.g. adjustable steadies
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B7/00Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor
    • B24B7/10Single-purpose machines or devices
    • B24B7/16Single-purpose machines or devices for grinding end-faces, e.g. of gauges, rollers, nuts, piston rings
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B7/00Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor
    • B24B7/20Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground
    • B24B7/22Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
  • Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Automatic Control Of Machine Tools (AREA)
  • Machine Tool Sensing Apparatuses (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft eine Werkstückhalterung für Rota­ tionsschleifmaschinen zum Schleifen von Halbleiterscheiben, mit einer zum rotierenden Schleifwerkzeug zeigenden, drehba­ ren Arbeitsfläche, auf der die zu bearbeitende Halbleiter­ scheibe abgelegt wird, und mit Mitteln, auf denen die Werk­ stückhalterung axial abgestützt ist. Ferner betrifft die Er­ findung ein Verfahren zum Positionieren der Werkstückhalte­ rung.
Der relativen räumlichen Lage der Drehachse der Werkstück­ halterung und der Rotationsachse des Schleifwerkzeugs der Rotationsschleifmaschine kommt beim Schleifen der Ober­ flächen von Halbleiterscheiben eine entscheidende Bedeutung zu. Es kann beispielsweise zweckmäßig sein, daß die Rota­ tionsachse des Schleifwerkzeugs und die Drehachse der Werk­ stückhalterung unter Einschluß eines definierten Winkels einander zu- oder gegeneinander geneigt gehalten werden, um der Halbleiterscheibe durch das Schleifen eine besondere Geometrie, beispielsweise eine gekrümmte Seitenfläche zu verleihen.
In der Regel ist das Ziel vorgegeben, durch den Schleifvor­ gang eine Schicht gleichmäßiger Dicke von einer der Seiten­ flächen der zu bearbeitenden Halbleiterscheibe abzutragen. Die Voraussetzung zum Erreichen dieses Ziels ist, daß die Arbeitsfläche der Werkstückhalterung und die Schleifebene des Schleifwerkzeugs parallel zueinander liegen. Um diese Bedingung zu erfüllen, müssen die Drehachse der Werkstück­ halterung und die Rotationsachse des Schleifwerkzeugs pa­ rallel orientiert sein.
Während des Schleifens einer Halbleiterscheibe können sich die Achslagen infolge von Temperatureinflüssen und vorherr­ schenden Prozeßkräften verändern. Es müssen demnach Möglich­ keiten vorgesehen sein, die gewünschte relative Lage der beiden Achsen wiederherzustellen.
Bisher geschieht dies durch gezieltes Verändern der Orien­ tierung der Rotationsachse des Schleifwerkzeugs, indem die Spindel des Schleifwerkzeugs um einen definierten Drehpunkt gedreht oder ihre Aufhängung verformt wird. Die Orientierung der Drehachse der starr gelagerten Werkstückhalterung wird dabei nicht geändert. Diese Vorgehensweise ist umständlich, zeitaufwendig und liefert hinsichtlich der ständig steigen­ den Anforderungen an die Geometrie der geschliffenen Halb­ leiterscheiben zu ungenaue Ergebnisse.
Es bestand deshalb die Aufgabe, eine Vorrichtung und ein Verfahren anzugeben, mit der (dem) sich die relative räumli­ che Lage der Rotationsachse des Schleifwerkzeugs und der Drehachse der Werkstückhalterung auf einfache Weise und mit hoher Genauigkeit definiert einstellen läßt.
Gelöst wird die Aufgabe durch eine Werkstückhalterung für Rotationsschleifmaschinen zum Schleifen von Halbleiterschei­ ben, mit einer zum rotierenden Schleifwerkzeug zeigenden, drehbaren Arbeitsfläche, auf der die zu bearbeitende Halb­ leiterscheibe abgelegt wird, und mit Mitteln, auf denen die Werkstückhalterung axial abgestützt ist, die dadurch gekenn­ zeichnet ist, daß die Mittel Piezoelemente sind, die von­ einander unabhängig angesteuert werden können und beim An­ steuern eine Änderung ihrer Längenausdehnung erfahren, wobei ein angesteuertes Piezoelement die Werkstückhalterung an der Stelle axial anhebt oder absenkt, an der es die Werkstück­ halterung abstützt.
Ferner wird die Aufgabe durch ein Verfahren zum Positionie­ ren der erfindungsgemäßen Werkstückhalterung gelöst, bei dem die Piezoelemente derart angesteuert werden, daß die Dreh­ achse der Werkstückhalterung und die Rotationsachse des Schleifwerkzeugs parallel orientiert sind oder eine defi­ nierte Position zueinander einnehmen.
Unter einem Piezoelement sind an sich bekannte und im Handel vertriebene piezoelektrische Translatoren zu verstehen, die elektrische Energie in Bewegungsenergie umwandeln. Der Er­ findung liegt nun die Idee zu Grunde, Piezoelemente in die Werkstückhalterung von Rotationsschleifmaschinen für Halb­ leiterscheiben zu integrieren und ihre Bewegung zum Positio­ nieren der Werkstückhalterung zu nutzen.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand einer Figur näher be­ schrieben. Die Figur zeigt schematisch und beispielhaft den Querschnitt durch eine Rotationsschleifmaschine zum Schlei­ fen von Halbleiterscheiben. Es sind nur die zum besseren Verständnis der Erfindung erforderlichen Merkmale darge­ stellt.
Die erfindungsgemäße Werkstückhalterung 1 (im englischen Sprachraum "Chuck" genannt) weist als besonderes technisches Merkmal drei Piezoelemente 2 auf, die vorzugsweise am Maschinenrahmen 3 verankert sind. Die Piezoelemente stützen die Werkstückhalterung axial ab. Sie sind so angeordnet, daß sie beim Ansteuern, das heißt, bei Änderung der angelegten elektrischen Spannung eine Änderung ihrer axialen Längenaus­ dehnung erfahren. Je nach Spannungsänderung wird die Werk­ stückhalterung an der Stelle, an der sie von einem Piezoele­ ment abgestützt wird, axial angehoben oder abgesenkt. Als Stützstellen 4, an denen die Werkstückhalterung von den Piezoelementen axial abgestützt wird, sind Stellen bevor­ zugt, die an der Peripherie der Werkstückhalterung liegen, weil das von den Piezoelementen ausübbare Drehmoment bei einer peripheren Anordnung größer ist, als bei einer Anord­ nung der Stützstellen näher an der Drehachse 5 der Werk­ stückhalterung. Die zuletzt genannte Anordnung der Stütz­ stellen kann jedoch zweckmäßig sein, wenn die gewünschte relative räumliche Lage der Drehachse der Werkstückhalterung und der Rotationsachse des Schleifwerkzeugs bei einer peri­ pheren Anordnung der Stützstellen nicht einzustellen ist.
Die Werkstückhalterung ist vorzugsweise mit einer Ansaugvor­ richtung ausgestattet, die es ermöglicht, eine zu bearbei­ tende Halbleiterscheibe mit einer ihrer Seitenflächen an die Arbeitsfläche der Werkstückhalterung zu saugen.
Jedem Piezoelement ist ein eigener Meßtaster zugeordnet, der die aktuelle Längenausdehnung des Piezoelements registriert. Die Piezoelemente werden nach Maßgabe der einzustellenden relativen räumlichen Lage der Drehachse 5 der Werkstückhal­ terung 1 und der Rotationsachse 6 des Schleifwerkzeugs 7 an­ gesteuert. Zur Ansteuerung der Piezoelemente ist eine zen­ trale Steuereinheit vorgesehen, mit der jedes Piezoelement unabhängig von den übrigen angesteuert werden kann. Die Meß­ taster und die zentrale Steuereinheit sind der Einfachheit wegen in der Figur weggelassen.
Die auf den Piezoelementen abgestützte Werkstückhalterung läßt sich mit hoher Präzision positionieren. Werden alle Piezoelemente gleichzeitig angesteuert und ihre Längenaus­ dehnungen um einen bestimmten Wert gleichsinnig geändert, vollzieht die Werkstückhalterung eine Vorschubbewegung bei unverändert orientierter Drehachse 5. Diese Art von Vorschub ist besonders dann einem Vorschub durch eine axiale Bewegung der Werkzeugspindel 8 vorzuziehen, wenn beim geforderten Schleifabtrag nur sehr enge Toleranzen zulässig sind und der Vorschub möglichst gleichmäßig und kontinuierlich erfolgen soll. Es ist daher zweckmäßig, das Schleifen einer Halblei­ terscheibe zunächst mit einem über die Bewegung der Werk­ zeugspindel gesteuerten Vorschub zu beginnen und auf den über die Bewegung der Werkstückhalterung gesteuerten Vor­ schub zu wechseln, sobald sich das Schleifwerkzeug im Be­ reich des maximalen Hubs der Piezoelemente befindet.
Die Werkstückhalterung kann auch so positioniert werden, daß sich die räumliche Orientierung ihrer Drehachse und damit die relative Lage dieser Achse zur Rotationsachse des Schleifwerkzeugs verändert. Dies geschieht dadurch, daß eines oder mehrere der Piezoelemente angesteuert werden, wo­ bei die oben erwähnte symmetrische, also gleichzeitige An­ steuerung aller Piezoelemente bei gleichsinniger Änderung der Längenausdehnung ausgenommen ist. Bei nicht-symmetri­ scher Ansteuerung der Piezoelemente werden die Arbeitsfläche 9 der Werkstückhalterung 1 und die darauf liegende Halblei­ terscheibe 10 aus ihren ursprünglichen Lagen gekippt.
Jedem Ist-Zustand der Längenausdehnung der Piezoelemente ist demzufolge eine definierte räumliche Orientierung der Drehachse der Werkstückhalterung zugeordnet. Besteht der Be­ darf, diese zu ändern, beispielsweise nachdem bei der Überprüfung der Geometrie einer geschliffenen Halbleiterscheibe festgestellt wurde, daß sich die relative räumliche Lage der Rotationsachse des Schleifwerkzeugs und der Drehachse der Werkstückhalterung während des Schleifens der Halbleiter­ scheibe verändert hat, kann durch geeignetes Ansteuern der Piezoelemente die ursprüngliche relative räumliche Lage der beiden Achsen wiederhergestellt werden. Je nach Vorgabe werden die Piezoelemente so angesteuert, daß die Drehachse der Werkstückhalterung und die Rotationsachse des Schleif­ werkzeugs parallel orientiert sind oder eine definierte Position zueinander einnehmen. Die Werkstückhalterung wird zweckmäßigerweise mit Hilfe der zentralen Steuereinheit, über die sich alle Piezoelemente einzeln oder gemeinsam an­ steuern lassen, in der gewünschten Weise positioniert.
Prinzipiell können bis zu zwei der drei Piezoelemente durch Stützelemente ersetzt werden. In diesen Fällen ist jedoch die Bewegungsfreiheit der Werkstückhalterung mehr oder weni­ ger eingeschränkt und der Vorschub der Werkstückhalterung nicht möglich.
Das beschriebene Verfahren zum Positionieren der Werkstück­ halterung von Rotationsschleifmaschinen für Halbleiterschei­ ben hat den besonderen Vorteil, daß die Korrektur der räum­ lichen Orientierung der Drehachse der Werkstückhalterung sehr schnell und ohne besonderen Aufwand durchgeführt werden kann. Die Genauigkeit der Achseinstellung ist so hoch, daß Halbleiterscheiben mit verbesserter Präzision geschliffen werden können. Die Erfindung wird deshalb bevorzugt zum Schleifen von Siliciumscheiben und sogenannten gebondeten SOI-Scheiben (SOI = silicon on insulator) verwendet.
Ein weiterer Vorteil ist, daß die axiale Schnittkraft des Schleifwerkzeugs über die am Piezoelement anliegende elek­ trische Spannung gemessen werden kann. Eine unvorhergesehene Änderung der Schnittkraft während des Schleifens einer Halb­ leiterscheibe kann ein Indiz dafür sein, daß sich die rela­ tive räumliche Lage der Rotationsachse des Schleifwerkzeugs und der Drehachse der Werkstückhalterung unbeabsichtigt geändert hat. Es kann aber auch bedeuten, daß sich ein anderer, den Schleifvorgang wesentlich beeinflussender Para­ meter geändert hat. Deshalb ist es zweckmäßig, während des Schleifens einer Halbleiterscheibe die wirkende axiale Schnittkraft mit Hilfe der Piezoelemente zu überwachen und beim Auftreten von Anomalien das Schleifverfahren zu unter­ brechen und die Rotationsschleifmaschine zu überprüfen.
Beispiel
In einem Versuch wurde die Werkstückhalterung einer Rota­ tionsschleifmaschine vom Typ Disco DFG-82IF/8 in der in der Figur gezeigten Weise von drei Piezoelementen der Fa. Physik Instrumente axial am Maschinengestell abgestützt. Der maxi­ male Hub der Piezoelemente war auf 10 µm ausgelegt. Jedem Piezoelement war ein Meßtaster zum Erfassen der Längenaus­ dehnung des Piezoelements zugeordnet. Die Piezoelemente konnten von einer zentralen Steuereinheit aus angesteuert werden. Mit dieser Maschinenanordnung wurden Halbleiter­ scheiben geschliffen mit der Vorgabe, daß sie nach dem Schleifen möglichst eben sein sollten. Durch Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens war es möglich, daß die totale Dickenvariation jeder Halbleiterscheibe (TTV-Wert) als Maß für deren Ebenheit unter dem Wert von 1 µm gehalten werden konnte.

Claims (10)

1. Werkstückhalterung für Rotationsschleifmaschinen zum Schleifen von Halbleiterscheiben, mit einer zum rotie­ renden Schleifwerkzeug zeigenden, drehbaren Arbeits­ fläche, auf der die zu bearbeitende Halbleiterscheibe abgelegt wird, und mit Mitteln, auf denen die Werkstück­ halterung axial abgestützt ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Mittel Piezoelemente sind, die von einander unab­ hängig angesteuert werden können und beim Ansteuern eine Änderung ihrer Längenausdehnung erfahren, wobei ein an­ gesteuertes Piezoelement die Werkstückhalterung an der Stelle axial anhebt oder absenkt, an der es die Werk­ stückhalterung abstützt.
2. Werkstückhalterung gemäß Anspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß drei Piezoelemente zum axialen Abstützen der Werkstück­ halterung vorgesehen sind.
3. Werkstückhalterung gemäß Anspruch 1 oder Anspruch 2, da­ durch gekennzeichnet, daß Mittel vorgesehen sind, die zu bearbeitende Halbleiter­ scheibe an die Arbeitsfläche der Werkstückhalterung an­ zusaugen.
4. Werkstückhalterung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Piezoelemente die Werkstückhalterung an deren Peri­ pherie abstützen.
5. Werkstückhalterung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß jedes Piezoelement mit einem Meßtaster ausgerüstet ist, der seine Längenausdehnung registriert.
6. Werkstückhalterung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, da­ durch gekennzeichnet, daß eine zentrale Steuereinheit vorgesehen ist, mit der die Piezoelemente angesteuert werden.
7. Verfahren zum Positionieren einer Werkstückhalterung ge­ mäß einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Piezoelemente derart angesteuert werden, daß die Drehachse der Werkstückhalterung und die Rotationsachse des Schleifwerkzeugs parallel orientiert sind oder eine definierte Position zueinander einnehmen.
8. Verfahren gemäß Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Piezoelemente so angesteuert werden, daß die Werk­ stückhalterung eine Vorschubbewegung ausführt.
9. Verfahren gemäß Anspruch 7 oder Anspruch 8, dadurch ge­ kennzeichnet, daß während des Schleifens einer Halblei­ terscheibe die axiale Schnittkraft der Rotationsschleif­ maschine mit Hilfe der Piezoelemente gemessen wird und die Werkstückhalterung nach einer unvorhergesehenen Än­ derung der Schnittkraft neu positioniert wird.
10. Verwendung der Werkstückhalterung gemäß einem der An­ sprüche 1 bis 6 zum Schleifen von Halbleiterscheiben, insbesondere von Siliciumscheiben oder von SOI-Scheiben (SOI = silicon on isulator).
DE4335980A 1993-10-21 1993-10-21 Verfahren zum Positionieren einer Werkstückhalterung Expired - Fee Related DE4335980C2 (de)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4335980A DE4335980C2 (de) 1993-10-21 1993-10-21 Verfahren zum Positionieren einer Werkstückhalterung
MYPI94001699A MY110610A (en) 1993-10-21 1994-06-30 Workpiece holder for rotary grinding machines for grinding semiconductor wafers, and method of positioning the workpiece holder
TW083106328A TW245818B (de) 1993-10-21 1994-07-12
JP21073394A JP2896746B2 (ja) 1993-10-21 1994-08-12 半導体ウエハを研削するための回転研削盤用ワークホルダ及び該ワークホルダを位置決めするための方法
US08/310,048 US5567199A (en) 1993-10-21 1994-09-21 Workpiece holder for rotary grinding machines for grinding semiconductor wafers, and method of positioning the workpiece holder
IT94RM000674A IT1280040B1 (it) 1993-10-21 1994-10-18 Supporto di pezzi per levigatrici a rotazione per la levigatura di fette di semiconduttori e procedimento per il posizionamento del
KR1019940026844A KR0159916B1 (ko) 1993-10-21 1994-10-20 반도체웨이퍼연삭용 회전식연삭기계의 가공편홀더 및 그 가공편홀더를 위치시키는 방법
CN94117575A CN1070403C (zh) 1993-10-21 1994-10-21 半导体片研磨机的工件夹持器及其定位方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4335980A DE4335980C2 (de) 1993-10-21 1993-10-21 Verfahren zum Positionieren einer Werkstückhalterung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE4335980A1 true DE4335980A1 (de) 1995-04-27
DE4335980C2 DE4335980C2 (de) 1998-09-10

Family

ID=6500715

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE4335980A Expired - Fee Related DE4335980C2 (de) 1993-10-21 1993-10-21 Verfahren zum Positionieren einer Werkstückhalterung

Country Status (8)

Country Link
US (1) US5567199A (de)
JP (1) JP2896746B2 (de)
KR (1) KR0159916B1 (de)
CN (1) CN1070403C (de)
DE (1) DE4335980C2 (de)
IT (1) IT1280040B1 (de)
MY (1) MY110610A (de)
TW (1) TW245818B (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19627142C2 (de) * 1996-07-05 2003-04-24 Andreas Hilker Vorrichtung zur Oberflächenbearbeitung von Metall, Glas oder dergleichen
AT522399A3 (de) * 2019-04-05 2021-03-15 Disco Corp Schleifvorrichtung

Families Citing this family (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5951368A (en) 1996-05-29 1999-09-14 Ebara Corporation Polishing apparatus
KR100218309B1 (ko) * 1996-07-09 1999-09-01 구본준 씨엠피장치의 반도체웨이퍼 레벨링 감지장치 및 방법
US5816895A (en) * 1997-01-17 1998-10-06 Tokyo Seimitsu Co., Ltd. Surface grinding method and apparatus
US6425812B1 (en) 1997-04-08 2002-07-30 Lam Research Corporation Polishing head for chemical mechanical polishing using linear planarization technology
US6244946B1 (en) 1997-04-08 2001-06-12 Lam Research Corporation Polishing head with removable subcarrier
JPH1110498A (ja) * 1997-06-18 1999-01-19 Sumitomo Heavy Ind Ltd 固体アクチュエータを用いた面振れ修正機構を持つ加工装置
US5888120A (en) * 1997-09-29 1999-03-30 Lsi Logic Corporation Method and apparatus for chemical mechanical polishing
US5920769A (en) * 1997-12-12 1999-07-06 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for processing a planar structure
US6045431A (en) * 1997-12-23 2000-04-04 Speedfam Corporation Manufacture of thin-film magnetic heads
JP2000015557A (ja) * 1998-04-27 2000-01-18 Ebara Corp 研磨装置
JP2968784B1 (ja) * 1998-06-19 1999-11-02 日本電気株式会社 研磨方法およびそれに用いる装置
JP2000015570A (ja) * 1998-07-02 2000-01-18 Disco Abrasive Syst Ltd 研削装置
JP3515917B2 (ja) * 1998-12-01 2004-04-05 シャープ株式会社 半導体装置の製造方法
DE19859360C2 (de) * 1998-12-22 2003-07-17 Schwaebische Werkzeugmaschinen Werkzeugmaschine mit piezoelektrischer Positionskorrektureinrichtung
US6432823B1 (en) 1999-11-04 2002-08-13 International Business Machines Corporation Off-concentric polishing system design
US6383056B1 (en) 1999-12-02 2002-05-07 Yin Ming Wang Plane constructed shaft system used in precision polishing and polishing apparatuses
US6666756B1 (en) 2000-03-31 2003-12-23 Lam Research Corporation Wafer carrier head assembly
JP2002025961A (ja) * 2000-07-04 2002-01-25 Disco Abrasive Syst Ltd 半導体ウエーハの研削方法
US6991524B1 (en) * 2000-07-07 2006-01-31 Disc Go Technologies Inc. Method and apparatus for reconditioning digital discs
TW200301211A (en) * 2001-12-11 2003-07-01 Mitsuboshi Diamond Ind Co Ltd Method of suckingly holding substrate, and suckingly and holdingly carrying machine using the method
KR20020090195A (ko) * 2002-10-30 2002-11-30 도대홍 튜브형 마늘다데기 제조
DE10325977B4 (de) * 2003-06-07 2005-06-09 Daimlerchrysler Ag Flachschleifvorrichtung mit einer Spannvorrichtung sowie Verfahren zum Schleifbearbeiten eines Werkstücks in einer Flachschleifvorrichtung
CN100343018C (zh) * 2004-01-08 2007-10-17 财团法人工业技术研究院 晶片磨床构造
US6966817B2 (en) * 2004-02-11 2005-11-22 Industrial Technology Research Institute Wafer grinder
NL1036034A1 (nl) * 2007-10-11 2009-04-15 Asml Netherlands Bv Imprint lithography.
JP4783405B2 (ja) * 2008-07-02 2011-09-28 光洋機械工業株式会社 傾斜角調整装置及びワーク装着装置
JP4783404B2 (ja) * 2008-07-02 2011-09-28 光洋機械工業株式会社 ワーク装着装置
JP5295204B2 (ja) * 2010-11-09 2013-09-18 中国電力株式会社 研磨装置
CN103029031A (zh) * 2011-09-30 2013-04-10 上海双明光学科技有限公司 一种晶圆基片加工方法
CN103193199B (zh) * 2013-03-27 2015-09-23 山东理工大学 一种用于低温超声阳极键合装置中的硅片夹持器
CN104227523A (zh) * 2013-06-19 2014-12-24 晶科能源有限公司 硅片打磨工艺及其设备
JP6147587B2 (ja) * 2013-06-27 2017-06-14 株式会社ディスコ 研削装置及び研削方法
JP6121284B2 (ja) * 2013-08-13 2017-04-26 株式会社ディスコ 研磨装置
JP6336772B2 (ja) * 2014-02-14 2018-06-06 株式会社ディスコ 研削研磨装置
JP6660743B2 (ja) * 2016-01-22 2020-03-11 株式会社東京精密 研削装置
JP6906312B2 (ja) * 2017-01-16 2021-07-21 株式会社ディスコ 研磨装置
CN109499984B (zh) * 2018-10-13 2022-03-18 广东嗨学云教育科技有限公司 一种集成电路通用制造装置
JP2020196100A (ja) * 2019-06-04 2020-12-10 株式会社ディスコ 圧電アクチュエータで構成したチャックテーブル傾き調整機構
JP7391470B2 (ja) * 2019-12-20 2023-12-05 株式会社ディスコ ワークの研削方法
CN113023357B (zh) * 2021-04-14 2022-06-07 湖南三安半导体有限责任公司 黏贴装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3524690A1 (de) * 1984-08-27 1986-03-06 VEB Werkzeugmaschinenkombinat "7. Oktober" Berlin, DDR 1120 Berlin Messanordung zur erfassung der ist-lage und der topographie eines rotierenden schleifkoerpers
EP0092818B1 (de) * 1982-04-23 1986-07-23 Disco Abrasive Systems, Ltd. Verfahren zum Schleifen der Oberfläche einer Halbleiterscheibe
EP0388972A2 (de) * 1989-03-24 1990-09-26 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Schleifeinrichtung für Halbleiterplättchen
DE4136882A1 (de) * 1991-11-09 1993-05-13 Glyco Metall Werke Positioniervorrichtung fuer eine bearbeitungsmaschine fuer werkstuecke

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3872626A (en) * 1973-05-02 1975-03-25 Cone Blanchard Machine Co Grinding machine with tilting table
JPS60103651U (ja) * 1983-12-19 1985-07-15 シチズン時計株式会社 真空吸着台
US4603867A (en) * 1984-04-02 1986-08-05 Motorola, Inc. Spinner chuck
JPS62124842A (ja) * 1985-11-27 1987-06-06 Hitachi Seiko Ltd テ−ブルの傾斜補正型工作機械
JPS62181862A (ja) * 1986-02-07 1987-08-10 Hitachi Seiko Ltd 平面研削装置
JP2977203B2 (ja) * 1989-04-19 1999-11-15 株式会社東芝 研磨装置
US5117589A (en) * 1990-03-19 1992-06-02 Read-Rite Corporation Adjustable transfer tool for lapping magnetic head sliders
JP3077994B2 (ja) * 1990-05-21 2000-08-21 理化学研究所 電解ドレッシング研削装置
US5069002A (en) * 1991-04-17 1991-12-03 Micron Technology, Inc. Apparatus for endpoint detection during mechanical planarization of semiconductor wafers
FR2677276B1 (fr) * 1991-06-06 1995-12-01 Commissariat Energie Atomique Machine de polissage a table porte-echantillon perfectionnee.
US5320007A (en) * 1992-11-18 1994-06-14 Texas Instruments Incorporated Method for positioning and processing LPE films

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0092818B1 (de) * 1982-04-23 1986-07-23 Disco Abrasive Systems, Ltd. Verfahren zum Schleifen der Oberfläche einer Halbleiterscheibe
DE3524690A1 (de) * 1984-08-27 1986-03-06 VEB Werkzeugmaschinenkombinat "7. Oktober" Berlin, DDR 1120 Berlin Messanordung zur erfassung der ist-lage und der topographie eines rotierenden schleifkoerpers
EP0388972A2 (de) * 1989-03-24 1990-09-26 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Schleifeinrichtung für Halbleiterplättchen
DE4136882A1 (de) * 1991-11-09 1993-05-13 Glyco Metall Werke Positioniervorrichtung fuer eine bearbeitungsmaschine fuer werkstuecke

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19627142C2 (de) * 1996-07-05 2003-04-24 Andreas Hilker Vorrichtung zur Oberflächenbearbeitung von Metall, Glas oder dergleichen
AT522399A3 (de) * 2019-04-05 2021-03-15 Disco Corp Schleifvorrichtung
AT522399B1 (de) * 2019-04-05 2023-05-15 Disco Corp Schleifvorrichtung

Also Published As

Publication number Publication date
CN1070403C (zh) 2001-09-05
JP2896746B2 (ja) 1999-05-31
US5567199A (en) 1996-10-22
JPH07122524A (ja) 1995-05-12
ITRM940674A1 (it) 1996-04-18
ITRM940674A0 (it) 1994-10-18
KR0159916B1 (ko) 1999-02-01
KR950012617A (ko) 1995-05-16
CN1108591A (zh) 1995-09-20
TW245818B (de) 1995-04-21
MY110610A (en) 1998-08-29
IT1280040B1 (it) 1997-12-29
DE4335980C2 (de) 1998-09-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE4335980A1 (de) Werkstückhalterung für Rotationsschleifmaschinen zum Schleifen von Halbleiterscheiben und Verfahren zum Positionieren der Werkstückhalterung
DE19517107C2 (de) Verfahren zum Positionieren eines Werkstücks, wie eines stabförmigen Einkristallmaterials und Vorrichtung hierfür
EP1399306B1 (de) Verfahren und vorrichtung zum trennen eines einkristalls
DE69526307T2 (de) Gerät zum schleifen von materialproben
DE4138087A1 (de) Verfahren zum schleifen der kanten eines scheibenfoermigen gekerbten werkstuecks
DE10162945A1 (de) Schleifmaschine
DE102004054104A1 (de) Verfahren zum Abrichten einer Anfasscheibe und Anfasvorrichtung
EP0385324A2 (de) Verfahren zum Zersägen von stabförmigen Werkstücken in Scheiben mittels Innenlochsäge, sowie Innenlochsägen zu seiner Durchführung
DE102010008975A1 (de) Werkstückbearbeitungsverfahren und -vorrichtung
DE102021201032A1 (de) Schleifvorrichtung
DE102021201916A1 (de) Feineinstellungsgewindeanordnung und bearbeitungsvorrichtung
EP0257381B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Abrichten von Schleifscheiben
DE102015222535A1 (de) Schleifverfahren für Werkstücke
EP0264679B1 (de) Verfahren zum Anbringen einer abgeschrägten Randkontur an einer Halbleiterscheibe
EP0432637B1 (de) Vorrichtung zum Nachschärfen der Schneidkante von Trennwerkzeugen beim Abtrennen von Scheiben von stab- oder blockförmigen Werkstücken, insbesondere aus Halbleitermaterial, ihre Verwendung und Sägeverfahren
JPH01153259A (ja) 少なくとも1つの平らな表面を備えた円形物の製造方法及びその装置
DE69328590T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Abschneiden einer Halbleiterscheibe
DE60122901T2 (de) Kontakterentladungsabricht- und ausrichtverfahren und vorrichtung
DE102020211915A1 (de) Verfahren zum schleifen eines substrats
DE102017110196B4 (de) Verfahren und Schleif- und Erodiermaschine zur Bearbeitung eines Werkstücks
DE102020216544A1 (de) Sic-ingot-bearbeitungsverfahren und laserbearbeitungsvorrichtung
WO1998000264A1 (de) Maschine zum bearbeiten von zahnflanken eines schneidwerkzeugs
EP0824053A1 (de) Gerät zum chemisch-mechanischen Polieren von Wafern
DE69104128T2 (de) Spannen eines Werkstücks.
EP1254733B1 (de) Verfahren zum Bearbeiten von mehrschneidigen Werkzeugen, bei denen die Schneiden auf einem Flugkreis liegen und bei dem die Rundlaufabweichungen der Schneiden minimiert werden

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: WACKER SILTRONIC GESELLSCHAFT FUER HALBLEITERMATER

8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: WACKER SILTRONIC GESELLSCHAFT FUER HALBLEITERMATER

D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee