DE3788103T2

DE3788103T2 - Lichtempfindliche Zusammensetzung.

Info

Publication number: DE3788103T2
Application number: DE87307544T
Authority: DE
Inventors: Yukio Fuji Photo Film Co Abe; Koichi Fuji Photo Fil Kawamura; Akinobu Fuji Photo Film Koike
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 1986-08-29
Filing date: 1987-08-26
Publication date: 1994-03-03
Anticipated expiration: 2007-08-27
Also published as: EP0262788B1; JPH0581019B2; DE3788103D1; JPS6358440A; US5064741A; EP0262788A3; EP0262788A2

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine lichtempfindliche Zusammensetzung, umfassend neue Verbindungen, die Radikale bilden können, wenn sie mit Licht bestrahlt werden, und insbesondere eine lichtempfindliche Zusammensetzung enthaltend 4,6-bis(Halomethyl)-s-triazine als Radikalbildner.
Verbindungen, die Radikale bilden, wenn sie mit Licht bestrahlt werden (Radikalbildner) sind auf dem Gebiet der graphischen Kunst bekannt. Diese Verbindungen werden weit verbreitet als ein Photopolymerisationsinitiator in photopolymerisierbaren Zusammensetzungen, als ein Photoaktivierungsmittel in radikalischen Photographiezusammensetzungen und als Photoinitiator bei den Reaktionen verwendet, die mit Säuren katalysiert werden, welche durch das Bestrahlen des Initiators mit Licht erzeugt werden. Unter Verwendung solch eines Radikalbildners wurden eine Vielzahl von lichtempfindlichen Materialien hergestellt, die geeignet für die bildbildenden Systeme sind, z. B. Drucken, Reproduktion, Duplikation oder dergleichen.
Organische Halogenverbindungen bewirken eine photolytische Verschlechterung, um Halogenradikale wie Chlorradikale und Bromradikale zu bilden. Diese freien Radikale dienen als ein gutes Wasserstoffatomextraktionsmittel und bilden Säuren, wenn mit diesen ein Wasserstoffdonor koexistiert. Diese Photopolymerisationsverfahren und deren Anwendung auf radikalische photographische Verfahren sind in dem Artikel von J. Kosar (Light Sensitive System, J. Wiley & Sons, New York, 1965, S.180-181 und S.361-370) beschrieben.
Typische Beispiele der Verbindungen, die Halogenradikale durch die Wirkung des Lichtes erzeugen können und herkömmlich bekannt sind, sind Kohlenstofftetrachlorid, Iodoform und Tribromoacetophenon, und diese Verbindungen wurden weitverbreitet in den zuvor genannten Gebieten verwendet. Diese Radikalbildner bewirken jedoch eine Sublimation und erzeugen einen schlechten Geruch. Daher führt deren Verwendung aufgrund ihrer Sublimation während der Herstellung, der Verwendung und der Lagerung des lichtempfindlichen Materials zu einer Verringerung der Wirkung, und die Sublimation ist schlecht für die Gesundheit. Des weiteren sind sie in der Kompatibilität mit anderen Bestandteilen, die in einer lichtempfindlichen Schicht eingebaut sind unvollkommen. Des weiteren sind sie weniger empfindlich gegenüber einem photolytischen Abbau mit Licht, aus einer Lichtquelle wie einer Metallhalogenidlampe, die herkömmlicherweise bei der Herstellung von z. B. einer lithographischen Druckplatte verwendet wird, und daher wird verlangt, eine große Menge dieser Verbindung in die lichtempfindliche Schicht einzubauen, um eine ausreichende Wirkung zu erzielen. Daher ist es üblich, daß die Verwendung einer großen Menge dieser Verbindungen einen großen Einfluß auf die mechanischen Eigenschaften und die Entwicklungseigenschaften der diese enthaltenden lichtempfindlichen Schicht ausübt.
Unter diesen Umständen wurde die Verwendung eines Vinyl-halomethyl-s-triazins (U.S. Patente Nr. 3,954,475 und 3,987,037 und die ungeprüfte veröffentlichte japanische Patentanmeldung, nachfolgend als - J.P. KOKAI -, Nr. 48-36281 bezeichnet); und Halomethyl-s-triazinverbindungen (J.P. KOKAI Nr. 53-133428 und 55-32070). Diese s-Triazinverbindungen weisen ausgezeichnete Eigenschaften auf, wie eine ausgesprochen hohe Empfindlichkeit gegenüber einem photolytischem Abbau mit dem normalerweise verwendeten ultravioletten Licht und eine hohe Zeitstabilität. Werden diese Verbindungen jedoch als ein Bestandteil von, z. B., lichtempfindlichen Zusammensetzungen für vorsensibilisierte Platten verwendet, die bei der Herstellung von lithographischen Druckplatten verwendet werden (der Einfachheit halber nachfolgend als PS- Platten bezeichnet), ein Teil der, in den Nichtbildflächen existierenden, lichtempfindlichen Zusammensetzung ist anfällig dafür, auch nach der Entwicklung zurück zu bleiben. Ins besondere, wenn die Entwicklung durch das Abwischen bzw. Abreiben der lichtempfindlichen Schicht mit einer adsorbierenden, eine Entwicklungsflüssigkeit enthaltenden Zellstoffwatte oder Schwamm durchgeführt wird, bleibt die lichtempfindliche Zusammensetzung teilweise in Nichtbildflächen zurück, was in einem negativen Erscheinungsbild aufgrund der ungleichmäßigen Entwicklung resultiert und zu einer Schaumbildung führt, wenn das resultierende Produkt als eine lithographische Druckplatte verwendet wird.
Wie aus der vorangegangenen Diskussion deutlich wird, weisen die herkömmlichen Verbindungen, die durch die Wirkung von Licht Radikale erzeugen, die Eigenschaften noch unvollkommen auf, die verlangt sind, um eine ausgezeichnete lichtempfindliche Zusammensetzung zur Verwendung bei der Herstellung von in der Praxis geeigneten lichtempfindlichen Schichten zu bilden.
Demgemäß ist es ein wesentlicher Zweck der vorliegenden Erfindung, eine lichtempfindliche Zusammensetzung mit einer ausgezeichneten Ausdruckeigenschaft zur Verfügung zu stellen, d. h., eine lichtempfindliche Zusammensetzung, die einen optisch erkennbaren Kontrast zwischen Bildflächen und Nichtbildflächen unmittelbar nach der Belichtung bereitstellt.
Ein weiterer Zweck der vorliegenden Erfindung ist es, eine lichtempfindliche Zusammensetzung zur Verfügung zu stellen, welche nur selten nach der Belichtung in Nichtbildflächen zurückbleibt und lithographische Druckplatten zur Verfügung stellt, die kein Aufschäumen aufweisen, wenn die Zusammensetzung in der lichtempfindlichen Schicht einer PS-Platte verwendet wird.
Es ist ein weiterer Zweck der vorliegenden Erfindung, eine lichtempfindliche Zusammensetzung mit einer guten Zeitstabilität zur Verfügung zu stellen, in anderen Worten, eine lichtempfindliche Zusammensetzung, die die unmittelbar nach ihrer Herstellung beobachteten Eigenschaften auch nach der Lagerung über einen langen Zeitraum beibehält.
Es ist noch ein anderer Zweck der vorliegenden Erfindung, eine lichtempfindliche Zusammensetzung zur Verfügung zu stellen, die gegenüber ultraviolettem Licht, von Lichtquellen, die herkömmlicherweise bei der Entwicklung von lichtempfindlichen Materialien verwendet werden, hochempfindlich sind.
Es ist noch ein weiterer Zweck der vorliegenden Erfindung, eine lichtempfindliche Zusammensetzung zur Verfügung zu stellen, die ausgezeichnete physikalische Eigenschaften und Entwicklungseigenschaften besitzt.
Die weiteren Aufgaben der vorliegenden Erfindung werden durch die unten angeführte Erklärung deutlich.
Die oben genannten Zwecke der vorliegenden Erfindung können effektiv dadurch erzielt werden, daß eine lichtempfindliche Zusammensetzung zur Verfügung gestellt wird, die wenigstens einen Radikalbildner, dargestellt durch die folgende allgemeine Formel (I), und mindestens ein Entfärbungsmittel, welches mit den durch den photolytischen Abbau des Radikalbildners hervorgebrachten Produkt wechselwirkt, um den Farbton davon zu ändern, umfaßt:
worin R&sub1; und R&sub2; gleich oder voneinander verschieden sein können und Wasserstoffatom, eine substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe, eine substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe oder eine durch die folgende allgemeine Formel (II) oder (III) dargestellte Gruppe bedeuten:
(in der allgemeinen Formel (II) oder (III) bedeutet R&sub5; eine substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe, oder eine substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe; und R&sub6; und R&sub7; können gleich oder voneinander verschieden sein und Wasserstoffatom, eine substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe oder eine substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe bedeuten); oder R&sub1; und R&sub2; können eine heterocyclische Gruppe, die aus Nichtmetallatomen besteht, zusammen mit dem Stickstoffatom, an das sie gebunden Sind- bilden; R&sub3; und R&sub4; bedeuten Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Alkylgruppe oder eine Alkoxygruppe; X und Y können gleich oder voneinander verschieden sein und bedeuten Chloratom oder Bromatom; und m und n sind eine ganze Zahl von 0,1 oder 2.
Für R&sub1; und R&sub7; sind bevorzugte Beispiele der substituierten und unsubstituierten Alkylgruppe solche mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen, wie Methyl, Ethyl und Isopropylgruppen, und bevorzugte substituierte und unsubstituierte Arylgruppen umfassend solche mit 6 bis 14 Kohlenstoffatomen wie Phenyl- und Naphthylgruppen.
In R&sub1;, R&sub2; und R&sub5; bis R&sub7; sind Beispiele der an den Alkyl- und Arylgruppen Substituenten Arylgruppen wie Phenylgruppe, Halogenatome wie Chloratom, Alkoxygruppen, wie Methoxy- und Ethoxygruppen, Carboxylgruppe, Carboalkoxygruppen wie Carbomethoxy- und Carboethoxygruppen, Carboaryloxygruppen, Cyanogruppe, Acylgruppen wie Acetyl- und Benzoylgruppen, Nitrogruppe, Dialkylaminogruppen oder von Sulfonyl abgeleitete Gruppen, die durch die folgenden allgemeinen Formeln (A), (B) oder (C) dargestellt sind:
(worin Z Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe bedeutet).
Zusätzlich zu den vorgenannten, oben angeführten Substituenten kann die in R&sub1;, R&sub2; und R&sub5; bis R&sub7; vorhandene substituierte Arylgruppe mit Alkylgruppen substituiert sein.
Beispiele der heterocyclischen Gruppe, die aus R&sub1; und R&sub2; zusammen mit dem Stickstoffatom, an das sie gebunden sind, gebildet ist, umfassen solche dargestellt durch die folgenden Formeln (D) bis (H).
Besonders bevorzugte Beispiele der Substituenten der substituierten Alkyl- und Arylgruppen in R&sub1; und R&sub3; sind elektronenanziehende Gruppen, wie Halogenatome, Carboxylgruppen, Carboalkoxygruppen, Cyanogruppe, Acylgruppen, und von Sulfonyl abgeleitete Gruppen, und insbesondere bevorzugte Beispiele der Substituenten der substituierten Alkyl- und Arylgruppen in R&sub5; sind aus Elektronendonorgruppen wie Dialkylamino- und Alkoxygruppen.
Die durch die allgemeine Formel (I) dargestellten Verbindungen, die in der lichtempfindlichen Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung verwendet werden können, können dadurch synthetisiert werden, daß sie mit einer aromatischen Nitrilverbindung cyclisiert werden, die durch die folgende allgemeine Formel (IV) dargestellt wird:
wobei R&sub1; bis R&sub4; die gleichen Bedeutungen wie in Bezug auf die allgemeine Formel (I) besitzen, und ein Haloacetonitril gemäß des Verfahrens entwickelt von K. Wakabayashi et al., beschrieben in Bull, Chem. Soc., Japan, 1960, Bd.42, S. 2924-2930.
Beispiele der Verbindungen, dargestellt durch die allgemeine Formel (I), die in der lichtempfindlichen Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung geeignet sind, werden im folgenden aufgelistet, es sollte jedoch festgehalten werden, daß die vorliegende Erfindung nicht auf diese spezifischen Beispiele beschränkt ist.

HERSTELLUNGSBEISPIEL:

Synthese von 4-(P-N,N-Di(ethoxycarbonylmethyl)-aminophenyl)-2,6-di-(trichloromethyl)-s-triazin (Verbindung (1))

4,35 g P-N,N-Di-(ethoxycarbonylmethyl)-aminobenzonitril, 13 g Trichloroacetonitril und 0,4 g Aluminiumtribromid wurden unter Rühren miteinander vermischt, und Chlorwasserstoffgas wurde bei 5ºC eine Stunde dazu eingeführt. Die Temperatur wurde auf Raumtemperatur erhöht, und das Rühren für 20 Std. fortgesetzt. Die Reaktionslösung wurde mit Methylenchlorid extrahiert und Methylenchlorid unter einem reduzierten Druck nach dem Waschen des Extrakts mit Wasser verdampft. Der Rückstand wurde unter Verwendung von Hexanethylacetat (2 : 1 v/v) als Elutationsmittel einer Säulenchromatographie unterworfen, und das Elutationsmittel wurde konzentriert, um 4 g der Hauptverbindung in Form von Kristallen zu erhalten. M.P. = 109-111ºC.
U.V.-Spektrum (in Tetrahydrofuran)
λmax = 386 nm (log &epsi; = 457)
I.R.-Spektrum (cm&supmin;¹): 1735, 1545, 1410, 1200.
Die hier verwendeten durch die allgemeine Formel (I) dargestellten Verbindungen sind geeignet, um Eigenschaften zu verleihen, um einen optisch erkennbaren Kontrast zwischen Bildflächen und Nichtbildflächen unmittelbar nach der Belichtung ohne Entwicklung zu begründen (der Einfachheit halber im nachfolgenden als - Ausdruckeigenschaft - bezeichnet), der lichtempfindlichen Zusammensetzungen zur Herstellung von PS-Platten, gedruckten Stromkreisplatten für IC, Photomasken udgl. Die lichtempfindliche Zusammensetzung mit solch einer Ausdruckeigenschaft bietet sichtbare Bilder durch das einfache Bestrahlen derselben mit Licht unter gelbem Sicherheitslicht. Daher ist es möglich zu bestimmen, ob eine gegebene Platte belichtet ist oder nicht, z. B., wenn eine Vielzahl von PS-Platten gleichzeitig belichtet werden und dieser Betrieb unterbrochen wird. Wird eine große PS-Platte wiederholt einer Belichtung ausgesetzt, z. B. im Fall des sogenannten zusammengesetzten Druckverfahrens, welches für die Herstellung von lithographischen Druckplatten verwendet wird, kann der Bediener gleichzeitig einfach feststellen, welche Bereiche von dieser belichtet wurden.
Die Zusammensetzungen um eine solche Ausdruckeigenschaft den lichtempfindlichen Zusammensetzungen (im folgenden als Ausdruckzusammensetzung bezeichnet) zu verleihen, umfaßt wenigstens einen Radikalbildner und wenigstens ein Entfärbemittel, welches mit den durch den photolytischen Abbau des Radikalbildners hervorgebrachten Produkten wechselwirkt, wie solche, die oben bereits erwähnt wurden. Gemäß der vorliegenden Erfindung werden die durch die allgemeine Formel (I) dargestellten Verbindungen als Radikalbildner in solch einer Ausdruckzusammensetzung verwendet.
Die hier verwendeten Entfärbungsmittel können grob in zwei Gruppen klassifiziert werden, von denen eine ursprünglich farblos ist und eine Farbe durch den Einfluß des photolytischen Produkts des Radikalbildners, dargestellt durch die allgemeine Formel (I), entwickelt, von denen die andere jeweils eine Eigenfärbung besitzt und die Farbe ändert oder eine Entfärbung aufgrund der Wechselwirkung mit solchen photolytischen Erzeugnissen bewirkt.
Beispiele der letzteren umfassen Arylamine und sind bevorzugt ein einfaches Arylamin, sowohl primäre und sekundäre aromatische Amine als auch sogenannte Leucofarbstoffe. Konkrete Beispiele dieser umfassen Diphenylamin, Dibenzylanilin, Triphenylamin, Diethylanilin, Diphenyl-p-phenyldiamin, p-Toluidin, 4,4'-Biphenyldiamin, o-Chloroanilin, o-Bromoanilin, 4-Chloro-o-Phenylendiamin, o-Bromo-N,N-dimethylanilin, 1,2,3-Triphenylguanidin, Naphthylamin, Diaminodiphenylmethan, Anilin, 2,5-Dichloroanilin, N-Methyldiphenylamin, o-Toluidin, p,p'-Tetramethyldiaminodiphenylmethan, N,N- Dimethyl-p-phenylendiamin, 1,2-Dianilinoethylen, p,p', p''-Hexamethyltriaminotriphenylmethan, p,p'-Tetramethyldiaminotriphenylmethan, p,p'-Tetramethyldiaminodiphenylmethylimin, p,p',p''-Triamino-o-methyltriphenylmethan, p,p',p''-Triaminotriphenylcarbinol, p,p'-Tetramethylaminodiphenyl-4-anilinonaphthylmethan, p,p',p''-Triaminotriphenylmethan und p,p',p''-Hexapropyltriaminotriphenylmethan.
Die wirksamen Entfärbungsmittel, die jeweils Eigenfärbungen aufweisen und die Farbe ändern oder eine Entfärbung durch die Wechselwirkung der Erzeugnisse bewirken, die aufgrund der photolytischen Zersetzung der Radikalbildner gebildet werden, umfassen zusätzlich, z. B., unterschiedliche Arten von Farbstoffen, wie Diphenylmethan, Triphenylmethan, Thiazin, Oxazin, Xanthen, Anthrachinon, Iminonaphthochinon, Azomethin und Azo. Beispiele solcher Farbstoffe sind Brilliantblau, Eosin, Ethylviolett, Erythrosin B, Methylgrün, Kristallviolett, Grundfuchsin, Phenolphthalein, 1,3-Diphenyltriazin, Alizarinrot S, Thymolphthalein, Methylviolett 2B, Quinalidinrot, Bengalisches Rosa, Metanilgelb, Thymolsulfophthalein, Xylolblau, Methylorange, Orange IV, Diphenylthiocarbazon, 2,7-Dichlorofluorescein, Paramethylrot, Kongorot, Benzopurpur 4B, alpha-Naphthylrot, Nilblau 2B, Nilblau A, Phenacetalin, Methylviolett, Malachitgrün, Parafuchsin, Ölblau #603 (ORIENT CHEMICAL INDUSTRIES LTD.), Ölpink #312 (ORIENT CHEMICAL INDUSTRIES LTD.), Ölrot 5B (ORIENT CHEMICAL INDUSTRIES LTD.), Ölscharlachrot #308 (ORIENT CHEMICAL INDUSTRIES LTD.), Ölrot CG (ORIENT CHEMICAL INDUSTRIES LTD.), Ölrot RR (ORIENT CHEMICAL INDUSTRIES LTD.), Ölgrün #502 (ORIENT CHEMICAL INDUSTRIES LTD), Spironrot BEH Spezial (HODOGAYA CHEMICAL CO., LTD.), Victoria Reines Blau BOH (HODOGAYA CHEMICAL CO., LTD.), m-Cresolpurpur, Cresolrot, Rhodamin B, Rhodamin 6G, Fast Acid Violett R, Sulforhodamin B, Auramin, 4-p-Diethylaminophenyliminonaphthochinon, 2-Carboxyanilino-4-p-diethylaminophenyliminomaphthochinon, 2-Carbostearylamino-4-p-dihydroxyethyl-aminophenyliminonaphthochinon, p-Methoxybenzoyl-p'-diethylaminoo'-methylphenylimino-acetoanilid, Cyano-p-diethylaminophenyliminoacetoanilid, 1-Phenyl-3-methyl-4-p-diethylaminophenylimino-5-pyrazolon, 2,4-Dinitro-5-chloro-2'-acetamino- 4'-diethylamino-5'-methoxyazobenzyl.
Die durch die allgemeine Formel (I) dargestellten Verbindungen weisen eine hohe Zeitstabilität in der Ausdruckzusammensetzung der vorliegenden Erfindung auf, unter den als Entfärbungsmittel verwendeten Verbindungen tendieren jedoch Leucotriphenylmethanfarbstoffe im allgemeinen dazu, eine Oxidation zu unterlaufen. Aus diesem Grund ist es wirkungsvoll, einen bestimmten Stabilisator in Kombination mit diesen zu verwenden, wenn solche Farbstoffe eingesetzt werden.
Beispiele solcher Stabilisatoren, die wirksam bei der Unterdrückung der Oxidation sind, umfassen Amine, Zinkoxid und Phenole wie die in dem U.S. Patent Nr. 3,042,575 beschriebenen; Sulfidverbindungen wie die in dem U.S. Patent Nr. 3,042,516 beschriebenen; Alkalimetalliodide und organische Säuren, wie in dem U.S. Patent Nr. 3,042,518 beschrieben; wasserfreie organische Säuren wie im U.S. Patent 3,082,086 beschrieben, und Triarylverbindungen von Antimon, Arsen, Wismut und Phosphor, wie in dem U.S. Patent Nr. 3,377,167 beschrieben.
In der erfindungsgemäßen Zusammensetzung liegt die zugegebene Menge des Radikalbildners, dargestellt durch die allgemeine Formel (I) in Bereichen von ungefähr 0,01 bis ungefähr 100 Gewichtsteile, insbesondere bevorzugt zwischen 0,1 bis 10 Gewichtsteile, und besonders bevorzugt zwischen 0,5 und 5 Gewichtsteile pro ein Gewichtsteil des Entfärbungsmittels.
Auf der anderen Seite kann die lichtempfindliche Zusammensetzung umfassen den Radikalbildner der allgemeinen Formel (I) und das Entfärbungsmittel, welches mit den durch den photolytischen Abbau des Radikalbildners hervorgebrachten Produkten wechselwirkt, um den Farbton der Zusammensetzung zu verändern, als lichtempfindliche Schicht der lichtempfindlichen Ausdruckmaterialien verwendet werden, und kann in Zusammensetzungen zum Bilden von Photolack eingebaut werden, um diesen die Ausdruckeigenschaften zu verleihen. Die Zusammensetzungen zum Bilden eines Photolacks in welchen die Ausdruckzusammensetzung eingebaut wird, kann irgendeine herkömmliche sein. Insbesondere bevorzugte Ergebnisse können durch die Verwendung von Zusammensetzungen erzielt werden, wobei deren Löslichkeit in alkalischen wässerigen Lösungen durch die Bestrahlung mit Licht erhöht wird. Beispiele solcher bevorzugter positiver lichtempfindlicher Zusammensetzungen umfassend (1) Zusammensetzungen umfassend o-Chinondiazinverbindung und (2) Zusammensetzungen umfassend eine Verbindung, welche in der Lage ist, eine Säure durch die Wirkung von Licht zu erzeugen, und eine Verbindung mit wenigstens einer Bindung, die durch die erzeugte Säure gespalten werden kann. Diese bevorzugten Zusammensetzungen werden im Folgenden im Detail erläutert.
(1) Zusammensetzungen umfassend eine o-Chinondiazinverbindung:
Insbesondere bevorzugte o-Chinondiazinverbindungen sind in einer Vielzahl von Veröffentlichungen beschrieben, wie in den U.S. Patenten Nr. 2,766,118; 2,767,092; 2,772,972; 2,859,112; 2,907,665; 3,046,110; 3,046,111; 3,046,115; 3,046,118; 3,046,119; 3,046,120; 3,046,121; 3,046,122; 3,046,123; 3,061,430; 3,102,809; 3,106,465; 3,635,709; und 3,647,443, und Zusammensetzungen umfassend diese Verbindungen können wirkungsvoll in der vorliegenden Erfindung eingesetzt werden, um die Ausdruckzusammensetzungen zu bilden. Unter diesen sind insbesondere bevorzugte Verbindungen, o-Chinondiazidsulfonate oder o-Naphthochinondiazidcarboxylate von aromatischen Hydroxylverbindungen und o-Naphthochinondiazidsulfonsäureamide oder o-Naphthochinondiazidcarbonsäureamide von aromatischen Aminverbindungen; und insbesondere Erzeugnisse erzielt durch eine Esterreaktion zwischen einem Pyrogallolkondensat und Aceton und o-Naphthochinondiazidsulfonsäure, wie in dem U.S. Patent Nr. 3,635,709 beschrieben, Erzeugnisse hergestellt durch eine Esterreaktion zwischen einem Polyester mit Hydroxylgruppen an den Enden und o-Naphthochinondiazidsulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidcarbonsäure, wie in dem U.S. Patent Nr. 4,028,111 beschrieben; Produkte erzeugt durch eine Esterreaktion zwischen einem Homopolymer des p-Hydroxystyrols oder einem Copolymer des p-Hydroxystyrols und anderen co-polymerisierbaren Monomeren und o-Naphthochinondiazidsulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidcarbonsäure, wie in dem britischen Patent Nr. 1,494,043 beschrieben; und Amidoprodukte, erzeugt durch eine Reaktion eines Copolymers des p-Aminostyrols und anderen copolymerisierbaren Monomeren mit o-Naphthochinondiazidsulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidcarbonsäure stellen ausgezeichnete Ausdruckzusammensetzungen zur Verfügung.
Es ist bevorzugt, diese o-Chinondiazidverbindungen in Kombination mit einem alkalilöslichen Harz zu verwenden. Beispiele solcher alkalilöslichen Harze umfassen Novolakphenolharze, wie Phenolformaldehydharz, o-Cresol-formaldehydharz und m-Cresol-formaldehydharz. Es ist des weiteren bevorzugt, die vorgenannten Phenolharze zusammen mit einem Phenolsubstituent zu verwenden, mit Alkylgruppen mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen wie tert-Butylphenol-formaldehydharz oder einem Kondensat aus Cresol mit Formaldehyd (siehe J.P. KOKAI Nr. 50-125806). Diese alkalilöslichen Harze werden in einer Menge von etwa bis 50 bis etwa 85 Gew.-% bezogen auf das Gesamtgewicht der o-Chinondiazidverbindung und des alkalilöslichen Harzes verwendet, und insbesondere bevorzugt beträgt deren Menge zwischen 60 und 80 Gew.-%.
Zu den Zusammensetzungen umfassend o-Chinondiazidverbindungen können cyclische Säureanhydride hinzugefügt werden, um deren Sensibilität zu steigern. Beispiele dieser sind Phthalsäureanhydrid, Tetrahydrophthalsäureanhydrid, Hexahydrophthalsäureanhydrid, 3,6-Endoxy-Δ-tetrahydroxyphthalsäureanhydrid, Tetrachlorophthalsäureanhydrid, Maleinsäureanhydrid, Chloromaleinsäureanhydrid, alpha-Phenylmaleinsäureanhydrid, Succinsäureanhydrid und Pyromellinsäureanhydrid, wie in dem U.S. Patent Nr. 4,115,128 beschrieben. Die Sensibilität der Zusammensetzung kann durch die Zugabe von 1 bis 15 Gew.-% dieser cyclischen Säureanhydride bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung bis zu 3 Mal erhöht werden.
(2) Zusammensetzungen umfassend eine Verbindung, welche in der Lage ist, eine Säure durch die Wirkung von Licht zu erzeugen, und eine Verbindung mit mindestens einer Bindung, die durch die erzeugte Säure gespalten werden kann:
Es sind eine Vielzahl von Verbindungen oder Mischungen bekannt, die bei der Belichtung Säuren bilden, und geeignete Beispiele dieser sind Diazon, Phosphon, Sulfon und Iodonsalze; organische Halogenverbindungen; o-Chinondiazidsulfonylchlorid; und die Kombination eines Organometalls und einer organischen Halogenverbindung. Es ist des weiteren geeignet, Verbindungen zu verwenden, die Säuren durch einen photolytischen Abbau erzeugen, wie in dem U.S. Patent Nr. 3,779,778 und in dem deutschen Patent Nr. 2,610,842 beschrieben. Verbindungen dargestellt durch die allgemeine Formel (I) sind natürlich auch geeignet.
Auf der anderen Seite sind bevorzugte Verbindungen mit wenigstens einer Bindung, die durch eine Säure gespalten werden kann, solche mit wenigstens einer C-O-C-Bindung oder solche mit wenigstens einer Silylethergruppe, dargestellt durch die Formel: C-O-Si. Beispiele der letzteren sind Acetal oder O,N-Acetalverbindungen beschrieben in dem U.S. Patent Nr. 3,779,778; oder Thoester oder Amidoacetalverbindungen beschrieben in dem U.S. Patent Nr. 4,101,323; Polymere enthaltend Acetal- oder Ketalgruppen in der Hauptkette beschrieben in dem U.S. Patent Nr. 4,247,611; Enoletherverbindungen beschrieben in dem U.S. Patent Nr. 4,248,957; N-Acyliminocarbonatverbindungen beschrieben in dem U.S. Patent Nr. 4,250,247, und Polymere mit Orthoestergruppen in der Hauptkette beschrieben in dem U.S. Patent Nr. 4,311,782. Zusätzlich sind Beispiele der letzteren Silyletherverbindungen in J.P. KOKAI Nr. 60-37549 beschrieben.
Das Mischungsverhältnis der Verbindung, die in der Lage ist, eine Säure durch die Wirkung von Licht zu erzeugen, zu der Verbindung mit mindestens einer Bindung, die durch die Säure gespalten werden kann, liegt im Bereich von 0,01 : 1 bis 2 : 1 (Gewichtsverhältnis), vorzugsweise 0,2 : 1 bis 1 : 1.
Solch eine Verbindung wird vorzugsweise in Kombination mit einem alkalilöslichen Harz verwendet und bevorzugte Beispiele dieser umfassen Novolakphenolharze wie Phenol-formaldehydharz, o-Cresol-formaldehydharz und m-Cresol-formaldehydharz.
Die Zusammensetzung umfassend die Verbindungen dargestellt durch die allgemeine Formel (1) und das Entfärbungsmittel gemäß der vorliegenden Erfindung, zur Bildung von Photolack kann des weiteren Pigmente oder Farbstoffe umfassen, die nicht als Entfärbungsmittel dienen, andere Radikalbildner als die durch die allgemeine Formel (I) dargestellten und andere Zusätze wie Weichmacher, je nach Notwendigkeit.
Zum Beispiel kann die Zusammensetzung 2-Halomethyl-1,3,4-oxadiazolverbindungen oder Halogenide von o-Naphthochinondiazid-4-sulfonsäure enthalten, beschrieben in J.P. KOKAI Nr. 54-74728, 55-77742 und 60-3626 als ein von den durch die allgemeine Formel (I) dargestellten verschiedenen Radikalbildner.
Bei der Zusammensetzung zur Bildung von Photolack gemäß der vorliegenden Erfindung liegt die Menge der Verbindungen dargestellt durch die allgemeine Formel (I) in dem Bereich von ungefähr 0,1 bis ungefähr 10 Gew.-%, vorzugsweise 0,3 bis 3 Gew.-%; die des Entfärbungsmittels etwa zwischen 0,1 bis ungefähr 10 Gewichtsteile, vorzugsweise zwischen 0,5 und 5 Gewichtsteile, und des weiteren die der o-Naphthochinondiazidverbindungen in dem Bereich zwischen ungefähr 10 bis ungefähr 50 Gewichtsteile, vorzugsweise 20 bis 40 Gewichtsteile, bezogen auf 100 Gewichtsteile in der Gesamtmenge der Zusammensetzung.
Die Zusammensetzung zur Bildung von Photolacken, die solchermaßen die gewünschten Ausdruckeigenschaften erhalten, werden im allgemeinen in einem Lösungsmittel dispergiert, bevor sie auf einem Substrat odgl. beschichtet werden. Beispiele solcher Lösungsmittel umfassen Ethylendichlorid, Dichloromethan, Cyclohexanon, Aceton, Methylethylketon, Ethylacetat, Methylcellosolacetat, Ethylcellosolacetat, N,N- Dimethylformamid, Dimethylsulfoxid, N,N-Dimethylacetamid, Acetylaceton, Propylenglycolmonomethyletheracetat, Dioxan, Tetrahydrofuran, gamma-Butyrolaceton, Propylenglycolmonoethylether, Propylenglycolmono-n-propylether, Propylenglycolmono-iso-propylether, Propylenglycolmonoacetat, Propylenglycol und Diacetonalkohol, und diese Lösungsmittel können allein oder in Kombination verwendet werden.
Insbesondere kann die lichtempfindliche Zusammensetzung gemäß der vorliegenden Erfindung wirkungsvoll als lichtempfindliche Schicht von PS-Platten verwendet werden, zur Verwendung bei der Herstellung von lithographischen Druckplatten. In diesem Zusammenhang kann solch ein Substrat erwähnt werden wie Metallplatten (z. B. Aluminium, Aluminiumlegierungen, Zink, Eisen und Kupfer); und Kunststoffmaterialien, die mit den vorgenannten Metallfilmen oder -schichten laminiert wurden oder auf welchen Schichten solcher Metalle abgelagert wurden. Unter diesen ist eine Aluminiumplatte am meisten bevorzugt. Wird in diesem Zusammenhang ein Substrat mit einer metallischen Oberfläche, insbesondere einer Aluminiumoberfläche, verwendet, ist es bevorzugt, die Oberfläche einer Oberflächenbehandlung zu unterwerfen, wie einem Körnen, einem Eintauchen in eine wässerige Lösung aus Natriumsilicat, Kaliumfluorozirkonat, Phosphate odgl. oder einer anodischen Oxidation.
Des weiteren ist es geeignete eine Aluminiumplatte zu verwenden, die gekörnt wurde und anschließend in eine wässerige Lösung aus Natriumsilicat getaucht wurde, wie in dem U.S. Patent Nr. 2,714,066 beschrieben, und eine Aluminiumplatte, die anodisch oxidiert wurde, gefolgt von einem Eintauchen in eine wässerige Lösung aus einem Alkalimetallsilicat, wie in dem U.S. Patent Nr. 3,181,461 beschrieben.
Die vorgenannte anodische Oxidationsbehandlung wird durch das Anlegen eines elektrischen Stroms ausgeführt, wobei die Aluminiumplatte als Anode in einer wässerigen oder nicht wässerigen Lösung einer anorganischen Säure wie einer Phosphorsäure, Chromsäure, Schwefelsäure und Borsäure dient; einer organischen Säure wie einer Oxalsäure und Sulfaminsäure; oder ein Salz dieser; oder eine gemischte Lösung dieser, insbesondere, einer wässerigen Lösung aus Phosphorsäure, Schwefelsäure oder einer Mischung dieser.
Des weiteren ist die silikatische Elektroabscheidung auch als Oberflächenbehandlung der Aluminiumplatte wirkungsvoll, wie in dem U.S. Patent Nr. 3,658,662 beschrieben. Bevorzugte Aluminiumplatten umfassen solche, die als ein Elektrolyt in Chlorwasserstoffsäure elektrolytisch zersetzt wurden, wobei ein Wechselstrom angelegt wurde und anschließendes als ein Elektrolyt in Schwefelsäure anodisch oxidiert wurden, wie in dem britischen Patent Nr. 1,208,224 beschrieben. Es ist wünschenswert, eine Unterschicht aus cellulosehaltigem Harz, welches wasserlösliche Salze eines Metalles wie Zink enthält, auf der Oberfläche der Aluminiumplatte aufzutragen, die gemäß der vorgenannten Verfahren anodisch oxidiert wurde, um die Bildung von Schaum während des Druckens zu vermeiden.
Die Menge der lichtempfindlichen Zusammensetzung, die auf ein solches Substrat aufgetragen wird, liegt in einem Bereich zwischen ungefähr 0,1 bis ungefähr 7 g/m², vorzugsweise 0,5 bis 4 g/m².
Die solchermaßen erhaltene PS-Platte wird anschließend einer bildweisen Belichtung unterworfen, gefolgt von einer Entwicklung mit einer wässerigen Alkalilösung, um die belichteten Bereiche zu entfernen, und so wird eine lithographische Druckplatte erzielt.
Die lichtempfindliche Zusammensetzung gemäß der vorliegenden Erfindung kann zur Bildung von Andruckplatten für das Drucken verwendet werden, Schichten für Overhead-Projektoren und Schichten für einen Zwischendruck. In diesem Fall umfassen Beispiele geeigneter Substrate transparente Schichten, wie Polyethylenterephthalatschichten und Cellulosetriacetatschichten und diese Kunststoffschichten, deren Oberfläche chemisch oder physikalisch mattiert wurde.
Des weiteren können die lichtempfindlichen Zusammensetzungen der vorliegenden Erfindung für die Herstellung von Schichten für Photomasken verwendet werden, und in solch einem Fall sind Beispiele bevorzugter Substrate Polyethylenterephthalatschichten, auf welchen Aluminium, deren Legierungen oder Chrom abgelagert wurde oder Polyethylenterephthalatschichten, auf die eine gefärbte Schicht aufgebracht wurde.
Der hier verwendete Radikalbildner kann durch Bestrahlung mit Licht in eine lichtempfindliche Zusammensetzung zersetzt werden, welche eine lichtempfindliche Photolack bildende Verbindung enthält und die wirkungsvolle und schnelle Entfärbung des koexistierenden Entfärbungsmittels ermöglicht. Als ein Ergebnis ist es möglich, eine klare Grenze zwischen den belichteten Bereichen und den nicht belichteten Bereichen zu erzielen, und somit wird ein hoher Kontrast zwischen ihnen bewirkt, der zu der Bildung von sichtbaren Bildern, die deutlich erkennbar sind, führt.
Eine Vielzahl von Entfärbungsmitteln können in der Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung verwendet werden, und daher kann, wenn unterschiedliche Arten von Zusätzen in der Zusammensetzung eingebaut sind, um die Eigenschaften der lichtempfindlichen Zusammensetzung zu verbessern, ein geeignetes mit diesen Zusätzen kompatibles Entfärbungsmittel kann frei ausgewählt werden.
Die hier verwendeten Radikalbildner weisen eine hohe Zeitstabilität auf, und daher ist die Lagerbeständigkeit der Endprodukte wie der PS-Platten wesentlich verbessert.
Die photolytische Abbauwirkung der hier verwendeten Radikalbildner ist sehr schnell und wird quasi nicht durch die koexistierende lichtempfindliche Photolack bildende Verbindung unterdrückt. Das bedeutet, daß die gewünschte Wirkung durch die Zugabe von nur einem geringen Anteil des Bildners bewirkt wird.
Der in der vorliegenden Erfindung verwendete Radikalbildner übt keinen Einfluß auf die Photolyse der lichtempfindlichen Photolack bildenden Verbindung aus. Daher bleibt die Sensibilität der lichtempfindlichen Zusammensetzung (die Sensibilität des Photolacks) im wesentlichen unverändert. Da in der Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung des weiteren nur ein geringer Anteil des Radikalbildners erfordert ist, um, wie schon oben erwähnt, eine gewünschte Wirkung zu erzielen, bleiben die physikalischen Eigenschaften der auf dem Photolack durch die Wechselwirkung mit Licht und anschließendes Entwickeln gebildeten Bilder auch unverändert. Wird die lichtempfindliche Zusammensetzung, welche die Ausdruckeigenschaft gemäß der vorliegenden Erfindung erfaßt, als lichtempfindliche Schicht einer PS-Platte verwendet, sind die Eigenschaften der PS-Platte oder der resultierenden lithographischen Druckplatte wie die Entwicklungseigenschaft, die wasserabstoßende Eigenschaft, die Hintergrundverunreinigung, die Druckhaltbarkeit im wesentlichen gleichwertig mit denen, die beobachtet wurden, wenn ein Radikalbildner nicht hinzugefügt wird.
Die lichtempfindliche Zusammensetzung gemäß der vorliegenden Erfindung wird im folgenden im Detail in bezug auf die folgenden nicht begrenzenden Arbeitsbeispiele erläutert. In den folgenden Beispielen ist -%- als -Gew.%- ausgedrückt, es sei denn, es ist anders angegeben.

Beispiele 1 bis 3 und Vergleichsbeispiele 1 bis 3

Die folgende Beschichtungsflüssigkeit wurde auf die Oberfläche einer Aluminiumplatte mit 0,24 mm Dicke aufgebracht, die zuvor gekörnt und anschließend anodisch oxidiert wurde, und die resultierende Schicht wurde bei 100ºC zwei Minuten getrocknet.
Veresterungsreaktionsprodukt von Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-5-sulfonylchlorid und Cresolnovolakharz 0,75 g
Cresolnovolakharz 2,10 g
Tetrahydrophthalsäureanhydrid 0,15 g
Radikalbildner (siehe Tabelle 1) 0,03 g
Kristallviolett 0,01 g
Ölblau #603 (hergestellt und verkauft von ORIENT CHEMICAL INDUSTRIES LTD.) 0,01 g
Ethylendichlorid 18 g
2-Methoxyethylacetat 12 g
Die Beschichtungsmenge der Flüssigkeit nach der Trocknung betrug 2,1 g/m². Diese so hergestellten PS-Platten wurden durch eine positive Transparenz mit einer Metallhalogenidlampe (2KW) belichtet, die in 1 m Entfernung von dieser angeordnet war. In diesem Zusammenhang wurde eine geeignete Belichtungszeit solchermaßen ausgesucht, daß Stufe 5 einer Grauskala mit einem optischen Dichteunterschied von 0,15 vollständig klar wurde.
Die optischen Schichten der belichteten und nicht belichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht wurden mit dem Macbeth-Reflexionsdichtemesser bestimmt.
Je größer der Unterschied (AD) zwischen den optischen Dichten der belichteten und nicht belichteten Bereiche ist, desto klarer sind die Bilder nach der Belichtung.
Des weiteren wurden die PS-Platten unter den gleichen Bedingungen wie zuvor erwähnt belichtet, gefolgt von einem Eintauchen in eine 4%ige wässerige Lösung aus Natriummetasilicat bei 25ºC eine Minute und Wasserwaschen, und anschließend wurde die oben definierte geeignete Belichtungszeit ermittelt (je kürzer die Belichtungszeit, desto höher ist deren Sensibilität).
Zusätzlich wurden die PS-Platten durch eine positive Transparenz unter den gleichen Bedingungen wie zuvor erwähnt belichtet, gefolgt von einem Abwaschen derselben mit einem Schwamm, welcher eine 4%ige wässerige Lösung aus Natriummetasilicat enthielt, um die Entwicklung durchzuführen, und die Nichtbildflächen wurden überprüft, ob dort eine ungleichmäßige Entwicklung festgestellt werden konnte (aufgrund der Entwicklung durch das Handlabor). Die erzielten Resultate sind in der nachfolgenden Tabelle 1 zusammengefaßt.
In Tabelle 1 ist die ungleichmäßige Entwicklung aufgrund der Entwicklung durch das Handlabor gemäß der folgenden dreistufigen Bewertung bestimmt.
(-) ungleichmäßige Entwicklung wurde nicht beobachtet;
(+) ungleichmäßige Entwicklung wurde bis zu einem gewissen Maße beobachtet;
(++) ungleichmäßige Entwicklung wurde in einem größeren Maße beobachtet.
Die durch die Ideogramme (-) und (+) versehenen Zusammensetzungen sind in der Praxis akzeptierbar. Tabelle 1 Beispiel Nr. Radikalbildner Ungleichmäßige Entwicklung Geeignete Belichtungszeit Verbindung Tabelle II (fortgesetzt) Optische Dichte der lichtempfindlichen Schicht Beispiel Nr. Nicht belichteter Bereich Belichteter Bereich *: Vergleichsbeispiel
Die Verbindung (a) ist die Verbindung Nr. 7 beschrieben in Tabelle I der J.P. KOKAI Nr. 54-74728 und weist die folgende Formel auf:
Die Verbindung (b) ist eine in dem U.S. Patent Nr. 3,954,475 beschriebene und weist die folgende Formel auf:
Wie den in der Tabelle I angeführten Resultaten entnommen werden kann, ist es deutlich, daß die erfindungsgemäße Zusammensetzung eine klare Ausdruckeigenschaft aufweist, eine hohe Sensibilität beibehält und keine ungleichmäßige Entwicklung bewirkt, wenn sie entwickelt wird.
Werden des weiteren die PS-Platten gemäß der gleichen Verfahren wie zuvor belichtet, gefolgt von einem Waschen mit Wasser und Beschichten mit einem schützenden Gummi umfassend ein hydrophobes Kolloid und anschließend auf eine Druckmaschine aufgesetzt, um ein Drucken auszuführen, wurden klare gedruckte Bilder mit keiner Hintergrundverunreinigung in bezug auf alle Proben der Beispiele 1 bis 3 erzielt.

Beispiele 4 und Vergleichsbeispiele 4 bis 5

Die folgende Beschichtungsflüssigkeit wurde auf die Oberfläche eines Substrats aufgebracht, welches gemäß der gleichen Verfahren wie denen in den Beispielen 1 bis 3 hergestellt wurde, und die beschichtete Schicht wurde bei 100ºC zwei Minuten getrocknet. Die Beschichtungsmenge dieser nach dem Trocknen betrug 1,5 g/m².
Copolymer (a) 0,31 g
Cresol-formaldehydnovolakharz 1,0 g
Radikalbildner (Tabelle II) 0,05 g
Ölblau #603 (hergestellt und verkauft von ORIENT CHEMICAL INDUSTRIES LTD.) 0,01 g
Ethylendichlorid 10 g
Methylcollosiv 10 g
Copolymer (a):
Die resultierenden Produkte wurden den gleichen Belichtung- Entwicklungsbehandlungen wie in den Beispielen 1 bis 3 unterworfen, und die gleichen Messungen wurden durchgeführt. Die so erhaltenen Resultate werden in der folgenden Tabelle 2 zusammengefaßt. Tabelle 1 Probe Nr. Radikalbildner Ungleichmäßige Entwicklung Geeignete Belichtungszeit Verbindung Tabelle II (fortgesetzt) Optische Dichte der lichtempfindlichen Schicht Probe Nr. Nicht belichteter Bereich Belichteter Bereich *: Vergleichsbeispiel
Verbindung (c): 1,2-Naphthochinon-2-diazid-4-sulfonylchlorid
Wie aus den in Tabelle 2 zusammengefaßten Ergebnissen deutlich wird, stellt die lichtempfindliche Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung eine vorsensibilisierte Platte zur Verfügung, die keine ungleichmäßige Entwicklung aufgrund der Entwicklung des Handlabors aufweist und des weiteren eine sehr hohe Sensibilität besitzt.

Claims

1. Lichtempfindliche Zusammensetzung, die mindestens einen Radikalbildner, dargestellt durch die folgende allgemeine Formel (I) , und mindestens ein Entfärbungsmittel, welches mit den durch den photolytischen Abbau des Radikalbildners hervorgebrachten Produkten wechselwirkt, um den Farbton davon zu ändern, umfaßt:

worin R&sub1; und R&sub2; gleich oder voneinander verschieden sein können und Wasserstoffatom, eine substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe, eine substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe oder eine durch die folgende allgemeine Formel (II) oder (III) dargestellte Gruppe bedeuten:

(in der allgemeinen Formel (II) oder (III), bedeutet R&sub5; eine substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe, oder eine substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe; und R&sub6; und R&sub7; können gleich oder voneinander verschieden sein und Wasserstoffatom, eine substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe oder eine substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe bedeuten); oder R&sub1; und R&sub2; können eine heterocyclische Gruppe, die aus Nichtmetallatomen besteht, zusammen mit dem Stickstoffatom, an das sie gebunden sind, bilden; R&sub3; und R&sub4; bedeuten Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Alkylgruppe oder eine Alkoxygruppe; X und Y können gleich oder voneinander verschieden sein und bedeuten Chloratom oder Bromatom; und m und n sind eine ganze Zahl von 0,1 oder 2.

2. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1, worin die substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe in R&sub1; bis R&sub7; ein Bestandteil ist, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus denjenigen mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen, und die substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe davon ein Bestandteil ist, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus denjenigen mit 6 bis 14 Kohlenstoffatomen.

3. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 2, worin die Substituenten der substituierten Alkyl- und Arylgruppen in R&sub1;, R&sub2; und R&sub5; bis R&sub7; ausgewählt werden aus der Gruppe bestehend aus Arylgruppen, Halogenatomen, Alkoxygruppen, Carboxylgruppen, Carboalkoxygruppen, Carboaryloxygruppen, Cyanogruppe, Acylgruppen, Nitrogruppe, Dialkylaminogruppen, und von Sulfonyl abgeleiteten Gruppen, die durch die folgenden allgemeinen Formeln dargestellt sind: -SO&sub2;-Z, -SO&sub2;-O-Z und -SO&sub2;-NH-Z (worin Z Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe bedeutet), und Alkylgruppen, vorausgesetzt, daß R&sub1;&sub1; R&sub2; oder R&sub5; bis R&sub7; eine substituierte Arylgruppe ist.

4. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 3, worin die Substituenten der substituierten Alkyl- oder Arylgruppe in R&sub1; und R&sub2; ausgewählt werden aus der Gruppe bestehend aus Halogenatomen, Carboxylgruppe, Carboalkoxygruppen, Cyanogruppe, Acylgruppen und den von Sulfonyl abgeleiteten Gruppen, und die Substituenten der substituierten Alkyl- oder Arylgruppe in R&sub5; ausgewählt werden aus der Gruppe bestehend aus Dialkylaminogruppen und Alkoxygruppen.

5. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1, worin die heterocyclische Gruppe, die aus R&sub1; und R&sub2; zusammen mit dem Stickstoffatom, an das sie gebunden sind, gebildet ist, eine Gruppe ist, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus denjenigen, die durch die folgenden Formeln: (D) bis (H) dargestellt sind.

6. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1, worin die Menge der durch die allgemeine Formel (I) dargestellten Verbindung im Bereich von 0,01 bis 100 Gew.-Teile pro 1 Gew.-Teil des Entfärbungsmittels liegt.

7. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 6, worin das Entfärbungsmittel ein Arylamin, ein Leukofarbstoff, ein Diphenylmethanfarbstoff, ein Triphenylmethanfarbstoff, ein Thiazinfarbstoff, ein Oxazinfarbstoff, ein Xanthenfarbstoff, ein Anthrachinonfarbstoff, ein Iminonaphthochinonfarbstoff, ein Azomethinfarbstoff oder ein Azofarbstoff ist.

8. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 7, worin das Entfärbungsmittel ein Leukofarbstoff ist und die Zusammensetzung einen Stabilisator enthält, der verhindert, daß der Leukofarbstoff oxidiert wird.

9. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 7, worin die substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe in R&sub1; bis R&sub7; ein Bestandteil ist, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus denjenigen mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen, und die substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe davon ein Bestandteil ist, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus denjenigen mit 6 bis 14 Kohlenstoffatomen, und die heterocyclische Gruppe, die aus R&sub1; und R&sub2; zusammen mit dem Stickstoffatom, an das sie gebunden sind, gebildet ist, eine Gruppe ist, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus denjenigen, die durch die folgenden Formeln (D) bis (H) dargestellt sind:

10. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1, worin die lichtempfindliche Zusammensetzung eine positive lichtempfindliche Komponente umfaßt.

11. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 10, worin die positive lichtempfindliche Komponente eine Zusammensetzung ist, die eine o-Chinondiazid-Verbindung umfaßt.

12. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 11, worin die o-Chinondiazid-Verbindung eine o-Naphthochinondiazid-Verbindung ist.

13. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 12, worin die Menge der durch die allgemeine Formel (I) dargestellten Verbindung etwa 0,1 bis etwa 10 Gew.- Teile beträgt, die des Entfärbungsmittels etwa 0,1

bis etwa 10 Gew.Teile beträgt und die der o-Naphthochinondiazid-Verbindung etwa 10 bis 50 Gew.- Teile beträgt, bezogen auf 100 Gew.-Teile der Gesamtmenge der Zusammensetzung.

14. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 11, worin die o-Chinondiazid-Verbindung in Kombination mit einem alkalilöslichen Harz verwendet wird.

15. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 14, worin die Menge des alkalilöslichen Harzes im Bereich von etwa 50 bis etwa 85 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der o-Chinondiazid-Verbindung und des alkalilöslichen Harzes, liegt.

16. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 15, worin die Menge des alkalilöslichen Harzes im Bereich von 60 bis 80 Gew.-% liegt.

17. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 10, worin die positive lichtempfindliche Komponente eine Zusammensetzung ist, die eine Verbindung, welche in der Lage ist, eine Säure durch die Wirkung von Licht zu erzeugen, und eine Verbindung mit mindestens einer Bindung, die durch die Säure gespalten werden kann, umfaßt.

18. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 17, worin das Verhältnis der Verbindung, die in der Lage ist, eine Säure zu erzeugen, zu der Verbindung mit mindestens einer Bindung, die durch die Säure gespalten werden kann, im Bereich von 0,01 : 1 bis 2 : 1 liegt.

19. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 18, worin das Verhältnis im Bereich von 0,2 : 1 bis 1 : 1 liegt.

20. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 17, worin die positive lichtempfindliche Komponente in Kombination mit einem alkalilöslichen Harz verwendet wird.