DE3236143C2 - - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 claims description 8
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 claims description 6
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 claims description 5
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 3
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 claims description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 claims description 2
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 claims description 2
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 claims description 2
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 claims description 2
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical group C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 claims 1
- ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(C)COCC(C)OC(=O)C=C ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 claims 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 claims 1
- 229920002153 Hydroxypropyl cellulose Polymers 0.000 claims 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 claims 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 claims 1
- 239000001863 hydroxypropyl cellulose Substances 0.000 claims 1
- 235000010977 hydroxypropyl cellulose Nutrition 0.000 claims 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims 1
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 claims 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 claims 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 claims 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 claims 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 5
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 4
- -1 sulfuric acid ester Chemical class 0.000 description 4
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N dichromate(2-) Chemical group [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 239000003906 humectant Substances 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 239000000984 vat dye Substances 0.000 description 2
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRNDGUSDBCARGC-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyacetophenone Chemical compound COCC(=O)C1=CC=CC=C1 YRNDGUSDBCARGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical class [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 1
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical group 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- DQYBDCGIPTYXML-UHFFFAOYSA-N ethoxyethane;hydrate Chemical compound O.CCOCC DQYBDCGIPTYXML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 150000002314 glycerols Chemical class 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical class [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003112 high viscosity grade hydroxypropyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 1
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006855 networking Effects 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000002165 photosensitisation Effects 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 125000005498 phthalate group Chemical class 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229940113115 polyethylene glycol 200 Drugs 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N thioindigo Chemical compound S\1C2=CC=CC=C2C(=O)C/1=C1/C(=O)C2=CC=CC=C2S1 JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Description
Beim Siebdruck unterscheidet man zwei hauptsächlich angewandte
Systeme photoempfindlicher Schablonen. Das eine
ist die sogenannte indirekte Methode. Dazu wird ein
transparentes Trägermaterial aus einem Kunststoff, üblicherweise
aus einem Polyester, mit einer photoempfindlichen
Masse beschichtet. Dieser beschichtete Träger
wird dann mit aktinischem Licht durch ein Diapositiv
belichtet, wonach - abhängig von dem Photopolymerisationssystem -
das erhaltene Bild mit Wasser entwickelt werden
kann, oder der beschichtete Träger wird mit einer
Per-Verbindung aktiviert und dann mit Wasser entwickelt.
Das feuchte Bild auf der Trägerbahn wird dann auf das
Sieb unter leichtem Druck übertragen und nach dem Trocknen
die Trägerbahn abgenommen, so daß auf dem Sieb das
druckfähige photopolymerisierte Bild zurückbleibt.
Für die sogenannte direkte Methode wird eine Schablone
auf dem Sieb durch Photosensibilisieren eines wasserlöslichen
vernetzbaren Kolloids gebildet, wobei die
Vernetzung mit einem Photovernetzer stattfindet, bei
dem es sich um ein Dichromat oder ein polymeres Diazoniumsalz
handeln kann. Eine in dieser Weise sensibilisierte
Schicht auf dem Sieb wird dann getrocknet und
mit aktinischem Licht durch ein Diapositiv zur Bildung
eines latenten Bildes belichtet. Bei Entwicklung des
Bildes mit Wasser bleiben die Bildbereiche stehen, da
sie wasserunlöslich geworden sind, während die bildfreien
Bereiche ihre Wasserlöslichkeit beibehalten und nun
mit Wasser ausgewaschen werden können, wodurch man nach
dem Trocknen ein druckfähiges Bild erhält.
Beide Methoden zur Herstellung von Schablonenbildern
auf Sieben haben schwerwiegende Nachteile. Bei der ersten
Methode, bei der das System auf einem Photoinitiator
in Form eines Eisen-(III)-Salzes beruht, ist eine
Behandlung mit einer Per-Verbindung, wie Wasserstoffperoxid,
erforderlich, um freie Radikale freizusetzen und
damit die Photopolymerisation der Monomeren für das Unlöslichmachen
der Schicht in Gang zu setzen. Nach dieser
Aktivierung erfolgt die Entwicklung mit normalem Wasser
zu dem Bild.
Die andere Methode beruht auf einem Leuko-Schwefelsäureester
eines Indigo- oder Thioindigo-Farbstoffes als
Photoinitiator, welcher die Anwesenheit von Feuchtigkeit
erforderlich macht, um aktiv zu bleiben. Dazu benötigt
man relativ große Mengen an Feuchthaltemitteln in der
Masse, damit dieses Material auch korrekt in trockenwarmen
Klimata funktionieren kann. Diese Feuchthaltemittel
führen in Bereichen hoher Feuchtigkeit zu Problemen
und bewirken eine Netzstruktur auf dem Film, wenn er
aus seinem verschlossenen Behälter genommen wird. Ihre
Anwesenheit verringert auch die mechanische Festigkeit
des Träger-Kolloids (üblicherweise Polyvinylalkohol)
gleichbedeutend mit einer geringeren Druckzeit, die die
fertige Schablone ermöglicht.
Nachteilig bei dem direkten System ist, daß es üblicherweise
als Zweifach-Packung vorliegt, wozu man sowohl
einen Sensibilisator als auch eine Grundemulsion benötigt,
welche nach Sensibilisierung eine entsprechende
Topfzeit in der Größenordnung von Tagen besitzt, wenn
der Sensibilisator ein Dichromat ist, oder maximal zwei
Monate, wenn der Sensibilisator ein polymeres Diazosalz
ist.
Ein weiterer Nachteil dieser Methoden für die Herstellung
von Schablonenbildern auf einem Sieb liegt darin,
daß nach Belichtung ein sehr geringer Kontrast zwischen
Bildbereichen und bildfreien Bereichen besteht, so daß
keine zufriedenstellende Möglichkeit zur Überprüfung
des Bildes vor der Entwicklung besteht. Das bedeutet,
daß bei fehlerhafter Arbeit oder bei nicht exakter Auflage
des Positivs Fehler unbemerkt bleiben.
Aus der DE-PS 23 02 820 ist eine photopolymerisierbare
Masse zur Herstellung eines Aufzeichnungsmaterial oder
von Druckplatten bzw. eines Photoresists für gedruckte
Schaltungen sowie zur Herstellung von Farbbildern und
Thermokopien bekannt. Bei all diesen Anwendungsgebieten
geht es einzig und allein um die Verbesserung der photographischen
Empfindlichkeit und der Verbreiterung der
spektralen Empfindlichkeit. Bei dem bekannten System ist
ein hydrophiles Kolloid dispergiert, und die flüssige
Phase enthält kein Lösungsmittel für das Monomere, den
Photoinitiator und den Beschleuniger. Schließlich ergibt
sich aus diesem Stand der Technik auch eine Masse zur Herstellung
von Tiefdruckformen, enthaltend Gelatine, Wasser
und Ethylenglykolmonoethylether. Es zeigte sich jedoch,
daß die dort beschriebene Tiefdruck-Masse für den erfindungsgemäß
angestrebten Zweck nicht geeignet ist.
Aufgabe der Erfindung ist nun die Verwendung einer speziellen
wäßrigen photopolymerisierbaren Masse zur Herstellung
einer Schablone für das direkte Siebdrucken, die die oben
für diesen Zweck bekannten Massen aufweisenden Nachteile
nicht besitzt, sondern einen guten Kontrast zwischen Bildbereichen
und bildfreien Bereichen bei gleichzeitig in
der Praxis akzeptabler Verarbeitungszeit ergibt.
Diese Aufgabe wird durch Anwendung der im Hauptanspruch
angegebenen Masse gelöst. In den Unteransprüchen sind
bevorzugte Ausgestaltungsformen dieser Masse angegeben.
Bei einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung
ist der Überzug in solcher Weise gefärbt, daß nach der
Belichtung leicht visuell ein Farbunterschied zwischen
Bildbereichen und bildfreien Bereichen festgestellt
werden kann. Die Bildung eines sichtbaren und kontrastreichen
latenten Bildes unmittelbar nach Belichtung mit
aktinischem Licht gestattet bei der Belichtung einer
Anzahl von Sieb-Schablonen in etwa der gleichen Zeit dem,
der die Schablone macht, festzustellen, ob ein bestimmtes
Sieb belichtet ist oder nicht. Wenn er beispielsweise
unterbrochen wird oder wenn eine einzige
sehr große Sieb-Schablone mehrere Male belichtet wird
- beispielsweise in dem sogenannten "step and repeat
process" für die Herstellung von Siebdruck-Schablonen -,
kann das Personal unmittelbar feststellen, welche
Bereiche belichtet sind. Auch wenn mehrere Belichtungen
erforderlich sind, so kann das sichtbare Bild aus
der ersten Belichtung eine Anleitung für die Justierung
der folgenden Belichtungen bieten.
Eine photoempfindliche Emulsion, die nach irgendeiner
oben erwähnten Methode auf ein Sieb aufgebracht ist
und bei Belichtung ein sichtbares Bild zu liefern vermag
vor folgender Entwicklung oder Behandlung, hat
den Vorteil, Siebe aufzuzeigen, die unbeabsichtigt belichtet
worden sind (verschleiert durch natürliches
oder künstliches Streulicht).
Die erfindungsgemäß verwendete Masse kann auch noch
Pigmente oder Farbstoffe und inerte Füllstoffe enthalten;
auch kann ein Weichmacher zur Unterstützung der
Flexibilität und oberflächenaktive Substanzen zur Verbesserung
der Stabilität und der Benetzung enthalten
sein.
Die Monomeren können einzeln oder im Gemisch zur Anwendung
gelangen und die Mischung kann hinsichtlich der
Zusammensetzung der mono-, di- und trifunktionellen
Verbindungen entsprechend manipuliert werden, um die
gewünschten Eigenschaften - Empfindlichkeit, Flexibilität,
Haltbarkeit - des Überzugs einzustellen. Die Mengen
an Monomeren in der erfindungsgemäß verwendeten
Masse liegen zwischen 5 und 40 Gew.-% und betragen bevorzugt
8 bis 30 Gew.-%.
Der Photoinitiator dient zur Erreichung einer entsprechenden
Geschwindigkeit der Photopolymerisation. Er
liegt in der Masse in einer Konzentration
von 0,5 bis 8 Gew.-% vor; mit 1 bis 3 Gew.-% erreicht
man besonders zufriedenstellende Ergebnisse. Die bevorzugten
Photoinitiatoren sind solche mit einer Absorptionsbande
<325 nm und umfassen Derivate von Thioxanthon,
substituierte Benzophenone und 1,1-Methoxyacetophenon.
Prinzipiell kann man einen beliebigen wasserunlöslichen
Initiator anwenden, der in dem organischen
Lösungsmittel löslich ist und bei Belichtung mit
aktinischem Licht entsprechender Wellenlänge freie Radikale
zu bilden vermag.
Das Lösungsmittel für das Monomere und den Photoinitiator
kann beispielsweise N-Methyl-pyrrolidon, Dimethylsulfoxid,
Dimethylformamid, Ethanol oder Ethylenglykolmonomethylether
sein. Das Lösungsmittel macht 25 bis 65 Gew.-%,
vorzugsweise 35 bis 55 Gew.-%, der Masse aus.
Geeignete Beschleuniger oder sekundäre Initiatoren sind
organische Verbindungen, enthaltend zumindest ein tertiäres
Stickstoffatom, d. h. eine tertiäre Aminogruppe,
in der alle drei Substituenten des Stickstoffs bevorzugt
aliphatische Gruppen sind. Besonders bevorzugt werden
Beschleuniger, die zusätzlich zu der tertiären Aminogruppe
auch zumindest eine Alkanol-Funktion oder zumindest
eine Gruppe mit endständiger Doppelbindung enthalten,
die bevorzugt Teil einer Ester- oder Amidfunktion
ist. Verbindungen der ersten Art umfassen Methyl-diethanolamin
und der zweiten Art "Uvecryl P101", d. h. eine
endständig ethylenisch ungesättigte Verbindung mit mindestens
einer tertiären Aminogruppe pro Molekül. Solche Beschleuniger
sind in der erfindungsgemäßen Masse in Anteilen von 0,1 bis
8, vorzugsweise 1 bis 5 Gew.-%, vorhanden.
Die wasserlöslichen Kolloide werden in Gegenwart von Licht
durch die Photoinitiatoren nicht unlöslich gemacht.
Der Anteil des Kolloides beträgt in der erfindungsgemäß verwendeten
Masse 2 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise 4 bis 7 Gew.-%,
wobei der Wassergehalt 1 bis 40, vorzugsweise 15 bis 35%,
beträgt (alle Prozentangaben beziehen sich auf das Gesamtgewicht
der Masse).
Die bevorzugten - gegebenenfalls angewandten - Weichmacher
sind Phthalate oder Glykol- oder Glycerinester.
Prinzipiell kann jeder mit dem System verträglicher
Weichmacher angewandt werden. Sein Anteil liegt im allgemeinen
<1 Gew.-%.
Bevorzugte Füllstoffe sind Stärke, Kaolin, Polytetrafluorethylen-
Pulver, Titandioxid, Kieselsäure und Silicate,
die man zur Erhöhung des Gesamt-Feststoffgehaltes
der Masse, zur Verhinderung der Oberflächen-Klebrigkeit
und in manchen Fällen zur Begünstigung eines Gleitens
anwendet. Die Mengenanteile sind normalerweise gering,
z. B. nicht mehr als 8%, vorzugsweise 1 bis 5 Gew.-%,
bezogen auf die ganze Masse.
Die photoempfindliche Masse kann auch Farbstoffe oder
Pigmente enthalten, um das fertige Bild sichtbar zu
machen. Die anfängliche Beschichtung kann gefärbt werden,
um sichtbare Bilder zu ergeben, oder man behandelt
die photopolymerisierte Schicht mit einer Farblösung
nach dem Entwickeln. In dieser Hinsicht wird besonders
bevorzugt, in die erfindungsgemäß verwendete Masse einen thioindigoiden
oder indigoiden Farbstoff einzubringen, z. B. aus
der Reihe der Anthrasole. Diese Farbstoffe haben oben
erwähnte wertvolle Eigenschaften in Gegenwart des freie
Radikale bildenden Photoinitiators und eines wasserlöslichen
Weichmachers für das wasserlösliche Kolloid. Sie
ändern die Farbe bei Belichtung mit aktinischem Licht
und ergeben so einen klar sichtbaren Kontrast zwischen
belichteten und unbelichteten Bereichen. Solche Farbstoffe
haben den weiteren Vorteil, daß sie als zusätzliche
Photoinitiatoren wirken, vorausgesetzt, daß zumindest
die getrocknete Masse ausreichend Feuchtigkeit enthält.
Um die Stabilität der erfindungsgemäß verwendeten Masse zu verbessern,
kann man ein oberflächenaktives Mittel, z. B.
ein nicht-ionogenes oberflächenaktives Mittel, insbesondere
ein polyoxyethyleniertes Alkylphenol, anwenden.
Bei der Anwendung der Masse wird diese
auf ein entsprechendes Trägermaterial, z. B. ein
Drucksieb oder einen biegsamen transparenten Filmträger
aufgetragen und getrocknet. Der getrocknete Überzug
wird aktinischem Licht ausgesetzt, wodurch sich das
gewünschte Bild bildet, z. B. erfolgt die Belichtung
durch ein Dia. Die aktinische Strahlung kann natürliches
Licht oder künstliches Licht einer Kohlebogenlampe,
Xenonbogenlampe, Quecksilberdampflampe hoher Intensität
oder Wolframfadenlampe sein. Nach Belichtung wird
das Bild entwickelt, z. B. durch Auflösen der nicht belichteten
Bereiche mit Hilfe von Wasser. Das bei der
Photopolymerisation der erfindungsgemäß verwendeten Masse gebildete
Bild eignet sich nun zur Herstellung einer Schablone
für den direkten Siebdruck.
Die Erfindung wird an folgenden Beispielen weiter erläutert:
Diese Emulsion wurde aufgetragen auf ein 72-TW-Sieb,
und zwar dreifacher Überzug auf jeder Seite des Siebes.
Nach dem Trocknen wurde über einen Positivfilm mit einer
800-W-Quecksilberhalogenid-Lampe in einem Abstand
von 1 m während 300 s belichtet.
Nach dem Auswaschen mit kaltem Wasser erhielt man ein
Reliefbild.
Hochviskose Hydroxypropylcellulose|2,0 g | |
Ethylenglykol-monoethylether | 83,0 g |
15%-ige wäßrige Polyvinylalkohol-Lösung | 71,0 g |
Methylen-bis-acrylamid | 6,0 g |
Polyethylenglykol-200-diacrylat | 13,5 g |
Trimethylol-propan-triacrylat | 4,5 g |
Dimethylformamid | 40,0 g |
Benzildimethylketal | 4,0 g |
amorphe abgerauchte Kieselsäure | 7,0 g |
N-Methyl-diethanolamin | 6,0 g |
Küpenfarbstoff mit der C-I.-Nummer 73 671 (Anthrasol Grey IBL, Hersteller Farbwerke Hoechst AG) | 2,0 g |
Die Emulsion obiger Zusammensetzung wurde auf ein orangebraunes
Sieb aus 40 µm dicken Polyesterfäden mit einer
Feinheit von 110 Fäden pro cm aufgetragen und zwar in Form
von drei Überzügen auf jeder Seite. Nach dem Trocknen wurde
über ein Diapositiv mit Hilfe einer 800-W-Quecksilberhalogenidlampe
in einem Abstand von 1 m während 210 s belichtet.
Das latente Bild erschien farblos gegen den graugrünen Untergrund.
Nach Auswaschen mit Wasser erhielt man ein Reliefbild.
Die Emulsion des Beispiels 1 wurde verwendet, jedoch
wurde anstelle der hydrophilen Zubereitung des chlorierten
Kupferphthalocyanins mit der C.I.-Nummer 74 260
ein Küpenfarbstoff mit der C.I.-Nummer 73 661 (Anthrasol
Blue Black IRD, Hersteller Farbwerke Hoechst AG) in einer
Menge von 1 g angewandt. Nach Auftrag, Trocknen und Belichten
entsprechend Beispiel 1 erhielt man ein gelblich
gefärbtes latentes Bild auf einem grauschwarzen
Hintergrund. Nach dem Waschen mit kaltem Wasser war das
Reliefbild fertig.
Claims (6)
1. Verwendung einer wäßrigen photopolymerisierbaren Masse
aus 5 bis 40 Gew.-% N-Vinylpyrrolidon, Acrylamid, Triethylenglykoldiacrylat,
Tetraethylenglykol-diacrylat, Polyethylenglykol-
200-diacrylat, Methylen-bis-acrylamid, Tripropylenglykol-
diacrylat, Trimethylolpropan-triacrylat oder Pentaerythrittriacrylat,
0,5 bis 8 Gew.-% eines wasserunlöslichen
Photoinitiators, 0,1 bis 8 Gew.-% einer organischen Verbindung
mit einer tertiären Aminogruppe als Beschleuniger und 2 bis
10 Gew.-% eines wasserlöslichen Kolloids von Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon,
Hydroxyethylcellulose, Hydroxypropylcellulose
und/oder Gelatine in einem flüssigen Medium aus 1 bis 40 Gew.-%
Wasser und 25 bis 65 Gew.-% mit Wasser mischbarem organischem Lösungsmittel
oder -gemisch, welches das Monomere, den Photoinitiator und
den Beschleuniger zu lösen vermag, jedoch nicht zu einer
Ausfällung des Kolloids führt, zur Herstellung einer Schablone
für das direkte Siebdrucken, wobei die Masse auf das Sieb
aufgetragen, mit aktinischem Licht belichtet und entwickelt
wird.
2. Verwendung einer Masse nach Anspruch 1, in der
das wasserlösliche organische Lösungsmittel N-Methylpyrrolidon,
Dimethylsulfoxid, Dimethylformamid, Ethanol und/oder Ethylenglykol-
monomethylether ist.
3. Verwendung der Masse nach Anspruch 1 oder 2, in der der
Beschleuniger ein ungesättigtes Monomer mit endständiger
Doppelbindung und zumindest einer tertiären Aminogruppe oder
eine Verbindung enthaltend eine tertiäre Aminogruppe und zumindest
eine aliphatische Alkohol-Funktion ist.
4. Verwendung der Masse nach Anspruch 1 bis 3, enthaltend
zusätzlich ein oberflächenaktives Mittel.
5. Verwendung der Masse nach Anspruch 4, in der das oberflächenaktive
Mittel ein polyoxyethyliertes Alkylphenol
ist.
6. Verwendung der Masse nach Anspruch 1 bis 5, enthaltend
zusätzlich einen thioindigoiden oder indigoiden Farbstoff.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB08133095A GB2108986B (en) | 1981-11-03 | 1981-11-03 | Photopolymerisable composition for producing screen printing stencils |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3236143A1 DE3236143A1 (de) | 1983-05-11 |
DE3236143C2 true DE3236143C2 (de) | 1991-04-25 |
Family
ID=10525594
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19823236143 Granted DE3236143A1 (de) | 1981-11-03 | 1982-09-29 | Photopolymerisierbare masse zur herstellung von siebdruck-schablonen |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4499176A (de) |
BE (1) | BE894685A (de) |
CA (1) | CA1207479A (de) |
CH (1) | CH655121A5 (de) |
DE (1) | DE3236143A1 (de) |
FR (1) | FR2515834B1 (de) |
GB (1) | GB2108986B (de) |
IT (1) | IT1219975B (de) |
NL (1) | NL8203801A (de) |
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- 1982-09-29 DE DE19823236143 patent/DE3236143A1/de active Granted
- 1982-09-30 NL NL8203801A patent/NL8203801A/nl not_active Application Discontinuation
- 1982-09-30 IT IT23543/82A patent/IT1219975B/it active
- 1982-10-05 CH CH5844/82A patent/CH655121A5/de not_active IP Right Cessation
- 1982-10-06 CA CA000412900A patent/CA1207479A/en not_active Expired
- 1982-10-12 BE BE0/209228A patent/BE894685A/fr not_active IP Right Cessation
- 1982-10-13 FR FR8217131A patent/FR2515834B1/fr not_active Expired
Also Published As
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IT8223543A0 (it) | 1982-09-30 |
NL8203801A (nl) | 1983-06-01 |
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FR2515834A1 (fr) | 1983-05-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |