DE3236143A1 - Photopolymerisierbare masse zur herstellung von siebdruck-schablonen - Google Patents
Photopolymerisierbare masse zur herstellung von siebdruck-schablonenInfo
- Publication number
- DE3236143A1 DE3236143A1 DE19823236143 DE3236143A DE3236143A1 DE 3236143 A1 DE3236143 A1 DE 3236143A1 DE 19823236143 DE19823236143 DE 19823236143 DE 3236143 A DE3236143 A DE 3236143A DE 3236143 A1 DE3236143 A1 DE 3236143A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- composition according
- photopolymerizable composition
- water
- photoinitiator
- colloid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 title claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 29
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 6
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 6
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 claims description 6
- -1 alkyl phenol Chemical compound 0.000 claims description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 5
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 4
- 229940113115 polyethylene glycol 200 Drugs 0.000 claims description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 claims description 2
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 claims description 2
- 229920002153 Hydroxypropyl cellulose Polymers 0.000 claims description 2
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 claims description 2
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 claims description 2
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 claims description 2
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 claims description 2
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000001863 hydroxypropyl cellulose Substances 0.000 claims description 2
- 235000010977 hydroxypropyl cellulose Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 2
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 claims description 2
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 claims description 2
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 claims description 2
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 claims description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical group C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 claims 1
- ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(C)COCC(C)OC(=O)C=C ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 6
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 6
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- GUYIZQZWDFCUTA-UHFFFAOYSA-N (pentadecachlorophthalocyaninato(2-))-copper Chemical compound [Cu+2].N1=C([N-]2)C3=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C3C2=NC(C2=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C22)=NC2=NC(C2=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C22)=NC2=NC2=C(C(Cl)=C(C(Cl)=C3)Cl)C3=C1[N-]2 GUYIZQZWDFCUTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 2
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 2
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 2
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 2
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 2
- 229940096522 trimethylolpropane triacrylate Drugs 0.000 description 2
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRNDGUSDBCARGC-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyacetophenone Chemical compound COCC(=O)C1=CC=CC=C1 YRNDGUSDBCARGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical class OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N dichromate(2-) Chemical group [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001760 dimethyl sulfoxide Drugs 0.000 description 1
- 210000005069 ears Anatomy 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000012949 free radical photoinitiator Substances 0.000 description 1
- 229920003112 high viscosity grade hydroxypropyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000003906 humectant Substances 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 1
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- 230000006855 networking Effects 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 208000017983 photosensitivity disease Diseases 0.000 description 1
- 231100000434 photosensitization Toxicity 0.000 description 1
- 125000005498 phthalate group Chemical class 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N thioindigo Chemical compound S\1C2=CC=CC=C2C(=O)C/1=C1/C(=O)C2=CC=CC=C2S1 JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/12—Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/106—Binder containing
- Y10S430/11—Vinyl alcohol polymer or derivative
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/106—Binder containing
- Y10S430/112—Cellulosic
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/12—Nitrogen compound containing
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
Beschreibung
Photopolymerisierbare Masse zur Herstellung von Siebdruck-Schablonen
Die Erfindung betrifft eine wässrige Masse, die sich zur Herstellung von Schablonen für den Siebdruck eignet.
Beim Siebdruck unterscheidet man zwei hauptsächlich angewandte Systeme photoempfindlicher Schablonen. Das eine
ist die sogenannte indirekte Methode. Dazu wird ein transparentes Trägermaterial aus einem Kunststoff, üblicherweise
aus einem Polyester, mit einer photoempfindlichen Masse beschichtet. Dieser beschichtete Träger
wird dann mit aktinischem Licht durch ein Diapositiv
belichtet, wonach - abhängig von dem Photopolymerisationssystem - das erhaltene Bild mit Wasser entwickelt werden
kann oder der beschichtete Träger wird mit einer Per-Verbindung aktiviert und dann mit Wasser entwickelt.
Das feuchte Bild auf der Trägerbahn wird dann auf das Sieb unter leichtem Druck übertragen und nach dem Trocknen
die Trägerbahn abgenommen, so daß auf dem Sieb das druckfähige photopolymerisierte Bild zurückbleibt.
Für die sogenannte direkte Methode wird eine Schablone
auf dem Sieb durch Photosensibilisieren eines wasserlöslichen vernetzbaren Kolloids gebildet, wobei die
lA-56 5ΛΛ
Vernetzung mit einem Photovernetzer stattfindet, bei
dem es «ich um oin DJcliromat odor c; i η polymeren Ditizoniuinrials?.
handeln knnn. Eine In diener Woiwo n^naibillsierte
Schicht auf dem Sieb wird dann getrocknet und mit fjkt I ti ischam Licht durch ein Dl «positiv zur HiI dung
eines latenten Bildes belichtet, üei Entwicklung deB
Bildea mit Wasser bloiben die IiJ 1 dboreich« Blühen, da
sie wasserunlöslich geworden sind, während die bildfreien Bereiche ihre Wasserlöslichkeit beibehalten und nun
mit Wasser ausgewaschen werden können, wodurch man nach
dem Trocknen ein druckfähiges Bild erhält.
Beide Methoden zur Hernteilung von Schablonenbildern
auf SJrbwn höbon fiohworwlogoinJf Nmc.hte i ] ο . Bei der aril)
rtl, ρ π Methode, b« I dt?r iIhm fly η I. mn η μ Γ eiiimii ΙΊιπ Ι,οίιι I 1,1 η
tor in Form einen Hl sati- (11J )-Πα1 zns beruht, \n\. eine
Behandlung mit einer Por-Vorb I irdurig , wio WöBtioratof fperoxi
d , firforderl ich , um fr-idö Rrullknile f re I /,use I./,cn und
damit rilo Photopolymerisation dor Monomoren f'llr das Un-1ÜB1
ichmachen der Schicht in Gnnp, zu ßetzon. Nnch dlear'r
Aktivierung erfolgt die Entwicklung mit normalem Wasser zu dem BjId.
Die andere Methode beruht auf einem Leuko-Schwofel säureester
eines Indigo- oder Thi oind J go-Furba t. offen als
Photoinitiator, welcher die Anwesenheit von Fpuchtigkeii
erforderlich macht, um aktiv zu bleiben. Dazu benötigt
man rolativ große Mangen an Fciuchthal toiiil ttci n in der
Masse, damit dieses Material auch korrekt In tt-or.kenwarmen
Klimata funktionieren kann. Diese Feuclitha 1 temittel
führen in Horelchen hoher Feuchtigkeit zu I'roblfmen
und bewirkt pine Netzstruktur auf dem Film, w»nn er
aus FHiinem Verpnli I οηβρπθπ HbIiU I I. ργ· gprioinmofi wird, I hif
Anwesenheit verringert auch die mechanische Festigkeit des Träger-Kolloids (Üblicherweise Polyvinylalkohol)
— 3 -
BAD ORIGINAt
IJ b I 4 ό
lA-56 544 - Z1 -
. G-
gleichbedeutend mit einer geringeren Druckzeit, die die fertige Schablone ermöglicht.
Nachteilig bei dem direkten System ist, daß es üblicherweise
als Zweifach-Packung vorliegt, wozu man sowohl einen Sensibilisator als auch eine Grundemulsion benötigt,
welche nach Sensibilisierung eine entsprechende Topfzeit in der Größenordnung von Tagen besitzt, wenn
der Sensibilisator ein Dichromat ist oder maximal zwei Monate, wenn der Sensibilisator ein polymeres Diazosalz
ist.
Ein weiterer Nachteil dieser Methoden für die Herstellung von Schablonenbildern auf einem Sieb liegt darin,
daß nach Belichtung ein sehr geringer Kontrast zwischen Bildbereichen und bildfreien Bereichen besteht, so daß
keine zufriedenstellende Möglichkeit zur Überprüfung des Bildes vor der Entwicklung besteht. Das bedeutet,
daß bei fehlerhafter Arbeit oder bei nicht exakter Auflage des Positivs Fehler unbemerkt bleiben.
Aufgabe der Erfindung ist eine wässrige photopolymerisierbare
Masse enthaltend ein Monomer mit endständiger ethylenischer Doppelbindung, einen wasserunlöslichen
Photoinitiator, eine organische Verbindung mit einer tertiären Aminogruppe als Beschleuniger und ein wasserlösliches
Kolloid in einem flüssigen Medium in Form von Wasser und/oder einem mit Wasser mischbaren organischen
Lösungsmittel,in welchem sich Monomer Beschleuniger
und Photoinitiator auflösen und das Kolloid nicht ausgefällt wird.
Soll eine derartige Masse zur Herstellung indirekter Schablonen angewandt werden, besteht nicht der Nachteil
der Notwendigkeit eines Aktivierungsschrittes mit Hilfe
-A-
ORIGINAL
lA-56 544 - «Γ -
einer Lösung eines Peroxids oder einer äquivalenten Substanz oder die Notwendigkeit großer Mengen an Feuchthaltemitteln.
In Form der feuchten Emulsion ist eine Sensibilisierung durch eine eigene sensibilisierende
Verbindung nicht erforderlich, so daß die Vorteile der
einfachen und praktischen Einfach-Packung gegeben sind.
Bei einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung
ist der Überzug in solcher Weise gefärbt, daß nach der Belichtung leicht visuell ein Farbunterschied zwischen
Bildbereichen und bildfreien Bereichen festgestellt werden kann. Die Bildung eines sichtbaren und kontrastreichen
latenten Bildes unmittelbar nach Belichtung mit aktinischem Licht gestattet dem, der die Schablone
macht, bei der Belichtung einer Anzahl von Sieb-Schablo-
-.., „.herzustellen
nen in etwa der gleichen Zeit/, um zu wissen, ob ein bestimmtes
Sieb belichtet ist oder nicht. Wenn er beispielsweise unterbrochen wird oder wenn eine einzige
sehr große Sieb-Schablone mehrere Male belichtet wird, beispielsweise in dem sogenannten "step and repeat
process" für die Herstellung vonSiebdruck-Schablonen, so kann das Personal unmittelbar feststellen, welche
Bereiche belichtet sind. Auch wenn mehrere Belichtungen erforderlich sind, so kann das sichtbare Bild aus
der ersten Belichtung eine Anleitung für die Justierung der folgenden Belichtungen bieten.
Eine photoempfindliche Emulsion, die nach irgendeiner
oben erwähnten Methode auf ein Sieb aufgebracht ist und bei Belichtung ein sichtbares Bild zu liefern vermag,
vor folgender Entwicklung oder Behandlung, hat den Vorteil,Siebe aufzuzeigen, die unbeabsichtigt belichtet worden sind (verschleiert durch natürliches
oder künstliches Streulicht).
1A-56 544 -^-
In der erfindungsgemäßen Masse ist ein ungesättigtes
Monomer mit endständiger ethylenischer Doppelbindung oder ein Gemisch solcher Monomerer im einem Lösungsmittel
gelöst, welches den Photoinitiator und Beschleuniger zu lösen vermag und verträglich ist mit dem angewandten
wasserlöslichen Kolloid. Die Masse kann auch noch Pigmente oder Farbstoffe für ein sichtbares Bild
inerten Füllstoff, wie Stärke, Kaolin, Polytetrafluorethylen, Titandioxid oder Kieselsäure oder Silicate
enthalten, um den Feststoffgehalt zu erhöhen, eine Klebrigkeit
an der Oberfläche zu meiden und ein Gleiten zu begünstigen} weiter Weichmacher zur Unterstützung der
Flexibilität und oberflächenaktive Substanzen zur Verbesserung der Stabilität und der Benetzung.
Die ungesättigten Monomeren mit endständiger Doppelbindung können mono-, di- oder tri-funktionelle Verbindungen
wie Acrylsäureester, Acrylsäureamide oder Vinylamid sein. Die bevorzugten Monomeren sind N-Vinylpyrrolidon,
Acrylamid, Methylen-bis-acrylamid, Triethylenglykol-diacrylat,
Tetraethylenglykol—diacrylat, PoIyethylenglykol-200-diacrylat,
Trimethylol-propan-triacrylat
und Pentaerythrit-triacrylat. Es kann jedoch jedes beliebige ungesättigte Monomere mit endständiger
Doppelbindung, welche durch aktinisches Licht geeigneter Wellenlänge photopolymerisierbar ist, in Gegenwart
eines entsprechenden Photoinitiators angewandt werden, vorausgesetzt, daß es mit dem System kompatibel ist und
durch Photopolymerisation in ein zähes unlösliches Harz übergeht. Solche Monomere können einzeln oder im Gemisch
zur Anwendung gelangen und die Mischung kann hinsichtlich der Zusammensetzung der mono-, di- und trifunktionellen
Verbindungen entsprechend manipuliert werden, um die gewünschten Eigenschaften - Empfindlich-
ORlQiNAt
3236U3
lA-56 544
A-
keit, Flexibilität, Haltbarkeit - des Überzugs einzustellen. Die Mengen an Monomeren in der erfindungsgemäßen
Masse liegen normalerweise zwischen 5 und 40 Gew.-5 und betragen bevorzugt 8 bis 30 Gew.-%.
Der Photoinitiator dient zur Erreichung einer entsprechenden Geschwindigkeit der Photopolymerisation. Er
liegt in der Masse normalerweise in einer Konzentration von 0,5 bis 8 Gew.-% vor-mit 1 bis 3 Gew.-% erreicht
man besonders zufriedenstellende Ergebnisse. Die bevorzugten Photoinitatoren sind solche mit einer Absorptionsbande
y· 325 nm und umfassen Derivate von Thioxanthon,
substituierte Benzophenone und 1,1-Methoxyacetophenon.
Prinzipiell kann man einen beliebigen wasserunlöslichen Initiator anwenden, der in dem organi—
sehen Lösungsmittel löslich ist und bei Belichtung mit
aktinischem Licht entsprechender Wellenlänge freie Radikale zu bilden vermag.
Das Lösungsmittel für das Monomere und den Photoinitiator kann beispielsweise N-Methyl-pyrrolidon, Dimethylsulphoxid,
Dimethylformamid, Ethanol oder Ethylenglykolmonomethylether
sein. Das Lösungsmittel macht im allgemeinen 25 bis 65 Gew.-%, vorzugsweise 35 bis 55 Gew.^%,
der Masse aus.
Geeignete Beschleuniger oder sekundäre Initiatoren sind
organische Verbindungen, enthaltend zumindest ein tertiäres Stickstoffatom, d.h. eine tertiäre Aminogruppe,
in der alle drei Substituenten des Stickstoffs bevorzugt aliphatische Gruppen sind. Besonders bevorzugt werden
Beschleuniger, die zusätzlich zu der tertiären Aminogruppe auch zumindest eine Alkanol-Funktion oder zumindest eine Gruppe mit endständiger Doppelbindung enthalten,
die bevorzugt Teil einer Ester- oder Amidfunktion
1A-56 544 - / -
ist. Verbindungen der ersten Art umfassen Methyl-diethanolamin
und der zweiten Art "Uvecryl PlOl". Solche Beschleuniger können in der erfindungsgemäßen Masse
in Anteilen von 0,1 bis 8, vorzugsweise 1 bis 5 Gew.-°/,
vorliegen.
Das wasserlösliche Kolloid kann beispielsweise Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, Hydroxyethylcellulose, Hydroxypropylcellulose
oder Gelatine sein. Diese Kolloide werden in Gegenwart von Licht durch die Photoinitiatoren
nicht unlöslich gemacht.
Das Kolloid kann in der erfindungsgemäßen Masse beispielsweise
2 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise 4 bis 7 Gew.-%, ausmachen, wobei der Wassergehalt 1 bis 40, vorzugsweise
15 bis 35 %, beträgt, wobei alle Prozentangaben sich auf das Gesamtgewicht der Masse beziehen.
Die bevorzugten - gegebenenfalls angewandten - Weichmacher
sind Phthalate oder Glykol- oder Glycerinester. Prinzipiell kann jeder mit dem System verträglicher
Weichmacher angewandt werden. Sein Anteil, liegt im allgemeinen
unter 1 Gew.-%.
Bevorzugte Füllstoffe sind Stärke, Kaolin, Polytetrafluorethylen-Pulver,
Titandioxid , Kieselsäure und Silicate, die man zur Erhöhung des Gesamt—Feststoffgehaltes
der Masse zur Verhinderung der Oberflächen-Klebrigkeit
und in manchen Fällen zur Begünstigung eines Gleitens anwendet. Die Mengenanteile sind normalerweise gering,
z,B. nicht mehr als 8 %, vorzugsweise 1 bis 5 Gew.-%,
bezogen auf die ganze Masse.
Die photoempfindliche Masse kann auch Farbstoffe oder
Pigmente enthalten, um das fertige Bild sichtbar zu
BAD ORIGINAL
3236 H3
lA-56 544
machen. Die anfängliche Beschichtung kann gefärbt werden, um sichtbare Bilder zu ergeben( oder man behandelt
die photopolymerisierte Schicht mit einer Farblösung nach dem Entwickeln. In dieser Hinsicht wird besonders
bevorzugt,in die erfindungsgemäße Masse einen thioindigoiden
oder indigoiden Farbstoff einzubringen, z.B. aus der Reihe der Anthrasole. Diese Farbstoffe haben oben
erwähnte wertvolle Eigenschaften in Gegenwart des freie
Radikale bildenden Photoinitiators und eines wasserlösliehen Weichmachers für das wasserlösliche Kolloid. Sie
ändern die Farbe bei Belichtung mit aktinischem Licht
und ergeben so einen klar sichtbaren Kontrast zwischen belichteten und unbelichteten Bereichen. Solche Farbstoffe
haben den weiteren Vorteil, daß sie als zusätzliche Photoinitiatoren wirken, vorausgesetzt, daß zumindest
die getrocknete Masse ausreichend Feuchtigkeit enthält.
Um die Stabilität der erfindungsgemäßen Masse zu verbessern,
kann man ein oberflächenaktives Mittel, z.B. ein nicht ionogenes oberflächenaktives Mittel, insbesondere
ein polyoxyethyleniertes Alkylphenol anwenden.
Bei der Anwendung der erfindungsgemäßen Masse wird diese
auf ein entsprechendes Trägermaterial, z.B. ein Drucksieb oder einen biegsamen transparenten Filmträger
aufgetragen und getrocknet. Der getrocknete Überzug wird aktinischem Licht ausgesetzt, wodurch sich das
gewünschte Bild bildet, z.B. erfolgt die Belichtung durch ein Dia. Die aktinische Strahlung kann natürliches
Licht oder künstliches Licht.einer Kohlebogenlampe, Xenonbogenlampe, Quecksilberdampflampe hoher Intensi—
tat oder Wolframfadenlampe sein. Nach Belichtung wird
das Bild entwickelt, z.B. durch Auflösen der nicht belichteten Bereiche mit Hilfe von Wasser. Das bei der
Photopolymerisation der erfindungsgemäßen Masse gebil-
lA-56 544 - / -
• /ί2·
dete Bild eignet sich nun zur Herstellung einer Schablone für den Siebdruck und zwar nach der direkten oder
indirekten Methode oder für photographische oder photomechanische Prozesse, bei denen Photoresist-Schablone
oder Reliefbilder erforderlich sind, beispielsweise Ätzen von Resists für Druckplatten, Typenschilder, Skalen
oder gedruckten Schaltungen; für Druckfarbe annehmende Bilder in der Lithographie oder für negative Schablonen
für Positivumkehr-Lithographie oder Flachdruck. Die Bilder können auch als Farb-Resist oder Druckmatrizen
wie auch als visuell gefärbte Displays für Draufsicht oder Durchsicht dienen.
Die Brauchbarkeit des Bildes für eine bestimmte Anwendung ergibt sich aus der Auswahl des Kolloids und/oder
des ungesättigten Monomeren.
Die Erfindung wird an folgenden Beispielen weiter erläutert :
Wässrige Polyvinylalkohol-Lösung 13-%-ig 40,0 g
Polyethylenglykol-200-diacrylat 8,0 g
Verbindung mit endständiger ethylenischer Doppelbindung und zumindest einer tertiären
Aminogruppe VUvecryl PlOl
Ethanol
25 N-Methyl-pyrrolidon
25 N-Methyl-pyrrolidon
2-Isopropyl-9H-dipxanthen-9-οη
"Quantacure ITX"
Methylcellulose hochviskos "Celacol 2500M" amorphe pyrogene Kieselsäure 0,014 ,um
"Cabosil M5"
50 % Colanylgrün GG (Hoechst)
- 10 -
8,0 | g |
24,0 | g |
15,0 | g |
0,5 | g |
1,0 | g |
2,0 | g |
0,5 | g |
BAD ORIGINAL
lA-56 544 - Vt -
• Kb·
* niederviskoser Polyvinylalkohol mit 25 bis 90 %
Rest-Acetatgehalt.
Diese Emulsion wurde aufgetragen auf ein 72 TW-Sieb und zwar dreifacher Überzug auf jeder Seite des Siebes.
Nach dem Trocknen wurde über einen Positivfilm mit einer 800 Watt Quecksilberhalogenid-Lampe in einem Abstand
von einem Meter während 300 Sekunden belichtet. Nach dem Auswaschen mit kaltem Wasser erhielt man ein
Reliefbild.
Beispi_el_2
Hochviskose Hydroxypropylcellulose 2,0 g
Ethylenglykol—monoethylether 83,0 g
15 56-ige wässrige Polyvinylalkohol-Lösung 71,0 g
Methylen-bis-acrylamid 6,0g
Polyethylenglykol-200-diacrylat 13,5 g
Trimethylol-propan-triacrylat 4,5 g
Dimethylformamid - 40,0 g
Benzildimethylketal 4,0 g
amorphe abgerauchte Kieselsäure 7,0 g
N-Methyl-diethanolamin 6,0g
Anthrasol Grey IBL (Hoechst) 2,0 g
Die Emulsion obiger Zusammensetzung wurde auf ein Sieb "HQ Heavy duty Amber" aufgetragen und zwar drei Überzüge
auf jeder Seite. Nach: dem Trocknen wurde über ein Diapositiv mit Hilfe einer 800 Watt Quecksilberhalogenidlampe
in einem Abstand von 1 m während 210 Sekunden belichtet. Das latente Bild erschien farblos gegen den
graugrünen Untergrund. Nach Auswaschen mit Wasser erhielt man ein Reliefbild.
- 11 -
ν) ζ. ο υ
1Α-56 544
Be_iLs_pi1e]:_3
Die Emulsion des Beispiels 1 wurde angewandt, jedoch anstelle Colanylgrün GG Anthrasol Blue Black 1 RD
(Hoechst) in eine Menge von 1 g angewandt. Nach Auftrag, Trocknen und Belichten entsprechend Beispiel 1
erhielt man ein gelblich gefärbtes latentes Bild auf einem grauschwarzen Hintergrund. Nach dem Waschen mit
kaltem Wasser war das Reliefbild fertig.
Claims (14)
1. Photopolymerisierbare Masse aus einem photopolymerisierbaren
Monomeren, ein Photoinitiator und einem Lösungsmittel, dadurch gekennzeichnet ,
daß sie ein Monomer mit endständigen ethylenischen Doppelbindungen, einen wasserunlöslichen Photoinitiator,
einen Beschleuniger in Form einer organischen Verbindung mit einer tertiären Aminogruppe und ein wasserlösliches
Kolloid in einem flüssigen Medium aus Wasser und/oder mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmittel enthält,
welches das Monomere und den Photoinitiator zu lösen vermag, jedoch nicht zu einer Ausfällung des Kolloids
führt.
2. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß das Monomere N-Vinylpyrrolidon, Acrylamid, Triethylenglykol-diacrylat,
Tetraethylenglykol-diacrylat, Polyethylenglykol-200-diacrylat,
Methylen-bis-acrylamid, Tripropylenglykol-diacrylat,
Trimethylolpropan-triacrylat oder Pentaerythrit-triacrylat ist.
3. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet , daß das
Monomere in einer Menge von 5 bis 40 Gew.-% enthalten ist,
3236U3
lA-56 544 - 2 -
4. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet , daß das wasserlösliche
organische Lösungsmittel N-Methyl-pyrrolidon, Dimethylsul-phoxid, Dimethylformamid, Ethanol
Und/oder Ethylenglykol-monomethylether ist.
5. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet , daß 25 bis
65 Gew.-% Lösungsmittel enthalten sind.
6. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeich net, daß 0,5
bis 8 Gew.-% Photoinitiator enthalten sind.
7. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet , daß der Beschleuniger
ein ungesättigtes Monomer mit endständiger Doppelbindung und zumindest einer tertiären Aminogruppe
oder eine Verbindung enthaltend eine tertiäre Aminogruppe und zumindest eine aliphatische Alkohol-Funktion
ist.
8. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet , daß der Beschleuniger
in einer Menge von 0,1 bis 8 Gew.-% enthalten ist.
9. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet , daß das wasserlösliche
Kolloid Polyvinylalkohol,.Polyvinylpyrrolidon, Hydroxyethylcellulose, Hydroxypropylcellulose
und/oder Gelatine ist.
10. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet , daß Wasser
— 3 —
3236H3
lA-56 544 - 3 -
in einer Menge von 1 bis 40 Gew.-% und Kolloid in einer
Menge von 2 bis 10 Gew.-% enthalten sind.
11. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet , daß sie zusätzlich
ein oberflächenaktives Mittel enthält.
12. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1 bis 11,
dadurch gekennzeichnet , daß das oberflächenaktive Mittel ein polyoxyethyleniertes Alkylphenol
ist.
13. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1 bis 12,
dadurch gekennzeichnet , daß sie zusätzlich einen thioindj golden oder indlgoiden Farbstoff
enthä]t.
14. Anwendung der photopolymeriBierbaren Mur.no nach
lü Anspruch 1 bis 13 zur ΙΙπγη le 1 t urig « 1 tier ■ üctial) I otio F\ir
das cUrttkte odor indirekte Siebdrücken, wohn I die Μοπβγ oul
das Sieb bzw. einen transparenten und flexibJen Filmträger
aufgetragen, mit fiktlni schein Licht belichtet, entwickelt,
und bed der indirekten Methode die unlBß]1chen Bildbereiche
auf das Sieb übertragen werden.
812649
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB08133095A GB2108986B (en) | 1981-11-03 | 1981-11-03 | Photopolymerisable composition for producing screen printing stencils |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3236143A1 true DE3236143A1 (de) | 1983-05-11 |
DE3236143C2 DE3236143C2 (de) | 1991-04-25 |
Family
ID=10525594
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19823236143 Granted DE3236143A1 (de) | 1981-11-03 | 1982-09-29 | Photopolymerisierbare masse zur herstellung von siebdruck-schablonen |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4499176A (de) |
BE (1) | BE894685A (de) |
CA (1) | CA1207479A (de) |
CH (1) | CH655121A5 (de) |
DE (1) | DE3236143A1 (de) |
FR (1) | FR2515834B1 (de) |
GB (1) | GB2108986B (de) |
IT (1) | IT1219975B (de) |
NL (1) | NL8203801A (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0200463A2 (de) * | 1985-04-24 | 1986-11-05 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Beschichtungszusammensetzungen für Anwendung bei der Herstellung von lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5095043A (en) * | 1986-01-13 | 1992-03-10 | Peter Cueli | Novel UV curable polyacrylate/solvent compositions |
US5021466A (en) * | 1986-01-13 | 1991-06-04 | Peter Cueli | Novel UV curable polyacrylate/solvent compositions |
JPH0693118B2 (ja) * | 1987-06-15 | 1994-11-16 | 日本製紙株式会社 | 感光性シート |
US5264318A (en) * | 1987-06-15 | 1993-11-23 | Sanyo-Kokusaku Pulp Co., Ltd. | Positive type photosensitive composition developable with water comprising a photocrosslinking agent, a water-soluble resin and an aqueous synthetic resin |
US5580698A (en) * | 1988-05-05 | 1996-12-03 | Mografo A/S | Scanner system for successive irradiation of a working surface, particularly for ultra-violet exposure of a photo emulsion on a serigraphic printing frame |
JPH01300246A (ja) * | 1988-05-28 | 1989-12-04 | Nippon Paint Co Ltd | フレキソ印刷用感光性樹脂組成物 |
US5225315A (en) * | 1991-09-19 | 1993-07-06 | Dymax Corporation | Water soluble formulation for masking and the like, and method utilizing the same |
JPH07170054A (ja) * | 1993-12-14 | 1995-07-04 | Canon Inc | 紫外線硬化性組成物、これを用いたパターン形成方法及び配線基板の製造方法 |
IL111014A (en) * | 1994-09-21 | 1999-05-09 | Scitex Corp Ltd | Ink compositions and a method for making same |
US6312085B1 (en) * | 1997-06-26 | 2001-11-06 | Pelikan Produktions Ag | Ink jet printing head with elements made of organosilicic compounds |
US6608119B2 (en) * | 2000-02-01 | 2003-08-19 | Seiko Epson Corporation | Water-base ink, method of manufacturing the ink, and method of printing using the ink |
DE10209024A1 (de) * | 2001-03-07 | 2002-09-19 | Inctec Inc | Photoempfindliche Zusammensetzungen |
US7507525B2 (en) * | 2005-05-10 | 2009-03-24 | Fujifilm Corporation | Polymerizable composition and lithographic printing plate precursor |
GB0519941D0 (en) | 2005-09-30 | 2005-11-09 | Xennia Technology Ltd | Inkjet printing |
US7592790B2 (en) * | 2006-04-19 | 2009-09-22 | System General Corp. | Start-up circuit with feedforward compensation for power converters |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3136638A (en) * | 1959-06-26 | 1964-06-09 | Gen Aniline & Film Corp | Photosensitive stencil and process of making the same |
US3510303A (en) * | 1966-12-29 | 1970-05-05 | Corning Glass Works | Thin emulsion deposition stencil screen and method |
GB1307995A (en) * | 1970-03-06 | 1973-02-21 | Norprint Ltd | Photopolymerisation |
JPS503041B1 (de) * | 1970-03-27 | 1975-01-31 | ||
US3718473A (en) * | 1971-01-27 | 1973-02-27 | Du Pont | Photopolymerizable elements containing hydro philic colloids and polymerizable monomers for making gravure printing plate resists |
US3787213A (en) * | 1972-01-19 | 1974-01-22 | J Gervay | Process for modifying surfaces using photopolymerizable elements comprising hydrophilic colloids and polymerizable monomers |
BE795477A (fr) * | 1972-02-16 | 1973-05-29 | Quadrimetal Offset Le | Compositions photopolymerisables ameliorees |
US3961961A (en) * | 1972-11-20 | 1976-06-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Positive or negative developable photosensitive composition |
AU476446B2 (en) * | 1974-04-18 | 1976-09-23 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd | Photosensitive composition |
US4043819A (en) * | 1974-06-11 | 1977-08-23 | Ciba-Geigy Ag | Photo-polymerizable material for the preparation of stable polymeric images and process for making them by photopolymerization in a matrix |
US4042476A (en) * | 1975-02-18 | 1977-08-16 | Celanese Corporation | Polymerized titanium dioxide for ultraviolet coatings |
JPS5917414B2 (ja) * | 1975-10-07 | 1984-04-21 | 村上スクリ−ン (株) | スクリ−ン版用感光性組成物及び感光膜 |
US4262084A (en) * | 1979-07-02 | 1981-04-14 | Imaging Sciences | Process for preparing a screen stencil |
-
1981
- 1981-11-03 GB GB08133095A patent/GB2108986B/en not_active Expired
-
1982
- 1982-09-22 US US06/421,271 patent/US4499176A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-09-29 DE DE19823236143 patent/DE3236143A1/de active Granted
- 1982-09-30 NL NL8203801A patent/NL8203801A/nl not_active Application Discontinuation
- 1982-09-30 IT IT23543/82A patent/IT1219975B/it active
- 1982-10-05 CH CH5844/82A patent/CH655121A5/de not_active IP Right Cessation
- 1982-10-06 CA CA000412900A patent/CA1207479A/en not_active Expired
- 1982-10-12 BE BE0/209228A patent/BE894685A/fr not_active IP Right Cessation
- 1982-10-13 FR FR8217131A patent/FR2515834B1/fr not_active Expired
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0200463A2 (de) * | 1985-04-24 | 1986-11-05 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Beschichtungszusammensetzungen für Anwendung bei der Herstellung von lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien |
EP0200463A3 (en) * | 1985-04-24 | 1987-11-04 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Coating compositions for use in the production of light-sensitive reproduction materials |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4499176A (en) | 1985-02-12 |
NL8203801A (nl) | 1983-06-01 |
GB2108986A (en) | 1983-05-25 |
FR2515834B1 (fr) | 1986-02-07 |
BE894685A (fr) | 1983-01-31 |
IT1219975B (it) | 1990-05-24 |
CA1207479A (en) | 1986-07-08 |
CH655121A5 (de) | 1986-03-27 |
DE3236143C2 (de) | 1991-04-25 |
FR2515834A1 (fr) | 1983-05-06 |
GB2108986B (en) | 1985-06-26 |
IT8223543A0 (it) | 1982-09-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3236068C2 (de) | ||
DE2902412C2 (de) | Photopolymerisierbares elastomeres Gemisch | |
DE3236143A1 (de) | Photopolymerisierbare masse zur herstellung von siebdruck-schablonen | |
DE2358138A1 (de) | Positiv oder negativ entwickelbare lichtempfindliche masse | |
DE2039861B2 (de) | Photopolymerisierbare kopiermasse | |
DE2903454A1 (de) | Lichtempfindliche latexbeschichtungsmasse und ihre verwendung | |
DE1622298B2 (de) | Vorbeschichtete Offset-Druckplatte | |
DE2347784A1 (de) | Photopolymerisierbare materialien | |
DE1917543A1 (de) | Aromatische polycyclische Verbindungen als Sensibilisierungsmittel fuer photolysierbare organische Halogenverbindungen | |
DE1289741B (de) | Verwendung von Kondensationsprodukten des Diazodiphenylamins zum Vorsensibilisieren von Siebdruckmaterial | |
DE1254466B (de) | Kopiermaterial fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen und Verfahren zur Herstellung von Druckformen | |
DE2125457A1 (de) | Photopolymerisierbare Kunststoffmasse | |
DE2651864B2 (de) | Photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial, und Verfahren zur Bildreproduktion | |
DE2645113C3 (de) | Mit Wasser entwickelbares, lichtempfindliches Gemisch für Drucksiebe, mit Wasser entwickelbares Drucksieb und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE2230936C3 (de) | Lichtempfindliches Gemisch | |
DE2203732A1 (de) | Lichtempfindliche mischpolymerisate und diese enthaltende kopiermassen | |
DE1186745B (de) | Verfahren zur UEbertragung eines photographischen Bildes und photographisches Material hierfuer | |
DE2306353A1 (de) | Lichtempfindliches material | |
DE2037345A1 (de) | Lichtempfindliche Kopiermasse | |
DE1495973A1 (de) | Verfahren zur Photopolymerisation von Acrylverbindungen | |
DE2043901A1 (de) | Photopolymerisation athylemsch unge sattigter organischer Verbindungen | |
DE1597769A1 (de) | Zuvor lichtempfindlich gemachte Druckplatte | |
DE1597784A1 (de) | Druckplatte mit photoaktiver Schicht | |
DE1720226A1 (de) | Verfahren zur Photopolymerisation aethylenisch ungesaettigter Monomerer | |
DE3222684A1 (de) | Lichtempfindliche zubereitung und deren verwendung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |