DE3150514A1

DE3150514A1 - "photographisches lichtempfindliches material"

Info

Publication number: DE3150514A1
Application number: DE19813150514
Authority: DE
Inventors: Takayuki Fujinomiya Shizuoka Inayama; Hideo Minami Ashigara Kanagawa Kawaguchi
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1980-12-23
Filing date: 1981-12-21
Publication date: 1982-07-08
Also published as: DE3150514C2; US4418141A; JPS6049894B2; JPS57104931A; GB2092768A

Description

P 16 876

Photographisches lichtempfindliches Material

Die Erfindung betrifft photographische lichtempfindliche Materialien (die im folgenden vereinfacht als "lichtempfindliche Materialien" bezeichnet werden, und insbesondere lichtempfindliche Materialien mit verbesserten antistatischen Eigenschaften.

Lichtempfindliche Materialien werden im allgemeinen hergestellt durch überziehen einer photographischen lichtempfindlichen Emulsionsschicht (im folgenden zur Vereinfachung als "lichtempfindliche Schicht" bezeichnet), einer Antilichthofschicht, einer Schutzschicht, einer Zwischenschicht, einer Unterschicht, einer RUCkSChIcIIt(¹¹BaCkXHg-SChJChL") ui,w. , auE einen isolierenden Kunststoffolien- bzw. -filmträger.

³^ In den letzten Jahren haben sich die Techniken zur

31505H

Herstellung von lichtempfindlichen Materialien beträchtlich verbessert/ beispielsweise wurden die Uberzugsgeschwindigkeiten für jede Schicht und die Schneidgeschwindigkeiten für lichtempfindlichen Material stark vergrößert.

Auch die Handhabungsgeschwindigkeit von lichtempfindlichem Material während des Photographierens und die Transportgeschwindigkeit von lichtempfindlichem Material während der Entwicklungsverarbeitungen haben sich stark vergrößert.

Während der Herstellung von lichtempfindlichen Materialien oder bei deren Verwendung können daher eine Kontaktreibung und ein Abschälen der lichtempfindlichen Materialien mit sich selbst oder zwischen den lichtempfindlichen Materialien und anderen Materialien leicht auftreten, was zur Erzeugung statischer Elektrizität führen kann.

Es ist bekannt, daß die Erzeugung statischer Elektrizität in lichtempfindlichen Materialen zum Anziehen von Staub usw. auf dem lichtempfindlichen Material führt, was zum Auftreten verschiedener Probleme führt, ^5 und, wenn die Erzeugung der statischen Elektrizität kräftig ist, kann eine Funkenentladung auftreten, was zur Bildung sog. statischer Markierungen führt, die ein kritisches Problem darstellen.

Bisher wurden als antistatische Mittel zur Verwendung in einer Rückschicht polymere Elektrolyte oder oberflächenaktive Mittel häufig angewendet. Jedoch variiert die Wirkung dieser polymeren Elektrolyte oder oberflächenaktiven Mittel bei der Verringerung der Erzeugung statischer Elektrizität stark mit der Feuchtig-

keit; d.h. bei hohen Feuchtigkeiten erzielt man eine elektrische Leitfähigkeit in einem derartigen Ausmaß, daß die beabsichtigten Ziele erreicht werden können, wohingegen bei niedrigen Feuchtigkeiten die elektrisehe Leitfähigkeit beträchtlich verringert werden kann Bei Stehenlassen in übereinander gelagertem Zustand auf der lichtempfindlichen Schicht _t wie aufgespult zu einer Rolle, absorbiert die Rückschicht Feuchtigkeit und haftet an der Oberfläche der lichtempfindlichen . 10 Schicht, was zu einem Adhäsionsproblem führt.

Darüberhinaus sind polymere Elektrolyte und oberflächenaktive Mittel mit niedrigem Molekulargewicht im allgemeinen wasserlöslich und werden daher während der Entwicklungsverarbeitung in den Verarbeitungslösungen gelöst und können zusammen mit anderen Substanzen, die in den Verarbeitungslösungen enthalten sind, Kombinationen eingehen, unter Bildung von Trübungen oder Schlämmen, oder sie können dazu führen, daß andere Substanzen an der Rückschicht adsorbiert werden, was zu Ungleichmäßigkeiten führt.

Um das Adhäsionsproblem zu lösen, wurde eine Methode angewendet, bei der Kolloide nichtkristalliner anorganischer Oxide verwendet werden.. Werden jedoch nach dieser Methode anorganische Oxid-Kolloidsols verwendet, so verschlechtern sich die antistatischen Eigenschaften nach der Entwicklung. Darüberhinaus versagt diese Methode bei der wirksamen Verbesserung

der Abhängigkeit antistatischer Eigenschaften von der Feuchtigkeit.

Zusätzlich wurde eine Methode empfohlen, bei der

eine Rußdispersionsschicht sowohl für die Antilicht-35

hofbildung als auch zur Verhinderung der Erzeugung

• β «

statischer Elektrizität vorgesehen ist. Diese Rußschicht wird jedoch während der Entwicklungsverarbeitung entfernt und somit gehen nach der Entwicklung die antistatischen Eigenschaften verloren.

Ein Ziel der Erfindung ist die Bereitstellung von lichtempfindlichen Materialien mit ausgezeichneten antistatischen Eigenschaften.

Ein weiteres Ziel der Erfindung ist die Bereitstellung lichtempfindlicher Materialien mit antistatischen Eigenschaften, die nicht durch Feuchtigkeitsänderungen beeinträchtigt werden.

¹^ Ein weiteres Ziel der Erfindung ist die Bereitstellung von lichtempfindlichen Materialien, die mit einer antistatischen Schicht versehen sind, die keine Adhäsion an einer benachbarten Schichtoberfläche selbst

bei hoher Feuchtigkeit bewirkt. 20

Ein weiteres Ziel der Erfindung ist die Bereitstellung von lichtempfindlichen Materialien, die mit einer antistatischen Schicht versehen sind, die antistatische Mittel enthält, die sich in Entwicklungsverar-

beitungslösungen nicht lösen und die daher frei von der Bildung von Trübungen und Schlämmen durch Auflösen antistatischer Mittel ist.

Ein weiteres Ziel der Erfindung ist die Bereitstellung 30

von lichtempfindlichen Materialen mit einer antistatischen Schicht, deren Verringerungswirkung bei der Erzeugung von statischer Elektrizität nicht durch die Entwicklungsverarbeitung verkleinert wird.

Die Erfindung betrifft daher ein photographisches

lichtempfindliches Material, das einen Kunststoffolien bzw. -film-Träger, mindestens eine lichtempfindliche Schicht auf einer Seite des Trägers und eine antistati sche Schicht auf der anderen Seite des Trägers enthält, worin die antistatische Schicht feine Teilchen mindestens eines kristallinen Metalloxids enthält, ausgewählt aus der Gruppe von ZnO, TiO₂' ^Sn0o' ^2⁰S' In-O-, SiO-/ MgO, BaO und MoO-. oder eines zusammengesetzten Oxids davon.

Im folgenden wird die Erfindung genauer beschrieben. Die feinen Teilchen von kristallinem Metalloxid oder seinem zusammengesetzten Oxid, wie sie hier verwendet werden, weisen einen spezifischen Widerstand (bzw. Volumen-Widerstand) von 10 .GL .cm oder weniger und vorzugsweise von 10 ß_ .cm oder weniger auf. Die Korngröße (d.h. die größte Querschnittsabmessung) liegt typischerweise bei 0,01 bis 0,7 pm bzw. u und vorzugsweise bei 0,02 bis 0,5 um bzw. p.

Diese feinen Teilchen können hergestellt werden nach verschiedenen Methoden, wie sie genauer beschrieben werden beispielsweise in der offengelegten JA-Patentanmeldung (im folgenden als JA-OS bezeichnet) Nr. 14343Ο/81 (die der US-Patentanmeldung Serial No. 253 499 vom 13. April 1981 entspricht). Typische Beispiele für derartige Herstellungsmethoden feiner Teilchen sind 1. eine Methode, bei der feine Metall— oxidteilchen hergestellt werden durch Verbrennen und

anschließend in Anwesenheit verschiedener Atome

(Dotierungsmittel) in der Wärme behandelt werden zur Erhöhung der elektrischen. Leitfähigkeit, 2. ein Verfahren, bei dem die Herstellung feiner Metalloxidteilchen durch Verbrennen wie in 1) in Anwesenheit 35

von Dotierungsmitteln zur Erhöhung der elektrischen

• β. «

—j=· -'"'" '°* -·" 3150 5 H

Leitfähigkeit durchgeführt wird und 3. eine Methode, bei der bei der Herstellung feiner Metalloxidteilchen durch Verbrennen, wie in I), die Konzentration an Sauerstoff in der Atmosphäre verringert wird, um "Sauerstoffmangel" in die Kristallstruktur einzuführen

Beispiele für Dotierungsmittel zur Anwendung bei den vorstehenden Methoden 1) und 2) sind Al und In für ZnO? Wb und Ta für TiO₂; und Sb, Nb und Halogenelemente für SnO₂- Im allgemeinen ist eine Kombination eines Metalloxids und eines Dotierungsinittels, mit einer um eins niedrigeren oder höheren Wertigkeit alt; das Metall des Metalloxids (z.B. eine Kombination von ZnO (Zn ⁺) und Al (Al ) und eine Kombination von SnO

(Sn⁴⁺) und Sb (Sb³⁺ oder Sb⁵⁺)) bevorzugt. Die Menge des zugesetzten Dotierungsmittels liegt vorzugsweise bei 0,01 bis 30 Mol-% und besonders bevorzugt bei 0,1 bis 10 Mol-%.

²® Die Menge des leitfähigen Teilchens, das verwendet wird, liegt vorzugsweise bei 0,05 bis 20 g/m und

2 besonders bevorzugt bei 0,1 bis 10 g/m .

Bindemittel für feine Teilchen, die üur Erzielung einer elektrisch leitfähigen Schicht cjoniMß tlc?r Er findung verwendet werden können, umfassen Celluloseester, wie Cellulosenitrat, Cellulosetriacetat, Cellulosediacetat, Celluloseacetatbutyrat und Celluloseacetat-propionat, Homo- und Copolymere,von

Vinylidenchlorid, Vinylchlorid, .Styrol, Acrylnitril, Vinylacetat, Alkylacrylat, Vinylpyrrolidon oder dgl.f lösliche Polyester; Polycarbonater und lösliche Polyamide. Bei der Dispersion der feinen Teilchen

können Dispergierlösungen, wie solche, die Disper-35

giermittel auf der Basis von Titan oder Silan ent-

~ —·· *-· - 31505 H X-

halten, zugesetzt werden. Außerdem können Quervernet zungsmittel für Bindemittel _r oberflächenaktive Mittel und Elektrolyte (z.B. Natriumphosphat) zugesetzt werden. Beispiele für Dispergiermittel auf Titanbasis sind Kupplungsmittel auf Titanatbasis, wie beschrieben in den US-PSen 4 069 192, 4 080 353 usw. und Plenact (Warenzeichen für ein Produkt der Ajinomoto Co., Inc.). Beispiele für Dispergiermittel auf Silanbasis sind Vinyltrichlorsilan, Vinyltriäthoxysilan, Vinyltris-(ßmethoxyäthoxy) -silan, /"-Glycidoxypropyltrimethoxysilan und j-Methacryloxy-propyltrimethoxysilan. Diese Verbindungen sind im Handel erhältlich als "Silan-Kupplungsmittel" (silane coupling agents) beispielsweise von der Shin-Etsu Chemical Industries, Ltd.

Bindemittel-Quervernetzungsmittel, die verwendet werden können, umfassen Vernetzungsmittel auf Epoxybasis, Isocyanatbasis, Isothiocyanatbasis und Aziridinbasis.

Zur Erzielung einer elektrischen^Leitfähigkeit können

die elektrisch leitfähigen feinen Teilchen in einem Bindemittel dispergiert und auf einem Träger aufgebracht werden, oder kann nach Anwendung einer Unterschichtbehandlung bzw. Subbing-Behandlung auf dem 25

Träger eine Dispersion von elektrisch leitfähigen feinen Teilchen in einem Bindemittel darauf aufgetragen werden.

Träger, die verwendet werden können, umfassen Cellulosetriacetat, Celluloseacetatbutyrat_r Celluloseacetatpropionat, Polyalkylenterephthalat, Polyäthylennaphthalat, Polycarbonate Polystyrol, Poilyäthylen- oder Polypropylen-beschichtetes Papier und dgl.

31505 U

Erfindungsgemäß ist es bevorzugt, wenn eine hydrophobe Polymerschicht zusätzlich auf der elektrisch leitfähigen Schicht ausgebildet wird.

Die hydrophobe Polymerschicht, die auf dem elektrisch leitfähigen Träger erfindungsgemäß ausgebildet wird, kann hergestellt werden durch Aufschichten eines hydro phoben Polymeren in der Form einer Lösung in meinem organischen Lösungsmittel oder eines wässrigen Latex. Die Menge des aufgeschichteten hydrophoben Polymeren liegt vorzugswe:
Trockengewicht.

2 liegt vorzugsweise bei etwa 0,05 bis 1 g/m als

Hydrophobe Polymere, die verwendet werden können, um- !5 fassen Celluloseester, wie Nitrocellulose und Celluloseacetat; Polymere auf Vinylbasis, wie Polyvinylchlorid, Polyvinylidenchlorid und Polyvinylacrylat; und in organischem Lösungsmittel lösliche Polyamide und Polyester.
20

Zu der hydrophoben Polymerschicht können Gleitmittel gefügt werden, z.B. organische Carbonsäureamide, wie in der JA-OS Nr. 79435/80 beschrieben, um Gleitfähigkeitseigenschaften zu verleihen. 35s können auch Mattierungsmittel zugesetzt werden»

Die überzugsbildung aus der tüoktri sch leitfähigen Schicht und der hydrophoben Polymerschicht kann nach üblichen Techniken durchgeführt werden, wie durch Walzenauftrag, Luftrakel- bzw. Schlitzdüsenbeschichten, Tiefdruckauftrag, Stabbeschichtung und Vorhangbzw. Curtain-Beschichtung..

Das erfindungsgemäße lichtempfindliche Material kann gegebenenfalls eine Unterschicht, eine Antilichthof-

schicht, eine Zwischenschicht und eine Oberflächen.-schutzschicht zusätzlich zu mindestens einer lichtempfindlichen Schicht auf der lichtempfindlichen Schichtseite des Trägers aufweisen.

Die Unterschicht, die hier verwendet wird, kann hergestellt werden unter Verwendung von Copolymeren auf Basis von Vinylidenchlorid, wie beispielsweise beschrieben in der JA-OS 135526/76 und den üS-PSen 3 143 421, 3 586 508, 2 698 235 und 3 567 452, Copolymeren auf der Basis von Diolefin (z.B. Butadien) _r wie beispielsweise beschrieben in der JA-OS 114120/76 und der US-PS 3 615 556, Copolymeren, die Glycidylacrylat- oder Glycidylmethacrylat enthalten, wie beispiels-

^lb weise beschrieben in der JA-OS 58469/76, PolyamidepichlorhydrinharzG, wie beispielsweise beschrieben in der JA-OS Nr. 24923/73, Maleinsäureanhydrid enthaltende Copolymere, wie in der JA-OS 39536/75 beschrieben und dgl.

Ein bevorzugtes Beispiel einer lichtempfindlichen Schicht ist eine Silberhalogenid-Emulsionsschicht. Beispiele für brauchbare Silberhalogenide umfassen Silberchlorid, Silberchlorbromid, Silberjodbromid

und Silberchlorjodbromid.

Verschiedene Zusätze, die normalerweise in photographischen Emulsionen verwendet werden, beispielsweise

chemische Sensibilisatoren, Antischleiermittel, 30

oberflächenaktive Mittel, Schutzkolloide, Härter, Polymerlatizes, Farbkuppler, Markierungsinittel und sensibilisierende Farbstoffe können zugesetzt werden, beispielsweise unter Bezugnahme auf Research Disclosure _r

Band 176, Seiten 22 - 28 (Dezember 1978). 35

~: ·^: - - - 31505Η

-vKf-

Die Zwischenschicht, die Äntilichthofschicht und die Oberflächenschutzschicht unterliegen ebenfalls keinen speziellen Beschränkungen und können hergestellt werden unter Verwendung verschiedener Zusätze, wie beispielsweise in der vorstehend erwähnten Research Disclosure-Veröffentl&chung beschrieben.

Das Verfahren zur Herstellung von photographischen Emulsionen und eine Methode zur Aufschichtung verschiedener photographischer Schichten auf den Träger unterliegen ebenfalls keinen speziellen Begrenzungen und können durchgeführt werden beispielsweise unter Bezugnahme auf die vorstehend genannte Research

Disclosure-Veröffentlichung.
15

Ein erfindungsgemäßes lichtempfindliches Material kann beispielsweise in der Form eines Farbnegativfilms, eines Farbumkehrfilms und eines schwarz-weißphotographischen Films verwendet werden. 20

Die folgenden Beispiele dienen zur weiteren Erläuterung der Erfindung.

Beispiel

Ein Gemisch von 65 Gew.-Teilen Zinn-lV-chlorid-Hydrat und 1,5 Gew.-Teilen Antimontrichlorid wurde in 1 000

Gew.-Teilen Äthanol gelöst, unter Bildung einer gleichmäßigen Lösung. Anschließend wurde eine 1 n-wässrige Lösung von Natriumhydroxid tropfenweise zu der gleichmäßigen Lösung gefügt, bis der pH-Wert der ₃g resultierenden Lösung 3 erreichte, um so ein Copräzipitat von kolloidalem Zinn-IV-oxid und Antimonoxid zu erzeugen. Die so erhaltene Coausfällung wurde

anschließend 24 h bei 50°C stehengelassen, unter Erzielung einer rotbraunen kolloidalen Ausfällung.

Die rotbraune kolloidale Ausfällung wurde durch Zentrifugenabscheiden abgetrennt. Um überschüssige Ionen (d.h. Chloridion) zu entfernen, wurde Wasser zu der Ausfällung gefügt, und es wurde eine Zentrifugenabscheidung vorgenommen. Diese Verfahrensweise wurde dreimal zur Entfernung der überschüssigen Ionen durchgeführt.

Zu 1 000 Gew.-Teilen Wasser wurden 100 Gew.-Teile der kolloidalen Ausfällung gefügt, aus der die überschüssigen Ionen entfernt worden waren. Das Gemisch wurde in einen Brennofen gesprüht, der bei 650 C gehalten wurde, zur Erzielung feiner bläulicher Teilchen mit einer durchschnittlichen Korngröße von . 0,15 um bzw. η (d.h. die größte Querschnittsabmessung) .

Ein Gemisch mit der nachstehenden Formulierung wurde 5 h unter Verwendung eines Anstrichmxthelschuttlers (Handelsprodukt der Toyo Seizäi Seisakujo) zur Erzielung einer Dispersion dispergiert. 25

Gew.—Teile

elektrisch leitfähige

feine Teilchen 200

Salan F-310 (Copolymeres

auf der Basis von Vinyliden-

chlorid, Handelsprodukt der

Asahi Dow Co., Ltd.) 10

Methyläthylketon 150

Unter Verwendung der so hergestellten Dispersion wurde 3b eine Überzugslösung mit der nachstehend gezeigten Formulierung hergestellt.

31505H

	Gew.-Teile
Dispersion	15
Salan F-310	3
MethylathyIketon (MEK)	100
Cyclohexanon	20
m-Cresol	5

Die so hergestellte Überzugslösung wurde auf eine 100 pm bzw. u dicke Polyäthylen-terephthalat-Folie in einem Trockenüberzugsgewicht von 1,3 g/m aufgetragen und bei 130°C 2 min getrocknet.

Auf die so hergestellte Schicht wurde weiter eine Überzugslösung mit der nachstehend gezeigten Formu-

o lierung in einer Trockenüberzugsmenge von 0_r2 g/m aufgeschichtet und 1 min bei 130°C getrocknet.

	Gew.-Texle
Cellulose-triacetat	1
Methylenchlorid	60
Äthylendichlorid	40
Erucasäureamid	0,001

Die so hergestellte Schicht wird nachstehend als Rückschicht bezeichnet.

Auf der entgegengesetzten Seite des Trägers wurde

eine übliche Silberhalogenidemulsion für die Mikrophotographie aufgetragen, nachdem zuerest eine Unterschicht aufgetragen wurde.

Die Oberflächenbeständigkeit der Rückschicht wurde mit einer Meßvorrichtung für den Isolationswider-

stand bestimmt (Modell VE-30/ Handelsprodukt der Kawaguchi Denki Co., Ltd.) als 7 χ 1Q⁸ilbei 25°C und 25 % relativer Feuchtigkeit. Wurde die Rückschicht in Kontakt mit der photographischen Emulsionsschicht gebracht und unter einer Belastung von 2 kg/ 10 cm bei 50°C und 80 % relativer Feuchtigkeit während 12 h stehengelassen, so trat keine Adhäsion auf.

Beispiel

Es wurde eine Dispersion elektrisch leitfähiger feiner Teilchen in gleicher Weise wie im Beispiel 1 herge-

stellt.

Unter Verwendung der so hergestellten Dispersion wurde eine Überzugszusammensetzung der nachstehend gezeigten

Formulierung hergestellt. 20

Gew.-Teile

Dispersion 15

Salan F-310 3

MEK 7O

Methanol 30

Cyclohexanon 20

Die so hergestellte Überzugszusammensetzung wurde auf einen 140 pn bzw. μ dicken Cellulosetriacetat-Folienträger in einer Trockenüberzugsmenge von 2 g/m aufgetragen und 3 min bei 120⁰C getrocknet.

Auf die so hergestellte Schicht wurde weiter eine Überzugslösung aufgetragen mit einer Formulierung, wie nachstehend gezeigt, in einer Trockenüberzugs-

η« ο

menge von 0,3 g/m , und 2 min bei 12O°C getrocknet.

	Gew.-Teile
Cellulosediacetat	10
Aceton	240
Methanol	480
Siliciumdioxid (durchschnittliche Korn größe 1 pm bzw. ja)	0,1

Eine Vergleichsprobe wurde nach der im Beispiel 2 der JA-OS Nr. 7763/80 (entsprechend der DE-OS 29 26 832) beschriebenen Methode hergestellt. D.h. zuerst wurde eine Lösung mit der nachstehenden Formulierung hergestellt, aufgeschichtet und getrock-15

net.

Gew.-Teile

_% _

(n=5)

H₂O 10

Methanol 500

Aceton 300

Auf die so hergestellte Schicht wurde eine Dispersion von 10 Gew.-Teilen Cellulosediacetat und 0,1 Gew,-Teil _on feinen Siliciumdioxidteilchen (durchschnittliche Korn-

größe 1 pm bzw. u) in einem gemischten Lösungsmittel von 240 Gew.-Teilen Aceton und 480 Gew.-Teilen Methanol aufgetragen.

Der Oberflächenwxderstand der so erhaltenen Folie wurde bei 25°C und 25 % relativer Feuchtigkeit ge-

₃1505 H

messen. Die Ergebnisse sind in der nachstehenden Tabelle gezeigt.

Tabelle

Oberflächenwiderstand (XL)

Vor der Nach der Probe - - Entwicklung Entwicklung

Mit feinen Teilchen
auf Zinnoxidbasis

überzogene Probe _Q «

(erfindungsgemäß) 5,0 χ 10 4,8 χ 10

Vergleichsprobe 5,1 χ 1O⁹ 6,3 χ 1O¹²

Aus der vorstehenden Tabelle ist ersichtlich, daß der Oberflächenwiderstand der Probe, die überzogen wurde, mit den feinen Teilchen aus Zinnoxid-Antimon-zusammengesetztem Oxid, selbst nach der Entwicklungsverarbeitung kaum verändert war.

Beispiel 3

Unter Verwendung der gleichen elektrisch leitfähigen 25

feinen Teilen wie im Beispiel 1 wurde eine Dispersion hergestellt mit der nachstehend gezeigten Formulierung durch Schütteln während 3 h unter Verwendung der Anstrichmittel-Schüttelvorrichtung wie im Beispiel 1.

	Gew.-Teile
Elektrisch leitfähige feine Teilchen	200
Cellulosediacetat	5
Aceton	150

31505U

Unter Verwendung der so hergestellten Dispersion wurde eine Überzugslösung mit der nachstehend gezeigten Formulierung hergestellt.

	Gew.-Teile
Dispersion	7
Cellulosediacetat	1
Aceton	70
Methanol	30

Die Überzugslösung wurde auf eine Cellulosetriacetat folie von 135 tun bzw. ü Dicke aufgetragen, und getrocknet in einer Trockenüberzugsmenge von 1,5 g/m

Auf die so hergestellte Schicht wurde eine Lösung aufgetragen mit der nachstehend gezeigten Formulierung, die anschließend getrocknet wurde, in einer

2 Trockenüberzugsmenge von 0,2 g/m .

Cellulosediacetat Aceton Methanol

Auf die entgegengesetzte Seite der so aufgetragenen Schicht wurde eine Unterschicht aufgetragen und eine übliche Silberhalpgenid-Farbemulsionsschicht wurde auf die Unterschicht aufgeschichtet zur Herstellung eines lichtempfindlichen photographischen Films.

Gew.	-Teile
1	,5
30
70

Wurde die Rückschicht des so erhaltenen Films mit einer Nylonwalze bei 25°C und 25 % realtiver Feuchtig keit gerieben, so zeigten sich keine statischen Markierungen.

10 -

Wurde andererseits eine Probe ohne elektrisch leitfähige feine Teilchen dem gleichen vorstehenden Test unterzogen, so wurden zweigartige statische Markierungen gebildet.

Beispiel

Ein Gemisch der nachstehend gezeigten Formulierung wurde einer Ultraschallanwendung während 10 min unterzogen, unter Bildung einer homogen dispergierten Lösung.

15

Gew.-Teile

Zinkoxidpulver. 100

10 % wässrige Lösung von
Al (NO₃J₃.9H₂O

Wasser 100

Al (NO₃J₃.9H₂O 5

Nach dem Trocknen dieser dispergierten Lösung während

1 h bei 110°C wurde sie während 5 min bei 600⁰C unter

-4 -4

1,33 χ 10 mbar (1 χ 10 Torr) gesintert, wobei man

ein elektrisch lcitfähige^ Zinkoxidpulver mit einem ^2f} spezifischen Widerstand von 2 χ 10 -TL.cm erhio.lt. Das Zinkoxidpulver wurde mit einer Kugelmühle gebrochen zur Erzielung feiner Teilchen von 0,3 um bzw. ρ durchschnittlicher Teilchengröße.

Ein Gemisch der nachstehenden Formulierung wurde 1 h mittels einer Anstrichmittel-Schüttelvorrichtung dispergiert, unter Erzielung einer Dispersion.

Gew.-Teile

Elektrisch leitfähige Zinkoxid-Feinteilchen

Nitrocellulose MEK

Zu der resultierenden Dispersion wurden 60 Gew.-Teile Aceton und 60 Gew.-Teile Methanol gefügt, worauf gerührt wurde, unter Erzielung einer Überzugslösung.

Die so hergestellte Überzugslösung wurde auf einen 127 pm bzw. u dicken Ccllulosetriacetat-Follentrüger in einer Menge von 20 ml/m aufgetragen und 10 min bei 120°C getrocknet.

Auf die so hergestellte Schicht wurde weiter eine Überzugslösung mit der nachstehenden Formulierung in einer Menge von 10 ml/m² aufgeschichtet und getrocknet

	Gew.-Texle
Cellulosediacetat	1
Aceton	100
Methanol	60
Behensäureamid	O,O1

Die so hergestellte Schicht wird nachstehend als Rückschicht bezeichnet.

³^ Auf die entgegengesetzte Seite des Trägers wurde ein

übliche Silberhalognidemulsion zur Mikrophotographie

aufgeschichtet, nachdem zuerst eine Gelatineunterschicht aufgetragen wurde.

Der Oberflächenwiderstand der Rückschicht betrug

3x10 JX bei 25°C und 10 % relativer Feuchtigkeit, mit ausgezeichneten antistatischen Eigenschaften.

Vorstehend wurde die Erfindung anhand spezieller Ausführungsformen beschrieben, die jedoch keine Einschränkung darstellen sollen.

Claims

Patentansprüche

A.J Photographisches lichtempfindliches Material, enthaltend einen Kunststoffträger, mindestens eine photographische lichtempfindliche Emulsionsschicht auf einer Seite des Trägers und eine antistatische Schicht auf der anderen Seite des Trägers , worin die antistatische Schicht ein Bindemittel und feine Teilchen von mindestens einem kristallinen Metalloxid enthält, ausgewählt aus der Gruppe von ZnO, TiO„, SnO^, Al₅₁O₃, In₃O₃, SiO_2/MgO, BaO und MoO., oder einem zusammengesetzten Oxid davon.
2. Photographisches lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, in dem das Metalloxid ein Dotierungsmittel oder Sauerstoffmangelstellen bzw. Sauer-

TELEFON (0 89) 222862

TELEX 03-59 38O

—2—
fehlstellen enthält.
3. Photographisches lichtempfindliches Material nach Anspruch 2 ,in dem das Metalloxid ein Dotierungsmittel enthält.
4. Photographisches lichtempfindliches Material nach Anspruch 3, in dem das Metalloxid ZnO und das Dotierungsmittel Al oder In ist, das Metalloxid ^Ti02 ^und ^^as ^Dotierun9^{smittel Nb} oder Ta ist oder, das Metalloxid SnO₂ und das Dotierungsmittel Sb, Nb oder ein Halogenelement ist.
5. Photographisches lichtempfindliches Material nach Anspruch 3 oder 4, in dem die Menge des Dotierungsmittels 0,01 bis 30 Mo1-% beträgt.
6. Photographisches lichtempfindliches Material nach Anspruch 3 oder 4, in dem die Menge des Dotierungsmittels 0,1 bis 10 Mol-% beträgt.
7. Photographisches lichtempfindliches Material nach Anspruch 1,2, 3 oder 4, in dem die Menge der Metalloxidteilchen in der antistatischen Schicht 0,05 bis 20 g/m² beträgt.
8. Photographisches lichtempfindliches Material nach Anspruch 1,2, 3 oder 4, in dem die Menge der Metalloxidteilchen in der antistatischen Schicht 0,1 bis 10 g/m² beträgt.
9. Photographisches lichtempfindliches Material nach Anspruch 5, in dem die Menge der Metalloxidteilchen in der antistatischen Schicht 0,05 bis 20 g/m² beträgt.

■~
10. Photographisches lichtempfindliches Material nach Anspruch 5, in dem die Menge der Metalloxidteil-

2 chen in der antistatischen Schicht 0,1 bis 10 g/m

beträgt. 5
11. Photographisches lichtempfindliches Material nach Anspruch 6, in dem die Menge der Metalloxiteilchen 0,05 bis 20 g/m² beträgt.
12. Photographisches lichtempfindliches Material nach Anspruch 6, in dem die Menge der Metalloxidteilchen in der antistatischen Schicht 0,1 bis 10 g/m beträgt.