DE3043911C2 - Elastomeres Gemisch und dessen Verwendung zur Herstellung von flexiblen Photopolymer-Druckplatten - Google Patents

Elastomeres Gemisch und dessen Verwendung zur Herstellung von flexiblen Photopolymer-Druckplatten

Info

Publication number
DE3043911C2
DE3043911C2 DE3043911A DE3043911A DE3043911C2 DE 3043911 C2 DE3043911 C2 DE 3043911C2 DE 3043911 A DE3043911 A DE 3043911A DE 3043911 A DE3043911 A DE 3043911A DE 3043911 C2 DE3043911 C2 DE 3043911C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
styrene
butadiene
plate
weight
mixture
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE3043911A
Other languages
English (en)
Other versions
DE3043911A1 (de
Inventor
Deborah L. Waterbury Conn. Allen
Milton Bethany Conn. Farber
John Litchfield Conn. Skewis
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
P T Sub Inc
Original Assignee
Uniroyal Inc 10020 New York NY
Uniroyal Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Uniroyal Inc 10020 New York NY, Uniroyal Inc filed Critical Uniroyal Inc 10020 New York NY
Publication of DE3043911A1 publication Critical patent/DE3043911A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE3043911C2 publication Critical patent/DE3043911C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106—Binder containing
    • Y10S430/108—Polyolefin or halogen containing

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)

Description

2. Elastomeres Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das photopolymerisierbare Vernetzungsmittel (B) aus der Reihe Athylenglykoldiacrylat, Äthylenglykoldimethacrylat, Diäthylenglykoldiacrylat, Diäthylenglykoldimethacralat, 1,4-Butandiodiacrylat, 1,4-Butandioldimethacrylat, 1,6-Hexandioldiacrylat, 1,6-Hexandioldimethacrylat, Trimethylolpropantriacrylat, Trimethylolpropantrimethacrylat oder Mischungen davon ausgewählt ist
3. Elastomeres Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Photoinitiator (C) aus der Reihe Benzophenon, Q — Cs-Alkyläther von Benzoin, Benzil, Ci-Cs-Alkylmonoketale von Benzil und 2^-Dimethoxy-2-|phenylacetophenon ausge-40 wählt ist
4. Verwendung des elastomeren Gemisches nach einem der Ansprüche I! bis 3 zur Herstellung von flexiblen Photopolymer Druckplatten.
45
Die Erfindung betrifft ein elaslomeres Gemisch, das zur Herstellung von flexiblen Photopolymer-Druckpiat- x ten verwendet wird, die für den Einsatz in einem flexografischen Drucksystem vorgesehen sind. Der flexografische Druck oder Flexodruck ist ein Verfahren des Rotations-Hochdrucks, bei dem flexible, elastomere Druckplatten eingesetzt werden. Bei diesem System ss wird die Druckplatte direkt von den erhabenen Oberflächen der elastomeren Platte auf das zu bedruckende Material übertragen.
Aus der US-PS 27 60863 ist ein Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern au» einem photopolyme- *° risierbaren System, in dem enn polymeres Verdickungsmittel oder Füllmaterial, ein durch Additionspolymerisation polymerisierbares Monomeres und ein Photopolymerisations-lnitiator enthalten sind, bekannt.
Aus der US-PS 30 24 180 und CA-PS 6 14 181 sind65 Reliefplatten auf Basis von Polymeren von 1,3-Butadien und halogensubstituiertem 13-Butadien bekannt, und es werden Copolymerisate davon mit Arylolefinen, beispielsweise mit Styrol, Acrylestern und Nitrilen, erwähnt/ : = !-" ' ■""'
Aus der US-PS 36 74 486 sind Druckplattenmassen auf Basis von Blockcopolymerisatioh von Styrol und Polybutadien (SBS) oder Polyisopren, (SIS) bekannt
Aus d^r US-PS 37 64 324 ist eine DruckpJättenfonnulierung bekannt, die aus einem Butadien öder Acrylnitril enthaltenden, ungesättigten Polymeren und einem Butadien oder Acrylnitril enthaltenden, gesättigten Polymeren sowie einem gesättigten, halogenierten Polymeren wie Polyvinylchlorid besteht Diese Druckplattenformulierung führt zu einer harten, lösungsmittelbeständigen Platte.
Die nach dem bekannten Verfahren hergestellten Photopotymer-PIatten sind jedoch noch nicht hinsichtlichaller Gebrauchseigenschaften befriedigend.
Aufgabe der Erfindung ist die Bereitstellung eines elastomeren Gemisches, aus dem flexiule Photopolymer-Druckplatten hergestellt werden können, die gute Lösungsmittelbeständigkeit eine große Auswahl in bezug auf die Werte der mit einem Durometer gemessenen Härte, eine kurze Verarbeitungszeit der Platte, Beständigkeit gegenüber RiBbildung und gegenüber einer Nachhärtung, eine gute Farbstabilität und eine gute Abriebbeständigkeit aufweisen, wobei mit den Platten gut aufgelöste Kopien erhalten werden können.
Die Lösung der erfindungsgemäßen Aufgabe ist in den Patentansprüchen definiert
Die chemische Natur der 3 Grundmaterialien (A), (B) und (C) kann variiert werden, und falls dies notwendig ist, können zusätzliche Bestandteile hinzugegeben werden, um die Plattenherstellung und Gebrauchseigenschaften, insbesondere die Qualität der Drucke, zu verbessern. Die Befähigung der durch den Bestandteil (A) gebildeten Polymermatrix zum Aufnehmen solcher Zusatzstoffe stellt einen großen Vorteil dar, da Polymer-Platten bei vielen verschiedenen Typen von Druckverfahren eingesetzt werden, bei denen ganz verschiedene Eigenschaften erforderlich sind.
Das erfindungsgemäße, elastomere Gemisch kann in Form einer photopolymerisierbaren Schicht ausgebildet werden, die gegebenenfalls auf eine Trägerschicht aufgeklebt ist Die photopolymerisierbare Schicht wird durch ein ein Bild tragendes Verfahrens-Diapositiv, das. aus im wesentlichen durchsichtigen und aus lichtundurchlässigen Flächen besteht und mit der photopolymerisierbaren Schicht in innige Berührung gebracht worden ist, hindurch aktinischer Strahlung ausgesetzt. Durch die Bestrahlung wird in den Flächen der photopolymerisierbaren Schicht, die unter den durchsichtigen Flächen des bei dem Verfahren eingesetzten Diapositivs liegen, das photopolymerisierbare Gemisch unlöslich gemacht, während das photopolymerisierbare Gemisch in den unbelichteten Flächen der photopolymerisierbaren Schicht, die unter den lichtundurchlässigen Flächen des Diapositivs liegen, im wesentlichen nicht unlöslich gemacht wird. Nach dieser Bestrahlung wird der Gegenstand mit einem Lösungsmittel wie einem halogenierten Kohlenwasserstoff behandelt, wodurch die unbelichteten, löslichen Flächen der Platte entfernt werden. Die erhaltene Reliefoberfläche kann nun entweder als Platte oder in Zylinderform zum Drucken eingesetzt werden.
Die bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung werden nachstehend näher erläutert. Die für die flexiblen Photopolymer-Druckplatten eingesetzte, elastomere Polymermatrix ist ein chiorsülfoniertes Polyäthylen oder eine Mischung davon. Die chlorsulfonier-
ten Polyäthylene, die iny erfindungsgerriäßen Sinne eingesetzt werden ,können, werden in .Rubber World 1979 Blue Book, Materials, Compounding Ingredients, arid Machinery for: Rubber, Seite 343 beschrieben. Sie werden mit CSM bezeichnet und haben eine Dichte von 1,14; 1,18; 1,11 bzw.; 1,26 und bei 100°C eine Mooney-Viskosität, ML-4, mit dem Wert 30; 55; 40 bzw. 77. Das chlorsulforuerte Polyäthylen hat vorzugsweise eine Mooney-Viskosität, ML-4, zwischen 30 und 77. Diese synthetischen Kautschuke sind unter dem Handelsnamen Hypälon*.mit den Kennzahlen 20; 40; 45 bzw. 48 erhältlich. Diese Polymere enthalten etwa 25 bis 43% Chlor und 1,0 bis etwa 1,5% Schwefel, auf das Gewicht des Polymeren bezogen, wobei bei einem Schwefelgehalt von 1,0 bis 1,5% der Chlorgehalt vorzugsweise bei 25 bis 35% liegt.
Es.ist bekannt, daß Systeme, die durch einen unter Beteiligung freier Radikale ablaufenden Mechanismus vernetzt werden, für Photopolymer-Druckplatten unentbehrlich sind, we>l der damit verbundene Aushärtungsprozeß durch Ultraviolettstrahlung unter Erzeugung einer Radikal-Spezies ausgelöst wird. Es ist jedoch unwahrscheinlich, daß ein Fachmann für diesen Anwendungszweck Hypalon ausgewählt hätte, weil bei allen Aushärtungsprozessen für Hypalon freie Radikale vermieden werden.Tatsächlich wird im Hypalon Report Nr. 13, Rubber Chemistry and Technology, Oktober-November 1963, festgestellt, daß bei den schwefelfreien Metalloxid-Aushärtungssystemen für Hypalon, die mit einer ionischen Vernetzung verbunden sind, freie Radikale abfangende Substanzen eingeführt werden, um die Sulfonylchloridgruppen von Hypalon gegen eine Zersetzung durch Radikale abzaschirm.-n. Wie in dem Hypalon Report Nr. 13 festgesull» wird, würde ein Verlust von Aushärtungsstellen in Ροητί'■ on Sulfonyl- ·*5 chloridgruppen eine wirksame Bildung der Metallsulfonat-Vernetzungen, die für eine geeignete Aushärtung von Hypalon erforderlich sind, verhindern. Die erfindungsgemäße Feststellung, daß Hypalon oder Mischungen davon für einen unter Beteiligung freier Radikale photochemisch aushärtenden Gegenstand geeignet sind, ist daher vollkommen überraschend.
Die chlorsulfoniert^ Polyäthylene sind in einzigartiger Weise zur Anwendung für flexible Druckplatten geeignet, da sie gegenüber Kohlenwasserstoff-Lösungsmitteln widerstandsfähig sind, was einen Hauptvorteil der Nitrilkautschuk-Platten darstellt, und da sie auch kürzere Verarbeitungszeiten haben, was einen Vorteil der SBS- und der SIS-Blockcopolymerisat-PIatten darstellt. Die Platten auf Basis von CSM haben eine gute Lösungsmittelbeständigkeit und neigen nicht zur Rißbildung; sie ergeben Kopien mit guter Auflösung; sie zeigen Beständigkeit gegenüber Ozon, wodurch eine Nachaushärtung verhindert wird; sie haben eine gute Farbstabilität beim Altern und zeigen eine hohe Abriebbeständigkeit. CSM ist mit SBS- und SIS-Blockcopolymerisaten, Nitrilkautschuken, Polybutadienen, ungesättigten, als Monomere eingesetzten Estern, Photoinitiatoren, Füllmaterialien wie Siliciumdioxid und Verarbeitungs-Hilfsmitteln wie Struktor® 60 NS und WB 212, beschrieben in Rubber World 1979 Blue Book, < Seite 124 und Seite 172, verträglich. Infolge dieser Verträglichkeit kann CSM in Mischungen eingesetzt werden, wodurch die Vorteile der meisten bekannten, auf anderen Polymeren basierenden Druckplatten kombiniert werden können, wobei jedoch weniger Mangel auftreten. CSM kann bei einer niedrigen Temperatur verarbeitet werden, wodurch eine Zersetzung von Monomerem verhindert wird.
Besonders geeignet in Mischungen mit CSM sind Butadien-Acrylnitril-Copolymerisate, wie sie nach dem aus der US-PS 19 37 000 bekannten Verfahren hergestellt werden, Butadien-Styrol-Copolymerisate und Blockcopolyraerisate von Butadien oder Isopren mit Styrol des SBS- und SIS Typs, wie sie nach dem aus der US-PS 32 65 755 bekannten Verfahren hergestellt werden, und chloriertes Polyäthylen.
Um elastomere Eigenschaften beizubehalten, sollten diese Copolymerisate mindestens 50 Gew.-% des Diens enthalten. Im Fall von Nitrilkautschuk enthält das Copolymerisat 2 bis 50 Gew.-% und vorzugsweise 20 bis 40 Gew.-% copolymerisiertes Acrylnitril und als Rest 13-Butadien.
Bei einem Styrol-Butadien-Copotymerisatkautschuk enthält das Copolymerisat 21 bis 45% copolymerisiertes Styrol. Bei einem Styrol-Butadien-Styrol- oder Styrol-Isopren-StyroI-BIockcopolymerisat enthält das Copolymerisat 10 bis 40% copolymerisiertes Styrol.
Zu Beispielen für photopolymerisierbare Vernetzungsmittel (B), die für den erfindungsgemäßen Einsatz geeignet sind, gehören Ester von Polyolen mit Acrylsäure und Methacrylsäure, z. B.
Äthylenglykoldiacrylat, Diäthylenglykoldiacrylat, Glycerindiacrylat, Glycerintriacrylat, Mannitpolyacrylat, Sorbitpolyacrylat, Äthylenglykoldimethacrylat,
1,3- Propandioldimethacrylat,
1,2,4-ButantrioItrimethacryIat,
1,4-Butandioldiacrylatimd-dimethacrylat,
1,4-Cyclohexandioldiacrylat,
Hydrochinondimethacrylat, Isosorbidendiacrylat, Pentaerythrit-di-, -tri- und -tetramethacrylat, Dipentaerythritpolyacrylat, Pentaerythrit-di-, -tri- und -tetraacrylät,
1,3-PropandioIdiacryIat,
1,6-HexandioldiacryIat und -dimethacrylat,
1,5-Pentandioldimethacrylat,
Trimethylolpropantriacrylat,
die Bisacrylate und Methacrylate von
Polyäthylenglykolen mit einem
Molekulargewicht von 200 bis 4000;
ungesättigte Amide aus Acrylsäure und Methacrylsäure und Polyaminen, insbescndere α,ω-Diamine und der ω-Diamine mit durch Sauerstoff unterbrochenen C-Ketten, wie
Methylenbisacrylamid, Meihylenbismethacrylamid, Äthylenbismethacrylamid,
1,6-HexamethyIenbisacrylamid,
Diäthylentriamintrismethacrylamid,
l,2-Di-()'-methacryIamidopropoxy)-äthan,
/f-Methacrylamidoäthylmethacrylat,
N-(/?-Hydroxyäthyl)-2-(methacrylainido)-äthylacrylat und
N.N-Bis^'methacrylyloxyäthyOacrylamid.
Eine geeignete Gruppe von photopolymerisierbaren Vernetzungsmitteln sind Ester und Amide von Acryl- und Methacrylsäure mit Polyolen bzw. Polyaminen, bei denen die Molekülketten zwischen den Hydroxyl- und den Amingruppen nur aus Kohlenstoffatomen oder aus Kohlenstoffatomen, die durch Sauerstoffatome unterbrochen sind, besteht. Bevorzugte Vernetzungsmittel
30
(B) sind im Patentanspruch 2 aufgeführt
Die geeigneten Additionspolymerisations- und/oder Verhetzungs-Initiatoren sind durch aktinisches Licht aktivierbar und bei und unter i85°C thermisch inaktiv. Beispiele dafür sind aromatische Ketone wie Benzophenon und substituierte Benzophenone und die substituierten oder unsubstituierten, mehrkernigen Chinone, bei denen es sich um Verbindungen handelt die· zwei intracycJische Carbonylgruppen enthalten, die an mtracyclischen Kohlenstoffatomen in einem konjugier- !0 ten, sechsgliedrigen, carbocyclischen Ring hängen, .wobei mindestens ein aromatischer, carbocyclischer Ring mit dem Ring, der die Carbonylgruppen enthält kondensiert ist Geeignete Beispiele für solche Initiatoren sind
9,10-Anthrachinon,
1-Chloranthrachinon,
• 2-Chloranthrachinon,
2-MethyIanthrächmön,
2-t-Butylanthrachinon,
Octamethylanthrachinon,
1,4-Naphthochinon,
9,1 O-Phenanthrenchinon,
1,2-Benzanthrachinon,
23-Benzanthrachinon,
2-MethyI-l,4-naphthochinon.
23-DichIornaphthochinon,
1 /♦-Dimethylanthrachinon,
23-Dimethylanthrachinon,
2-Phenylanthrachinon,
23-Diphenylanthrachinon,
das Natriumsalz von Anthrachinon-a-sulfonsäüre,
S-Chlor^-methylanthrachinon, Retenchinon,
733.10-Tetrahydronaphthacenchinon und
1,23,4-Tetrahydrobenz[a]anthracen-7,l 2-dion.
Andere Photoinitiatoren, die auch geeignet sind, werden in der US-PS 27 60 863 beschrieben. Zu diesen gehören vicinale Ketaldonylverbindungen wie Diacetyl und Benzil- α-Ketaldony!alkohole wie Benzoin und Pivaloin; -to Acyloinäther, z. B. Benzoinmethyl- und -äthyläther; a-kohlenwasserstoffsubstituierte, aromatische Acyloine, zu denen «-Methylbenzoin, «-Allylbenzoin und «-Phenylbenzoin gehören, und 2,2-Dialkoxy-2-phenylacetophenon. Bevorzugte Photoiniatoren (C) sind im Patentanspruch 3 aufgeführt
Die Menge des mit CSM vermischten, elastomeren Polymeren beträgt 5 bis 50% und vorzugsweise 10 bis 30%, auf den Gesamt-EIastomergehalt bezogen. Die Menge des photopolymerisierbaren Vernetzungsmittels so (B) beträgt 5 bis 50 Teile und vorzugsweise 10 bis 20 Teile pro 100 Teile des gesamten Elastomeren. In ähnlicher Weise beträgt der Bereich für den Photoinitiator (C) 0,1 bis 5 Teile und vorzugsweise 1 bis 4 Teile pro 100 Teile des gesamten Elastomeren.
Das elastomere Gemisch wird hergestellt indem man die Grundmaterialien entweder in einer offenen Mahlvorrichtung oder in einem Innenmischer ausreichend lange vermischt, um die Bestandteile homogen in die Masse einzumischen, was im allgemeinen einige Minuten dauert. Die Masse wird dann zur Erzielung der gewünschten Dicke in Plattenform formgepreßt oder stranggepreßt Die Platte wird durch ein photographisches Diapositiv hindurch mit einer UV-Lichtquelle hoher Intensität über eine Zeitdauer belichtet, die ausreicht, um die belichteten Flächen auszuhärten, dis in einem lösungsmitu !beständigen Zustand zurückbleiben. Die unbelichteten Flächen werden dann durch Bürsten
qder üurchtWaschen mit Lösungsmitteln entfernt, wobei das''beachtete, unlösliche CSM-Netzwerk als Reliefpiattenbiliil.zurückbleibt Die Platte wird dann In einer Trockenvorrichtung mit Luftumwälzung getrocknet
Das zum Tragen der photopolymerisierbaren Schicht dienende Substrat muß dimensionsstabil und lösungsmittelbeständig sein, Beispiele für gebräuchliche Substrate sind Bleche, beispielsweise aus Aluminium, und Kunststoffe wie Polyester und Polyamide.
Die Erfindung wird durch die nachstehenden Beispiele näher erläutert Die Angaben in Prozent beziehen sich auf den Gesamt-EIastomergehalt
Beispiel 1
Eine Formulierung, die 100 Teile Hypalon® 40, 20% Trimethylolpropantriacrylat (TMPTA) und 1,8% Benzophenon enthielt wurde djjrch 30minütiges Vermischen der Bestandteile auf einer Zweiwalzenmühle bei 933°C hergestellt Die Mischung wurde dann unter Bildung einer Platte n>;* den Abmessungen 15,2 cm χ 15,2 cm χ 1.78 mm. üJe auf einer Seite ein Polyester-Substrat mit einer Dicke von 127 μπι aufwies, formgepreßt Die Platte wurde 1 min lang auf der Rückseite und 8 min lang auf der Vorderseite durch ein Diapositiv hindurch unter Anwendung einer Ultravioiett-Belichtungseinheit belichtet Die unbelichteten Flächen wurden in einer Drehbürsten-Wascheinheit mit Perchloräthylen als Lösungsmittel entfernt Die Platte wurde 20 min lang bei 65,6°C in einem Ofen getrocknet Die verarbeitete Platte hatte eine gute Auflösung, eine Relieftiefe von 787 μπι und eine Shore A-Durometerhärte mit dem Wert 61. Die festen Flächen bildeten keine Risse, als die Platte um 180° auf sich selbst zusammengebogen wurde.
Beispiel 2
Unter Anwendung des Verfahrens von Beispiel wurde eine Formulierung, die 100 Teile Hypalon® 40, 20% 1,6-Hexandioldiacrylat (HDDA), 1,8% Benzophenon und 2% Siliciumdioxid als Füllmaterial enthielt, durch I2minütiges Vermischen der Bestandteile auf der Mahlvorrichtung bei 933° C hergestellt Die daraus gebildete Platte wurde 12 min lang auf ihrer Vorderseite und 1 min lang auf ihrer Rückseite belichtet Die verarbeitete Platte hatte eine Rtlieftieft- von 762 μπι, eine gute Auflösung und eine Shore A-Durometerhärte mit dem Wert 56, und sie bildete keine Risse, als sie um 180° gebogen wurde.
Beispiel 3
Unter Anwendung des Verfahrens von Beispiel 1 wurde eine Masse hergestellt, die eine Mischung von 80 Teilen Hypalon" 40 und 20 Teilen chloriertem Polyäthylen (Dow® CMO136) enthielt, der 10% TMPTA, 10% HDDA und 1,8% Benzophenon beigemischt waren. Die Temperatur der Mahlvorrichtung betrug 933°C. Die Vorderseite wurde 10 min lang und die Rückseite wurde 1 min lang belichtet. Die Platte hatte eine Rclieftiefe von 864 μπι, eine gute Auflösung und eine Shore A-Durometerhärte mit dem Wert 70, und sie bildete keine Risse, als sie um 180° gebogen wurde.
Beispiel 4
Wie in Beispiel 1 wurde auf der Mahlvorrichtung eine Mischung aus 80 Teilen Hypalon® 40, 20 Teilen Naturkautschuk (SMR5CV), 20% HDDA, 2% Siliciumdioxid als Füllmaterial und 1.8% Benzoohenon heree-
stellt und zu einer Platte geformt. Die Vorderseite wurde 14 min lang und die Rückseite wurde 1,5 min lang belichtet. Die Platte hatte eine Relicftiefe von 914 μηι, eine gute Auflösung und eine Shore A-Duromcterhärte mit dem Wert 58, und sie bildete keine Risse, als sie um ■> 180° gebogen wurde.
Beispiel 5
Nach dem Verfahren von Beispiel I wurde eine Platte hergestellt, die 100 Teile Hypalon18 40 mit 10% TMPTA in und 3,6% Benzophenon enthielt. Die Vorderseite wurde 6 min lang und die Rückseite wurde 2 min lang belichtet. Die Platte hatte eine Reliefticfe von 686 μπι, eine gute Auflösung und eine Shore A-Durometerhärte mit dem Wert 47, und sie bildete keine Risse, als sie um 180° gebogen wurde.
Beispiel 6
Nach dem Verfahren vors Beispiel ! wurde eine Mischung aus 50 Teilen Hypalon® 40 und 50 Teilen eines 2» Blockcopolymerisats von Styrol und Isopren (Kraton* 1107), die 10% HDDA und 2% 2,2-Dimethoxy-2-phenylacetophenon (DMPAP) enthielt, hergestellt und zu einer Platte geformt. Die Vorderseite wurde 8 min lang und die Rückseite wurde 30 s lang belichtet. Die Platte hatte eine Relieftiefe von 406 μπι, eine gute Auflösung und eine Shore A-Durometerhärte mit dem Wert 36, und sie bildete keine Risse, als sie um 180° gebogen wurde.
Beispiel 7
Unter Anwendung des Verfahrens von Beispiel 1 wurde aus einer Mischung von 50 Teilen Hypalon® 40, 50 Teilen eines Blockcopolymerisats von Styrol und Butadien (Kraton« 2104), 10% HDDA und 2% DMPAP eine Platte geformt. Die Vorderseite wurde 8 min lang und die Rückseite wurde 15 s lang belichtet. Die Platte hatte eine Relieftiefe von 787 μπι, eine gute Auflösung und eine Shore A-Durometerhärte mit dem Wert 53\ und sie bildete keine Risse, als sie um 180° gebogen wurde. -ίο
Beispiel 8
Unter Anwendung des Verfahrens von Beispiel 1 wurde aus einer Mischung von 50 Teilen Hypalon® 40, 50 Teilen eines Butadien-Acrylnitril-Kautschuks mit einem Acrylnitrilgehalt von 29,5Teilen pro lOOTeiledes Kautschuks, 10% HDDA und 2% DMPAP eine Platte geformt. Die Vorderseite wurde 8 min lang und die Rückseite wurde 15 s lang belichtet. Die Platte hatte eine Relieftiefe von 711 μιτι, eine gute Auflösung und eine Shore A-Durometerhärte mit dem Wert 51, und sie bildete keine Risse, als sie um 180° gebogen wurde.
Beispiel 9
Nach dem Verfahren von Beispiel I wurde aus einer Mischung von 50 Teilen Hypalon® 40, 50 Teilen Polybutadien-Kautschuk, 10% HDDA und 2% DMPAP eine Platte gebildet. Die Vorderseite wurde 4 min lang und die Rückseite wurde 15 s lang belichtet. Die Platte hatte eine Reliefliefe von 965 μπι, eine gute Auflösung und eine Shore A-Durometerhärte mit dem Wert 65, und sie bildete keine Risse, als sie um 180° gebogen wurde.
Die nachstehende Tabelle zeig! d:c überlegene Beständigkeit von Platten aus chlorsulfoniertem Polyäthylen gegenüber Lösungsmitteln für Druckfarben im Vergleich mit führenden, im Handel erhältlichen Produkten.
10 Probe
Volumenänderung CO) nach 4 h in
Hexan Cello- η-Pro- Äthylsolve panol acetat
Cyrel* 284 3 -1 86
Flex-Light* - 6 20 3 120
Beispiel 1 - 28 4 0 70
Beispiel 2 - 25 5 0 65
Daschlorsulfonierte Polyäthylen verleiht eine bessere Beständigkeit gegenüber den üblicherweise in Druckfarben eingesetzten Lösungsmitteln, als bei den beiden führenden Flexodruck-Photopolymerplatten festgestellt werden kann. Zusätzlich zu der überlegenen Lösungsmittelbeständigkeit zeigen die erfindungsgemäß hergestellten Druckplatten keine Neigung zur Rißbildung, und sie führen zu einer guten Auflösung der Kopien, sind gegen eine Nachaushärtung stabil und zeigen eine gute Farbstabilität und eine gute Abriebbeständigkeit.

Claims (1)

  1. Patentansprüche:
    L Elastomeres Gemisch bestehend aus
    (A) 94,9-45,0 Gew.-% chlorsulfoniertes Polyäthylen, das 25—43 Gew.-% Chlor und 1 bis 1,5 Gew.-% Schwefel enthält oder eine Mischung von chlorsulfoniertem Polyäthylen mit 5—50 Gew.-% eines aus: Butadien-Acrylnitril, Butadien-StyroL Styrol-Butadien-Styrol-BIockcopolymerisat, Styrol-Isopren-Styrol-Blockcopolymerisat, 1,4 Poly-Butadien, 1,2-Polybutadien, chloriertem Polyäithylen und Naturkautschuk ausgewählten Elastomeren. ■' «5
    (B) 5—50 Gew.-%, bezogen auf den Gesamtelastomergehalt, eines photopolymerisierbaren Vemetzungsmittels; aus der Reihe Ester von Acryl- und Methacrylsäure oder Mischungen davon und ungesättigte Amide aus Acryl- oder Methacrylsäure und Polyaminen,
    (C) 0,1 -5 Gew.-%, auf den Gesamtelastomergehalt bezogen, eines; durch aktinische Strahlung aktivierbaren Photoinitiators sowie
    (D) ggf. geringe Mengen Siliciumdioxid als Füllstoff.
DE3043911A 1979-11-21 1980-11-21 Elastomeres Gemisch und dessen Verwendung zur Herstellung von flexiblen Photopolymer-Druckplatten Expired DE3043911C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/096,608 US4265986A (en) 1979-11-21 1979-11-21 Photopolymerizable composition containing chlorosulfonated polyethylene

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3043911A1 DE3043911A1 (de) 1981-06-19
DE3043911C2 true DE3043911C2 (de) 1983-11-17

Family

ID=22258189

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE3043911A Expired DE3043911C2 (de) 1979-11-21 1980-11-21 Elastomeres Gemisch und dessen Verwendung zur Herstellung von flexiblen Photopolymer-Druckplatten

Country Status (7)

Country Link
US (1) US4265986A (de)
JP (1) JPS56127605A (de)
BR (1) BR8007510A (de)
CA (1) CA1135108A (de)
DE (1) DE3043911C2 (de)
GB (1) GB2063901B (de)
IT (1) IT1129893B (de)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0772795B2 (ja) * 1986-03-31 1995-08-02 日本ゼオン株式会社 感光性エラストマ−組成物
DE3785019T2 (de) * 1986-12-27 1993-10-21 Toyo Boseki Lichtempfindliche Lackzusammensetzung.
DE3740432A1 (de) * 1987-11-28 1989-06-08 Hoechst Ag Lichtempfindliche druckplatte fuer den flexodruck
DE3810096A1 (de) * 1988-03-29 1989-10-05 Kendall & Co Verfahren zum verbinden zweier substrate und dafuer geeignete zusammensetzung
GB2241915A (en) * 1990-03-17 1991-09-18 Scapa Group Plc Production of perforate structures.
US6916596B2 (en) 1993-06-25 2005-07-12 Michael Wen-Chein Yang Laser imaged printing plates
US6756181B2 (en) 1993-06-25 2004-06-29 Polyfibron Technologies, Inc. Laser imaged printing plates
US5846691A (en) 1996-07-08 1998-12-08 Polyfibron Technologies, Inc. Composite relief image printing plates and methods for preparing same
US6312872B1 (en) 1997-10-24 2001-11-06 Macdermid Graphic Arts Composite relief image printing plates
CA2308757C (en) * 1997-10-24 2008-01-08 Polyfibron Technologies, Inc. Composite relief image printing plates
WO2004090005A1 (en) * 2003-04-03 2004-10-21 Vocfree, Inc. Voc free latex coalescent systems
CN115716885B (zh) * 2022-12-07 2024-01-30 上海暄洋化工材料科技有限公司 光固化氯磺化聚乙烯及其合成方法和光固化方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE525225A (de) * 1951-08-20
US3024180A (en) * 1959-08-17 1962-03-06 Du Pont Photopolymerizable elements
US3674486A (en) * 1970-02-02 1972-07-04 Little Inc A Photoresist material and method of forming printing plates and resulting product
US3764324A (en) * 1972-04-13 1973-10-09 Mc Call Corp Photographic polymer composition and process for crosslinking
AU476446B2 (en) * 1974-04-18 1976-09-23 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd Photosensitive composition
US4162919A (en) * 1974-11-29 1979-07-31 Basf Aktiengesellschaft Laminates for the manufacture of flexographic printing plates using block copolymers
JPS5179342A (de) * 1974-12-26 1976-07-10 Fuji Photo Film Co Ltd
US4045231A (en) * 1975-03-15 1977-08-30 Tokyo Ohka Kogyo Kabushiki Kaisha Photosensitive resin composition for flexographic printing plates

Also Published As

Publication number Publication date
GB2063901B (en) 1984-04-18
CA1135108A (en) 1982-11-09
JPS56127605A (en) 1981-10-06
GB2063901A (en) 1981-06-10
BR8007510A (pt) 1981-06-02
IT8068791A0 (it) 1980-11-21
IT1129893B (it) 1986-06-11
DE3043911A1 (de) 1981-06-19
US4265986A (en) 1981-05-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2939989C2 (de) Lichtempfindliches Gemisch und flexographische Druckplatte
DE2517034C3 (de) Photopolymerisierbares Gemisch
DE3012841C2 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und vorbeschichtete Druckplatte für den Flexodruck
DE2650050C2 (de)
DE3043911C2 (de) Elastomeres Gemisch und dessen Verwendung zur Herstellung von flexiblen Photopolymer-Druckplatten
DE2223808A1 (de) Photosensitive Massen fuer die Herstellung von Relief-Druckplatten
DE3049051A1 (de) Fuer die verarbeitung zur bildung einer flexodruck-druckplatte geeigneter mehrfachschicht-gegenstand
DE2215090B2 (de) Fotopolymerisierbares Aufzeich nungsmatenal
EP0076588B1 (de) Syndiotaktische Polybutadienzusammensetzung für lichtempfindliche Druckplatten
EP0833206B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch zur Herstellung von flexographischen Druckformen mit verbesserter Beständigkeit gegenüber UV härtbaren Druckformen
DE2138582A1 (de) Photosensitives Material
EP0208943B1 (de) Verfahren zur Herstellung von klebfreien, glatten Oberflächen von photopolymerisierten Reliefdruckformen für den Flexodruck
DE3043910A1 (de) Elastomerer, fuer druckzwecke geeigneter gegenstand
EP0480335A2 (de) Lichthärtbares elastomeres Gemisch und daraus erhaltenes Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung von Reliefdruckplatten
DE2631837C2 (de) Lichtempfindliches Gemisch, dessen Verwendung zur Herstellung von Flexodruckformen und eine Flexodruckplatte
DE4022980C1 (de)
DE1194707B (de) Zur Herstellung photomechanischer Druckformen bestimmte photopolymerisierbare Platte
EP0256309B1 (de) Verfahren zur Nachbehandlung von Reliefformen
EP0373474B1 (de) Verfahren zur Herstellung einer ozonresistenten Flexodruckform
DE4022979C1 (de)
EP0467136B1 (de) Photopolymerisierbare Druckplatte für Flexodruck
EP0383200B1 (de) Verfahren zur Herstellung von photopolymerisierten Reliefdruckplatten mit klebfreier Oberfäche
EP0373473B1 (de) Photopolymerisierbares elastomeres Gemisch und dieses enthaltendes Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung von ozonresistenten Flexodruckformen
DE1103019B (de) Verwendung von Polymerisations-inhibitoren in bei Einwirkung von Licht vernetzenden Form- und UEberzugsmassen
DE2230969B2 (de) Photoresistmaterial

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
8126 Change of the secondary classification

Free format text: B41N 1/12 C08J 3/24 C08K 5/07

D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: UNIROYAL PLASTICS COMPANY, INC. (N.D.GES.D. STAATE

8328 Change in the person/name/address of the agent

Free format text: TIEDTKE, H., DIPL.-ING. BUEHLING, G., DIPL.-CHEM. KINNE, R., DIPL.-ING. GRUPE, P., DIPL.-ING. PELLMANN, H., DIPL.-ING. GRAMS, K., DIPL.-ING. STRUIF, B., DIPL.-CHEM. DR.RER.NAT. WINTER, K., DIPL.-ING. ROTH, R., DIPL.-ING., PAT.-ANWAELTE, 8000 MUENCHEN

8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: W.R. GRACE & CO.-CONN., NEW YORK, N.Y., US

8328 Change in the person/name/address of the agent

Free format text: TIEDTKE, H., DIPL.-ING. BUEHLING, G., DIPL.-CHEM. KINNE, R., DIPL.-ING. GRUPE, P., DIPL.-ING. PELLMANN, H., DIPL.-ING. GRAMS, K., DIPL.-ING. STRUIF, B., DIPL.-CHEM. DR.RER.NAT., PAT.-ANWAELTE, 8000 MUENCHEN

8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: PT SUB, INC., WILMINGTON, DEL., US

8328 Change in the person/name/address of the agent

Free format text: UEXKUELL & STOLBERG PATENTANWAELTE, 22607 HAMBURG

8339 Ceased/non-payment of the annual fee