DE2248743A1 - Lichtempfindliche druckplatte und verfahren zu deren herstellung - Google Patents
Lichtempfindliche druckplatte und verfahren zu deren herstellungInfo
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Description
PmTEN i'ANWMTS
DR. E. WIEGAND DIPL.-ING. W. NIEMANN
mE^RAMM^KARPATENT 8000 MÖNCHEN 2,
MATHUDENSTRASSE 12
5. Oktober 1972 W 41 344/72 - Ko/DE
Fuji Photo PiIm Co., Ltd., Minami Ashigara-Shi, Kanagawa / Japan
lichtempfindliche Druckplatte und Verfahren zu deren
Herstellung
Die Erfindung befaßt sich mit einer lichtempfindlichen Druckplatte mit einer Grundplatte aus Aluminium
oder einer Aluminiumlegierung.
Gemäß der Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichen Druckplatte, das darin
besteht, daß die Plattenoberfläche aus Aluminium oder einer Aluminiumlegierung aufgerauht wird, kontinuierlich
anodisch die aufgerauhte Platte in einem Elektrolyt,der
etwa 10 bis etwa 35 Gew.-$ Schwefelsäure enthält, bei
etwa 20 bis etwa 400C mit einer Stromdichte von etwa 4 bis etwa 15 A/dm oxidiert wird und ein lichtempfindlicher
Film auf die auf diese Weise anodisier.te Oberfläche der Platte aufgezogen wird, sowie die nach dem angegebenen
Verfahren hergestellte lichtempfindliche Druckplatte angegeben.
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INSPECTED
Wenn eine Aluminiumplatte als Grundlage für eine lichtempfindliche Offset-Druckplatte verwendet wird,
muß mit der Aluminiumplatte eine vorhergehende Behandlung ausgeführt werden, um die Haftung der lichtempfindlichen
aufgezogenen Schicht (Bildschicht) auf der Oberfläche der Aluminiumplatte zu erhöhen. Zu diesem Zweck
wird die Oberfläche der Aluminiumgrundplatte üblicherweise aufgerauht oder chemisch, mechanisch oder elektrochemisch
behandelt, um unregelmäßigkeiten zur Verankerung oder zur Haftung der Bildschicht auszubilden. Die
chemische Aufrauhung der Aluminiumplatte wurde durch eine saure oder alkalische Lösungsätzbehandlung durchgeführt;
die mechanische Aufrauhung wurde durch Schleifen, Sandblasen oder Bürsten mit einer synthetischen
Harzbürate ausgeführt und die elektrochemische Aufrauhung wurde durch eine Wechsels tromelektrolysierbehand'-lung
unter Anwendung einer Ätzlösung, beispieleweise Salzsäure, ausgeführt.
Die auf diese Weise aufgerauhte Aluminiumplattenoberfläche zeigte jedoch kein vollständiges Ausmaß der
Unregelmäßigkeit und der Haftungseigenschaften, die die Erzielung einer Bildschicht ermöglicht hätte, welche zur
Herstellung zahlreicher Bögen von gedrucktem Papier geeignet gewesen wäre. Um die Haftungseigenschaften der
aufgerauhten Oberfläche der Aluminiumplatten zu verbessern, wurde die Aluminiumplattenoberfläche mit einer
wässrigen Alkalisilicatlösung oder einer wässrigen Lösung von Alkalifluoriden von Elementen der Gruppe IY 1,
beispielsweise einer wässrigen Lösung von Kaliumfluorzirkonat,
behandelt, so daß eine durch Umsetzung zwischen diesen Verbindungen gebildete Dünnschicht aasgebildet
wurde, beispielsweise 1) eine durch Umsetzung zwischen dem Alkalisllicat und dem Aluminium gebildete
Dünnschicht oder 2) eine durch Umsetzung zwischen dem
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Kaliumfluorzirkonat und Aluminium gebildete Dünnschicht,
Diese vorhergehend behandelten Aluminimmplatten wa^en
jedoch wirksam nur für lichtempfindliche Schicfeten für die Negativ-Positiv-Arbeit.
Zu dem gleichen Zweck ist es auch bekannt* Al© Aluminiumpia
ttenoberf lache chemisch ©der elektr©chemisch
zur Bildung eines oxidierten ?ilmes hierauf zu behandeln.
Entsprechend ,der chemischen Behandlung wurde die Aluminiumplatte
bei einer höheren Temperatur als 750C mit Wäsiser
oder Wasserdampf zur Ausbildung einer speziell strukturierten
Aluminiumoxidschicht hierauf, die als BöefemitHSchleht
bezeichnet wird, behandelt, di« dazu diente* die feehandelte
Aluminiumplatte als Offset-Druckgrundplatte zu verwenden«
Diese letztere elektrochemische Behandlung, die
gleichfalls bekannt ist, wird einfach als anodisch© Öxidierbehandlung
bezeichnet.
Die durch die angegebenen chemische B'efean&lu&g er*·
haltene oxidierte Schicht wuchs zn keiner größeren Stärke als 0,002/U. Deshalb wurden Hadellöcher durch Oberflächen«
einschlüsse und eine nicht homogene Struktur verursacht und die Beständigkeit gegenüber Erataen oder Eeiben war
niedrig* Solche Schichten sind für den praktischen Gebrauch nicht ausreichend dauerhaft·
Andererseits könnte die Stärke des durch das anodische Oxidations verfahr en gebildeten oxidierten !Filmes
durch den Betrag des angelegten elektrischen Stromes gesteuert v/erden und auch die physikalischeil Eigenschaften
des erhaltenen Filmes könnten durch Ünderung der Elektro-Iysierbedingungen
geändert werden.
Verschiedene Untersuchungen und Forsciiungeft wurden
hinsichtlich derartiger anodisch oxidierter Filme vorgenommen
und berichtet, Beispielsweise ist die Struktur
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derartiger anodisch oxidierter Filme in The Electrochemical
Society, 100 (9)» Seite 411 beschrieben, wonach Bie aus hexagonalen, von der Metalloberfläche
aufstehenden Säulen besteht, wobei feine Poren in der Mitte der Säulen vorliegen. Jede derartige Pore hat
einen Durchmesser von 100 bis 300 Ji und die Poren*
dichte beträgt einige Millionen bis zu einigen ?dhnmillionen
je 1 min Fläche. Der Durchmesser und die
Dichte der Poren werden entsprechend den Elektrolyaierbedingungen geändert, wie sich aus Tabelle I ergibt,
worin der Einfluß der Art des Elektrolyts und der Badspannung (ElektrolysJerspannung) auf dife Porosität engegeben
ist.
Durchmesser der Poren des oxidierten Filmes und Anzahl
der Poren
Elektrolyt Bad tem- Badspan- Durchmesser Anwhl
"(wässrig; ρ era tür nung (V) der goren Poren
Gew.-*) T - ™Tf) TfiWT
20 121
4 ?£-ige Phos- 24 40 . 330 50
phorsäure 60 27
20 230
2 #-ige Oxal- 24 40 170 75
säure 60 37
20 140
3 #-ige Chrom- 38 40 240 52
säure 60 27
15 498
15 $-dge Scnwe- 10 20 120 334
feisäure 30 179
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_ 5 —
Das anodische Oxidierverfahren unter Anwendung von Phosphorsäure oder Schwefelsäure als Elektrolyt
wurde für die vorhergehende Behandlung von Offset-Druckgrundplatten
angewandt. Das anodische Oxidierverfahren unter Anwendung von Phosphorsäure bringt
ausgezeichnete Haftungseigenschaften der erhaltenen oxidierten Filmoberfläche aufgrund der Anionen hervor,
die in der letzteren absorbiert sind. Die Offset-Druck~
grundplattenbehandlung unter Anv/endung von Phosphorsäure ist in einigen Patentschriften beschrieben, beispielsweise
US-Patentschrift 3 511 611, britische Patentschrift 716 402.
Das Phosphorsäureverfahren hat jedoch die folgenden Fehler, wenn es in der Praxis oder im technischen
Maßstab ausgeführt wird.
Es wird keine hohe Stromdichte aufgrund der niedrigen elektrischen leitfähigkeit des Elektrolyslerbades
erzielt.
Eine hohe Badspannung ist für die anodische Oxidation in den eingesetzten verdünnten Lösungen erforderlich.
Da die konzentrierte Lösung eine hohe Yiskosität besitzt, ist eine einheitliche Wärmedispergierung durch
Rühren schwierig, so daß ein Nachbrennen verursacht wird. Die Temperatursteuerung ist schwierig, da bei
hoher Temperatur der oxidierte Film nicht gebildet wird, sondern ziemlich gelöst wird aufgrund der Lösungsmittelwirkung
der Lösung.
Diese Fehler verhindern eine stabile Ausbildung von dicken oxidierten Filmen»
Da die anodisch oxidierten Filme, welche nach dem Phosphorsäureverfahren erhalten werden, sehr hohe Haftungseigenschaften
besitzen, werden einige Fehler beim
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Drucken durch eine zu starke Haftung zwischen dem lichtempfindlichen
Material und dem anodisch oxidierten Film verursacht, so wird z. B. häufig ein "Schleier" gebildet.
Dieser "Schleier" wird gebildet, wenn ein Teil der zu entfernenden lichtempfindlichen Schicht, um den Rest
der lichtempfindlichen Schicht in die Bildschicht zu überführen, auf der Grundplatte während der Entwicklungsbehandlung verbleibt.
In anderen Fällen wird der zu entfernende Teil der lichtempfindlichen Schicht in den Poren des oxidierten
Filmes nach der Entwicklungsbehandlung eingeschlossen oder es tritt Staub in der lichtempfindlichen Schicht
aufgrund dea Drückens auf (sogenannte Tönung), seibat
wenn die Entwicklung vollständig ausgeführt wurde. Obwohl die Bildschicht durch die Druckfarbe benetzt wird
und der Rest nicht durch die Druckfarbe sondern durch Wasser beim Offset-Druck benetzt wird, wird die Gesamtfläche
der entwickelten Schicht häufig durch die Druckfarbe benetzt, wenn der oxidierte Film zu aktiv ist, so
daß eine "Tönung" verursacht wird. Um diese Tönung zu verhindern, müssen die gegenseitigen Reaktionen zwischen
dem oxidierten Film, der aufgezogenen lichtempfindlichen Schicht und der Druckfarbe verringert werden, indem beispielsweise
eine Zwischenschicht zwischen den beiden Schichten aufgebracht wird.
Der nach dem Phosphorsäureverfahren erhaltene oxidierte Film wirkt nicht vollständig als Schutzschicht
gegen Kratzer oder Abrieb, da die Stärke des nach dem Phosphorsäureverfahren erhaltenen oxidierten Filmes
auf einen sehr dünnen Bereich beschränkt ist, der zur Anwendung als Offset-Druckgrundplatte geeignet ist.
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Wie vorstehend angegeben, ist die Herateilung
eineB einheitlichen oxidierten Filmes nach dem Phosphorsäureverfahren
sehr schwierig und die Eigenschaften des erhaltenen oxidierten Filmes sind nicht vollständig zufriedenstellend.
Andererseits wird auch das Schwefelsäureverfohren
in weitem Umfang als anodische Qxidierbehandlung ausgeführt und die vorhergehende Behandlung der Offset-Druckgrundplatte
wird hauptsächlich nach diesem Schwefelsäureverfahren durchgeführt.
Das Schwefelsäureverfahren ist dadurch gekennzeichnet, daß eine hohe Stromdichte leicht durch die Anwendung der hilligen Schwefelsäure "bei niedriger Spannung
erhalten werden kann. Das Alumilite-Verfahren oder Eloxal* GS-Verfahren sind die üblichsten Schwefelsäureverfahren,
bei denen die anodisohe Oxidierbehandlung unter Anwendung einer 10-20 $-igen Schwefelsäurelösung mit einer Temperatur
des elektrischen Bades von 20 bis 3O0C und einer Stärke von 1 bis 2 A/dm ausgeführt wird.
Beim Schwefelsäureverfahren ändert sich bekanntlich die Stromdichte exponentiell mit der Änderung der Badspannung
zwischen 10 ν und 20 v. -Falls die Badspannung 20 ν überschreitet, wird eine Verbrennung auf dem oxidierten
Film verursacht, wodurch die Einheitlichkeit verschlechtert wird und sich somit ein ernsthafter Fehler
einstellt.
Weiterhin zeigen die nach dem Schwefelsäureverfahren behandelten Offset-Druckgrundplatten die. Fehler von
Schleier und Tönung, wie sie bereits beim Phosphorsäureverfahren abgehandelt wurden. Diese Fehler sind beim
Schwefelsäureverfahren nicht so stark wie beim Phpsphorsaureverfahren,
jedoch wird der lichtempfindliche aufgezogene Film nicht vollständig bei der Entwicklungsbe'1·
handlung entfernt und verbleibt in den Poren des oxidierten
Filmes. Die sich daraus ergebende Neigung zur un-
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vollständigen Entwicklung, die Schleier und Tönung verursacht, ist besonders groß in dem Pail, wo die
Stärke des oxidierten Filmes groß gemacht wird, um die Anzahl der Druckbögen zu erhöhen. In diesen Fällen
muß eine inerte Zwischenschicht auf die oxidierte Filmoberfläche für den praktischen ,Druckgebrauch aufgetragen
werden.
Um die vorstehend geschilderten Fehler beim üblichen
Schwefelsäureverfahren zu vermeiden, wurde ein verbessertes Schwefelsäureverfahren entwickelt, welches
Bur Herstellung von harten, hoch abriebsbeatändigen
oxidierten Filmen geeignet ist, wobei die Aluminiumgrundplatte unter Anwendung einer 7 $-igen Schwefeleäurelösung,
die bei 1 bis 30C gehalten wird, unter einer Stromdichte von 2 bis 4»5 A/dm anodisch oxidiert
wird. Eine auf diese Weise vorbehandelte Offset-Druckgrundplatte mit einem damit erhaltenen Film zeigt geeignete
Haftungseigenschaften und niedrigen Schleier und Tönung. Dieses verbesserte Schwefelsäureverfahren
ist deshalb zur Herstellung verbesserter Offset-Druckgrundplatten wirksam.
Jedoch erfordert das verbesserte Schwefelsäureverfahren oder "Hart-Aluminlte-Verfahren" eine sehr
niedrige Elektrolysiertemperatur und eine starke Rührung des Bades, so daß sehr große Kühlvorrichtungen erforderlich
sind.
Außerdem zeigt die Stromverteilung eine Neigung zur Unregelmäßigkeit aufgrund der niedrigen Badteroperatur
und die Dünnheit und der große Oberflächenbereich der Grundplatte verursachen häufig eine unregelmäßige
Dünnheit und Verbrennen des oxidierten Pilnies, wodurch
der Betrieb dieser verbesserten anodisehen Oxidationsbehandlung
schwierig wird.
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Eine Aufgabe der Erfindung besteht in einer Offset-Druckgrundplatte
mit einem vorbehandelten Aluminiumoxidfilm, welche für den Offsetdruck geeignet ist, unter
variierbaren Behandlungsbedingungen und von niedrigen Kosten.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in einer Offset-Druekgrundplatte mit hoher Druckbeständigkeit und
Dauerhaftigkeit während eines langzeitigen .Druckes von mindestens einer Billion Bögen oder mehreren Billionen
Bögen, ohne daß das zufriedenstellende Bild verblaßt.
Eine weitere Aufgabe besteht in einer Offset-Druckgrundplatte
mit einer starken Schutzschicht, wodurch das Bild vor Kratzern oder anderer Schädigung aufgrund der
Handhabung während der Plattenherstellung und des Druckes geschützt ist.
Eine zusätzliche Aufgabe besteht in einer Offset-Druekgrundplatte
mit einer starken Schutzschicht, welche gegen Abrieb der Körner der Platte, welche durch Aufrauhung
der Aluminiumplattenoberfläche gebildet wurden, Kontakt mit der Druckfarbenwalze, Wasserwalze oder mit
Papierschnitzeln beständig ist.
Ferner besteht eine Aufgabe in einer Offset-Druckgrundplatte mit einer vorbehandelten porösen Schicht,
die als Verankerung für die aufgezogene Bildschicht dient und eine ausgezeichnete Wasserbeibehaltung für das Benetzungswasser
beim Offset-Druck zeigt.
Eine weitere Aufgabe besteht in einer Offset-Druckgrundplatte mit einer geeignet vorbehandelten haftenden
Schicht, welche die Aufbringung einer inerten Zwischenschicht zwischen der aufgezogenen lichtempfindlichen
Schicht und der in üblicher Weise vorbehandelten Schicht, wie sie bei den üblichen Offset-Druckgrundplatten erforderlich
ist, überflüssig macht.
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- ίο -
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in einer äußerst dünnen Offset-Druckgrundplatte, die
sämtliche vorstehenden Aufgaben erfüllt.
Im Rahmen der Erfindung wurde festgestellt» daß die vorstehend aufgeführten Aufgaben wirksam durch
eine verbesserte Offset-Druckgrundplatte erfüllt werden, welche durch Aufrauhung einer Aluminium- oder
Aluminiumlegierungsplatte, Behandlung der aufgerauhten Aluminiumplatte mit einer kontinuierlichen anodischen
Oxidierbehandlung unter Anwendung eines wäsarigen Elektrolytbades mit einem Gehalt von 10 bis 35,.GeW..-56
Schwefelsäure, das bei 20 bis 4O0C gehalten ist, unter einer mittleren anodischen Stromdichte von 4 bis 15 A/dm
unter Bildung eines oxidierten Filmes, welcher weiterhin gegebenenfalls einer hydrophilen Behandlung zur
Verbesserung der Aufnahmefähigkeit für die Waoserlösung
beim lithograxjhiachen .Druck unterzogen werden kann, und
Aufziehen der lichtempfindlichen Schicht auf den oxidierten Film hergestellt wurde.
Im Rahmen der Beschreibung von bevorzugten Ausführungsformen
sind bevorzugte Bedingungen für die vorstehende Anodisierbehandlung die folgenden: mittlere
anodisierende Stromdichte 4-10 A/dm , Badspannung 10-60 V, Konzentration der Schwefelsäure im Elektrolytbad 10-30
Gew. -i> und Bad tempera tür 22-360C.
Diese Bedingungen können selbstverständlich in geeigneter
Weise von den Fachleuten gegebenenfalls variiert werden. Weiterhin kann der Elektrolyt gegen den
Aluminiumstreifen mit einer relativen Lineargeschwindigkeit von mindestens 2 m/min, vorzugsweise mehr ale
10 m/min, bei einer kontinuierlichen Anodisierbehandlung bewegt werden. Im allgemeinen sind die Ergebnisse
um so besser, je höher die relative Lineargeschwindigkeit Ist.
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-■11 -
Die vor dar Anodisierung durchgeführte Aufrauhung erfolgt vorzugsweise zu einer Tiefe von etwa 0,2 bis
etwa 1,0 /U. Eine größere oder geringere Aufrauhung kann
jedoch angewandt werden. Wenn beispielsweise eine Sandaufrauhung angewandt wird, kann leicht ein Sand mit
einer Größe von 15 bis 60yu !Durchmesser mit einem Durchschnittsdurchmesser
von 30 Mikron zur Erzielung bevorzugter Ergebnisse eingesetzt werden. Andere äquivalente
Aufrauhungsverfahren umfassen Bürsten, beispielsweise
mit einer Bürste aus synthetischem Harz oder einer Stahlbürste, elektrochemische Aufrauhung und ähnliche chemische
Verfahren.
Die bevorzugten Oxidfilme, wie sie in der Praxis der Erfindung gebildet werden, haben eine Stärke von
etwa 0,5 bis etwa 2,0/U, obwohl auch größere oder geringere
Stärken eingesetzt werden können.
Als auf die anodisch' oxidierte Aluminiumgrundplatte aufzuziehendes lichtempfindliches Material kann
jede lichtempfindliche Verbindung oder Masse verwendet werden, die zum Abdecken einer Aluminium- oder Aluminiumlegierungsoberfläche geeignet, ist. Bevorzugte lichtempfindliche
Materialien sind nachfolgend aufgeführt. j
Die bevorzugten Aluminiummaterialien sind Materialien wie AA1100 und AA3OO3. Das Hauptkriterium für die
Verwendbarkeit liegt selbstverständlich in der Eignung zur Oxidierung*
Geeignete Verbindungen sind:
Diazoverbindungen, insbesondere Diazodiphenylamin unter
Einschluß von substituierten Verbindungen wie Diazosulfat-p-aminodiphenylamin,
Kondensate zwischen Verbindungen mit einer reaktionsfähigen Carbony!gruppe, beispielsweise
Formaldehyd und p-Pormaldehyd, und Diazodiphenylamin,
nicht vernetzte lichtempfindliche Reaktionsprodukte
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zwischen Diazodiphenylamin oder dessen Kondensaten und hydroxylgruppen!^ It igen aromatischen Kupplungsmitteln
wie Phenolen, Pyrogallol und dergleichen, Ester zwischen Diazonaphtholsulfat und einem Pyrögallolacetonkondensat
und Chinondiazidmaterialien, wie Kondensate zwischen Chinon-1,2-diazidooulfonylhalogenid
und Phenolformaldehyd;
Polyvinylcinnamat, Polyvinylbenzylacetophenon unter Einschluß von dessen Derivaten, Polyvinyleinnamylidenacetat
unter Einschluß von dessen Derivaten* Polyäthylencinnamylidenmalonat unter Einschluß von
dessen Derivaten, Arylacrylatpräpolymere unter Einschluß
von Derivaten, Polyvinylcinnamatäthyläther
und ähnliche photodimerisierende Harze, ungesättigte
Äthylenverbindungen mit mindestens zwei ungesättigten Gruppen, beispielsweise Äthylenglykoldiacrylat, fri~
methylolpropantriacrylat, Pentaerythrittriacrylatf Methylenbisacrylamid und ähnliche photopolymerisierende
Harze. . · ·
Diese lichtempfindlichen Ifaterial^^^j^^^
ziellen in der japanischen PatentBchriftl/2 649' 37%,In
Photosensitive Resin Data,'veröffentlicht durch Sogo
Kagaku Kenkyujo/und light Senoitive Systems durch J, losar
beschrieben.
Nicht besonders kritisch ist die Stärke der lichtempfindlichen Schicht, jedoch hat bevorzugt diese Schicht
eine Stärke von etwa 0,5 bis etwa 2/U.
Die bevorzugten, für die hydrophile Behandlung verwendeten
Verbindungen umfassen solche, welche mit dem Aluminium reagieren und welche einen Rest enthalten, der
Hydrophilie erteilt, beispielsweise Hydroxyl-, Carboxy1-
oder Sulfonsäuregruppon, oder die zur Adsorption auf
dem Aluminium geeignet sind:
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1. Alkalisilicate, beispielsweise Natriumsilicat
2. Kieselsäure
3. Zirkoniumalkalifluorid, beispielsweise Kaliumfluorzirkonat
4. Hydr of luorzirkonat'
5. Polyacrylate
6. Polyacrylamide
7. Maleinsäureanhydridcopolymere, beispielsweise
ein Maleinsäureanhydrid-Polyacrylsäure-Copolymeres
8. anorganische Phosphatpolymere, beispielsweise Polyphosphorsäure
9. Polyvinylbenzolsulfonat
10. hydrophile Kolloide, beispielsweise Gummi arabicum, Alginsäure
11. denaturierte Harnstoffaldehydharze, beispielsweise Aminoverbindungen von Harnstoffparaformaldehyd, SuI-fatester
von Harnstoffparaformaldehyd, Alkalisulfite
von Harnstoffparaformaldehyd und dergleichen.
Die verschiedenen Vorteile und Fortschritte der Erfindung sind nachfolgend zusammengestellt;
1) Wenn die Aluminiumplatte einer kontinuierlichen anodischen Oxidationsbehandlung unter den vorstehenden
Bedingungen unterworfen wird, kann eine äußerst einheitliche Stärke und homogene Qualität des oxidierten
Filmes mit niedrigen Kosten erhalten werden.
2) Es kann ein oxidierter Film mit wenig Porpn von sehr
feinem Durchmesser durch die kontinuierliche anodische Oxidationsbehandlung bei einer hohen Stromdichte erhalten
werden.
3) Der erhaltene oxidierte EiIm hat eine geeignet gesteuerte
Haftungseigenschaft für die lichtempfindliche Überzugsschicht, wodurch Schleier und Tönung auf ein
Minimum gebracht werden.
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4) Der erhaltene oxidierte Film iat kompakt, bart und beständig gegenüber Abrieb und dient als
ausgezeichnete Schutzschicht.
5) Der oxidierte Film kann möglichst dünn sein, so weit dies mit der beim Gebrauch erforderten Dauerhaftigkeit
verträglich ist.
Nachfolgend werden spezielle Ausführungsformen anhand der Beispiele beschrieben,, ohne daß die Erfindung
hierauf begrenzt ist.
Ein dünner Streifen einer rait AA 3003 bezeichneten
Al-Legierung mit einer Stärke von 0,24 mm wurde an der Oberfläche kontinuierlich durch eine erste Ätzung der
Aluminiumlegierung in einer 5- bis 10 jS-igen wässrigen
Lösung von Ätznatron zur Ätzung der Aluminiumpiatten-
P oberfläche in einer Menge von 2 bis 4 g je 1m" geätzt
und dann in eine 20 $~ige Salpetersäurelösung während
30 Sekunden eingetaucht. Die Streifenoborflache wurde
dann einer Körnung mit einer Bürstenwalze mit einer zähen Nylonbürste unterworfen und dann mit Sandteilchen
aufgerauht, so daß sie eine mittlere Rauhheit (HcLa oder Ha) von 0,4 /U entlang der Mittellinie des Streifens
hatte. Dann wurde der an der Oberfläche aufgerauhte Streifen kontinuierlich in ein Elektrolytbad geführt,
worin der Elektrolyt gleichlaufend mit dem Lauf dea Streifens mit einer relativen Geschwindigkeit von 30 m/min
strömte und in dem Elektrolytbad (wässrige Schwefelsäurelöaung von 20 Gew.-$), daa bei 30 + 20C gehalten
— , ft
wurde, bei einer mittleren Stromdichte von 8 A/dm anodisiert. Der Streifen wurde in dem Bad während 20 Se-
2 künden gelassen, so daß eine Oxidschicht von 5 g je 1 m
Oberflächenbereich gebildet wurde.
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- Nach dem Waschen mit Wasser und Trocknung wurde der erhaltene oxidierte Film in eine Überzugsflüssigkeit
eingetaucht und hiermit überzogen, welche durch Auflösung des lichtempfindlichen Reaktionsproduktes
von p-Diazophenylamin-Pormalinkondensates und Toluolsulfonat
und einem Bindemittel aus Epoxyharz in Alkohol/Keton
als Lösungsmittel hergestellt worden war, so daß eine lichtempfindliche Schicht von 1 bis 2/U
Dicke erhalten wurde. Die Überzugsmasse hatte die folgende Zusammensetzung:
Reaktionsprodukt aus p-Diazophenylamid-Formalin
und Toluolsulfonat (Molarverhältnis 1:1) 2g
Epoxyharz 1001 (Bezeichnung
eines Produktes von Du Pont) 4g
Methanol 20 g
Methyläthylketon 20 g
Es würde eine lichtempfindliche Offset-Druckplatte
vom Negativtyp auf diese Weise hergestellt«
Vier Probestücke (A, B, C und D) wurden hergestellt und die jeweiligen Reaktionen zwischen der aufgezogenen
Schicht und der vorbehandelten Schicht untersucht:
Probestück Ai-
Lichtempfindliche.Offset-Druckplatte, hergestellt
nach dem Verfahren von Beispiel 1.
Lichtempfindliche Offset-Druckplatte, hergestellt
nach dem Verfahren von Beispiel 1, wobei jedoch die anodische Oxidationsbehandlung weggelassen wurde.
Probestück C:
Lichtempfindliche Offset-Druckplatte, hergestellt nach dem Verfahren von Beispiel 1, wobei jedoch die kontinuierliche
anodische Oxidationsbehandlung durch eine
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anodiache Oxidationsbehandlung vom Einzelansatztyp (GS-Verfahren) zur Bildung eines oxidierten Filmes
in einer Menge von 5 g/m unter Anwendung einea Elektrolyts mit 15 Gew.-fo Schwefelsäure (wässrige
Lösung) bei 230C mit einer Stromdichte von 1,5 A/dm
während 2 Minuten ersetzt wurde.
Eine lichtempfindliche Offset-Druekplatte, die
unter den gleichen Bedingungen wie das Probestück C hergestellt wurde, wobei jedoch die anodische Oxidierbehandlung
vom Einzelansatztyp nach dem Phosphorsäureverfahren ausgeführt wurde und ein Elektrolyt mit
25 Gew.-$ Phosphorsäure (wässrige Lösung) von 200C bei
einer Elektrolysierspannung von 40 V während 10 Minuten verwendet wurde.
Der Test für die gegenseitige Reaktion zwischen der Überzugsschicht und der vorbehandelten Schicht
wurde durchgeführt, indem eine Grauskala auf jedes Probestück unter konstanter Lichtbestrahlung gedruckt
wurde, die Probestücke entwickelt und der Schwärzungsgrad der lichtempfindlichen aufgezogenen Filme miteinander
verglichen wurde, um die Festigkeit der Haftung
zwischen der vorbehandelten Schicht und dem aufgezogenen Film zu bewerten. Die Grauskala, welche in 10
oder 20 chromatische Farbstufen (20 Stufen in diesem Beispiel, wobei sich jede Stufe graduell mit einer
konstanten Lichtdichtedifferenz änderte) eingeteilt war, wurde zur Bestimmung des Schwärzungsgrades der
gedruckten Bögen und der Empfindlichkeit des lichtempfindlichen Materials verwendet. Im einzelnen wurde
die Grauskala auf jedes Probestück unter Anwendung eines Kohlebogendruckgerätes (Produkt der Dainippon
Screen Co.) gedruckt, wobei der Abstand zwischen der Lichtquelle und der Oberfläche des Probestückes bei 70 cm
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gehalten wurde und eine Belichtung während 3 Minuten mit 200 Y erfolgte. Die belichteten Probestücke wurden
während 1 Minute in einer Entwicklerlösung entwickelt, die aus 1 Teil n-Propylalkohol und 1 Teil
Wasser aufgebaut war, hierauf mit Wasser gewaschen und dann getrocknet.
Die Versuchsergebnisse sind in Tabelle II gezeigt, worin die Ziffern die Stufenzahl der Grauskala
entsprechend dem Schwärzungsgrad der gedruckten Probestücke angeben. Ein größerer Wert- bezeichnet eine höhere
Empfindlichkeit. Da die Dicke und Zusammensetzung der aufgezogenen Schicht bei Jedem Probestück gleich
sind, läßt sich jede Änderung des Wertes als Änderung der Empfindlichkeit betrachten, die aus der Haftungsfestigkeit oder gegenseitigen Reaktion zwischen der
vorbehandelten Schicht und der aufgezogenen Schicht herrührt.
Zeit (Tage) | 0 | 1 | 3 | 5 | |
Probe | |||||
stück | 11 | 11 | 12 | 12 | |
A | 10 | 10 | 11 | 111 | |
B | 11 | 12 | 13 | Schleier | |
C | 13 | Schleier Schleier' " | |||
D | |||||
Der Versuch wurde in luft von einer Temperatur von 450C und einer Feuchtigkeit von 80 $ durchgeführt. Es
wurde festgestellt, daß 1 Tag in dieser Atmosphäre etwa 60 Tagen unter üblichen natürlichen atmosphärischen Bedingungen
entsprach.. Der Wert 0 bezeichnet9 daß die Be-
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Stimmung unmittelbar nach der Herstellung der Probestücke
ausgeführt wurde.
Es ergibt sich aus Tabelle II, daß
a) die Offset-Druckplatte mit einem nach dem Phosphorsäureverfahren
hergestellten oxidierten Film innerhalb eines Tages unter diesen Atmospharenbedingungen
verschleiert wurde und nicht mehr entwicklungsfähig wurde,
b) die Offset-Druckplatte mit einem nach dem Schwefeleäureverfahren
hergestellten oxidierten Film in 5 Tagen verschleiert wurde und nicht mehr entwicklungsfähig
war und
c) die Offset-Druckplatte mit einem durch die kontinuierliche
anodische Oxidierbehandlung gemäß der Erfindung mit einer Schwfelsäurelb'sung hergestellten oxidierten
Film und die keiner anodischen Oxidierung unterzogene
Platte keine Schleierbiidung nach 5 Tagen zeigten und daß der oxidierte Film zur Haftung dea aufgezogenen
Filmes an der Grundplatte im Hinblick auf die höhere Empfindlichkeit der Druckplatte beitrug, die der anodischen
Oxidationsbehandlung unterworfen worden war.
Ein dünner Streifen aus Aluminium AA 1100 mit einer Stärke von etwa 0,30 mm wurde kontinuierlich an der Oberfläche
durch eine vorhergehende Wäsche des Streifens in einer wässrigen Lösung eines handelsüblichen Metalloberflächenreinigers
(Riponox der Lion Oil and Fat Ltd.)» die
bei 700C gehalten wurde, an der Oberfläche aufgerauht und
dann mit einem Wechselstrom in 1 ?i-tger Salziiäurelösurig
als Elektrolyt ssur Ahnung und Aufrauhung der Aluminiumplatfcenoberfläche
auf eine mittlere Rauhhoit von 0,5/U
:i o 9 ο ι ß / o 7 η ο
elektrolysiert.
Dann wurde der Streifen einer kontinuierlichen anodischen Oxidierung zur Bildung eines Aluminiumoxidfxlmes
von 1 /U Stärke in einem Elektrolytbad unterworfen, worin der Elektrolyt gleichlaufend mit
dem lauf des Streifens mit einer mittleren Geschwindigkeit
von 6 m/min bewegt wurde, wobei als Elektrolyt eine bei 36 + 10C gehaltene Schwefelsäurelösung von
28 Gevi.-fo bei einer mittleren Stromdichte von 10 A/dm
während 10 Sekunden verwendet wurde- Nach der Wäsche mit Wasser und Trocknung wurde das handelsübliche
lichtempfindliche flüssige Harz EPR auf die erhaltene oxidierte IPilmoberfläche mit einem Walzenaufzugsgerät
aufgezogen und eine lichtempfindliche Schicht von 2/U Stärke gebildet. Auf diese Weise wurde eine Offset-Druckplatte
vom Hegativtyp hergestellt.
Vier Probestücke der Offset-Druckplatten (E, ]?, G und H) wurden hergestellt;·
lichtempfindliche Offset-Druckplatte, hergestellt nach dem Verfahren von Beispiel 2«,
Probestück Έ:
Lichtempfindliche Offset-Druckplatte, hergestellt
nach dem Verfahren von Beispiel 2, wobei jedoch die anodische Oxidierbehandlung weggelassen wurde.
Probestück G:
Lichtempfindliche Offset-Druckplatte, hergestellt nach dem Verfahren von Beispiel 2, wobei jedoch die
anodische Oxidirrbehandlung des Beispiels 2 durch die· gleiche Behandlung wie bei Probestück C ersetzt wurde«
3 09818/0788
ti frobestüok Hi
lichtempfindliche Offaet»Druckplatte, hergestellt
nach dem Verfahren iron Beispiel 2, wobei jedoch die
anodisch© Oxidierbehandlung des Beispiels 2 durch die gleiche Behandlung wie bei Probestück D ersetzt wurde.
Diese Tier Probestücke wurden einem Standard-Offset-Druckplattenherstellungsverfahren
unter Einschluß Ton Druck und Entwicklung unterworfen und in einer Druckmaschine verwendet.
1) Die Oberfläche des nach dem Phosphorsäureverfahren
hergestellten Probestückes H wurde vollständige durch die Druckfarbe befeuchtet und verursachte eine Tönung
unmittelbar nach dem Aufbringen des Probestückes H auf das Druckgerät. Eine Portsetzung der Druckarbelt
mit dem Probestück H war nicht gegeben.
Andererseits wurden zehn Billionen Papierbögen auf dem Drucker mit den Probestücken E, P oder G hergestellt.
2) Die mit dem Probestück f hergestellten Bilder waren in einigen Teilen trübe oder matt, insbesondere in
den Hochlichtteilen des Bildes, im Vergleich zu den mit den Probestücken E und G gedruckten Bildern.
Abrieb oder Kratzer auf der Druckpiattenoberflache
des Probestückes F wurden besonders durch die Druckfarbenwalze oder die Wasserwalze verursacht und die
Bildschicht wurde am stärksten durch den Abriebsangriff entfernt.
309816/0 788
3) Die beim Probestück F beobachteten Fehler wurden bei den Probestücken E und G nicht beobachtet.
Die Bilder des Probestückes G, die der anodischen Oxidierbehandlung im Einsselansatz typ unterworfen
worden waren, waren in ihren Schattenteilen etwas dunkler im Vergleich zu denjenigen des Probestückes
E.
Nach dem Druck von 20 Billionen Papierbögen mit den Probestücken E und G wurde kein Abrieb oder Schädigung
der Druckplatten oder der gedruckten Papiere beobachtet.
4) Um den Druck zu unterbrechen und die Druckplatten sauber zu halten, wurde die Druckfarbe auf der Druckplatte
vollständig mit einem Erdöllösungsmittel und dann mit Wasser abgewaschen, dann die Platte mit
einer verdünnten Lösung von Gummi Arabicum tiberzogen und getrocknet, um dadurch eine Haftung von Staub
zu verhindern.
Nach einigen Tagen seit dem Aufziehen der Gummi arabicum-Lösung
wurden die beiden Probestücke E und G erneut zum Drucken verwendet. Das Probestück G verursachte
eine bemerkenswerte Tönung, was es unmöglich machte, zufriedenstellende Kopien zu erhalten.
Andererseits verursachte das Probestück E, das der kontinuierlichen anodischen Oxidationsbehandlung unterworfen
worden war, keine Tönung und es ergab zahlreiche Bögen mit zufriedenstellenden Kopien.
309816/0788
Ein Versuch auf Abriebsbeständigkeit wurde mit
den Probestücken A, B und 0 von Beispiel 1 vor dem
Aufziehen der lichtempfindlichen Schicht mittels eines Taber-Abrieb-Testgerätes vorgenommen. Als Abriebering
wurde CS-10 verwendet und der Abriebsverluat des Probestückes bei 1OOO ppm/min wurde bestimmt. Ein hoher Abriebsverlust
bezeichnet eine niedere Abriebsbestlndigkeit. Die Versuehsergebnisse sind in Tabelle III zusammengefaßt.
Probestück Behandlungsbedingungen Abriebsverlust
A kontinuierliche anodische 7,7 Oxidation mit hoher Stromdiohte
B ohne anodische Oxidations- 16,9 behandlung
C kontinuierliche anodische 10,1
Oxidation mit niedriger Stromdichte
Es ergibt sich aus Tabelle III, daß der Oxidfilm als ausgezeichnete Schutzschicht gegen den Abriebaverlust
diente und daß eine hohe Dichte zur Herstellung von besseren Oxidfilmen wirksam war.
Im vorstehenden wurde die Erfindung anhand bevorzugter Ausfuhrungsformen beschrieben, ohne daß sie hierauf
begrenzt ist.
309816/0788
Claims (14)
- Patentansprüchefly Lichtempfindliche Druckplatte, hergestellt durch Aufrauhung einer Plattenoberfläche aus Aluminium oder einer Aluminiumlegierung, Behandlung der aufgerauhten Aluminiumöberfläche mit einer kontinuierlichen anodischen Oxidationabehandlung mit einem Elektrolyt, welcher etwa 10 bis etwa 35 Gew.-$ Schwefelsäure enthält, bei etwa 20 bis etwa 4O0C unter einer Stromdichte von etwa 4 bis etwa 15 A/dm und Aufziehen eines lichtempfindlichen Filmes auf die anodisierte Oberfläche der Aluminiumplatte.
- 2. Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Aufrauhung zu einer Tiefe von etwa 0,2 bis etwa 1 /U erfolgt ist.
- 3. Platte nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß ein wässriger Elektrolyt verwendet wurde.
- 4. Platte nach Anspruch -1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß als Elektrolyt eine Schwefelaäure mit 18 bis 3O'Gew.-$ verwendet wurde.
- 5. Platte nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß eine Temperatur von 22 bis 360C angewandt wurde.
- 6. Platte nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß eine Stromdichte von 4 bis 10 A/dm angewandt wurde.
- 7. Platte nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß der lichtempfindliche PiIm eine Stärke von etwa 0,5/U bis etwa 2/U besitzt. ■
- 8. Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichen Druckplatte, dadurch gekennzeichnet, daß eine Plattenoberfläche aus Aluminium oder einer Aluminiumlegierung aufgerauht wird, die aufgerauhte Platte In einem309816/07 88Elektrolyt, der etwa 10 bis etwa 35 Gew.-^ Schwefelsäure enthält, bei etwa 20 bis etwa 400C und bei einer Stromdichte von etwa 4 bis etwa 15 A/dm kontinuierlich anodisch oxidiert wird und ein lichtempfindlicher PiIm auf die hierdurch anodisch oxidierte Oberfläche der Platte aufgezogen wird.
- 9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Aufrauhung zu einer Tiefe von etwa 0,2 bis etwa 1 /U durchgeführt wird.
- 10. Verfahren nach Anspruch 8 oder 9» dadurch gekennzeichnet, daß ein wässriger Elektrolyt verwendet wird.
- 11. Verfahren nach Anspruch 8 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß als Elektrolyt eine Schwefelsäure mit 18 bis 30 Gew.-fo verwendet wird.
- 12. Verfahren nach Anspruch 8 bia 11, dadurch gekennzeichnet, daß eine Temperatur von 22 bi3 '360C angewandt wird.
- 13· Verfahren nach Anspruch 8 bis 12, dadurch ge-, kennzeichnet, daß eine Stromdichte von 4 bis 10 A/dm^ angewandt wird.
- 14. Verfahren nach Anspruch 8 bis 13» dadurch gekennzeichnet, daß der lichtempfindliche Film zu einer Stärke von etwa 0,5/U bis etwa 2/U aufgezogen wird.3098 16/0788
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7907971A JPS5120922B2 (de) | 1971-10-07 | 1971-10-07 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2248743A1 true DE2248743A1 (de) | 1973-04-19 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19722248743 Ceased DE2248743A1 (de) | 1971-10-07 | 1972-10-05 | Lichtempfindliche druckplatte und verfahren zu deren herstellung |
Country Status (3)
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---|---|
JP (1) | JPS5120922B2 (de) |
DE (1) | DE2248743A1 (de) |
GB (1) | GB1412768A (de) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2634412A1 (de) * | 1975-08-01 | 1977-02-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | Lithographische druckplatte |
FR2396337A2 (fr) * | 1977-06-27 | 1979-01-26 | Hoechst Ag | Procede de fabrication de formes plates d'impression a l'aide de rayons laser |
FR2396336A2 (fr) * | 1977-06-27 | 1979-01-26 | Hoechst Ag | Perfectionnement au procede de fabrication de formes plates d'impression a l'aide de rayons laser |
FR2421067A1 (fr) * | 1978-03-27 | 1979-10-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | Support pour la realisation d'une plaque lithographique |
DE3036174A1 (de) * | 1979-09-27 | 1981-04-09 | Fuji Photo Film Co. Ltd., Minami-Ashigara, Kanagawa | Verfahren zur herstellung eines positiv arbeitenden, lichtempfindlichen, lithographischen druckplattenvorlaeufers |
WO1981002547A1 (en) * | 1980-03-11 | 1981-09-17 | Teich Ag Folienwalzwerk | Method for manufacturing a base material for an offset printing plate,base material produced according to such method and implementation of said method for manufacturing an offset printing plate |
EP0110417A2 (de) * | 1982-12-02 | 1984-06-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Vorsensibilisierte Flachdruckplatte |
Families Citing this family (50)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5513918B2 (de) * | 1974-03-13 | 1980-04-12 | ||
GB2202957A (en) * | 1987-02-10 | 1988-10-05 | Nordisk Tidningsplat Ab | Lithographic printing plate |
JP2639748B2 (ja) * | 1990-10-31 | 1997-08-13 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性エレメントおよびその製造法 |
DE69905959T2 (de) | 1998-04-06 | 2003-12-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lichtempfindliche Harzzusammensetzung |
DE60119824T3 (de) † | 2000-04-07 | 2012-05-31 | Fujifilm Corp. | Wärmeempfindlicher lithographischer Druckplattevorläufer |
US6824946B2 (en) | 2000-10-03 | 2004-11-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor |
JP4268345B2 (ja) | 2001-04-20 | 2009-05-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用支持体 |
EP1396339B1 (de) | 2002-09-05 | 2007-08-22 | FUJIFILM Corporation | Flachdruckplattenvorläufer |
JP2004098386A (ja) | 2002-09-06 | 2004-04-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用支持体の製造方法および平版印刷版用支持体 |
JP2005234118A (ja) | 2004-02-18 | 2005-09-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
EP1619023B1 (de) | 2004-07-20 | 2008-06-11 | FUJIFILM Corporation | Bilderzeugendes Material |
JP4410714B2 (ja) | 2004-08-13 | 2010-02-03 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
JP2006062188A (ja) | 2004-08-26 | 2006-03-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 色画像形成材料及び平版印刷版原版 |
JP2006062322A (ja) | 2004-08-30 | 2006-03-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版、平版印刷版原版積層体、及び製版方法 |
US20060150846A1 (en) | 2004-12-13 | 2006-07-13 | Fuji Photo Film Co. Ltd | Lithographic printing method |
JP4406617B2 (ja) | 2005-03-18 | 2010-02-03 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物および平版印刷版原版 |
ATE395195T1 (de) | 2005-04-13 | 2008-05-15 | Fujifilm Corp | Verfahren zur herstellung eines flachdruckplattenträgers |
JP2008230024A (ja) | 2007-03-20 | 2008-10-02 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法 |
JP2008230028A (ja) | 2007-03-20 | 2008-10-02 | Fujifilm Corp | 機上現像可能な平版印刷版原版 |
JP2009083106A (ja) | 2007-09-27 | 2009-04-23 | Fujifilm Corp | 平版印刷版用版面保護剤及び平版印刷版の製版方法 |
EP2197040A1 (de) | 2007-09-28 | 2010-06-16 | Fujifilm Corporation | Solarzelle |
JP2009208140A (ja) | 2008-03-06 | 2009-09-17 | Fujifilm Corp | 平版印刷版用アルミニウム合金板の製造方法、ならびに該製造方法により得られる平版印刷版用アルミニウム合金板および平版印刷版用支持体 |
JP5422134B2 (ja) | 2008-03-25 | 2014-02-19 | 富士フイルム株式会社 | 浸漬型平版印刷版用自動現像方法 |
JP5264427B2 (ja) | 2008-03-25 | 2013-08-14 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
JP5228631B2 (ja) | 2008-05-29 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版現像用処理液及び平版印刷版の作製方法 |
JP5248203B2 (ja) | 2008-05-29 | 2013-07-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版現像用処理液及び平版印刷版の作製方法 |
JP5405141B2 (ja) | 2008-08-22 | 2014-02-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
EP2320274A4 (de) | 2008-08-22 | 2011-12-14 | Fujifilm Corp | Verfahren zur herstellung einer lithografieplatte |
JP5171483B2 (ja) | 2008-08-29 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
JP2010097175A (ja) | 2008-09-22 | 2010-04-30 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版 |
JP5140540B2 (ja) | 2008-09-30 | 2013-02-06 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法 |
KR20120101290A (ko) | 2009-06-26 | 2012-09-13 | 후지필름 가부시키가이샤 | 광반사 기판 및 그 제조 방법 |
EP2481603A4 (de) | 2009-09-24 | 2015-11-18 | Fujifilm Corp | Lithografische originaldruckplatte |
KR20120109573A (ko) | 2009-12-25 | 2012-10-08 | 후지필름 가부시키가이샤 | 절연 기판, 절연 기판의 제조 방법, 배선의 형성 방법, 배선 기판 및 발광 소자 |
AU2010337597B2 (en) | 2009-12-28 | 2014-10-09 | Fujifilm Corporation | Support for planographic printing plate, method for producing support for planographic printing plate, and planographic printing original plate |
JP5498403B2 (ja) | 2010-01-29 | 2014-05-21 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用支持体、平版印刷版用支持体の製造方法、および平版印刷版原版 |
JP2012033853A (ja) | 2010-04-28 | 2012-02-16 | Fujifilm Corp | 絶縁性光反射基板 |
KR20120022628A (ko) | 2010-08-16 | 2012-03-12 | 후지필름 가부시키가이샤 | Led 용 방열 반사판 |
JP2012068357A (ja) | 2010-09-22 | 2012-04-05 | Eastman Kodak Co | 平版印刷版原版 |
CN102616049B (zh) | 2011-01-31 | 2015-04-01 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版载体和预制感光版 |
KR20140033487A (ko) | 2011-07-04 | 2014-03-18 | 후지필름 가부시키가이샤 | 절연 반사 기판 및 그 제조 방법 |
EP2586621B1 (de) | 2011-10-28 | 2014-08-20 | Fujifilm Corporation | Herstellungsverfahren und Herstellungsvorrichtung einer Stütze für Flachdruckplatte |
WO2013111652A1 (ja) | 2012-01-24 | 2013-08-01 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用支持体、平版印刷版用支持体の製造方法、および平版印刷版原版 |
JP5813063B2 (ja) | 2012-07-27 | 2015-11-17 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用支持体およびその製造方法、並びに、平版印刷版原版 |
WO2020262692A1 (ja) | 2019-06-28 | 2020-12-30 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
JP7282886B2 (ja) | 2019-06-28 | 2023-05-29 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
EP4269122A4 (de) | 2020-12-25 | 2024-05-22 | FUJIFILM Corporation | Laminat einer negativ-flachdruckplatten-originalplatte und verfahren zur herstellung einer negativ-flachdruckplatte |
EP4397502A1 (de) | 2021-08-31 | 2024-07-10 | FUJIFILM Corporation | Lithographischer druckplattenvorläufer mit entwicklung auf einer maschine und verfahren zur herstellung einer druckplatte |
EP4245542A1 (de) | 2022-03-18 | 2023-09-20 | FUJIFILM Corporation | Lithografiedruckplattenvorläufer, verfahren zur herstellung einer lithografiedruckplatte und lithografiedruckverfahren |
JP2024062746A (ja) | 2022-10-25 | 2024-05-10 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
-
1971
- 1971-10-07 JP JP7907971A patent/JPS5120922B2/ja not_active Expired
-
1972
- 1972-10-05 DE DE19722248743 patent/DE2248743A1/de not_active Ceased
- 1972-10-06 GB GB4634672A patent/GB1412768A/en not_active Expired
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2634412A1 (de) * | 1975-08-01 | 1977-02-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | Lithographische druckplatte |
FR2396337A2 (fr) * | 1977-06-27 | 1979-01-26 | Hoechst Ag | Procede de fabrication de formes plates d'impression a l'aide de rayons laser |
FR2396336A2 (fr) * | 1977-06-27 | 1979-01-26 | Hoechst Ag | Perfectionnement au procede de fabrication de formes plates d'impression a l'aide de rayons laser |
FR2421067A1 (fr) * | 1978-03-27 | 1979-10-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | Support pour la realisation d'une plaque lithographique |
DE3036174A1 (de) * | 1979-09-27 | 1981-04-09 | Fuji Photo Film Co. Ltd., Minami-Ashigara, Kanagawa | Verfahren zur herstellung eines positiv arbeitenden, lichtempfindlichen, lithographischen druckplattenvorlaeufers |
WO1981002547A1 (en) * | 1980-03-11 | 1981-09-17 | Teich Ag Folienwalzwerk | Method for manufacturing a base material for an offset printing plate,base material produced according to such method and implementation of said method for manufacturing an offset printing plate |
EP0110417A2 (de) * | 1982-12-02 | 1984-06-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Vorsensibilisierte Flachdruckplatte |
EP0110417A3 (en) * | 1982-12-02 | 1986-11-20 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Presensitized lithographic plate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5120922B2 (de) | 1976-06-29 |
JPS4845303A (de) | 1973-06-28 |
GB1412768A (en) | 1975-11-05 |
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---|---|---|
DE2248743A1 (de) | Lichtempfindliche druckplatte und verfahren zu deren herstellung | |
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EP0008440B1 (de) | Verfahren zur anodischen Oxidation von Aluminium und dessen Verwendung als Druckplatten-Trägermaterial | |
DE3222170C2 (de) | ||
DE2251382A1 (de) | Verfahren zur herstellung von aluminiumtraegern | |
EP0004569B1 (de) | Verfahren zur anodischen Oxidation von Aluminium und dessen Verwendung als Druckplatten-Trägermaterial | |
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DE3406406C2 (de) | ||
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DE2855393A1 (de) | Verfahren zum herstellen von flachdruckformen |
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