DE20022159U1 - Anordnung zur Herstellung eines dünnen Schichtaufbaus - Google Patents

Anordnung zur Herstellung eines dünnen Schichtaufbaus

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Claims (5)

1. Anordnung zur Herstellung eines dünnen Schichtaufbaus aus einem bandförmigen, flexiblen, insbesondere quasi­ endlosen, Träger mit mindestens einer mit dem Träger fest verbundenen funktionalen Beschichtung, die eine insbesondere in der Größenordnung der Dicke des Trägers liegende Dicke hat, mit den Schritten
  • - Bildung eines Ausgangs-Schichtaufbaus durch flächiges Auftragen eines Beschichtungs-Ausgangsmaterials auf den Träger und
  • - Bestrahlung des mit dem Beschichtungs-Ausgangsmate­ rials versehenen Trägers mit elektromagnetischer Strahlung, die einen Wirkanteil im Bereich des nahen Infrarot hat, zur Bildung der funktionalen Beschich­ tung aus dem Beschichtungs-Ausgangsmaterial bei gleichzeitiger Verbindung mit dem Träger unter Ein­ schluß einer Trocknung und/oder thermischen Vernet­ zung,
mit:
  • - einer Zuführungs- und Vorschubeinrichtung für den Träger,
  • - einer Zuführungs- und Schichterzeugungseinrichtung zur, insbesondere kontinuierlichen, Zuführung und Aufbringung des Beschichtungs-Ausgangsmaterials auf den Träger und
  • - einer stromabwärts der Zuführungs- und Schichterzeu­ gungseinrichtung angeordneten und dem mit dem Be­ schichtungs-Ausgangsmaterial versehenen Träger zuge­ wandten, Strahlung mit einem Wirkanteil im Bereich des nahen Infrarot erzeugenden Bestrahlungseinrich­ tung.
2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlungseinrichtung als eine, insbesondere mit erhöhter Betriebstemperatur betriebene, Halogenlampe ausgebildet ist.
3. Anordnung nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet durch eine Gasstrom-Erzeugungseinrichtung zur Erzeugung eines im wesentlichen parallel zur Oberfläche des Schichtauf­ baus bzw. des Ausgangs-Schichtaufbaus gerichteten, die­ sen im Einwirkungsbereich der Bestrahlungseinrichtung überstreichenden, insbesondere trockenem und kalten, Gasstromes mit hohem Impuls.
4. Anordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch Mittel zur Einstellung der Strahlungsleistung, insbeson - dere Verstellmittel zur Präzisionsverstellung mindestens einer Strahlungsquelle der Bestrahlungseinrichtung.
5. Anordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch eine Regelungseinrichtung zur Regelung der Strahlungs­ leistung der Bestrahlungseinrichtung.
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