DE19716668C2 - Halbleiterchip-Stapelgehäuse mit untenliegenden Zuleitungen - Google Patents

Halbleiterchip-Stapelgehäuse mit untenliegenden Zuleitungen

Info

Publication number
DE19716668C2
DE19716668C2 DE1997116668 DE19716668A DE19716668C2 DE 19716668 C2 DE19716668 C2 DE 19716668C2 DE 1997116668 DE1997116668 DE 1997116668 DE 19716668 A DE19716668 A DE 19716668A DE 19716668 C2 DE19716668 C2 DE 19716668C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
leads
housing
chip
semiconductor chip
adhesive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE1997116668
Other languages
English (en)
Other versions
DE19716668A1 (de
Inventor
Yong Chan Kim
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SK Hynix Inc
Original Assignee
LG Semicon Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LG Semicon Co Ltd filed Critical LG Semicon Co Ltd
Publication of DE19716668A1 publication Critical patent/DE19716668A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE19716668C2 publication Critical patent/DE19716668C2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49537Plurality of lead frames mounted in one device
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • H01L21/565Moulds
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49575Assemblies of semiconductor devices on lead frames
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16245Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73257Bump and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L24/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01078Platinum [Pt]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/06Polymers
    • H01L2924/078Adhesive characteristics other than chemical
    • H01L2924/07802Adhesive characteristics other than chemical not being an ohmic electrical conductor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Halbleiterchip­ gehäuse und besonders ein Halbleiterchip-Stapelgehäuse mit untenliegenden Zuleitungen zum Zusammenfassen eines Paars von separaten Chips in einem einzelnen Gehäuse unter Vermei­ dung eines Draht-Bondprozesses und zur Erleichterung von dessen Herstellung.
In einem SOJ-Halbleiterchipgehäuse (small outline J- Lead bzw. kleine Bauform, J-förmige Zuleitungen), das als ein übliches aus einer Vielzahl von Halbleitergehäusen dient, wird ein Halbleiterchip mit isolierendem Band oder einer Paste auf einem Paddel von dessen Zuleitungsrahmen angebracht. Eine Vielzahl von Kontaktflecken des Chips wer­ den über metallische Drähte elektrisch mit entsprechenden inneren Zuleitungen des Zuleitungsrahmens verbunden, gefolgt von einem Harz-Vergußprozeß. Dann werden vom Gehäusekörper aus verlaufende äußere Zuleitungen jeweils als ein "J" ge­ formt und dadurch das Chipgehäuse fertiggestellt.
Das so aufgebaute herkömmliche SOJ-Halbleiterchip­ gehäuse muß für seine industrielle Anwendung einen Test seiner elektrischen Eigenschaften durchlaufen, für den das Gehäuse auf oder in einem Überprüfungs-Substrat angebracht wird. Dort werden die erforderlichen Betriebsparameter über­ prüft und eingestellt.
Das oben beschriebene herkömmliche Chipgehäuse hat jedoch einen Nachteil, der darin besteht, daß die durch die von jeder Seite des Gehäusekörpers aus verlaufenden äußeren Zuleitungen verursachte, auf dem Substrat eingenommene er­ höhte Gehäusefläche zu einer Ausbeuteverringerung beim Knic­ ken der äußeren Zuleitungen führt.
Aus der DE 195 07 573 A1 ist ein Halbleiterchip- Stapelgehäuse bekannt, das einen Zuleitungsrahmen mit einem Halbleiterchip aufweist, bei dem zweite Zuleitungen nach oben verlaufen und bei dem Teile der zweiten Zuleitungen freiliegen.
Aus der EP 0 630 047 A1 und der US 5,530,292 ist es bekannt, einen ersten und einen zweiten Zuleitungsrahmen entgegengesetzt zueinander zu stapeln.
Das dem Abtretungsempfänger am 27. Juni 1995 erteilte U. S. Patent Nr. 5,428,248 richtete sich auf das Überwinden des obigen Nachteils und das patentierte Chipgehäuse wird als BLP (bottom lead semiconductor package bzw. Halbleiter­ gehäuse mit untenliegenden Zuleitungen) bezeichnet, das gegenwärtig in der Massenproduktion ist.
Mit Bezug auf Fig. 1 enthält das herkömmliche Halblei­ tergehäuse mit untenliegenden Zuleitungen: einen Zuleitungs­ rahmen (2) mit einer Vielzahl von Substrat-Anschlußleitungen (2a), jede zur Verbindung mit einem Substrat (nicht ge­ zeigt), und eine Vielzahl von Chip-Anschlußleitungen (2b), die von entsprechenden Substrat-Anschlußleitungen (2a) aus nach oben verlaufen; einen mit einem Klebstoff (3) an jeder von den Substrat-Anschlußleitungen (2a) befestigten Halblei­ terchip (1); und eine Vielzahl von metallischen Drähten (4) zum elektrischen Verbinden jedes von Chip-Kontaktflecken (1a) mit einer entsprechenden Chip-Anschlußleitung (2b) des Zuleitungsrahmens (2). Ein bestimmter Bereich, der die Dräh­ te (4), den Chip (1), den Zuleitungsrahmen (2) und die Zu­ leitungen (2a, 2b) enthält, wird mit einem Preßharz (5) ver­ gossen, um dadurch einen Gehäusekörper zu formen, der die untere Oberfläche jeder Substrat-Anschlußleitung (2a) nach unten freiliegen lässt.
Das so aufgebaute herkömmliche Halbleitergehäuse mit untenliegenden Zuleitungen verringert die auf dem Substrat eingenommene Fläche und verhindert eine Beschädigung der äußeren Zuleitungen.
Die Chip-Kontaktflecken (1a) werden jedoch über die metallischen Drähte (4) elektrisch mit den entsprechenden Chip-Anschlußleitungen (2b) verbunden, so daß wegen der sich aus den metallischen Drähten ergebenden Höhenzunahme des Gehäuses eine Beschränkung dafür, das Chipgehäuse dünner zu machen, vorhanden ist.
Da im Chipgehäuse nur ein einzelner Chip angebracht wird, sind mehrlagige Gehäuse ferner schwierig herzustellen, wodurch eine Integration in großem Maßstab beschränkt wird.
Außerdem ist der Verbindungszustand der Zuleitungen schwierig zu testen.
Es ist deshalb Ziel der vorliegenden Erfindung, ein Halbleiterchip-Stapelgehäuse mit untenliegenden Zuleitungen bereitzustellen, das es ermöglicht, ein Chipgehäuse dünner zu machen und eine höhere Integration erlaubt, und das Tests von Zuleitungsanschlüssen erleichtert, wenn das Gehäuse auf einem Substrat angebracht ist.
Um dies zu erreichen, wird ein Halbleiterchip- Stapelgehäuse mit den Merkmalen des Anspruchs 1 vorgeschla­ gen.
Fig. 1 ist eine Schnittansicht eines herkömmlichen Halbleitergehäuses mit untenliegenden Zuleitungen;
Fig. 2A bis 2D sind Schnittansichten, die Herstel­ lungsschritte für ein Halbleitergehäuse mit untenliegenden Zuleitungen gemäß einer ersten Ausführungsform der vorlie­ genden Erfindung zeigen; und
Fig. 3 ist eine Schnittansicht eines Halbleitergehäu­ ses mit untenliegenden Zuleitungen gemäß einer zweiten Aus­ führungsform der Erfindung.
Das Halbleitergehäuse mit untenliegenden Zuleitungen gemäß der vorliegenden Erfindung wird nun mit Bezug auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben.
Als erstes wird wie in Fig. 2A gezeigt ein Zuleitungs­ rahmen (10) mit einer Vielzahl von ersten Zuleitungen (10a), von denen jede mit einem Substrat (nicht gezeigt) verbunden wird, und einer Vielzahl von zweiten Zuleitungen (10b), die jeweils von jeder ersten Zuleitung (10a) aus nach oben ver­ laufen, bereitgestellt. Von der oberen Oberfläche jeder ersten Zuleitung (10a) aus verläuft ein Vorsprung (11), der in Größe und Ort einem Chip-Kontaktfleck (13a) eines Chips (13) entspricht, der später darauf bereitgestellt wird. Eine Lötpaste (12) wird auf jeden der Vorsprünge (11) plattiert, wobei eine obere Oberfläche der Lote (12) den in einer unte­ ren Oberfläche des Chips (13), auf dessen unterer Oberfläche abgesehen von den Chip-Kontaktflecken (13a) eine Polyamid­ schicht (14) geformt ist, bereitgestellten Kontaktflecken (13a) entspricht. Das bedeutet, die Vorsprünge (11), auf denen jeweils ein Lot (12) umgebend plattiert ist, werden so ausgerichtet, daß sie in die entsprechende, im Polyamid (14) so geformte Öffnung eingesetzt werden. Danach wird das Lot (12) durch Heizen geschmolzen und gehärtet und die Chip- Kontaktflecke (13a) in der unteren Oberfläche des Chips (13) werden an den entsprechenden Loten (12) befestigt, wodurch elektrische Signale von/zu jedem Chip-Kontaktfleck (13a) zu/von der entsprechenden ersten Zuleitung (10a) übertragen werden können. Der gesamte in Fig. 2A gezeigte Körper wird in der folgenden Beschreibung als ein erster Körper (20) bezeichnet.
Der erste, mit einem Substrat (nicht gezeigt) verbunde­ ne Körper (20) enthält: den Zuleitungsrahmen (10) mit den ersten Zuleitungen (10a), bei denen von der oberen Oberflä­ che von jeder von diesen aus ein Vorsprung (11) nach oben verläuft, und die zweiten Zuleitungen (10b) die von den ersten Zuleitungen (10a) aus nach oben verlaufen; die umge­ bend auf Vorsprünge (11) plattierten Lote (12); und den Halbleiterchip (13), dessen untere Oberfläche auf den Loten (12) ausgerichtet ist, an denen jeweils ein Chip-Kontakt­ fleck (13a) in der unteren Oberfläche des Chips (13) befe­ stigt wird.
Wie in Fig. 2B gezeigt wird der erste Körper (20) von Fig. 2A entgegengesetzt auf einen zweiten Körper (20') ge­ stapelt, der denselben Aufbau wie der erste Körper (20) hat, so daß der erste und der zweite Körper (20, 20') vertikal symmetrisch sind. Die oberen Oberflächen der Körper (20; 20') werden durch einen Klebstoff (30) aneinander befestigt. Als Klebstoff (30) wird entweder ein leitender Klebstoff wie das Lot (12) oder ein isolierender Klebstoff wie beispiels­ weise Polyamid verwendet. Um die zweiten Zuleitungen (10b) des ersten Körpers (20) mit entsprechenden zweiten Zuleitun­ gen (10b') des zweiten Körpers (20') zu verbinden, wird ein leitender Klebstoff eingesetzt, wohingegen ein isolierender Klebstoff eingesetzt wird, um die jeweiligen zweiten Zulei­ tungen (10b, 10b') voneinander zu isolieren.
Das bedeutet, der isolierende Klebstoff wird dazu ver­ wendet, den Chips (13, 13') zu erlauben, jeweils getrennte Funktionen auszuführen, und der leitende Klebstoff wird eingesetzt, um den Chips (13, 13') zu erlauben, eine identi­ sche Funktion zu erfüllen.
Wie in Fig. 2C gezeigt, wird eine Vergußmasse (40) bereitgestellt, um das Innere des ersten und zweiten Körpers (20, 20') auszufüllen und die Chips (13, 13') zu umgeben und entsprechend das Äußere der Zuleitungsrahmen (10, 10') abzu­ dichten, jedoch den unteren Teil jeder ersten Zuleitung (10a, 10a') und den Endteil jeder zweiten Zuleitung (10b, 10b') nach außen freizulegen. Die Vergußmasse (40) besteht hier bevorzugt aus einem Epoxidharz.
Mit Bezug auf Fig. 2D wird eine Lotschicht (50) auf jede Oberfläche der nach außen freiliegenden Teile der ersten Zuleitungen (10a, 10a') und der zweiten Zuleitungen (10b, 10b') plattiert und es wird ein Abschneideprozeß durchge­ führt, um die nach außen freiliegenden zweiten Zuleitungen (10b, 10b') auf eine bestimmte Länge abzuschneiden, wodurch das Halbleiterchip-Stapelgehäuse mit untenliegenden Zulei­ tungen gemäß der vorliegenden Erfindung fertiggestellt wird.
Die Endteile der zweiten Zuleitungen (10b, 10b') ver­ laufen außerhalb der Vergußmasse (40), so daß, wenn das Chipgehäuse auf einem Substrat angebracht wird, die elektri­ sche Verbindung der ersten Zuleitungen (10a, 10a') und der Chips (13, 13') immer noch geeignet getestet werden kann.
Fig. 3 zeigt eine zweite Ausführungsform der vorlie­ genden Erfindung, bei der ein Paar Halbleiterchip-Stapel­ gehäuse (100, 101) mit untenliegenden Zuleitungen vertikal gestapelt ist. Die zweite Ausführungsform der Erfindung ist jedoch nicht auf eine derartige zweilagige Struktur be­ schränkt, sondern die Gehäuse können zu einem in mehreren Lagen gestapelten Gehäuse mit wenigstens zwei Lagen davon gestapelt werden. Das bedeutet, die ersten Zuleitungen (10a') des Gehäuses (100) werden an einem anderen Gehäuse (101) befestigt, das einen identischen Aufbau wie das Gehäu­ se (100) hat. Jedes der auf jede der nach außen freiliegenden Oberflächen der ersten Zuleitungen (10a, 10a') plattierten Lote (50) wird zur Befestigung der Reihe nach geschmolzen und gehärtet. Wird das Lot (50) nicht geschmolzen, wird eine als Ersatzklebstoff dienende Lotcreme dazu verwendet, die Zuleitungen (10a, 10a') fest aneinander zu befestigen. Das Klebstoffmaterial ist auch nicht auf Lot beschränkt, sondern es kann jede Art von leitendem Klebstoff, welche die Haft­ kraft verbessern kann, aufgebracht werden.
Wie oben beschrieben, ermöglicht das Halbleiterchip- Stapelgehäuse mit untenliegenden Zuleitungen gemäß der vor­ liegenden Erfindung, das Chipgehäuse viel dünner zu machen und höher zu integrieren.
Ferner erleichtert das Chip-Stapelgehäuse gemäß der vorliegenden Erfindung das Testen des Anschlusses der Zulei­ tungen, wenn das Chipgehäuse auf einem Substrat angebracht ist.

Claims (8)

1. Halbleiterchip-Stapelgehäuse mit untenliegenden Zuleitungen, das umfaßt:
einen ersten Körper (20) und einen zweiten Körper (20'), die entgegengesetzt zueinander gestapelt sind, wobei jeder von den Körpern (20, 20') einen Zuleitungsrahmen (10) mit ersten Zuleitungen (10a), bei denen von einer oberen Oberfläche von jeder von diesen aus ein Vorsprung (11) nach oben verläuft, und zweite Zuleitungen (10b), die von den ersten Zuleitungen (10a) aus nach oben verlaufen, ein umge­ bend auf jeden der Vorsprünge (11) plattiertes Lot (12), und einen Halbleiterchip (13) mit Chip-Kontaktflecken (13a) in einer unteren Oberfläche davon, die auf entsprechenden von den Loten (12) ausgerichtet sind, wobei an jedem Kontakt­ flecken (13a) in der unteren Oberfläche des Chips (13) eines der entsprechenden Lote (12) befestigt ist, enthält;
einen Klebstoff (30), der obere Oberflächen der zweiten Zuleitungen (10b, 10b') des ersten und zweiten Körpers (20, 20') aneinander befestigt;
eine Vergußmasse (40), die ein Inneres des ersten und zweiten Körpers (20, 20') ausfüllt, die Chips (13, 13') umgibt und ein Äußeres der Zuleitungsrahmen (10, 10') ab­ dichtet, jedoch einen unteren Teil jeder ersten Zuleitung (10a, 10a') und einen Endteil jeder zweiten Zuleitung (10b, 10b') nach außen freiliegen läßt.
2. Gehäuse nach Anspruch 1, bei dem der Klebstoff (30) aus einem leitenden Material gebildet ist.
3. Gehäuse nach Anspruch 2, bei dem das leitende Material aus Lot besteht.
4. Gehäuse nach Anspruch 1, bei dem der Klebstoff (30) aus einem isolierenden Material gebildet ist.
5. Gehäuse nach Anspruch 4, bei dem das isolierende Material aus Polyamid besteht.
6. Gehäuse nach Anspruch 1, bei dem jede Oberfläche der nach außen freiliegenden Teile der ersten Zuleitungen (10a, 10a') und zweiten Zuleitungen (10b, 10b') mit einer leitenden Schicht (50) plattiert ist.
7. Gehäuse nach Anspruch 1, bei dem auf der unteren Oberfläche jedes Halbleiterchips (13) eine Polyamidschicht (14) selektiv geformt ist, welche die Chip-Kontaktflecken (13a) in der unteren Oberfläche des Chips (13) frei­ liegen läßt.
8. Gehäuse nach Anspruch 1, bei dem die Vergußmasse (40) aus einem Epoxidharz besteht.
DE1997116668 1996-05-17 1997-04-21 Halbleiterchip-Stapelgehäuse mit untenliegenden Zuleitungen Expired - Fee Related DE19716668C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019960016640A KR100186309B1 (ko) 1996-05-17 1996-05-17 적층형 버텀 리드 패키지

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE19716668A1 DE19716668A1 (de) 1997-11-20
DE19716668C2 true DE19716668C2 (de) 1999-05-27

Family

ID=19459003

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE1997116668 Expired - Fee Related DE19716668C2 (de) 1996-05-17 1997-04-21 Halbleiterchip-Stapelgehäuse mit untenliegenden Zuleitungen

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5939779A (de)
JP (1) JP2819285B2 (de)
KR (1) KR100186309B1 (de)
CN (1) CN1064780C (de)
DE (1) DE19716668C2 (de)

Families Citing this family (75)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3937265B2 (ja) * 1997-09-29 2007-06-27 エルピーダメモリ株式会社 半導体装置
KR100285664B1 (ko) * 1998-05-15 2001-06-01 박종섭 스택패키지및그제조방법
SG75958A1 (en) * 1998-06-01 2000-10-24 Hitachi Ulsi Sys Co Ltd Semiconductor device and a method of producing semiconductor device
US6143981A (en) 1998-06-24 2000-11-07 Amkor Technology, Inc. Plastic integrated circuit package and method and leadframe for making the package
KR100304959B1 (ko) * 1998-10-21 2001-09-24 김영환 칩 적층형 반도체 패키지 및 그 제조방법
US6063648A (en) * 1998-10-29 2000-05-16 Tessera, Inc. Lead formation usings grids
KR20010037247A (ko) * 1999-10-15 2001-05-07 마이클 디. 오브라이언 반도체패키지
KR100421774B1 (ko) * 1999-12-16 2004-03-10 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체패키지 및 그 제조 방법
US6762067B1 (en) * 2000-01-18 2004-07-13 Fairchild Semiconductor Corporation Method of packaging a plurality of devices utilizing a plurality of lead frames coupled together by rails
KR100335717B1 (ko) * 2000-02-18 2002-05-08 윤종용 고용량 메모리 카드
US7042068B2 (en) 2000-04-27 2006-05-09 Amkor Technology, Inc. Leadframe and semiconductor package made using the leadframe
US6197618B1 (en) * 2000-05-04 2001-03-06 General Semiconductor Ireland Semiconductor device fabrication using adhesives
KR100379600B1 (ko) * 2000-08-14 2003-04-10 삼성전자주식회사 듀얼 칩 패키지의 제조 방법
KR100646971B1 (ko) * 2000-12-07 2006-11-17 주식회사 하이닉스반도체 스택 패키지 제조용 스텐실의 구조
US6545345B1 (en) 2001-03-20 2003-04-08 Amkor Technology, Inc. Mounting for a package containing a chip
KR20030018642A (ko) 2001-08-30 2003-03-06 주식회사 하이닉스반도체 스택 칩 모듈
KR100447869B1 (ko) * 2001-12-27 2004-09-08 삼성전자주식회사 다핀 적층 반도체 칩 패키지 및 이에 사용되는 리드 프레임
KR100422359B1 (ko) * 2002-03-07 2004-03-11 주식회사 하이닉스반도체 원통형 반도체 패키지 및 그를 이용한 케이블형 패키지 모듈
US6608366B1 (en) 2002-04-15 2003-08-19 Harry J. Fogelson Lead frame with plated end leads
US7132311B2 (en) * 2002-07-26 2006-11-07 Intel Corporation Encapsulation of a stack of semiconductor dice
US7723210B2 (en) 2002-11-08 2010-05-25 Amkor Technology, Inc. Direct-write wafer level chip scale package
US6905914B1 (en) 2002-11-08 2005-06-14 Amkor Technology, Inc. Wafer level package and fabrication method
US6798047B1 (en) 2002-12-26 2004-09-28 Amkor Technology, Inc. Pre-molded leadframe
US6750545B1 (en) 2003-02-28 2004-06-15 Amkor Technology, Inc. Semiconductor package capable of die stacking
US6794740B1 (en) 2003-03-13 2004-09-21 Amkor Technology, Inc. Leadframe package for semiconductor devices
US6879034B1 (en) 2003-05-01 2005-04-12 Amkor Technology, Inc. Semiconductor package including low temperature co-fired ceramic substrate
JP3693057B2 (ja) * 2003-07-04 2005-09-07 セイコーエプソン株式会社 半導体装置の製造方法
US7148564B2 (en) * 2004-02-17 2006-12-12 Delphi Technologies, Inc. Dual-sided substrate integrated circuit package including a leadframe having leads with increased thickness
JP2005277114A (ja) * 2004-03-25 2005-10-06 Sanyo Electric Co Ltd 半導体装置
US6972372B1 (en) * 2004-05-28 2005-12-06 Macronix International Co., Ltd. Method and apparatus for stacking electrical components using outer lead portions and exposed inner lead portions to provide interconnection
US7202105B2 (en) * 2004-06-28 2007-04-10 Semiconductor Components Industries, L.L.C. Multi-chip semiconductor connector assembly method
DE102004041889B4 (de) * 2004-08-30 2006-06-29 Infineon Technologies Ag Halbleitervorrichtung mit gestapelten Halbleiterbauelementen und Verfahren zu deren Herstellung
US7408244B2 (en) * 2005-03-16 2008-08-05 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Semiconductor package and stack arrangement thereof
US7098073B1 (en) 2005-04-18 2006-08-29 Freescale Semiconductor, Inc. Method for stacking an integrated circuit on another integrated circuit
US7196427B2 (en) * 2005-04-18 2007-03-27 Freescale Semiconductor, Inc. Structure having an integrated circuit on another integrated circuit with an intervening bent adhesive element
JP4551321B2 (ja) * 2005-07-21 2010-09-29 新光電気工業株式会社 電子部品実装構造及びその製造方法
US20070029648A1 (en) * 2005-08-02 2007-02-08 Texas Instruments Incorporated Enhanced multi-die package
KR100631959B1 (ko) * 2005-09-07 2006-10-04 주식회사 하이닉스반도체 적층형 반도체 패키지 및 그 제조방법
US7361531B2 (en) * 2005-11-01 2008-04-22 Allegro Microsystems, Inc. Methods and apparatus for Flip-Chip-On-Lead semiconductor package
US7572681B1 (en) 2005-12-08 2009-08-11 Amkor Technology, Inc. Embedded electronic component package
JPWO2007125633A1 (ja) * 2006-04-28 2009-09-10 株式会社東芝 高周波用半導体装置
US7902660B1 (en) 2006-05-24 2011-03-08 Amkor Technology, Inc. Substrate for semiconductor device and manufacturing method thereof
US7968998B1 (en) 2006-06-21 2011-06-28 Amkor Technology, Inc. Side leaded, bottom exposed pad and bottom exposed lead fusion quad flat semiconductor package
TWI352416B (en) * 2006-09-12 2011-11-11 Chipmos Technologies Inc Stacked chip package structure with unbalanced lea
KR100910223B1 (ko) 2006-09-29 2009-07-31 주식회사 하이닉스반도체 적층 반도체 패키지
US8847413B2 (en) * 2007-01-15 2014-09-30 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit package system with leads having multiple sides exposed
JP5147295B2 (ja) * 2007-05-31 2013-02-20 オンセミコンダクター・トレーディング・リミテッド 半導体装置
US7834464B2 (en) * 2007-10-09 2010-11-16 Infineon Technologies Ag Semiconductor chip package, semiconductor chip assembly, and method for fabricating a device
US7882482B2 (en) * 2007-10-12 2011-02-01 Monolithic Power Systems, Inc. Layout schemes and apparatus for high performance DC-DC output stage
US20090127676A1 (en) * 2007-11-16 2009-05-21 Gomez Jocel P Back to Back Die Assembly For Semiconductor Devices
US8796561B1 (en) 2009-10-05 2014-08-05 Amkor Technology, Inc. Fan out build up substrate stackable package and method
US8937381B1 (en) 2009-12-03 2015-01-20 Amkor Technology, Inc. Thin stackable package and method
US9691734B1 (en) 2009-12-07 2017-06-27 Amkor Technology, Inc. Method of forming a plurality of electronic component packages
US8372692B2 (en) * 2010-01-27 2013-02-12 Marvell World Trade Ltd. Method of stacking flip-chip on wire-bonded chip
US8324511B1 (en) 2010-04-06 2012-12-04 Amkor Technology, Inc. Through via nub reveal method and structure
US8294276B1 (en) 2010-05-27 2012-10-23 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device and fabricating method thereof
US8440554B1 (en) 2010-08-02 2013-05-14 Amkor Technology, Inc. Through via connected backside embedded circuit features structure and method
US20120049334A1 (en) * 2010-08-27 2012-03-01 Stats Chippac, Ltd. Semiconductor Device and Method of Forming Leadframe as Vertical Interconnect Structure Between Stacked Semiconductor Die
US8487445B1 (en) 2010-10-05 2013-07-16 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device having through electrodes protruding from dielectric layer
US8791501B1 (en) 2010-12-03 2014-07-29 Amkor Technology, Inc. Integrated passive device structure and method
CN102569099B (zh) * 2010-12-28 2014-12-10 万国半导体(开曼)股份有限公司 一种倒装芯片的封装方法
US8390130B1 (en) 2011-01-06 2013-03-05 Amkor Technology, Inc. Through via recessed reveal structure and method
US8552548B1 (en) 2011-11-29 2013-10-08 Amkor Technology, Inc. Conductive pad on protruding through electrode semiconductor device
US8629539B2 (en) 2012-01-16 2014-01-14 Allegro Microsystems, Llc Methods and apparatus for magnetic sensor having non-conductive die paddle
US9129943B1 (en) 2012-03-29 2015-09-08 Amkor Technology, Inc. Embedded component package and fabrication method
US9048298B1 (en) 2012-03-29 2015-06-02 Amkor Technology, Inc. Backside warpage control structure and fabrication method
US9041188B2 (en) * 2012-11-10 2015-05-26 Vishay General Semiconductor Llc Axial semiconductor package
CN103745964A (zh) * 2013-12-05 2014-04-23 南通富士通微电子股份有限公司 封装结构
CN103730444B (zh) * 2014-01-20 2017-06-27 矽力杰半导体技术(杭州)有限公司 封装组件及其制造方法
JP6162643B2 (ja) 2014-05-21 2017-07-12 三菱電機株式会社 半導体装置
US9564387B2 (en) * 2014-08-28 2017-02-07 UTAC Headquarters Pte. Ltd. Semiconductor package having routing traces therein
DE112017001206B4 (de) * 2016-03-10 2023-12-07 Mitsui High-Tec, Inc. Elektrodenverbindungsstruktur und Leiterrahmen
CN110190035A (zh) * 2019-04-26 2019-08-30 江苏长电科技股份有限公司 一种基板和框架混合的三维***级封装结构及其工艺方法
US10991644B2 (en) 2019-08-22 2021-04-27 Allegro Microsystems, Llc Integrated circuit package having a low profile
CN114300369A (zh) * 2022-03-10 2022-04-08 绍兴中芯集成电路制造股份有限公司 半导体封装结构的制作方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0630047A1 (de) * 1993-06-14 1994-12-21 Kabushiki Kaisha Toshiba Verfahren zur Herstellung einer harzversiegelten Halbleitervorrichtung, bei diesem Verfahren verwendeter Leiterrahmen zur Montage vieler Halbleiterelemente und harzversiegelte Halbleitervorrichtung
US5428248A (en) * 1992-08-21 1995-06-27 Goldstar Electron Co., Ltd. Resin molded semiconductor package
DE19507573A1 (de) * 1994-03-30 1995-10-05 Gold Star Electronics Leiterstruktur und Halbleitergehäuse mit dieser Leiterstruktur
US5530292A (en) * 1990-03-15 1996-06-25 Fujitsu Limited Semiconductor device having a plurality of chips

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3978516A (en) * 1974-01-02 1976-08-31 Texas Instruments Incorporated Lead frame assembly for a packaged semiconductor microcircuit
US5296737A (en) * 1990-09-06 1994-03-22 Hitachi, Ltd. Semiconductor device with a plurality of face to face chips
US5172214A (en) * 1991-02-06 1992-12-15 Motorola, Inc. Leadless semiconductor device and method for making the same
US5331235A (en) * 1991-06-01 1994-07-19 Goldstar Electron Co., Ltd. Multi-chip semiconductor package
KR950012658B1 (ko) * 1992-07-24 1995-10-19 삼성전자주식회사 반도체 칩 실장방법 및 기판 구조체
US5479051A (en) * 1992-10-09 1995-12-26 Fujitsu Limited Semiconductor device having a plurality of semiconductor chips
KR960005042B1 (ko) * 1992-11-07 1996-04-18 금성일렉트론주식회사 반도체 펙케지
US5429992A (en) * 1994-05-25 1995-07-04 Texas Instruments Incorporated Lead frame structure for IC devices with strengthened encapsulation adhesion
US5677567A (en) * 1996-06-17 1997-10-14 Micron Technology, Inc. Leads between chips assembly

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5530292A (en) * 1990-03-15 1996-06-25 Fujitsu Limited Semiconductor device having a plurality of chips
US5428248A (en) * 1992-08-21 1995-06-27 Goldstar Electron Co., Ltd. Resin molded semiconductor package
EP0630047A1 (de) * 1993-06-14 1994-12-21 Kabushiki Kaisha Toshiba Verfahren zur Herstellung einer harzversiegelten Halbleitervorrichtung, bei diesem Verfahren verwendeter Leiterrahmen zur Montage vieler Halbleiterelemente und harzversiegelte Halbleitervorrichtung
DE19507573A1 (de) * 1994-03-30 1995-10-05 Gold Star Electronics Leiterstruktur und Halbleitergehäuse mit dieser Leiterstruktur

Also Published As

Publication number Publication date
CN1166057A (zh) 1997-11-26
DE19716668A1 (de) 1997-11-20
KR100186309B1 (ko) 1999-03-20
JP2819285B2 (ja) 1998-10-30
KR970077555A (ko) 1997-12-12
US5939779A (en) 1999-08-17
CN1064780C (zh) 2001-04-18
JPH1056129A (ja) 1998-02-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE19716668C2 (de) Halbleiterchip-Stapelgehäuse mit untenliegenden Zuleitungen
DE4238646B4 (de) Halbleiter-Bauelement mit spezieller Anschlusskonfiguration
DE10295972B4 (de) Nicht in einer Form hergestellte Packung für eine Halbleiteranordnung und Verfahren zur Herstellung
DE68927295T2 (de) Kunstharzversiegeltes halbleiterbauelement
DE69133497T2 (de) Leiterrahmen für eine Halbleiteranordnung und dessen Herstellungsverfahren
DE68928185T2 (de) Herstellung elektronischer Bauelemente mit Hilfe von Leiterrahmen
DE69025815T2 (de) Halbleitervorrichtung vom Plastikumhüllungstyp
DE4207198C2 (de) Zuführungsrahmen und dessen Verwendung in einer Halbleitervorrichtung
DE10147955A1 (de) Halbleitervorrichtung
DE3913221A1 (de) Halbleiteranordnung
DE19817128A1 (de) Zuleitungsrahmen, den Zuleitungsrahmen benutzende Halbleitervorrichtung und Verfahren zum Herstellen der Halbleitervorrichtung
DE19709295A1 (de) Halbleiterbaugruppe
DE102019125537B3 (de) Sensorvorrichtungen mit Sensorchip und Stromschiene
DE19743767A1 (de) Halbleiterchip-Gehäuse für Oberflächenmontage sowie Verfahren zum Herstellen desselben
DE69737320T2 (de) Halbleitervorrichtung
DE102014106158B4 (de) Verfahren zum Testen von elektronischen Bauteilen und Halbleiterstreifenanordnung
DE10110453A1 (de) Verfahren zum Montieren eines Halbleiterchips auf einem Substrat und auf einem Substrat montierbarer Halbleiterbaustein
DE69004581T2 (de) Plastikumhüllte Hybrid-Halbleiteranordnung.
DE4230030A1 (de) Halbleitergehaeuse und verfahren zu dessen zusammenbau
DE102020108851A1 (de) Die-zu-leiter-verbindung in der verkapselung eines gegossenen halbleitergehäuses
DE19709259B4 (de) Mehrlagiges Bodenanschlussgehäuse
DE19929606A1 (de) Integrierte Schaltung und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE69118308T2 (de) Verfahren zur Herstellung einer elektrischen Verbindung für eine integrierte Schaltung
DE19725625C2 (de) Halbleitergehäuse mit untenliegenden Zuleitungen
DE19526511A1 (de) Halbleitervorrichtung und Verfahren zu deren Herstellung und Montage

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee

Effective date: 20131101