DE19516053C2 - UV-Strahler - Google Patents

UV-Strahler

Info

Publication number
DE19516053C2
DE19516053C2 DE19516053A DE19516053A DE19516053C2 DE 19516053 C2 DE19516053 C2 DE 19516053C2 DE 19516053 A DE19516053 A DE 19516053A DE 19516053 A DE19516053 A DE 19516053A DE 19516053 C2 DE19516053 C2 DE 19516053C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
radiation source
opening
lamp
air
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE19516053A
Other languages
English (en)
Other versions
DE19516053A1 (de
Inventor
Joachim Jung
Bernd Schwarz
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
IST METZ GMBH, 72622 NUERTINGEN, DE
Original Assignee
IST Metz GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by IST Metz GmbH filed Critical IST Metz GmbH
Priority to DE19516053A priority Critical patent/DE19516053C2/de
Priority to DE59600559T priority patent/DE59600559D1/de
Priority to DK96106499T priority patent/DK0741272T3/da
Priority to ES96106499T priority patent/ES2121452T3/es
Priority to EP96106499A priority patent/EP0741272B1/de
Priority to US08/640,630 priority patent/US5751008A/en
Publication of DE19516053A1 publication Critical patent/DE19516053A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE19516053C2 publication Critical patent/DE19516053C2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26DRYING
    • F26BDRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B3/00Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat
    • F26B3/28Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by radiation, e.g. from the sun
    • F26B3/283Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by radiation, e.g. from the sun in combination with convection

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Microbiology (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Supply, Installation And Extraction Of Printed Sheets Or Plates (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Drying Of Solid Materials (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft einen UV-Strahler zur Trock­ nung oberflächenbeschichteter Substrate mit den Merk­ malen des Oberbegriffs des Anspruches 1.
UV-Strahler dieser Art werden als Trocknungsanla­ gen im Bereich der Bedruckung oder Lackierung von Endloswaren oder Korpusteilen eingesetzt, beispiels­ weise in Druckmaschinen zur UV-Trocknung der be­ druckten oder lackierten Bogen. Normalerweise wer­ den die Substrate nach Beschichtung ihrer Oberfläche nur so kurze Zeit dem UV-Strahler ausgesetzt, daß die UV-Strahlen in der Oberflächenbeschichtung eine che­ mische Reaktion hervorrufen können, andererseits aber die zusätzlich vom UV-Strahler ausgehende Wärme das Substrat nicht beschädigt, beispielsweise vergilben oder gar entzünden läßt. Kommt es daher, beispielsweise auf­ grund eines Transportfehlers des Substrates, zu einem Produktionsstop, so muß das in diesem Augenblick dem UV-Strahler ausgesetzte Substrat vor der Wärme des UV-Strahlers geschützt werden.
Ein bekannter UV-Strahler der eingangs genannten Art, bei dem eine Strahlungsquelle innerhalb eines Ge­ häuses angeordnet ist und durch eine Öffnung desselben ihre Strahlung abgibt weist daher mechanische Klap­ pen auf, mit denen die Öffnung des Gehäuses verschlos­ sen werden kann.
Die DE 83 18 696 U1 zeigt einen UV-Strahler zur Bestrahlung einer Fläche mit einem Gehäuse, das eine auf das Substrat ausgerichtete Öffnung aufweist, und einer innerhalb des Gehäuses angeordneten UV-Strahlungsquelle. Die Öffnung ist dabei durch eine mit dem Gehäuse verschraubte Abdeckung aus einem für UV-Strahlung transparenten Werkstoff abgedeckt.
Die DE 35 09 931 zeigt eine Bestrahlungseinrichtung für eine in Bräunungsstudios einzusetzende Schnellbräuneeinrichtung mit einem in Richtung auf die zu bestrahlende Person durch zwei parallel zueinander in geringem Abstand angeordnete Glasscheiben abgedeckten Reflektorgehäuse. Mittels eines Axiallüfters wird ein Luftstrom zwischen den beiden Glasscheiben erzeugt.
Die technische Entwicklung geht sowohl zu immer kleineren als auch zu kompakteren Anlagen zur Ober­ flächenbeschichtung, was zur Folge hat, daß sich der für den UV-Strahler zur Verfügung stehende Raum verrin­ gert. Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, einen UV-Strahler zur Trocknung oberflächenbeschichteter Substrate bereit­ zustellen, der eine kleine Baugröße aufweist und selbst bei einer Transportstörung eine Überhitzung des zu bestrahlenden Substrats verhindert.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch einen UV-Strahler mit den Merkmalen des Anspruches 1. Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen sind Gegen­ stand der Unteransprüche.
Dadurch, daß an der Öffnung ein Luftauslaß für einen die Öffnung überstreichenden Luftstrom vorgesehen ist, unterdrückt dieser Luftstrom die von der Strahlungs­ quelle angeregte Konvektion warmer Luft aus dem UV- Strahler heraus zum Substrat hin. Damit entfallen die bisher notwendigen mechanischen Klappen, Schwenk­ reflektoren oder Blenden, was die Größe und das Ge­ wicht des UV-Strahlers reduziert und die konstruktive Ausgestaltung des UV-Strahlers deutlich vereinfacht.
Um eine Erwärmung des Substrates durch die von der Strahlungsquelle ausgehende Infrarotstrahlung zu ver­ hindern, ist es von Vorteil, wenn wenigstens ein zusätzli­ cher Luftauslaß für einen das Substrat beaufschlagen­ den Luftstrom vorhanden ist.
Für eine Reduktion der UV-Strahlung, der das Sub­ strat ausgesetzt ist, ist es von Vorteil, wenn die Strah­ lungsquelle außer einem abgeschalteten Zustand und einen Betriebszustand noch wenigstens einen Standby- Zustand mit gegenüber dem Betriebszustand reduzier­ ter Strahlungsleistung besitzt. Besonders vorteilhaft sind ein oberer Standby-Zustand, in welchem die Strah­ lungsquelle mit verminderter Leistung brennt, für einen kurzen Produktionsstop, und ein unterer Standby-Zu­ stand mit noch weiter reduzierter Strahlungsleistung für einen längeren Stop der Oberflächenbeschichtungsanla­ ge. Mit diesen Maßnahmen erhöht sich die Lebensdauer der Strahlungsquelle. Zugleich wird der Verbrauch elek­ trischer Energie gesenkt.
Vorteilhafterweise sind Mittel vorgesehen, um die Strahlungsquelle mit einem Luftstrom zur Kühlung zu beaufschlagen. Die Anpassung der Luftkühlung an die Leistung der Strahlungsquelle im Standby-Betrieb er­ möglicht auch bei sehr geringen Leistungen einen lam­ penschonenden Betrieb über einen längeren Zeitraum hinweg.
Der erfindungsgemäße UV-Strahler ist vorzugsweise als Trocknungsanlage in einer Vorrichtung zur Oberflä­ chenbeschichtung von Substraten eingebaut.
Im folgenden ist die Erfindung an Hand eines in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiels näher er­ läutert. Es zeigt die einzige Figur einen Schnitt durch das Ausführungsbeispiel.
Das Ausführungsbeispiel betrifft einen UV-Strahler in einer Druckmaschine für Bogen.
In einem Gehäuse 1 ist als Strahlungsquelle 3 eine langgestreckte Hochdruckentladungslampe angeord­ net, beispielsweise eine Quecksilberdampflampe. In Längsrichtung ist die Strahlungsquelle 3 teilweise von einem halbzylindrischen Reflektor 5 umgeben, der auf seiner Innenseite verspiegelt ist. Dabei liegt die Strah­ lungsquelle 3 etwa auf der Linie der Brennpunkte des Reflektors 5.
Mit seiner offenen Längsseite ist der Reflektor 5 auf eine Öffnung 7 des Gehäuses 1 ausgerichtet, aus der die Strahlung der Strahlungsquelle 3 direkt oder durch Spiegelung am Reflektor 5 austreten kann. Auf seiner der Öffnung 7 abgewandten Seite weist der Reflektor 5 einen Luftspalt 9 auf, durch den hindurch ein die Strah­ lungsquelle 3 kühlender Luftstrom treten kann.
Bedingt durch die langgestreckte Form der Strah­ lungsquelle 3 hat die Öffnung 7 eine Rechteckform. Ent­ lang des Randes der Öffnung 7, welcher einer Längssei­ te des Rechteckes entspricht, ist ein erstes Rohr 11 an­ geordnet, welches über in der Zeichnung nicht darge­ stellte Leitungen von vorzugsweise kalter Preßluft durchströmt werden kann. In Längsrichtung ist das erste Rohr 11 mit einem Luftauslaß 13 versehen, welcher auf den gegenüberliegenden Rand der Öffnung 7 ausgerich­ tet ist. Im Ausführungsbeispiel besteht der Luftauslaß 13 aus mehreren nebeneinander im gleichen Abstand ange­ ordneten Löchern.
Auf der dem ersten Rohr 11 gegenüberliegenden Sei­ te der Öffnung 7 ist am Gehäuse 11 ein zweites Rohr 15 vorgesehen, welches ebenfalls von Preßluft durchströmt werden kann und ebenfalls einen in Längsrichtung ver­ laufenden zusätzlichen Luftauslaß 17 für den Austritt eines Luftstromes aufweist.
Zur Kühlung des Gehäuses 1 sind in dessen Wand mehrere, parallel zur Strahlungsquelle 3 verlaufende Kühlmittelkanäle vorgesehen.
Der UV-Strahler ist innerhalb der Anlage zur Be­ schichtung der Oberfläche eines Substrates 19, im Aus­ führungsbeispiel also innerhalb der Druckmaschine, so angeordnet, daß die Strahlungsquelle 3 parallel zur Ach­ se einer Walze 21 verläuft, über welche das beschichtete Substrat 19, im Ausführungsbeispiel also der bedruckte Bogen, am UV-Strahler vorbeigeführt wird. Die Öff­ nung 7 des Gehäuses 1 ist auf das Substrat 19 ausgerich­ tet. Der zusätzliche Luftauslaß 17 ist so am zweiten Rohr 15 ausgebildet, daß der aus ihm austretende Luft­ strom das Substrat 19 etwa in dem Bereich beaufschlagt, auf den die Öffnung 7 ausgerichtet ist. Dieser Luftstrom kühlt nicht nur das Substrat 19, sondern auch zugleich die Walze 21 und gegebenenfalls weitere Teile der Druckmaschine.
In den Stromkreis zur Versorgung der Strahlungs­ quelle 3 ist ein in Zeichnung nicht dargestelltes Vor­ schaltgerät eingebaut, mit dem die Leistung der Strah­ lungsquelle 3 über Spannungs-, Strom- oder Frequenz­ änderung regelbar ist. Die Strahlungsquelle 3 besitzt dabei außer einem abgeschalteten Zustand und einem Betriebszustand noch einen oberen und einen unteren Standby-Zustand. Im oberen Standby-Zustand ist die Leistung der Strahlungsquelle 3 auf etwa 15% gegen­ über dem Betriebszustand reduziert, wobei die Strom­ stärke so gewählt ist, daß die Strahlungsquelle 3 im obe­ ren Standby-Zustand weiterhin stabil brennt. Dadurch kann die Strahlungsquelle 3 innerhalb weniger Sekun­ den vom oberen Standby-Zustand in den Betriebszu­ stand übergehen. Im unteren Standby-Zustand ist die Leistung gegenüber dem Betriebszustand auf etwa 1% bis 3% reduziert, wodurch sich zwar die benötigte Zeit für den Übergang in den Betriebszustand erhöht, dafür aber die Strahlungsquelle 3 lampenschonend über meh­ rere Stunden hinweg im unteren Standby-Zustand be­ trieben werden kann, ohne daß ein Abschalten der Strahlungsquelle 3 aufgrund der Wärmeentwicklung notwendig wäre. Dies vergrößert die Lebensdauer der Strahlungsquelle 3 und spart elektrische Energie.
Kommt es zu einem Stillstand der Druckmaschine, so geht die Strahlungsquelle 3 vom Betriebszustand in den oberen Standby-Zustand über. Der aus dem Luftauslaß 13 des ersten Rohres 11 austretende Luftstrom ver­ schließt wie ein Vorhang die Öffnung 7 gegenüber der Konvektion warmer Luft. Der aus dem Luftauslaß 17 des zweiten Rohres 15 austretende Luftstrom kühlt das Substrat 19 und schützt dieses dadurch vor der Infrarot­ strahlung der Strahlungsquelle 3. Der aus dem Luftspalt 9 austretende Luftstrom kühlt die Strahlungsquelle 3. Bleibt die Druckmaschine über mehrere Minuten abge­ schaltet, so führt das Vorschaltgerät die Strahlungsquel­ le 3 vom oberen Standby-Zustand in den unteren Stand­ by-Zustand über. Wenn die Druckmaschine wieder an läuft, bringt das Vorschaltgerät die Strahlungsquelle 3 wieder in den Betriebszustand. Je nachdem, wie die Druckmaschine und der UV-Strahler ausgelegt sind und betrieben werden, kann dann auf einen oder mehrere der beschriebenen Luftströme verzichtet werden.

Claims (6)

1. UV-Strahler zur Trocknung oberflächenbeschichteter Substrate (19) mit
  • a) einem Gehäuse (1), das eine auf das Substrat (19) ausgerichtete Öffnung (7) aufweist,
  • b) einer innerhalb des Gehäuses (1) angeordneten Strahlungsquelle (3), dadurch gekennzeichnet,
  • c) daß die Öffnung (7) abdeckungsfrei ist,
  • d) daß an der Öffnung (7) wenigstens ein Luftauslaß (13) vorgesehen ist,
  • e) daß ein aus dem Luftauslaß (13) austretender Luftstrom die Öffnung (7) überstreicht und einen Luftvorhang bildet.
2. UV-Strahler nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens ein zusätzlicher Luftauslaß (17) für einen das Substrat (19) beaufschlagenden Luftstrom vorgesehen ist.
3. UV-Strahler nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Strahlungsquelle (3) außer einem abgeschalteten Zustand und einem Betriebszustand noch wenigstens einen Standby-Zu­ stand mit gegenüber dem Betriebszustand reduzierter Strahlungs­ leistung besitzt.
4. UV-Strahler nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Strahlungsquelle (3) beim Übergang vom Betriebszustand in den Standby-Zustand nicht erlischt.
5. UV-Strahler nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Strahlungsquelle (3) zwei Standby-Zustände mit unter­ schiedlicher Strahlungsleistung besitzt.
6. UV-Strahler nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch ge­ kennzeichnet, daß Mittel (9) vorgesehen sind, um die Strahlungs­ quelle (3) in einem Luftstrom zu kühlen."
DE19516053A 1995-05-04 1995-05-04 UV-Strahler Expired - Fee Related DE19516053C2 (de)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19516053A DE19516053C2 (de) 1995-05-04 1995-05-04 UV-Strahler
DE59600559T DE59600559D1 (de) 1995-05-04 1996-04-25 UV-Strahler
DK96106499T DK0741272T3 (da) 1995-05-04 1996-04-25 UV-stråler
ES96106499T ES2121452T3 (es) 1995-05-04 1996-04-25 Emisor de rayos ultravioleta.
EP96106499A EP0741272B1 (de) 1995-05-04 1996-04-25 UV-Strahler
US08/640,630 US5751008A (en) 1995-05-04 1996-05-01 Ultraviolet emitter

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19516053A DE19516053C2 (de) 1995-05-04 1995-05-04 UV-Strahler

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE19516053A1 DE19516053A1 (de) 1996-11-14
DE19516053C2 true DE19516053C2 (de) 2000-08-24

Family

ID=7760859

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19516053A Expired - Fee Related DE19516053C2 (de) 1995-05-04 1995-05-04 UV-Strahler
DE59600559T Expired - Fee Related DE59600559D1 (de) 1995-05-04 1996-04-25 UV-Strahler

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE59600559T Expired - Fee Related DE59600559D1 (de) 1995-05-04 1996-04-25 UV-Strahler

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5751008A (de)
EP (1) EP0741272B1 (de)
DE (2) DE19516053C2 (de)
DK (1) DK0741272T3 (de)
ES (1) ES2121452T3 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102009015195A1 (de) 2009-03-31 2010-10-07 Matthias Koch Strahlungstrockner, insbesondere UV-Trockner, sowie Strahlungstrocknermodul, insbesondere UV-Trocknermodul, enthaltend diesen Strahlungstrockner

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9607129D0 (en) * 1996-04-04 1996-06-12 Gew Ec Ltd Uv dryer with improved reflector
DE19651977C2 (de) * 1996-12-13 2001-03-01 Michael Bisges UV-Bestrahlungsvorrichtung
WO1999010717A1 (en) 1997-08-22 1999-03-04 Morlock Richard C Sensor housing for uv curing chamber
DE19807643C2 (de) * 1998-02-23 2000-01-05 Industrieservis Ges Fuer Innov Verfahren und Vorrichtung zum Trocknen eines Trocknungsgutes an der Oberfläche eines schnell geförderten Trägermaterials, insbesondere zum Druckfarbentrocknen
DE19810455C2 (de) * 1998-03-11 2000-02-24 Michael Bisges Kaltlicht-UV-Bestrahlungsvorrichtung
DE19916474A1 (de) * 1999-04-13 2000-10-26 Ist Metz Gmbh Bestrahlungsgerät
DE19945074B4 (de) * 1999-09-21 2007-01-18 Printconcept Gmbh Trocknungseinrichtung für beschichtete Substrate
DE19945073C2 (de) * 1999-09-21 2003-05-22 Printconcept Gmbh Trocknungseinrichtung für beschichtete Substrate
DE10136396A1 (de) * 2001-07-26 2003-02-13 Platsch Gmbh & Co Kg Trockner für Druckerzeugnisse
US6655040B2 (en) 2002-01-04 2003-12-02 The Diagnostics Group, Inc. Combination ultraviolet curing and infrared drying system
DE102006053198B4 (de) * 2006-11-09 2016-06-30 Deutsche Mechatronics Gmbh Trocknungsanlage
WO2014160552A1 (en) 2013-03-26 2014-10-02 Clearink Displays Llc Displaced porous electrode for frustrating tir
JP2014210430A (ja) * 2013-04-04 2014-11-13 株式会社東通研 紫外線照射装置
DE102013217659A1 (de) * 2013-09-04 2015-03-05 Krones Ag Behälterbehandlungsmaschine zur Bedruckung von Behältern
DE102018206152A1 (de) * 2018-04-20 2019-10-24 Koenig & Bauer Ag Trocknungsvorrichtung für eine bedruckstoffverarbeitende Maschine und Verfahren zum Betreiben einer Trocknungsvorrichtung
DE102018206154B4 (de) 2018-04-20 2021-10-28 Koenig & Bauer Ag Trocknungsvorrichtung für eine bedruckstoffverarbeitende Maschine und Verfahren zum Betreiben einer Trocknungsvorrichtung

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE8318696U1 (de) * 1983-06-28 1983-11-24 Endlich, Wilhelm, 8000 München Vorrichtung zur bestrahlung einer flaeche mit uv-a-licht
DE3509939A1 (de) * 1985-03-19 1986-09-25 Rudolf Dipl.-Ing. 6360 Friedberg Weiner Bestrahlungseinrichtung

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4135098A (en) * 1976-11-05 1979-01-16 Union Carbide Corporation Method and apparatus for curing coating materials
US4146974A (en) * 1977-09-19 1979-04-03 Pray Robert W Drying apparatus
US4434562A (en) * 1981-09-02 1984-03-06 American Screen Printing Equipment Company Curing apparatus and method
SE458860B (sv) * 1986-02-06 1989-05-16 Itronic Process Ab Anordning vid en foer vaermebehandling av banformiga alster anordnad behandlingsanlaeggning
US5099586A (en) * 1989-09-08 1992-03-31 W. R. Grace & Co.-Conn. Reflector assembly for heating a substrate
CA2036544A1 (en) * 1990-02-28 1991-08-29 John Goff Ultraviolet light curing apparatus and process
GB9116120D0 (en) * 1991-07-25 1991-09-11 G E W Ec Ltd U.v.dryers
US5440137A (en) * 1994-09-06 1995-08-08 Fusion Systems Corporation Screw mechanism for radiation-curing lamp having an adjustable irradiation area

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE8318696U1 (de) * 1983-06-28 1983-11-24 Endlich, Wilhelm, 8000 München Vorrichtung zur bestrahlung einer flaeche mit uv-a-licht
DE3509939A1 (de) * 1985-03-19 1986-09-25 Rudolf Dipl.-Ing. 6360 Friedberg Weiner Bestrahlungseinrichtung

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102009015195A1 (de) 2009-03-31 2010-10-07 Matthias Koch Strahlungstrockner, insbesondere UV-Trockner, sowie Strahlungstrocknermodul, insbesondere UV-Trocknermodul, enthaltend diesen Strahlungstrockner

Also Published As

Publication number Publication date
ES2121452T3 (es) 1998-11-16
DK0741272T3 (da) 1999-06-14
EP0741272A2 (de) 1996-11-06
EP0741272B1 (de) 1998-09-16
DE19516053A1 (de) 1996-11-14
EP0741272A3 (de) 1997-03-12
DE59600559D1 (de) 1998-10-22
US5751008A (en) 1998-05-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE19516053C2 (de) UV-Strahler
DE3323637C2 (de) Anordnung zum Betrieb einer langgestreckten elektrodenlosen Lampe
DE60112969T2 (de) Uv pasteurisator
DE2901534C2 (de) Bestrahlungsgerät zum Aushärten von durch Strahlung härtbaren Dentalmassen
DE2639728A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum behandeln eines substrats mit ultraviolettstrahlung
EP0458140A1 (de) Hochleistungsstrahler
WO1984000897A1 (en) Irradiation apparatus
EP0547366A1 (de) Hochleistungsstrahler
DE2622993A1 (de) Uv-lampen-anordnung
DE10207928A1 (de) Lampenanordnung
DE10125770C2 (de) Bestrahlungsvorrichtung mit langgestreckter Strahlungsquelle und Verfahren zum Betrieb derselben
DE3124688C2 (de) Vorrichtung zum Trocknen von band- oder blattförmigen, fotografischen Schichtträgern
DE3734767C2 (de)
DE4333448A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Vermeidung einer Rückströmung in luft- oder gasgekühlten Lampen
DE2449929A1 (de) Projektionsapparat
DE10109061A1 (de) Lampenanordnung
DE102004038592A1 (de) Bestrahlungsaggregat
DE2455458C2 (de) Vorrichtung zum Verschließen eines Reflektorkörpers und der zugehörigen Strahlerröhre
EP1662248A2 (de) Strahlungsquellen-Aufnahmeeinheit für ein Bewitterungsgerät
DE2512763A1 (de) Leuchte, insbesondere filmleuchte
DE2422873B2 (de) Vorrichtung zum Trocknen bedruckter Bahnen
EP0067892A1 (de) Gerät zur Abgabe von Licht und ähnlicher Strahlung
DE3215664A1 (de) Bestrahlungsgeraet zur zahnersatzteile
DE19945074B4 (de) Trocknungseinrichtung für beschichtete Substrate
DE102007029316B4 (de) Vorrichtung zum UV-Strahlungshärten

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: IST METZ GMBH, 72622 NUERTINGEN, DE

D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee