DE1926849A1 - Vorrichtung zur Registrierung mit Elektronenstrahlen - Google Patents

Vorrichtung zur Registrierung mit Elektronenstrahlen

Info

Publication number
DE1926849A1
DE1926849A1 DE19691926849 DE1926849A DE1926849A1 DE 1926849 A1 DE1926849 A1 DE 1926849A1 DE 19691926849 DE19691926849 DE 19691926849 DE 1926849 A DE1926849 A DE 1926849A DE 1926849 A1 DE1926849 A1 DE 1926849A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
bundle
lenses
registration
organ
electron
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19691926849
Other languages
English (en)
Inventor
Fontijn Dipl-Phys Lee Antonius
Le Poole Jan Bart
Bok Dr-Ing Alfred Bram
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nederlandse Organisatie voor Toegepast Natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO
Original Assignee
Nederlandse Organisatie voor Toegepast Natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nederlandse Organisatie voor Toegepast Natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO filed Critical Nederlandse Organisatie voor Toegepast Natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO
Publication of DE1926849A1 publication Critical patent/DE1926849A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/3002—Details
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
    • G11C13/04—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using optical elements ; using other beam accessed elements, e.g. electron or ion beam
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/3002—Details
    • H01J37/3007—Electron or ion-optical systems
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/302—Controlling tubes by external information, e.g. programme control
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/15—Means for deflecting or directing discharge
    • H01J2237/151—Electrostatic means
    • H01J2237/1514—Prisms
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S101/00—Printing
    • Y10S101/37—Printing employing electrostatic force

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

906» -vl-° ' ■-.-,·; .
NEDERLANDSE CENTRALE ORGANISATIE VOOH - . ■' 1 7. MAj 1969 TOEGEPAST-NATUURWETENSGHAfPELIJK'
ONDERZOEK, Den Haag, Holland.
Vorrichtung zur Registrierung mit Elektronenstrahlen.
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Binärregistrierung mit Hilfe eines Elektronenstrahlenbündels, versehen mit einer Elektronenquelle zur Erzeugung des Bündels, einem Organ zum Fokussieren des Bündels, elektronenoptischen Mitteln zur Formgestaltung des Bündels und zur Belichtung mit nahezu konstanter Stromdichte des Registriermaterials durch das Bündel und Mittel, mit denen Registriermaterial und Bündel in bezug auf einander bewegt werden können.
Derartige Vorrichtungen sind bekannt. Einerseits-gibt es Vorrichtungen zum Belichten einer fotografischen Emulsion oder einen Fotolack zur Herstellung einer Maske. Andererseits gibt es Vorrichtungen zum Belichten einer fotografischen Emulsion- oder Fotolack zur Durchführung direkter Arbeitsvorgänge an Schaltungen.
Bei der Vorrichtung zur Herstellung einer Maske ist die herzustellende ./ Maske eine verkleinerte Abbildung einer: vorher zwischen der Kondensorlinse und der Zwischenlinse angebrachten Materialmaske. Will man also Masken von einer anderen Torrn machenT so ist die. Materialmaske durch eine Materiälmaske dieser Form zu ersetzen. Bei der Vorrichtung zur Durchführung von Arbeitsvorgängen_an Schaltungen werden die Arbeitsvorgänge mit einem Steuerband einer"Rechenmaschine gesteuert, Das Bündel ist, wenn belichtet" wird, auf das Werkstück eingestellt, und hat dann nahezu immer dieselbe. Form und denselben Querschnitt. Das erforderliche Küster wird durch Ablenkung des fokussierten Bündels hergestellt ο . , - -.·.. :- "■
Gegenstand der Erfindung ist eine andere Art und Weise, nach der ean „Muster hergestellt wird, die, wie sich gezeigt hat, viele zusätzliche Vorteile hat, . . -
Die Erfindung ist zu diesem Zweck gekennzeichnet, durch Mittel zum Variieren in Form und/oder Grosse des Querschnittes des Elektronen- ; Strahlenbündels in der Registrierfläche, die den belichtenden Teil im Bildelement bildet. . ■
Das erforderliche Muster wird nun dadurch hergestellt,"dassdieses Muster in Bildelemente aufgeteilt wird und dadurch, dass in diesen Elementen mit dem Bündel Belichtungen mit einem, an derselben Stelle in Grosse und Form, variierenden Querschnitt des Bündels, das zu diesem Zweck von einer programmierten Rechenmaschine oder durch eine abgetastete Vorlage- gesteuert wird, ausgeführt '//erden.
In einem Ausführungsbeispiel wird der Elektronenbündelquerschnifct durch ein zwischen der Elektronenquelle und dem Fokussierörgan.ange-; brachtes Doppelprisma gesteuert, welches Doppelprisma ein elektrostatisches Prisma ist, über das die Spannungsdifferenz moduliert werden kann. . ■
Die Anwendung dieses Steuerungssystems resultiert in zwei punktförmigen Fokussen der Quelle auf beiden Seiten des ursprünglichen Fokus, jeder von der halben Intensität und weiterhin in einer Entfernung voneinander, die proportional zu der Modulation ist» Durch die Anwendung als Organe von zwei in der Strahlrichtung hintereinander angeordneten Vierpollinsen, werden die Punktfokusse in Linienfokusse umgewandelt. Ein derartiges System mit Linienfokussen und einer vor der Registrierfläche angeordneten Blende eignet sich besonders zur Verwendung für die Binärregistrierung»
In einem anderen Ausführungsbeispiel wird der Elektronenbündelquerschnitt durch Modulation auf ein Ablenkorgan gesteuert, das .."zwischen/.--einer Blende und einem Fokussierorgan mit einer in einer geraden L:lni: mit der -ersten stehenden zweiten Blende im Bildfeld dieses Fokussierorgans angeordnet ist. . , .
.^,^rm . : ■■■■"■ ' ~ BAD ORIGINAL ■"."■' .'
909850/0823 - »..
Die in diesem Ausführungsbeispiel verwendeten Mittel finden dabei statt und an Stelle des im ersten AuBführungsbeispiel erwähnten Doppelprisma' Anwendung.
Die Erfindung wird nun anhand einer Zeichnung durch, neun Figuren dieser und anderer Ausführungsbeispiel<r und Einzelheiten erläutert werden.
Figur 1 zeigt den utrahlengang bei Abbildung mit zwei Vierpollinsen. Figur 2 zeigt schematise« eine Vierpollinse.
Figur 3 zeigt ein Schema für eine Speisevorrichtung einer Vierpollinse» Figur k zeigt ein Doppelprisffiä. ·- - ' Figur 5 zeigt eine Frihzipsskizze für den Strahlengang in einer Belichtungsapparatur mit Doppe!prisma und. Vierpollineen. Figur 6 zeigt einen etwas anderen Strahlengang schematise!! angegeben in einer Fläche und ausgebreitet mit Mitteln zum Invertieren des belichteten Bildis. -.
Figur-7 zeigt den Strahlengang für \Vne Apparatur, bei der die Kittel zwei halbe Blenden, ein Ablenkungsorgan und ein Fokussierorgan umfassen.
a b
Die Figuren 7 und 7 zeigen die wirküngs\veise des geregelten Ablenksystems F aus Bild 1.
Figur 8 zeigt drei Kusführungsformen von in· einer Apparatur mit Strahlengang nach Bild 7 anwendbaren Blenden« Figur 9 zeigt eine Belichtüngsapparatur in der Perspektive.
In den -Figuren, beziehen sich gleiche Ziffern und gleiche Buchstaben auf gleiche Elemente.
In Figur Λ sind drei Strahlen 1, 2 und 3 eines divergierenden Strahlenbündels das von der Quelle B ausgesendet und in Punkt C konvergiert wird, gezeichnet.
Die Strahlen 1 und 3 und die Strahlen 2 und 3 liegen in Plänen, die in bezug auf einander einen Winkel von 90 Grad bilden.
909850/0826
Durch die Linien A und A wird die Stärke der Vierpollinsen bzw. werden die Vierpollinsen selbst, welche für die Abbildung C von . Quelle B sorgen, schematisch angegeben.
Die Pfeile k, 5T" 6 und 7 in den Linien A und A geben die Richtung der Fokussierung" bzw. Defokussierung des Bündels an.
Pfeil k gibt zum Beispiel an, dass das Bündel im Strahlenfeld 2 und 3 durch die erste Linse noch weiter zerstreut wird und Pfeil 5 gibt anj dass das Bündel im Strahlenfeld 1 und 3 durch die erste Linse konvergiert «ird.
Die Vierpollinsen A und A_ fokussieren also.in einem Plan und defokussieren also in dem nahezu darauf lotrechten Plan.
Jede Vierpollinse A und A besteht aus vier Spulen 8, 9> 10 und 11, die gesondert ausgeführt sind, siehe Figur 2. ■ ■
Die Stärke der Linse wird aus den Abbildungs- und Vergrösserungserfordernissen errechnet und durch die Abmessungen der Vorrichtung bedingt* . .
Der Strom durch eine Spule 8, 9i 10 und 11 der Linse wird bestimmt mit Hilfe der Formeln·
• 1 -1
f = ~n"—'■—η λ und f =
χ β sinß.1 y β
worin f und f. Brennpunktabstande in der Fokussier- und der Defokus-
x y 2 .
eiereinrichtung sind und worin β als Parameter der Linse gegeben wird
worin ni = die Anzahl «mpere-V/icklungen je Spule. u = die Beschleunigungsspannung der Elektronen in Volt. 1 = die Länge der Spule parallel zur Systemachse. r = die Entfernung der Spule zur Systemachse. , - . ■
Das Schaltschema der Spulen einer Linse zeigt Fig. 3·
• ' · , cow
909850/0826. ·. -5-
ORIQfNAL INSPECTED
Um den Ablenkungsfehler erster Ordnung zu korrigieren, sind sowohl die • Nord- wie auch die Südpole in eine einfache Balanceschaltung aufgenommen.
Aus den Abbildungs- und Vergrbsserungserfordernissen ergibt sich der j Platz der beiden Linsen.
In dem Ausfuhrungsbeispiel einer Belichtungseinrichtung, siehe Fig. 5» ist vor die Vierpollinsen A , A ein Doppelprisma, siehe Fig. k, !
geschaltet. " :
Das Doppelprisma wird durch einen Hohlzylinder 15 und einen './olframfaden 16 gebildet.
Der Zylinder 15 ist zum Durchlassen des Strahlenbündels 19 mit einer öffnung 17 und zum Durchlassen der Bündel 19,, und 19? mit einer öffnung 18 versehen.
Die Bündel 19,, und 19? erhält man durch Anbringung einer Spannungsdifferenz auf dem Doppelprisma.
Auf diese Weise entstehen zwei virtuelle Quellen und abhängig von der Spannungsdifferenz werden diese virtuellen Quellen einander wohl "oder nicht überlappen.
Dadurch, dass in der Elektronenquelle von Fig„ 5 eine Spaltblende als wehneltöffnung angewandt worden ist, erhält man einen ellipsförmigen ''cross-over" von der Quelle.
Das Verhältnis der beiden Hauptachsen ist hierbei etwa 1 : 3» was im Vergleich zu dem üblichen Fall mit einer runden Wehneltöffnung, bei der das Verhältnis bereits 2 5 3 sein kann, eine Verbesserung bedeutet.
-Die auf diese VJeise erhaltene Linienquelle B bildet mit Hilfe des ' Doppelprismas, von dem nur der Drahlt 16 eingezeichnet ist, zwei virtuelle Linienquellfm B,. und B3 für die Vierpollinsen A und A_,
909850/0826
ORIGINAL INSPECTED
die die Quellen B und B auf einer Präparatrolle 20 in C und C
abbilden.
Die Abbildungen C und C bestehen aus,Linienabbildungen mit einer Länge von etwa 100 Kikron und einer Breite von nur einigen· Mikron.
Durch die Stellung und die Erregung der beiden Vierpollinsen A und A kann die Vergrösserung in beiden Hauptachsrichtungen innerhalb weiter Grenzen variiert werden.
Zu diesem Zweck sind die Vierpollinsen sowohl drehbar um wie axial an einem Rohr entlang bewegbar.
Bei Regelung der Spannungsdifferenz über das Doppelprisma wird die Entfernung d zwischen den Abbildungen C und C geregelt und damit das auf die Präparatrolle 20 in einer dünnen Schicht aufgetragene
Kodak Photo Resist, oder ein anderes zu belichtendes Material,
belichtet»
Die Präparatrolle 20 dreht sich mit einer konstanten Geschwindigkeit unter den Abbildungen C und C weiter und verlagert sich dabei in axialer Richtung um 0,ik mm pro Umdrehung.
Durch die Steigung der Präparatrolle 20 von O,14 mm und die dadurch auf der Präparatrolle 20 beschriebene Spur der Linienabbildungen C und C ist, um Überlappung der beschriebenen Spuren zu vermeiden, eine Blende D von 0,15 mm dicht über der Rolle 20 angebracht worden,
Durch Vorhandensein der Blende D wird der Querschnitt des Elektronenbündels in der Registrierfläche infolge der Modulation variiert, wie. auf Rolle 20 dargestellt ist (siehe die belichteten Spuren E).
Um den Fehlerbeitrag in der Abbildung durch Linsenfehler einzuschränken, besonders durch sphärische Aberation, findet Abblendung des Bündels durch Blende D statt.
909850/0826 0^'"*"
-^ 192S849
Gravierung der belicht&ten rräparatrölie 20 kann, wenn gewünscht, durch ÄtzUhg erföigehj wobei die unbelichteten Teile, nach Entwicklung der K ii?. Ri ^Schicht weiter geätzt werden können. Jedes einzelne BiIdelemeht eitier Druckform enthält auf diese .leise z»B. einen öder mehrere Drücknäpfe Von verschiedener Oberfläche und/öder von verschiedener Tiefe*
Schemätiseh ist in Figur 6 der Strahlengang für eine Einrichtung mit invertierter idnienabbildurig angegeben.
In dieser Einrichtung ist ^ um die Empfindlichkeit zu vergrösserri, das Doppeiprismä 16 nach der ersten Vierpollihse" Ä, angeordnet wordent Beim Fehlen der Modulation auf dem Doppeiprismä 16 fällen die Bilder C, und C_ zusammen auf die Maske F. Auf der Präparatrolle 20 findet dann keine Belichtung statt.
Bei Modulation fallen die Bilder C und C teilweise oder ganz ausserhalb der Maske F.
Durch das zweite Doppelprisma G und die rotationssymmetrische Linse H werden diese Bilder C und C wieder zu einer Linienabbildung I zusammengefügt, deren Länge durch die Modulation bestimmt und mit der Praparatrolle 20 belichtet wird.
In Fig. 7 wird der Strahlengang wieder in einer anderen Vorrichtung dargestellt -.
Die Quelle E wird durch die rotations-symmetrische Linse K in der Ebene der rotationssymmetrischen Linse N abgebildet.
Eine Blende L, der.en Ausführungsformen in Fig. 8 gezeichnet sind, fängt einen Teil des Strahlenbündels auf=
Ein Ablenksystem M, .an-das ein modulierendes Signal angeschlossen ,^werden kann, ist vor der Linse N angebracht worden.
Hiiiter die Linse N wurde eine Blende 0 gesetzt. * .'.
9Ö985Ö/0826 8AD ordinal
Beim Fehlen der Modulation auf dem System M- wird die Abbildung in der Ebene der Linse N unbehindert durch die Blende 0 mit Hilfe der
9»
rotationssymmetrischen Linse H auf der Rolle 20 abgebildet werden»
Die gezogenen im Bildelement R konvergierenden Linien geben den Strahlengang für. diesen Zustand an.
■ - ■
Falls aber Lodulation auf dem System M vorhanden ist, wird ein Teil des Bündels durch die Blende 0 aufgefangen werden.
Die gestrichelten im Bildelement Ii' konvergierenden Linien geben davon den -.'trahlengang wieder
Das Ablenksystem P ist mit dem System H gekoppelt und angebracht* um dafür -u sorgen, dass die Schwerpunkte der Bildelemente in einer Linie auf den Zylinder zu liegen kommen.
Ficur 7a gibt hiervon für Linien-Bildelemente beim Fehlen des Ablenksysteirs Γ- ein Beispiel. . . -
Figur 7b £ibt ein Beispiel für Bildelemente in der Form von Quadraten, h-:ji denen zur. Beispiel -it dem geregelten System P die Schwerpunkte
auf eine gerade Linie ζ rebracht sind. - '
Eei anwendung in Fig. 7 '-iner Blende L1 0 des in Fig* Sa gezeigten Typs erhält ir.an 5ildelerr.<%nte R in der Form einer LInIe1 deren Länge je nach der Kodulaticn variiert. Bei Anwendung einer Blende des in. Fig. 8b gezeigten Typs werden diese zu kleinen Quadraten, deren GrosBe mit der Modulation variiert- Und bei Äny/endung einer Blende des in: Fig. 8c gezeigten Typs werden die Bildelemente zu ^uadratinusterji pit einer konstanten Anzahl kleiner Felder, deren ^uadrate Je nach der Modulation in Grosse variieren^
Fig. 9 zeigt schematisch und in Perspektive eine Einrichtung nach der Erfindung mit einem Strahlengang, der mit dem von Fig* 6 ubereiuiFftimmt, und bei der Sp^ltlinsen S und ..T-, statt der Vierpollineett A* und A» ver<- ' ■" t Wendet werden« : " !
9098S0/?082i
" \ t ir e ( t Cv '
■\ fet t . t * · ■ ■ - _
tilt * ·■ ν ν ν t - . ( * .
.". Es iat selbstverständlich, daes das modulierende Signal auf elektronischem Wege den für eine gute Wiedergabe der Halbtöne im zu erhaltenden Druckwerk zu stellenden Anforderungen angepasst werden kann»
Dies ist von grosser Bedeutung, da das Signal von der Abtasteinrichtung, vom Original, nicht linear mit der Tintenmenge sein wird, die pro Drucknapf von der Druckrolle auf die Kopie übertragen werden muss»
Selbstverständlich ermöglicht dieses System auch örtliche Korrektioneno
ORIQiNALINSPECTED

Claims (1)

  1. -τ« Patentansprüche,
    /1.) Vorrichtung zur Binärregistrierung mit Hilfe eines Elektronenstrahlenbündels, versehen mit einer Elektronenquelle zur Urzeugung des Bündels, einem Organ zum Fokussieren des Bündeis, elektronenoptischen Kitteln zur Formgestaltung des Bündels und zur Belichtung mit nahezu konstanter Stromdichte des Registrierinaterials durch das Bündel und Mittel, mit denen Registriermaterial und Bündel in bezug aufeinander bewegt werden können, gekennzeichnet durch Mittel zum Variieren in Form und/oder Grosse des Querschnitts des ülektronenstrahlenbündels in der Registrierfläche, die den belichtenden Teil im Bildelement bildet,
    2. Vorrichtung nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Mittel zum Variieren in Form und Grosse des Büadelquerschnitts ein im Bündel angebrachtes Doppelprisma umfassen, das mit einem hodulator verbunden ist= ". - "
    3- Vorrichtung nach Patentanspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Mittel ferner in Reihenfolge eine in der Bildflache des Fokusoi.erorgans angebrachte Maske, ein z%·eir.es Dopj-elprisna und ein zweites-Fokussierorgan umfassen,
    'f, Vorrichtung nach Patentanspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet,; " dass das lOppelprisraa ein elektrostatisches trisiaa in Form eines Zjlinderkondenaatorfi mit Innenleiter ist, über das die Spannungsdifferenz moduliert .'/erden kann. . . .
    y, Vorrichtung nach Patentanspruch 1, 2, J"oder %, dadurch gekennzeichnet, dass als Fokussierorgan zv;si in der" ofcrahlrichtung hintereinander angeordnete Vierpollinsen bosiehsngsureise Spalt— linsen angewandt worden sind. - . " _
    5, Vorrichtung nach Patentanspruch 5j dadurch' gekennzeichnet,, dass die. Vier.pollins-ea raagn-e tische Linsen- sind und -soviohi .-drehbar wie axial ."-an einem Rohr entlang bewegbar sind.- ' ; . .
    98S07082S
    7« Vorrichtung nach Patentanspruch 5» dadurch gekennzeichnet, dass die? Spaltlinsen elektrostatische Linsen sind»
    8. Vorrichtung nach Patentanspruch 1, 2, 3» **, 5» 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, dass in der Quelle eine Spaltblende angewandt wird* ·
    9· Vorrichtung nach ϊatentanspruch 5» 6 oder 8, dadurch gekennzeichnet, dass eine -blende in der Hau ptf lache, feiner der Vierpol linsen ange-
    - t
    bracht ist.
    10« Vorrichtung nach 1 atentansjruch 1, 2, 3, -'♦, 5i 6, 7, ? oder 9, dadurch gekf?n!ir.(richnot, dacs von der I-icgistrierfläch^ f-ine Llende Angebracht lvordc-n ist.
    11» Vorrichtung nach I a-tonta-nspruch 1, dadurch gekennxeiciinet, datis die Mittel surr. Variieren in Form lurid -'ircusr- des Bündelquorschnitts zwischen der £leki rcn--niuplli; und dec Fokussierorgan a:t(teordnet eind und in Reihenfolge eint- erste I-jende, ein AMer.korgan, ein·" weiteres Fokussiercrijan und »»ine seii^ in eir.<-T .--'"raden L:r.i<- ir.it: der *-rsten Blend«» in- -.-ildfyiä des weiteren Fokussiorcrgans angebrachte-Blende uinfatseen.
    12» Vox'riciif ung nach i att ntans'fruch 11, dadurch gekennzeichnet, das;.-Eic-ndvii. Kr«-i£i.*'---p::'.f*nte sind.
    ■ 15·.. Vorrichtung nach, late-ntanspruck 11, dadurch gekennzeichnet, dass die ilenden. 3a.z*i" sind.
    BAD ORK31NAL
    .909850/0326
    -A2~
    Lee rs e i t e
DE19691926849 1968-05-27 1969-05-27 Vorrichtung zur Registrierung mit Elektronenstrahlen Pending DE1926849A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL6807439A NL6807439A (de) 1968-05-27 1968-05-27

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1926849A1 true DE1926849A1 (de) 1969-12-11

Family

ID=19803740

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19691926849 Pending DE1926849A1 (de) 1968-05-27 1969-05-27 Vorrichtung zur Registrierung mit Elektronenstrahlen

Country Status (5)

Country Link
US (1) US3638231A (de)
CA (1) CA921548A (de)
DE (1) DE1926849A1 (de)
GB (1) GB1269156A (de)
NL (1) NL6807439A (de)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1301030B (de) * 1967-10-19 1969-08-14 Hakle Werke Hans Klenk Halter fuer Papierrollen
FR2284186A1 (fr) * 1974-09-06 1976-04-02 Agency Ind Science Techn Appareil et procede pour former un modele de dessin desire sur un objet au moyen d'un faisceau de particules chargees
DE2647855A1 (de) * 1975-10-23 1977-05-05 Rikagaku Kenkyusho Verfahren zum projizieren eines buendels aus geladenen partikeln
FR2361190A1 (fr) * 1976-08-09 1978-03-10 Zeiss Carl Fa Procede et dispositif d'usinage a froid par faisceau electronique
FR2382091A1 (fr) * 1977-02-23 1978-09-22 Ibm Procede et dispositif de formation d'un faisceau electronique de taille variable
DE3138896A1 (de) * 1981-09-30 1983-04-14 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Elektronenoptisches system mit vario-formstrahl zur erzeugung und messung von mikrostrukturen

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4041532A (en) * 1971-04-28 1977-08-09 Decca Limited Of Decca House Method of recording wide-band signals on a thermoplastic film by use of a beam of electrons
US3750189A (en) * 1971-10-18 1973-07-31 Ibm Light scanning and printing system
DE2241850C3 (de) * 1972-08-25 1978-06-29 European Rotogravure Association, 8000 Muenchen Verfahren zur Herstellung von Druckformen mittels eines Energiestrahles
US4000440A (en) * 1974-07-26 1976-12-28 International Business Machines Corporation Method and apparatus for controlling brightness and alignment of a beam of charged particles
US4010318A (en) * 1975-05-20 1977-03-01 Rca Corporation Probe forming electron optical column having means for examining magnified image of the probe source
US3956635A (en) * 1975-06-13 1976-05-11 International Business Machines Corporation Combined multiple beam size and spiral scan method for electron beam writing of microcircuit patterns
JPS5283177A (en) * 1975-12-31 1977-07-11 Fujitsu Ltd Electron beam exposure device
US4393312A (en) * 1976-02-05 1983-07-12 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Variable-spot scanning in an electron beam exposure system
GB1523033A (en) * 1976-03-03 1978-08-31 Crosfield Electronics Ltd Image reproducing systems
JPS52126760U (de) * 1976-03-24 1977-09-27
JPS52122083A (en) * 1976-04-02 1977-10-13 Jeol Ltd Electron beam exposing device
NL177578C (nl) * 1976-05-14 1985-10-16 Thomson Csf Inrichting voor het beschrijven van een voorwerp met een deeltjesbundel.
JPS6051261B2 (ja) * 1976-05-26 1985-11-13 株式会社東芝 荷電粒子ビ−ム描画装置
JPS52151568A (en) * 1976-06-11 1977-12-16 Jeol Ltd Electron beam exposure apparatus
DE2627632A1 (de) * 1976-06-19 1977-12-22 Jenoptik Jena Gmbh Verfahren und einrichtung zur nichtthermischen elektronenstrahlbearbeitung
JPS5625233Y2 (de) * 1976-09-01 1981-06-15
JPS6040186B2 (ja) * 1976-11-04 1985-09-10 富士通株式会社 磁場形成装置
FR2412939A1 (fr) * 1977-12-23 1979-07-20 Anvar Implanteur d'ions a fort courant
US4277685A (en) * 1978-06-12 1981-07-07 Ohio-Nuclear, Inc. Adjustable collimator
JPS54101982U (de) * 1978-10-12 1979-07-18
US4243866A (en) * 1979-01-11 1981-01-06 International Business Machines Corporation Method and apparatus for forming a variable size electron beam
DE2947444C2 (de) * 1979-11-24 1983-12-08 Dr.-Ing. Rudolf Hell Gmbh, 2300 Kiel Elektronenstrahl-Gravierverfahren
WO1982001787A1 (en) * 1980-11-22 1982-05-27 Grieger Dieter Method for engraving by means of an electron beam
US4445041A (en) * 1981-06-02 1984-04-24 Hewlett-Packard Company Electron beam blanker
NL8602196A (nl) * 1986-08-29 1988-03-16 Philips Nv Geladen deeltjes bestralingsapparaat met optisch vervormbaar bundel begrenzend diafragma.
GB8911392D0 (en) * 1989-05-18 1989-07-05 Humphreys Colin J Fabrication of electronic devices
JP5420678B2 (ja) * 2009-12-11 2014-02-19 株式会社日立製作所 電子線バイプリズム装置および電子線装置
EP2365514B1 (de) * 2010-03-10 2015-08-26 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Doppelstrahlige Ladungsträgerstrahlsäule und Betriebsverfahren dafür

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3118050A (en) * 1960-04-06 1964-01-14 Alloyd Electronics Corp Electron beam devices and processes
US3113896A (en) * 1961-01-31 1963-12-10 Space Technology Lab Inc Electron beam masking for etching electrical circuits
DE1301209B (de) * 1964-07-24 1969-08-14 Steigerwald Strahltech Verfahren zum Abtragen, insbesondere zum Perforieren von flexiblen Kunststoffen
US3491236A (en) * 1967-09-28 1970-01-20 Gen Electric Electron beam fabrication of microelectronic circuit patterns

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1301030B (de) * 1967-10-19 1969-08-14 Hakle Werke Hans Klenk Halter fuer Papierrollen
FR2284186A1 (fr) * 1974-09-06 1976-04-02 Agency Ind Science Techn Appareil et procede pour former un modele de dessin desire sur un objet au moyen d'un faisceau de particules chargees
DE2647855A1 (de) * 1975-10-23 1977-05-05 Rikagaku Kenkyusho Verfahren zum projizieren eines buendels aus geladenen partikeln
FR2361190A1 (fr) * 1976-08-09 1978-03-10 Zeiss Carl Fa Procede et dispositif d'usinage a froid par faisceau electronique
FR2382091A1 (fr) * 1977-02-23 1978-09-22 Ibm Procede et dispositif de formation d'un faisceau electronique de taille variable
DE3138896A1 (de) * 1981-09-30 1983-04-14 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Elektronenoptisches system mit vario-formstrahl zur erzeugung und messung von mikrostrukturen

Also Published As

Publication number Publication date
CA921548A (en) 1973-02-20
GB1269156A (en) 1972-04-06
NL6807439A (de) 1969-12-01
US3638231A (en) 1972-01-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1926849A1 (de) Vorrichtung zur Registrierung mit Elektronenstrahlen
DE2332091C2 (de) Verfahren zum Betrieb einer fokussierbaren und ausrichtbaren Elektronenstrahlprojektionsvorrichtung und dafür bestimmte Elektronenstrahlprojektionsvorrichtung
DE3011053C2 (de) Optisches System für eine Entfernungsmeßeinrichtung
DE2702445C3 (de) Korpuskularstrahloptisches Gerät zur verkleinernden Abbildung einer Maske auf ein zu bestrahlendes Präparat
DE3010945C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Steuerung der Belichtung in einem photographischen Kopiergerät
DE1639464B2 (de) Kathodenstrahlroehre
DE102014114081A1 (de) Ladungsteilchenstrahl-Belichtungsgerät und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements
DE19848070A1 (de) Niedrigenergie-Elektronenstrahllithographie
DE2620262A1 (de) Rechner-gesteuertes elektronenstrahllithographie-verfahren
DE3307138A1 (de) Belichtungssystem mit einem strahl geladener teilchen
DE887685C (de) Elektronenmikroskop mit magnetischer Fokussierung
DE3215630A1 (de) Schattenprojektionssystem
DE2502591C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Ermittlung einer Ausrichtmarkierung
DE2622064A1 (de) Belichtungsverfahren
DE10024634B4 (de) Elektronenstrahl-Belichtungsvorrichtung und -verfahren
DE2834391C2 (de) Einrichtung zur Erzeugung von Zeichenmustern auf einer Objektfläche mittels Elektronenstrahlen
DE1572868C3 (de) Vorrichtung zur vervielfachten Abbildung eines Musterbilds
DE19915572A1 (de) Immersionslinse und Elektronenstrahl-Projektionssystem zu deren Anwendung
DE2805371C2 (de) Elektronenstrahl-Lithographiegerät und Verfahren zum Betrieb
DE2521089C3 (de) Verfahren und Vorrichtung zum gleichzeitigen oder wahlweisen Abtasten einer Vorlage in einer Abtaststation und bzw. oder Aufzeichnen in einer Druckstation mittels derselben Laserlichtquelle
DE3236142C2 (de)
DE2108669C3 (de) Verfahren zur Bestrahlung eines selektierten Gebietes einer Oberflache eines Werkstückes mit geladenen Teilchen
DE2142436A1 (de) Fernsehkamerarohre und mit einer der artigen Fernsehkamerarohre versehene Vor richtung
DE69913100T2 (de) Projektionslithographie mittels ladungsträgern
DE2627632A1 (de) Verfahren und einrichtung zur nichtthermischen elektronenstrahlbearbeitung