DE102017106980B4

DE102017106980B4 - Organisches lichtemittierendes Anzeigefeld und Verfahren zu dessen Herstellung

Info

Publication number: DE102017106980B4
Application number: DE102017106980.1A
Authority: DE
Inventors: Yu Cai
Original assignee: Tianma Microelectronics Co Ltd; Shanghai Tianma Microelectronics Co Ltd
Current assignee: Tianma Microelectronics Co Ltd; Shanghai Tianma Microelectronics Co Ltd
Priority date: 2016-09-20
Filing date: 2017-03-31
Publication date: 2023-08-03
Anticipated expiration: 2037-04-01
Also published as: CN106449702B; DE102017106980A1; CN106449702A; US20170154935A1; US10446623B2

Abstract

Organisches lichtemittierendes Anzeigefeld mit:einem Substrat (10),einer Leuchtelementschicht (11), die auf dem Substrat (10) liegt, wobei die Leuchtelementschicht (11) mit mehreren ersten Nuten (100) versehen ist, undeiner Verkapselungsschicht (12), die auf der Leuchtelementschicht (11) liegt, wobei die mehreren ersten Nuten (100) mit der Verkapselungsschicht (12) gefüllt sind,wobei das organische lichtemittierende Anzeigefeld eine leuchtende Zone und eine nicht leuchtende Zone umfasst,wobei eine Dünnfilmtransistorarrayschicht (13) zwischen dem Substrat (10) und der Leuchtelementschicht (11) liegt, eine Planarisierungsschicht (14) zwischen der Dünnfilmtransistorarrayschicht (13) und der Leuchtelementschicht (11) liegt,wobei die Leuchtelementschicht (11) eine erste Elektrodenschicht (111), eine pixeldefinierende Schicht (114), eine Lichtemissionsfunktionsschicht (113) und eine zweite Elektrodenschicht (112) umfasst,dadurch gekennzeichnet, dass mehrere Öffnungen (1141) in einem Bereich der pixeldefinierenden Schicht (114) liegen, der der leuchtenden Zone entspricht, die Lichtemissionsfunktionsschicht (113) in den mehreren Öffnungen (1141) angeordnet ist, die der leuchtenden Zone entsprechen, wobei die mehreren ersten Nuten (100) in einem Bereich der pixeldefinierenden Schicht (114) vorgesehen sind, der der nicht leuchtenden Zone entspricht,wobei die erste Elektrodenschicht (111) mehrere erste Subelektroden (1111) umfasst, jede der mehreren ersten Subelektroden (1111) mit einem entsprechenden Dünnfilmtransistor in der Dünnfilmtransistorarrayschicht (13) elektrisch verbunden ist und es sich bei der zweiten Elektrodenschicht (112) um eine ebene Elektrode handelt.

Description

TECHNISCHES GEBIET
Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung betreffen das Gebiet der Anzeigetechnik und insbesondere ein organisches lichtemittierendes Anzeigefeld und ein Verfahren zu dessen Herstellung
HINTERGRUND
Eine organische Leuchtdiode (OLED) wird auch als organische elektrolumineszierende Vorrichtung bezeichnet, bei der das Leuchtphänomen aufgrund des Einbringens und der Rekombination von Trägern hervorgerufen wird, indem Leuchtmaterial mit einem elektrischen Feld angesteuert wird. Das Leuchtprinzip der OLED liegt darin, dass durch die Ansteuerung unter einer vorbestimmten Spannung Elektronen in eine Elektronentransportschicht einer Kathode eingebracht werden, die Löcher in eine Löchertransportschicht einer Anode eingebracht werden, die Elektronen und Löcher in eine Leuchtschicht der Elektronentransportschicht bzw. der Löchertransportschicht übertragen werden. Die Elektronen und Löcher treffen dann in der Leuchtschicht aufeinander und erzeugen Exzitonen, um lichtemittierende Moleküle anzuregen, so dass durch Strahlungsrelaxation sichtbares Licht erzeugt werden kann.
Ein OLED-Feld ist hinsichtlich der Bildqualität, der Effizienz, der Kosten usw. besser als eine Dünnfilmtransistor-Flüssigkristallanzeige (TFT-LCD). Die Lebensdauer des OLED-Felds wird jedoch im Allgemeinen aufgrund der Feuchtigkeit und des Sauerstoffs in der Umgebung beeinträchtigt und wird somit reduziert. Das OLED-Feld erfordert somit eine gute Verkapselung, um von der Feuchtigkeit und dem Sauerstoff in der Umgebung isoliert zu werden.
Die Adhäsionskraft zwischen einer Dünnfilm-Verkapselungsschicht und einer Leuchtelementschicht einer OLED ist jedoch schwach, so dass sie leicht voneinander gelöst werden. Ein derartiger Fall tritt insbesondere bei einem Biegeprozess einer flexiblen OLED auf, wobei auch eine Quetschung und eine Rissbildung auftreten, was die Fähigkeit abschwächt, Feuchtigkeit zu blockieren, wodurch die Lebensdauer und die Kosten der organischen lichtemittierenden Vorrichtung beeinträchtigt werden.
Aus der DE 10 2014 100 770 A1 ist ein Licht emittierendes Bauelement mit einem Substrat und einer Substratoberseite angegeben.
Zudem ist aus der EP 2 765 625 A1 ein Verfahren zur Bildung von Nanokristallen und Verfahren zur Herstellung einer organischen lichtemittierenden Anzeigevorrichtung bekannt, die einen dünnen Film aus einer Metallverbindung mit den Nanokristallen enthält.
Ferner offenbart die CN 1 05 552 247 A ein Verbundsubstrat, eine flexible Anzeigevorrichtung und ein Herstellungsverfahren dafür. Das Verbundsubstrat umfasst ein erstes Substrat und ein flexibles Substrat.
KURZZUSAMMENFASSUNG
Die vorliegende Erfindung stellt ein organisches lichtemittierendes Anzeigefeld und ein Verfahren zu dessen Herstellung bereit, um ein Problem zu lösen, das darin besteht, dass die Verkapselungsschicht und die Leuchtelementschicht des OLED-Felds leicht voneinander gelöst werden.
Bei einem Aspekt stellt eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ein organisches lichtemittierendes Anzeigefeld bereit, mit:

einem Substrat,
einer Leuchtelementschicht, die auf dem Substrat liegt, wobei die Leuchtelementschicht mit mehreren ersten Nuten versehen ist, und
einer Verkapselungsschicht, die auf der Leuchtelementschicht liegt, wobei die mehreren ersten Nuten mit der Verkapselungsschicht gefüllt sind,
wobei das organische lichtemittierende Anzeigefeld eine leuchtende Zone und eine nicht leuchtende Zone umfasst,
wobei eine Dünnfilmtransistorarrayschicht zwischen dem Substrat und der Leuchtelementschicht liegt, eine Planarisierungsschicht zwischen der Dünnfilmtransistorarrayschicht und der Leuchtelementschicht liegt,
wobei die Leuchtelementschicht eine erste Elektrodenschicht, eine pixeldefinierende Schicht, eine Lichtemissionsfunktionsschicht und eine zweite Elektrodenschicht umfasst,
dadurch gekennzeichnet, dass mehrere Öffnungen in einem Bereich der pixeldefinierenden Schicht liegen, der der leuchtenden Zone entspricht, die Lichtemissionsfunktionsschicht in den mehreren Öffnungen angeordnet ist, die der leuchtenden Zone entsprechen, wobei die mehreren ersten Nuten in einem Bereich der pixeldefinierenden Schicht vorgesehen sind, der der nicht leuchtenden Zone entspricht,
wobei die erste Elektrodenschicht mehrere erste Subelektroden umfasst, jede der mehreren ersten Subelektroden mit einem entsprechenden Dünnfilmtransistor in der Dünnfilmtransistorarrayschicht elektrisch verbunden ist und es sich bei der zweiten Elektrodenschicht um eine ebene Elektrode handelt.

Bei einem weiteren Aspekt stellt eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ferner ein Verfahren zur Herstellung des organischen lichtemittierenden Anzeigefelds bereit. Das Verfahren umfasst Folgendes:

Ausbilden einer Leuchtelementschicht auf einem Substrat,
Ausbilden von mehreren ersten Nuten an der Leuchtelementschicht und
Ausbilden einer Verkapselungsschicht auf der Leuchtelementschicht, wobei die mehreren ersten Nuten mit der Verkapselungsschicht gefüllt sind,
wobei das Verfahren vor der Bildung einer Leuchtelementschicht auf einem Substrat ferner umfasst:
- das aufeinanderfolgende Bilden einer Dünnfilmtransistorarrayschicht und einer Planarisierungsschicht auf dem Substrat;
- wobei das Bilden einer Leuchtelementschicht auf einem Substrat umfasst:
  - das Bilden einer ersten Elektrodenschicht auf der Planarisierungsschicht, wobei die erste Elektrodenschicht mehrere erste Subelektroden umfasst, von denen jede elektrisch mit einem entsprechenden Dünnfilmtransistor der Dünnfilmtransistorarrayschicht verbunden ist;
  - das Bilden einer pixeldefinierenden Schicht auf der Planarisierungsschicht und der ersten Elektrodenschicht;
  - das Bilden mehrerer Öffnungen in einem einer leuchtenden Zone entsprechenden Bereich der pixeldefinierende Schicht, wobei die mehreren ersten Nuten in einem einer nicht leuchtenden Zone entsprechenden Bereich der pixeldefinierenden Schicht gebildet werden, und wobei die mehreren ersten Nuten zwischen mehreren Öffnungen angeordnet sind;
  - das Bilden der Leuchtelementschicht in mehreren Öffnungen; und
  - das Bilden einer zweiten Elektrodenschicht auf der Leuchtelementschicht, wobei die zweite Elektrodenschicht eine ebene Elektrode ist.

Gemäß den Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung wird die Leuchtelementschicht mit mehreren ersten Nuten versehen, und die mehreren ersten Nuten werden mit der Verkapselungsschicht gefüllt, die die Leuchtelementschicht bedeckt, so dass zwischen der Verkapselungsschicht und der Leuchtelementschicht eine Stiftstruktur gebildet ist, wodurch das Adhäsionsvermögen zwischen der Verkapselungsschicht und der Leuchtelementschicht erhöht und das Lösen der Verkapselungsschicht von der Leuchtelementschicht beim Biegeprozess verhindert wird.
Figurenliste

1A ist eine Draufsicht, die einen Aufbau eines organischen lichtemittierenden Anzeigefelds gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt,
1B ist eine schematische Darstellung, die den Querschnittaufbau entlang der Linie AA' aus 1A zeigt,
2A ist eine Draufsicht, die einen Aufbau eines weiteren organischen lichtemittierenden Anzeigefelds gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt,
2B ist eine schematische Darstellung, die den Querschnittaufbau entlang der Linie AA' aus 2A zeigt,
3A ist eine Draufsicht, die einen Aufbau eines weiteren organischen lichtemittierenden Anzeigefelds gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt,
3B ist eine schematische Darstellung, die den Querschnittaufbau entlang BB' aus 3A zeigt,
4 ist eine schematische Darstellung, die einen Querschnittaufbau eines weiteren organischen lichtemittierenden Anzeigefelds gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt,
5 ist eine schematische Darstellung, die einen Querschnittaufbau eines weiteren organischen lichtemittierenden Anzeigefelds gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt,
6 ist eine schematische Darstellung, die einen Querschnittaufbau eines weiteren organischen lichtemittierenden Anzeigefelds gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt,
7 ist eine schematische Darstellung, die einen Querschnittaufbau eines weiteren organischen lichtemittierenden Anzeigefelds gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt,
8 ist eine schematische Darstellung, die einen Aufbau der ersten Nuten des organischen lichtemittierenden Anzeigefelds gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt,
9 ist ein Flussdiagramm, das ein Verfahren zur Herstellung eines organischen lichtemittierenden Anzeigefelds gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt,
10 ist ein Flussdiagramm, das ein weiteres Verfahren zur Herstellung eines organischen lichtemittierenden Anzeigefelds gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt,
11A ist eine schematische Darstellung, das den Querschnittaufbau in Schritt 210 zeigt,
11B ist eine schematische Darstellung, das den Querschnittaufbau in Schritt 220 zeigt,
11C ist eine schematische Darstellung, das den Querschnittaufbau in Schritt 230 zeigt,
12 ist ein Flussdiagramm, das ein weiteres Verfahren zur Herstellung eines organisches lichtemittierenden Anzeigefelds gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt,
13A ist eine schematische Darstellung, die den Querschnittaufbau in Schritt 310 zeigt,
13B ist eine schematische Darstellung, die den Querschnittaufbau in Schritt 320 zeigt,
13C ist eine schematische Darstellung, die den Querschnittaufbau in Schritt 330 zeigt,
13D ist eine schematische Darstellung, die den Querschnittaufbau in Schritt 340 zeigt,
13E ist eine schematische Darstellung, die den Querschnittaufbau in Schritt 350 zeigt,
13F ist eine schematische Darstellung, die den Querschnittaufbau in Schritt 360 zeigt,
13G ist eine schematische Darstellung, die den Querschnittaufbau in Schritt 370 zeigt,
14 ist ein Flussdiagramm, das ein weiteres Verfahren zur Herstellung eines organischen lichtemittierenden Anzeigefelds gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt,
15A ist eine schematische Darstellung, die den Querschnittaufbau in Schritt 420 zeigt,
15B ist eine schematische Darstellung, die den Querschnittaufbau in Schritt 430 zeigt,
15C ist eine schematische Darstellung, die den Querschnittaufbau in Schritt 440 zeigt,
15D ist eine schematische Darstellung, die den Querschnittaufbau in Schritt 450 zeigt, und
15E ist eine schematische Darstellung, die den Querschnittaufbau in Schritt 460 zeigt.

AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG
Die Offenbarung wird nachfolgend im Zusammenhang mit den beigefügten Zeichnungen und Ausführungsformen weiter ausführlich beschrieben. Es sei angemerkt, dass die hier offenbarten besonderen Ausführungsformen zur Erläuterung und nicht zur Beschränkung der Offenbarung dienen. Es sei auch angemerkt, dass die beigefügten Zeichnungen zur Vereinfachung der Beschreibung lediglich einige Teile, jedoch nicht in erschöpfender Weise, zeigen, welche sich auf die Offenbarung beziehen.
Mit einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird ein organisches lichtemittierendes Anzeigefeld bereitgestellt. Das organische lichtemittierende Anzeigefeld umfasst Folgendes: ein Substrat, eine Leuchtelementschicht, die auf dem Substrat liegt, und eine Verkapselungsschicht, die auf der Leuchtelementschicht liegt. Die Leuchtelementschicht ist mit mehreren ersten Nuten versehen, und die ersten Nuten sind mit der Verkapselungsschicht gefüllt.
Üblicherweise wird die Leuchtelementschicht des organischen lichtemittierenden Anzeigefelds durch Verdampfung gebildet. Die Leuchtelementschicht kann eine Multischichtstruktur haben. Zusätzlich zur Leuchtschicht umfasst die Leuchtelementschicht ferner eine Elektronentransportschicht, eine Löchertransportschicht, eine Elektroneninjektionsschicht und eine Löcherinjektionsschicht. Die Elektronentransportschicht und die Löchertransportschicht werden dazu verwenden, den Transport von Elektronen und Löchern auszugleichen. Die Elektroneninjektionsschicht und die Löcherinjektionsschicht werden zur Verbesserung der Elektronen- und Löcherinjektionen verwendet.
Da die Leuchtelementschicht des organischen lichtemittierenden Anzeigefelds für externe Umweltfaktoren, wie etwa Feuchtigkeit und Sauerstoff sehr empfindlich ist, wird die Leistung des organischen lichtemittierenden Anzeigefelds dramatisch beeinträchtigt oder versagt vollständig, wenn die Leuchtelementschicht des organischen lichtemittierenden Anzeigefelds einer Umgebung mit Feuchtigkeit und Sauerstoff ausgesetzt ist. Um die Lebensdauer oder Stabilität des organischen lichtemittierenden Anzeigefelds zu verbessern, muss die Leuchtelementschicht zum Abdichten mit einer Verkapselungsschicht bedeckt werden. Bei der Verkapselungsschicht kann es sich um eine einschichtige oder eine mehrschichtige Struktur handeln. Bei dem Material der Verkapselungsschicht kann es sich um einen organischen Film oder anorganischen Film oder um eine Schichtstruktur aus dem organischen Film und dem anorganischen Film handeln.
Aufgrund der schlechten Adhäsionskraft zwischen der Verkapselungsschicht und der Leuchtelementschicht werden die Verkapselungsschicht und die Leuchtelementschicht leicht voneinander abgelöst, wenn das organische lichtemittierende Anzeigefeld sich biegt, insbesondere wenn es sich bei dem Substrat um ein flexibles Substrat handelt. Gemäß der vorliegenden Erfindung sind mehrere erste Nuten an der Leuchtelementschicht vorgesehen, und die mehreren ersten Nuten sind mit der Verkapselungsschicht gefüllt, die die Leuchtelementschicht bedeckt, so dass die Verkapselungsschicht in der Leuchtelementschicht befestigt ist, wodurch die Adhäsionsfähigkeit zwischen der Verkapselungsschicht und der Leuchtelementschicht erhöht und das Ablösen der Verkapselungsschicht von der Leuchtelementschicht bei einem Biegeprozess vermieden werden.
Das technische Schema der Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung wird zusammen mit den beigefügten Zeichnungen der Ausführungsformen der Erfindung deutlich und vollständig beschrieben. Alle weiteren Ausführungsformen, die von dem Fachmann ohne erfinderische Aktivität auf Grundlage der Ausführungsformen der Erfindung erhalten werden, sollen in den Schutzumfang der Offenbarung fallen.
1A ist eine Draufsicht, die einen Aufbau eines organischen lichtemittierenden Anzeigefelds gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. 1B ist eine schematische Darstellung, die den Querschnittaufbau entlang der Linie AA' aus 1A zeigt. Wie in den 1A und 1B gezeigt, umfasst das organische lichtemittierende Anzeigefeld ein Substrat 10, eine Leuchtelementschicht 11, die auf dem Substrat 10 liegt, und eine Verkapselungsschicht 12, die auf der Leuchtelementschicht 11 liegt. Die Leuchtelementschicht 11 ist mit mehreren ersten Nuten 100 versehen. Die mehreren ersten Nuten 100 sind mit der Verkapselungsschicht 12 gefüllt. Die Leuchtelementschicht 11 umfasst eine erste Elektrodenschicht 111, eine zweite Elektrodenschicht 112 und eine Lichtemissionsfunktionsschicht 113, die zwischen der ersten Elektrodenschicht 111 und der zweiten Elektrodenschicht 112 angeordnet ist. Die erste Elektrodenschicht 111 umfasst mehrere parallel angeordnete erste Subelektroden 1111. Die zweite Elektrodenschicht 112 umfasst mehrere parallel angeordnete zweite Subelektroden 1121. Die mehreren ersten Subelektroden 1111 sind von den mehreren zweiten Subelektroden 1121 isoliert und kreuzen sich mit diesen.
Das in den 1A und 1B gezeigte organische lichtemittierende Anzeigefeld ist ein passives organisches lichtemittierendes Anzeigefeld. D.h. ein Pixel (nämlich ein lichtemittierender Abschnitt) wird an der Schnittstelle zwischen der ersten Subelektrode und der zweiten Subelektrode gebildet. Eine externe Schaltung legt Ströme an die ausgewählte erste Subelektrode und zweite Subelektrode an, um zu bestimmen, welche Pixel Licht emittieren sollen und welche Pixel kein Licht emittieren sollen. Außerdem ist die Leuchtkraft jedes Pixels proportional zum Betrag des angelegten Stroms.
Es sei angemerkt, dass in den 1A und 1B vertikale Projektionen der mehreren ersten Nuten 100 auf das Substrat 10 sich nicht mit vertikalen Projektionen der mehreren ersten Subelektroden 1111 bzw. der mehreren zweiten Subelektroden 1121 auf das Substrat überlappen. Das bedeutet, dass die mehreren ersten Nuten 100 in Abständen zwischen den mehreren ersten Subelektroden 1111 und den mehreren zweiten Subelektroden 1121 angeordnet sind. Eine derartige Anordnung hat den Vorteil, dass verhindert wird, dass die ersten Nuten 100 in die ersten Subelektroden 1111 und/oder in die zweiten Subelektroden 1121 dringen, um die Anzeigewirkung des organischen lichtemittierenden Anzeigefelds zu beeinträchtigen. Wie in den 1A und 1B gezeigt ist, ist die Tiefe der ersten Nut 100 beispielhaft so festgelegt, dass sie der Dicke der Lichtemissionsfunktionsschicht 113 entspricht, wobei dies nicht auf Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung beschränkt ist. Bei weiteren Ausführungsformen kann die Tiefe der ersten Nut 100 so festgelegt sein, dass sie geringer ist als die Dicke der Lichtemissionsfunktionsschicht 113.
Wenn eine Tiefe der ersten Nut einer Dicke der Lichtemissionsfunktionsschicht 113 entspricht, kann das Substrat 10 auch mit mehreren Nuten versehen sein (in 1B nicht gezeigt). Eine Tiefe der Nut des Substrats 10 ist geringer als eine Dicke des Substrats 10, und die Nut des Substrats 10 kann sich an die erste Nut 100 anschließen. Mit einer derartigen Anordnung kann sich die Verkapslungsschicht 12 in die Nuten des Substrats erstrecken, so dass eine Befestigungsstruktur zwischen der Verkapselungsschicht 12 und dem Substrat 10 gebildet ist.
Gemäß der vorliegenden Ausführungsform ist die Leuchtelementschicht mit mehreren ersten Nuten versehen, und die mehreren ersten Nuten sind mit der Verkapselungsschicht gefüllt, so dass eine Befestigungsstruktur zwischen der Verkapselungsschicht und der Leuchtelementschicht hergestellt ist, wodurch die Adhäsionsfähigkeit zwischen der Verkapselungsschicht und der Leuchtelementschicht verbessert und das Lösen der Verkapselungsschicht von der Leuchtelementschicht vermieden wird.
Bei weiteren Ausführungsformen, die in den 2A und 2B gezeigt sind, überlappen sich vertikale Projektionen der mehreren ersten Nuten 100 auf das Substrat 10 mit vertikalen Projektionen der mehreren ersten Subelektroden 1111 und zweiten Subelektroden 1121 auf das Substrat 10, wenn die Intervalle zwischen den ersten Subelektroden und den zweiten Subelektroden relativ klein sind und somit nicht ausreichend Platz ist, die mehreren ersten Nuten vorzusehen.
Fachleute können die Tiefe der ersten Nut entsprechend den Erfordernissen tatsächlicher Anwendungsszenarien einstellen, und die Tiefe der ersten Nut 100 ist geringer als oder gleich einer Summe einer Dicke der ersten Elektrodenschicht, einer Dicke der Lichtemissionsfunktionsschicht und einer Dicke der zweiten Elektrodenschicht. Wie in den 2A und 2B veranschaulichend gezeigt, ist die Tiefe der ersten Nut so eingestellt, dass sie einer Summe der Dicke der zweiten Elektrodenschicht 112 und der Dicke der Lichtemissionsfunktionsschicht entspricht. Entspricht die Tiefe der ersten Nut 100 der Summe einer Dicke der ersten Elektrodenschicht, einer Dicke der Lichtemissionsfunktionsschicht und einer Dicke der zweiten Elektrodenschicht, kann das Substrat 10 auch mit mehreren (in 2B nicht gezeigten) Nuten versehen sein, wobei die Tiefe der Nut des Substrats 10 geringer als die Dicke des Substrats 10 ist, und die Nut des Substrats 10 kann sich an die erste Nut 100 anschließen. Bei einem derartigen Aufbau können die Verkapselungsschicht 12 und das Substrat 10 eine Befestigungsstruktur bilden.
Es sei angemerkt, dass wie in den 1A bis 2B beispielhaft gezeigt, die mehreren ersten Nuten 100 am Rand des Substrats 10 angeordnet sind, wobei dies nicht auf Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung beschränkt ist. Eine erste Nut 100 kann beispielsweise an jeder Schnittstelle zwischen den mehreren ersten Subelektroden 1111 und den mehreren zweiten Subelektroden 1121 vorgesehen sein.
3A ist eine Draufsicht, die einen Aufbau eines weiteren organischen lichtemittierenden Anzeigefelds gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. 3B ist eine schematische Darstellung, die den Querschnittaufbau entlang der Linie BB' aus 3A zeigt. Wie in den 3A und 3B gezeigt, umfasst das organische lichtemittierende Anzeigefeld ein Substrat 10, eine Leuchtelementschicht 11, die auf dem Substrat 10 liegt, und eine Verkapselungsschicht 12, die auf der Leuchtelementschicht 11 liegt. Die lichtemittierende Schicht 11 ist mit mehreren ersten Nuten 100 versehen, die mit der Verkapselungsschicht 12 gefüllt sind. Außerdem ist eine Dünnfilmtransistorarrayschicht 13 zwischen dem Substrat 10 und der Leuchtelementschicht 11 angeordnet. Eine Planarisierungsschicht 14 ist zwischen der Dünnfilmtransistorarrayschicht 13 und der Leuchtelementschicht 11 angeordnet. Die Leuchtelementschicht 11 umfasst eine erste Elektrodenschicht 111, eine pixeldefinierende Schicht 114, eine Lichtemissionsfunktionsschicht 113 und eine zweite Elektrodenschicht 112. Die pixeldefinierende Schicht 114 ist mit mehreren Öffnungen 1141 versehen. Das organische lichtemittierende Anzeigefeld umfasst eine leuchtende Zone und eine nicht leuchtende Zone. Die mehreren Öffnungen 1141 der pixeldefinierenden Schicht 114 werden dazu verwendet, die leuchtende Zone und die nicht leuchtende Zone zu definieren. Da die Lichtemissionsfunktionsschicht 113 in den mehreren Öffnungen 1141 angeordnet ist, ist ein Bereich, der den mehreren Öffnungen 1141 entspricht, die leuchtende Zone, ein Bereich der pixeldefinierenden Schicht 114, der sich von den mehreren Öffnungen 1141 unterscheidet, die nicht leuchtende Zone. Gemäß der vorliegenden Ausführungsform liegen die mehreren Öffnungen 1141 in dem Bereich der pixeldefinierenden Schicht, der der leuchtenden Zone entspricht, und die Lichtemissionsfunktionsschicht 113 ist in den mehreren Öffnungen 1141 angeordnet, die der leuchtenden Zone entsprechen, und die mehreren ersten Nuten 100 sind in dem Bereich der pixeldefinierenden Schicht 114 angeordnet, der der nicht leuchtenden Zone entspricht. Die erste Elektrodenschicht 111 umfasst mehrere erste Subelektroden 1111, die jeweils mit einem entsprechenden Dünnfilmtransistor 131 der Dünnfilmtransistorarrayschicht 13 elektrisch verbunden sind. Die zweite Elektrodenschicht 112 ist eine ebenee Elektrode.
Das in den 3A und 3B gezeigte organische lichtemittierende Anzeigefeld ist ein aktives organisches lichtemittierendes Anzeigefeld. Dies bedeutet, dass die mehreren ersten Subelektroden 1111 der ersten Elektrodenschicht und die ebene zweite Elektrodenschicht 112 jeweils Pixel (nämlich lichtemittierende Abschnitte) bilden. Jedes Pixel ist mit einem Dünnfilmtransistor mit einer Umschaltfunktion versehen, d.h. jede der mehreren ersten Subelektroden ist elektrisch mit einem entsprechenden Dünnfilmtransistor der Dünnfilmtransistorarrayschicht 13 verbunden. Die elektrisch mit den ersten Subelektroden 1111 verbundenen Dünnfilmtransistoren sind so konfiguriert, dass sie einen Licht emittierenden Zustand jedes Pixels auf der Grundlage eines Datensignals steuern.
Mit Bezug auf 3A liegen Orthogonalprojektionen der mehreren ersten Nuten 100 auf das Substrat 10 optional innerhalb einer Orthogonalprojektion der pixeldefinierenden Schicht 114 auf das Substrat 10.
Bei der vorliegenden Ausführungsform ist die Tiefe einer der ersten Nuten 100 geringer als die Dicke der pixeldefinierenden Schicht 114 oder entspricht dieser. Wie in 3B gezeigt, kann die Tiefe der ersten Nut 100 so festgelegt sein, dass sie der Dicke der pixeldefinierenden Schicht 114 entspricht.
4 ist eine schematische Darstellung, die einen Querschnittsaufbau eines weiteren organischen lichtemittierenden Anzeigefelds gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. Wie in 4 gezeigt, verläuft die erste Nut 100 in einer zum Substrat 10 senkrechten Richtung durch die pixeldefinierende Schicht 114. Anders als gemäß 3B ist die Planarisierungsschicht 14 mit mehreren zweiten Nuten 200 versehen, die sich jeweils an eine jeweilige der ersten Nuten 100 anschließen, und eine Tiefe jeder der zweiten Nuten 200 ist geringer als eine Dicke der Planarisierungsschicht 14 oder entspricht dieser. Eine Tiefe der zweiten Nut 200, wie in 4 beispielhaft gezeigt ist, ist geringer als eine Dicke der Planarisierungsschicht 14.
5 ist eine schematische Darstellung, die einen Querschnittaufbau eines weiteren organischen lichtemittierenden Anzeigefelds gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. Wie in 5 gezeigt, verläuft im Gegensatz zu 4 jede der ersten Nuten 100 in einer Richtung senkrecht zum Substrat 10 durch die pixeldefinierende Schicht 114. Jede der zweiten Nuten 200 verläuft durch die Planarisierungsschicht 14. Der Dünnfilmtransistorarrayfilm 13 ist mit mehreren dritten Nuten versehen, die sich an die zweiten Nuten 200 anschließen, und eine Tiefe der dritten Nut ist geringer als eine Dicke der Dünnfilmtransistorarrayschicht 13 oder entspricht dieser, wobei die Tiefe der dritten Nut 300, wie in 5 beispielhaft gezeigt, der Dicke der Dünnfilmtransistorarrayschicht 13 entspricht.
Wenn die Tiefe der dritten Nut 300 der Dicke der Dünnfilmtransistorarrayschicht 13 entspricht, kann das Substrat 10 auch mit mehreren (in 5 nicht gezeigten) Nuten versehen sein. Die Tiefe der Nut des Substrats 10 ist geringer als die Dicke des Substrats 10, und die Nut des Substrats 10 kann sich an die dritte Nut 300 anschließen. Bei einer derartigen Anordnung können die Verkapselungsschicht 12 und das Substrat 10 eine Befestigungsstruktur bilden.
6 ist eine schematische Darstellung, die eine Querschnittstruktur eines weiteren organischen lichtemittierenden Anzeigefelds gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. Wie in 6 gezeigt, können im Gegensatz zu den 3B bis 5 die mehreren ersten Subelektroden 1111 auch in den Öffnungen 1141 der pixeldefinierenden Schicht 114 angeordnet sein.
Die organischen lichtemittierenden Anzeigefelder gemäß den vorstehenden Ausführungsformen können wahlweise vom Typ mit Emission im oberen Bereich oder vom Typ mit Emission im unteren Bereich sein. Die Lichtemmissionsrichtung des organischen lichtemittierenden Anzeigefelds ist gemäß den Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung nicht eingeschränkt. Bei einem organischen lichtemittierenden Anzeigefeld sowohl vom Typ mit Emission im oberen Bereich als auch vom Typ mit Emission im unteren Bereich muss die erste Elektrodenschicht und/oder die zweite Elektrodenschicht als transparente leitende Schicht ausgebildet sein. Bei weiteren Ausführungsformen können sowohl die erste Elektrodenschicht als auch die zweite Elektrodenschicht als transparente leitende Schicht ausgebildet sein.
Um die Leuchtausbeute des organischen lichtemittierenden Anzeigefelds vom Typ mit Emission im oberen Bereich oder vom Typ mit Emission im unteren Bereich zu erhöhen, ist die erste Elektrodenschicht optional als reflektierende Metallelektrode und die zweite Elektrodenschicht als transparente leitende Schicht ausgeführt, oder die erste Elektrodenschicht ist als transparente leitende Schicht und die zweite Elektrodenschicht ist als reflektierende Metallelektrode ausgeführt.
Die Verkapselungsschicht gemäß Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung kann eine einschichtige Struktur oder eine mehrschichtige Struktur sein. Das Material der Verkapselungsschicht kann organisch oder anorganisch sein. Die Verkapselungsschicht kann ebenso eine Schichtstruktur aus der organischen Schicht und der anorganischen Schicht sein. Die Verkapselungsschicht umfasst beispielsweise mindestens eine anorganische Schicht und mindestens eine organische Schicht. Die anorganische Schicht weist bessere Barriereeigenschaften gegen Feuchtigkeit und Sauerstoff auf als die organische Schicht, hat jedoch eine mangelhafte Filmbildungseigenschaft, Ebenheit und Gleichmäßigkeit. Die organische Schicht weist eine bessere Filmbildungseigenschaft und eine dichte Oberfläche auf, auf der sich fast keine Poren bilden, sie hat jedoch eine mangelhafte Barrierewirkung gegen Feuchtigkeit und Sauerstoff. Dementsprechend kann gemäß einer Ausführungsform vorgesehen sein, dass die Lichtemissionsfunktionsschicht mit einer anorganischen Schicht verbunden ist und die anorganische Schicht wiederum von einer organischen Schicht bedeckt ist, so dass die wechselweise gestapelte organische Schicht und anorganische Schicht zur Erhöhung der Undurchlässigkeit der Verkapselung eine komplementäre Isoliereinheit gegen Feuchtigkeit und Sauerstoff bilden. 7 ist eine schematische Darstellung, die eine Struktur eines weiteren organischen lichtemittierenden Anzeigefelds gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. Wie in 7 gezeigt, umfasst die Verkapselungsschicht 12 eine erste anorganische Schicht 122, eine erste organische Schicht 123 und eine zweite anorganische Schicht 124, die der Reihe nach in einer Richtung vom Substrat 10 zur Leuchtelementschicht 11 angeordnet sind.
8 ist eine schematische Darstellung, die einen Aufbau der ersten Nut des organischen lichtemittierenden Anzeigefelds gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. Die erste Nut weist optional eine bogenförmige Seitenwand auf. Durch die Ausgestaltung der bogenförmigen Seitenwand kann beim Biegeprozess des organischen lichtemittierenden Anzeigefelds die an der ersten Nut erzeugte Belastung effektiv reduziert werden. Ein Winkel zwischen einer Tangente der Seitenwand der ersten Nut und einer Bodenfläche der ersten Nut ist α. Der Winkel α liegt optional in einem Bereich von 0° bis 60°.
Auf der Grundlage des gleichen Konzepts stellt eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ferner ein Verfahren zur Herstellung eines organischen lichtemittierenden Anzeigefelds bereit. 9 ist ein Flussdiagramm, das ein Verfahren zur Herstellung eines organischen lichtemittierenden Anzeigefelds gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. Wie in 9 gezeigt, umfasst das Verfahren Folgendes:

In Schritt S110 wird eine Leuchtelementschicht auf einem Substrat gebildet.
In Schritt S120 werden mehrere erste Nuten auf der Leuchtelementschicht gebildet.
In Schritt S130 wird eine Verkapselungsschicht auf der Leuchtelementschicht und den mehreren ersten Nuten gebildet. Die mehreren ersten Nuten sind mit der Verkapselungsschicht gefüllt.

Erfindungsgemäß ist die Leuchtelementschicht mit mehreren ersten Nuten versehen, und die mehreren ersten Nuten sind mit der Verkapselungsschicht gefüllt, die die Leuchtelementschicht bedeckt; dementsprechend wird zwischen der Verkapselungsschicht und der Leuchtelementschicht eine Befestigungsstruktur gebildet, wodurch das Haftvermögen zwischen der Verkapselungsschicht und der Leuchtelementschicht erhöht und die Ablösung der Verkapselungsschicht von der Leuchtelementschicht während eines Biegeprozesses vermieden werden.
10 ist ein Flussdiagramm, das ein weiteres Verfahren zur Herstellung eines organischen lichtemittierenden Anzeigefelds gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. Wie in 10 gezeigt, umfasst das Verfahren Folgendes:

In Schritt S210 werden auf einem Substrat sequentiell eine erste Elektrodenschicht mit mehreren parallel angeordneten ersten Subelektroden, eine Lichtemissionsfunktionsschicht und eine zweite Elektrodenschicht mit mehreren parallel angeordneten zweiten Subelektroden gebildet.

Die mehreren ersten Subelektroden sind von den zweiten Subelektroden isoliert und kreuzen sich mit diesen.
11A ist eine schematische Darstellung, die die Querschnittsstruktur im Schritt 210 zeigt. Wie in 11A gezeigt, werden die erste Elektrodenschicht 111 mit mehreren parallel angeordneten ersten Subelektroden 1111, die Lichtemissionsfunktionsschicht 113 und die zweite Elektrodenschicht 112 mit mehreren parallel angeordneten zweiten Subelektroden 1121 nacheinander auf einem Substrat 10 gebildet. Die erste Elektrodenschicht 111, die Lichtemissionsfunktionsschicht 113 und die zweite Elektrodenschicht 112 bilden eine Leuchtelementschicht 11.
Im Schritt S220 werden auf der Leuchtelementschicht mehrere erste Nuten gebildet.
11B ist eine schematische Darstellung, die die Querschnittsstruktur im Schritt 220 zeigt. Wie in 11B gezeigt, werden mehrere erste Nuten 100 auf der Leuchtelementschicht 11 gebildet. Wie in 11B beispielhaft gezeigt, sind auf der Lichtemissionsfunktionsschicht 113 in Abständen zwischen den ersten Subelektroden 1111 und den zweiten Subelektroden 1112 mehrere erste Nuten 100 vorgesehen. Vertikale Projektionen von mehreren ersten Nuten 100 auf das Substrat 10 werden jeweils nicht von vertikalen Projektionen der mehreren ersten Subelektroden 1111 und der mehreren zweiten Subelektroden 1121 auf das Substrat 10 überlagert. Bei weiteren Ausführungsformen können, wenn die Abstände zwischen den ersten Subelektroden 1111 und den zweiten Subelektroden 1121 gering sind und nicht genügend Raum zum Anordnen der mehreren ersten Nuten vorhanden ist, die mehreren ersten Nuten an den Überlappungen der ersten Subelektroden 1111 und der zweiten Subelektroden 1112 vorgesehen sein, wobei die spezifische Struktur in den 2A und 2B gezeigt ist.
Im Schritt S230 wird eine Verkapselungsschicht auf der Leuchtelementschicht und den mehreren ersten Nuten gebildet. Mehrere erste Nuten werden mit der Verkapselungsschicht gefüllt.
11C ist eine schematische Darstellung, die die Querschnittsstruktur gemäß Schritt 230 zeigt. Wie in Figur gezeigt 11C, wird eine Verkapselungsschicht 12 auf der Leuchtelementschicht 11 und mehreren ersten Nuten 100 gebildet, und mehrere erste Nuten 100 werden mit der Verkapselungsschicht 12 gefüllt.
Das gemäß der vorliegenden Ausführungsform der Erfindung vorgesehene organische lichtemittierenden Anzeigefeld ist ein passives organisches lichtemittierendes Anzeigefeld. Dies bedeutet, dass an den Schnittpunkten zwischen den ersten Subelektroden und den zweiten Subelektroden Pixel (d.h. lichtemittierende Abschnitte) gebildet werden. Ein externer Schaltkreis legt Ströme an die ausgewählte erste und zweite Subelektrode an, um festzulegen, welches Pixel Licht emittieren soll und welches Pixel kein Licht emittieren soll. Darüber hinaus ist die Leuchtkraft jedes Pixels proportional zur Stärke der angelegten Ströme.
Eine Tiefe der ersten Nut 100 ist wahlweise geringer als eine Dicke der Lichtemissionsfunktionsschicht 113 oder entspricht dieser. Bei der in 2B gezeigten Struktur ist die Tiefe der ersten Nut 100 geringer als eine Summe einer Dicke der ersten Elektrodenschicht, einer Dicke der Lichtemissionsfunktionsschicht und einer Dicke der zweiten Elektrodenschicht oder stimmt mit dieser überein.
12 ist ein Ablaufdiagramm, das ein weiteres Verfahren zur Herstellung eines organischen lichtemittierenden Anzeigefelds gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. Wie in 12 gezeigt, umfasst das Verfahren: In einem Schritt S310 werden nacheinander eine Dünnfilmtransistorarrayschicht und eine Planarisierungsschicht auf einem Substrat gebildet.
13A ist eine schematische Darstellung, die die Querschnittsstruktur in Schritt 310 zeigt. Wie in 13A gezeigt, werden nacheinander eine Dünnfilmtransistorarrayschicht 13 und eine Planarisierungsschicht 14 auf einem Substrat 10 gebildet. Die Dünnfilmtransistorarrayschicht 13 umfasst mehrere Dünnfilmtransistoren, die so konfiguriert sind, dass sie das organische lichtemittierenden Anzeigefeld ansteuern, damit es zur Anzeige Licht emittiert. Da die Oberfläche der Dünnfilmtransistorarrayschicht 13 aufgrund mehrerer zur Mustererzeugung beim Herstellungsprozess der Dünnfilmtransistorarrayschicht 13 verwendeter Ätzungen eine erhebliche Oberflächenwelligkeit aufweist, ist die Planarisierungsschicht 14 vorgesehen.
In einem Schritt S320 wird eine erste Elektrodenschicht auf der Planarisierungsschicht gebildet, wobei die erste Elektrodenschicht mehrere erste Subelektroden umfasst und jede der mehreren ersten Subelektroden elektrisch mit einem entsprechenden Dünnfilmtransistor der Dünnfilmtransistorarrayschicht verbunden ist.
13B ist eine schematische Darstellung, die die Querschnittsstruktur in Schritt 320 zeigt. Wie in 13B gezeigt, ist es erforderlich, zunächst mehrere Durchgangsbohrungen zu erzeugen, von denen jede eine Quellenelektrode oder eine Drainelektrode des entsprechenden Dünnfilmtransistors freilegt, worauf die erste Elektrodenschicht 111 auf der Planarisierungsschicht 14 gebildet wird, um die Verbindung zwischen jeder ersten Subelektrode 1111 der ersten Elektrodenschicht 111 und dem entsprechenden Dünnfilmtransistor der Dünnfilmtransistorarrayschicht 13 zu realisieren. Die erste Elektrodenschicht 111 umfasst mehrere erste Subelektroden 1111, von denen jede über eine entsprechende Durchgangsbohrung elektrisch mit einem entsprechenden Dünnfilmtransistor der Dünnfilmtransistorarrayschicht 13 verbunden ist.
In einem Schritt S330 wird eine pixeldefinierende Schicht auf der Planarisierungsschicht und der ersten Elektrodenschicht gebildet. 13C ist eine schematische Darstellung, diedie Querschnittsstruktur in Schritt 330 zeigt. Wie in 13C gezeigt, wird eine pixeldefinierende Schicht 114 auf der Planarisierungsschicht 14 und der ersten Elektrodenschicht 111 gebildet.
In einem Schritt S340 werden mehrere Öffnungen in einem der leuchtenden Zone entsprechenden Bereich der pixeldefinierenden Schicht gebildet, und mehrere erste Nuten werden in einem der nicht leuchtenden Zone entsprechenden Bereich der pixeldefinierenden Schicht gebildet, in dem jede der mehreren ersten Nuten zwischen mehreren Öffnungen angeordnet ist.
13D ist eine schematische Darstellung, die die Querschnittsstruktur in Schritt 340 zeigt. Wie in 13D gezeigt, werden mehrere Öffnungen 1141 in einem der leuchtenden Zone entsprechenden Bereich der pixeldefinierende Schicht 114 gebildet, und mehrere erste Nuten 100 werden in einem der nicht leuchtenden Zone entsprechenden Bereich der pixeldefinierende Schicht 114 gebildet. Jede der mehreren ersten Nuten 100 ist zwischen mehreren Öffnungen 1141 angeordnet. Es wird darauf hingewiesen, dass mehrere Öffnungen 1141 und mehrere erste Nuten 100 im gleichen Prozess gebildet werden können, oder dass mehrere Öffnungen 1141 und mehrere erste Nuten 100 jeweils in unterschiedlichen Prozessen gebildet werden können. Die Reihenfolge der Erzeugung der mehreren Öffnungen 1141 und mehreren ersten Nuten 100 wird durch die Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung nicht eingeschränkt.
In einem Schritt S350 wird in mehreren Öffnungen eine Lichtemissionsfunktionsschicht gebildet. 13E ist eine schematische Darstellung, die die Querschnittsstruktur in Schritt 350 zeigt. Wie in 13E gezeigt, wird in mehreren Öffnungen 1141 die Lichtemissionsfunktionsschicht 114 gebildet.
Die Lichtemissionsfunktionsschicht kann eine mehrschichtige Struktur umfassen. Die Lichtemissionsfunktionsschicht umfasst beispielsweise eine Löcherinjektionsschicht, eine Löchertransportschicht, eine lichtemittierende Schicht, eine Elektronentransportschicht und eine Elektroneninjektionsschicht. Die Elektroneninjektionsschicht und die Elektronentransportschicht können die Injektionsgeschwindigkeit und die Injektionsmenge des Elektrons effektiv einstellen, die Löcherinjektionsschicht und die Löchertransportschicht können die Injektionsgeschwindigkeit und die Injektionsmenge des Lochs effektiv einstellen, wodurch sowohl die Leuchtkraft als auch Leuchteffizienz des organischen lichtemittierenden Anzeigefelds verbessert werden. Es wird darauf hingewiesen, dass Fachleute unter Einbeziehung von Erwägungen hinsichtlich Kosten, Leuchtkraft und Leuchteffizienz zusätzlich zu der lichtemittierenden Schicht, die zur Sicherstellung der normalen Anzeige des organischen lichtemittierenden Anzeigefelds erforderlich ist, den Erfordernissen tatsächlicher Produkte entsprechend selektiv weitere Filme anordnen können. Überdies kann zur Verringerung der Schablonenkosten bei der Fertigung nur die lichtemittierende Schicht in den mehreren Öffnungen 1141 angeordnet werden, während weitere Schichten (wie die Löcherinjektionsschicht, die Löchertransportschicht, die Elektronentransportschicht und die Elektroneninjektionsschicht) auf der gesamten Ebene erzeugt werden.
In einem Schritt S360 wird eine zweite Elektrodenschicht auf der Lichtemissionsfunktionsschicht gebildet, und die zweite Elektrodenschicht ist eine ebene Elektrode.
13F ist eine schematische Darstellung, die die Querschnittsstruktur in Schritt 360 zeigt. Wie in 13F gezeigt, wird die zweite Elektrodenschicht 112 auf der Lichtemissionsfunktionsschicht 113 gebildet, und die zweite Elektrodenschicht 112 ist eine ebene Elektrode. Die Leuchtelementschicht 11 gemäß der vorliegenden Ausführungsform umfasst die erste Elektrodenschicht 111, die pixeldefinierende Schicht 114, die Lichtemissionsfunktionsschicht 113 und die zweite Elektrodenschicht 112.
In einem Schritt S370 wird eine Verkapselungsschicht auf der Leuchtelementschicht und mehreren ersten Nuten gebildet, und die mehreren ersten Nuten werden mit der Verkapselungsschicht gefüllt.
13G ist eine schematische Darstellung, die die Querschnittsstruktur in Schritt 370 zeigt. Wie in 13G gezeigt, wird eine Verkapselungsschicht 12 auf der Leuchtelementschicht 11 und mehreren ersten Nuten 100 gebildet, und die mehreren ersten Nuten 100 werden mit der Verkapselungsschicht 12 gefüllt. Das durch die vorliegende Ausführungsform bereitgestellte organische lichtemittierende Anzeigefeld ist ein aktives organisches lichtemittierendes Anzeigefeld. Dies bedeutet, dass die mehreren ersten Subelektroden 1111 der ersten Elektrodenschicht und der ebenen zweiten Elektrodenschicht 112 jeweils Pixel (nämlich die lichtemittierenden Abschnitte) bilden. Jedes Pixel ist mit einem Dünnfilmtransistor mit einer Schaltfunktion versehen, d.h. dass jede erste Subelektrode elektrisch mit einem entsprechenden Dünnfilmtransistor der Dünnfilmtransistorarrayschicht 13 verbunden ist. Der Leuchtzustand jedes Pixels wird von dem elektrisch mit der ersten Subelektrode 1111 verbundenen Dünnfilmtransistor auf der Grundlage eines Datensignals gesteuert.
Gemäß Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung kann die Tiefe einer der ersten Nuten 100 geringer als die Dicke der pixeldefinierenden Schicht 114 sein oder mit dieser übereinstimmen. Die Tiefe der ersten Nut 100 ist so eingestellt, dass sie mit der Dicke der pixeldefinierenden Schicht 114 übereinstimmt, wie in 13F veranschaulichend gezeigt.
14 ist ein Ablaufdiagramm, das ein weiteres Verfahren zur Herstellung eines organischen lichtemittierenden Anzeigefelds gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. Wie in 14 gezeigt, umfasst das Verfahren: In einem Schritt S410 werden nacheinander eine Dünnfilmtransistorarrayschicht und eine Planarisierungsschicht auf einem Substrat gebildet.
Die Querschnittsstruktur im Schritt S410 ähnelt der im Schritt S310, siehe 12A, die im Zusammenhang mit der vorliegenden Ausführungsform nicht erneut besprochen wird.
In einem Schritt S420 wird eine pixeldefinierende Schicht auf der Planarisierungsschicht gebildet.
15A ist eine schematische Darstellung, die die Querschnittsstruktur im Schritt 420 zeigt. Wie in 15A gezeigt, wird die pixeldefinierende Schicht 114 auf der Planarisierungsschicht 14 gebildet.
In einem Schritt S430 werden in einem der leuchtenden Zone entsprechenden Bereich der pixeldefinierende Schicht mehrere Öffnungen gebildet, mehrere erste Nuten werden in einem der nicht leuchtenden Zone entsprechenden Bereich der pixeldefinierende Schicht gebildet, und mehrere erste Nuten werden zwischen den mehreren Öffnungen angeordnet.
15B ist eine schematische Darstellung, die die Querschnittsstruktur in Schritt 430 zeigt. Wie in 15B gezeigt, werden in einem der leuchtenden Zone entsprechenden Bereich der pixeldefinierende Schicht 114 mehrere Öffnungen 1141 gebildet, in einem der nicht leuchtenden Zone entsprechenden Bereich der pixeldefinierende Schicht 114 werden mehrere erste Nuten 100 gebildet, und zwischen mehreren Öffnungen 1141 werden mehrere erste Nuten 100 angeordnet.
In einem Schritt S440 werden in mehreren Öffnungen eine erste Elektrodenschicht und eine Lichtemissionsfunktionsschicht gebildet; wobei die erste Elektrodenschicht mehrere erste Subelektroden umfasst und jede erste Subelektrode elektrisch mit einem entsprechenden Dünnfilmtransistor des Dünnfilmtransistorarraysubstrats verbunden ist.
15C ist eine schematische Darstellung, die die Querschnittsstruktur in Schritt 440 zeigt. Wie in 15C gezeigt, ist es zur Realisierung der elektrischen Verbindung zwischen jeder ersten Subelektrode 1111 der ersten Elektrodenschicht 111 und dem entsprechenden Dünnfilmtransistor der Dünnfilmtransistorarrayschicht 13 erforderlich, zuerst mehrere Durchgangsbohrungen zu bilden, von denen jede eine Quellenelektrode oder Drainelektrode des entsprechenden Dünnfilmtransistors freilegt; anschließend wird die erste Elektrodenschicht 111 auf der Planarisierungsschicht 14 gebildet. Die erste Elektrodenschicht 111 umfasst mehrere erste Subelektroden 1111, von denen jede über eine entsprechende Durchgangsbohrung elektrisch mit einem entsprechenden Dünnfilmtransistor der Dünnfilmtransistorarrayschicht 13 verbunden ist.
In einem Schritt S450 wird eine zweite Elektrodenschicht gebildet, und die zweite Elektrodenschicht ist eine ebene Elektrode.
15D ist eine schematische Darstellung, die die Querschnittsstruktur in Schritt 450 zeigt. Wie in 15D gezeigt, wird die zweite Elektrodenschicht 112 gebildet, und die zweite Elektrodenschicht 112 ist eine ebene Elektrode.
In Schritt einem S460 wird eine Verkapselungsschicht auf der Leuchtelementschicht und mehreren ersten Nuten gebildet, und die mehreren ersten Nuten werden mit der Verkapselungsschicht gefüllt.
15E ist eine schematische Darstellung, die die Querschnittsstruktur in Schritt 460 zeigt. Wie in 15E gezeigt, wird die Verkapselungsschicht 12 auf der Leuchtelementschicht 11 und mehreren ersten Nuten 100 gebildet, und die mehreren ersten Nuten 100 werden mit der Verkapselungsschicht 12 gefüllt. Basierend auf den vorstehenden Ausführungsformen umfasst das Verfahren bei der Bildung der mehreren ersten Nuten in einem der nicht leuchtenden Zone entsprechenden Bereich der pixeldefinierende Schicht ferner optional:

An der Planarisierungsschicht werden mehrere zweite Nuten gebildet. Die erste Nut verläuft in einer zum Substrat senkrechten Richtung durch die pixeldefinierende Schicht; jede der zweiten Nuten schließt sich an eine jeweilige der ersten Nuten an, und die Tiefe der zweiten Nut ist geringer als die Dicke der Planarisierungsschicht oder stimmt mit dieser überein, so dass die Biegebelastung durch die organische Schicht effektiv verringert werden kann. Es wird darauf hingewiesen, dass die erste Nut und die zweite Nut im gleichen Prozess gebildet werden können. Gemäß der vorliegenden Ausführungsform bilden die erste Nut und die zweite Nut eine gefüllte Nut. Die Querschnittsstruktur der gefüllten Nut kann bogenförmig sein, und der Winkel α liegt in einem Bereich von 0° bis 60°.

Verlaufen die erste Nut in einer zum Substrat senkrechten Richtung durch die pixeldefinierende Schicht und die zweite Nut durch die Planarisierungsschicht; umfasst das Verfahren bei der Bildung der mehreren ersten Nuten und der mehreren zweiten Nuten in einem der nicht leuchtenden Zone entsprechenden Bereich der pixeldefinierende Schicht ferner wahlweise:

Auf der Dünnfilmtransistorarrayschicht werden mehrere dritte Nuten gebildet. Jede der dritten Nuten schließt sich an eine jeweilige der zweiten Nuten an, wobei die Tiefe der dritten Nut geringer als die Dicke der Dünnfilmtransistorarrayschicht ist oder mit dieser übereinstimmt. Die ersten, zweiten und dritten Nuten können im gleichen Prozess gebildet werden. Gemäß der vorliegenden Ausführungsform bilden die ersten, zweiten und dritten Nuten eine gefüllte Nut. Die Querschnittsstruktur der gefüllten Nut kann bogenförmig sein, und der Winkel α liegt in einem Bereich von 0° bis 60°.

Gemäß der Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung kann die Verkapselungsschicht eine einschichtige Struktur oder eine mehrschichtige Struktur aufweisen. Das Material der Verkapselungsschicht kann ein organisch Material oder ein anorganisches Material oder eine gestapelte Struktur aus einer organischen Schicht und einer anorganischen Schicht sein. Die Verkapselungsschicht umfasst beispielsweise mindestens eine organische Schicht und mindestens eine anorganische Schicht. Zur Sicherstellung der Dichtigkeit des organischen lichtemittierenden Anzeigefelds ist die Leuchtelementschicht so angeordnet, dass sie mit einer anorganischen Schicht in Kontakt gelangt.
Der Schritt der Bildung einer Verkapselungsschicht auf der Leuchtelementschicht und mehreren mit der Verkapselungsschicht gefüllten ersten Nuten umfasst wahlweise:

Auf der Leuchtelementschicht und mehreren ersten Nuten wird eine erste anorganische Schicht gebildet;
Auf der ersten anorganischen Schicht wird eine erste organische Schicht gebildet;
Auf der ersten organischen Schicht wird eine zweite anorganische Schicht gebildet.

Es wird darauf hingewiesen, dass die Ausführungsformen der Offenbarung und der darin verwendeten technischen Prinzipien wie vorstehend beschrieben sind. Es ist zu beachten, dass die Offenbarung nicht auf die hier beschriebenen spezifischen Ausführungsformen begrenzt ist, und dass sämtliche offensichtlichen Änderungen, Modifikationen und Ersetzungen erfolgen können. Dementsprechend ist die Offenbarung nicht auf die vorstehenden Ausführungsformen beschränkt, obwohl die Offenbarung mittels der vorstehenden Ausführungsformen im Einzelnen beschrieben wurde, und kann ferner weitere, zusätzliche Ausführungsformen umfassen, ohne dass vom Konzept der Offenbarung abgewichen würde.

Claims

Organisches lichtemittierendes Anzeigefeld mit: einem Substrat (10), einer Leuchtelementschicht (11), die auf dem Substrat (10) liegt, wobei die Leuchtelementschicht (11) mit mehreren ersten Nuten (100) versehen ist, und einer Verkapselungsschicht (12), die auf der Leuchtelementschicht (11) liegt, wobei die mehreren ersten Nuten (100) mit der Verkapselungsschicht (12) gefüllt sind, wobei das organische lichtemittierende Anzeigefeld eine leuchtende Zone und eine nicht leuchtende Zone umfasst, wobei eine Dünnfilmtransistorarrayschicht (13) zwischen dem Substrat (10) und der Leuchtelementschicht (11) liegt, eine Planarisierungsschicht (14) zwischen der Dünnfilmtransistorarrayschicht (13) und der Leuchtelementschicht (11) liegt, wobei die Leuchtelementschicht (11) eine erste Elektrodenschicht (111), eine pixeldefinierende Schicht (114), eine Lichtemissionsfunktionsschicht (113) und eine zweite Elektrodenschicht (112) umfasst, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere Öffnungen (1141) in einem Bereich der pixeldefinierenden Schicht (114) liegen, der der leuchtenden Zone entspricht, die Lichtemissionsfunktionsschicht (113) in den mehreren Öffnungen (1141) angeordnet ist, die der leuchtenden Zone entsprechen, wobei die mehreren ersten Nuten (100) in einem Bereich der pixeldefinierenden Schicht (114) vorgesehen sind, der der nicht leuchtenden Zone entspricht, wobei die erste Elektrodenschicht (111) mehrere erste Subelektroden (1111) umfasst, jede der mehreren ersten Subelektroden (1111) mit einem entsprechenden Dünnfilmtransistor in der Dünnfilmtransistorarrayschicht (13) elektrisch verbunden ist und es sich bei der zweiten Elektrodenschicht (112) um eine ebene Elektrode handelt.
Organisches lichtemittierendes Anzeigefeld nach Anspruch 1, wobei die zweite Elektrodenschicht (112) mehrere parallel angeordnete zweite Subelektroden (1121) umfasst und die mehreren ersten Subelektroden (1111) von den mehreren zweiten Subelektroden (1121) isoliert sind und sich mit diesen schneiden.
Organisches lichtemittierendes Anzeigefeld nach Anspruch 2, wobei die Tiefe der ersten Nut (100) geringer ist als die Summe aus einer Dicke der ersten Elektrodenschicht (111), einer Dicke der Lichtemissionsfunktionsschicht (113) und einer Dicke der zweiten Elektrodenschicht (112) oder dieser Summe entspricht.
Organisches lichtemittierendes Anzeigefeld nach Anspruch 1, wobei Orthogonalprojektionen der mehreren ersten Nuten (100) auf das Substrat (10) in einer Orthogonalprojektion der pixeldefinierenden Schicht (114) auf das Substrat (10) liegen.
Organisches lichtemittierendes Anzeigefeld nach Anspruch 4, wobei eine Tiefe einer der mehreren ersten Nuten (100) geringer ist als eine Dicke der pixeldefinierenden Schicht (114) ist.
Organisches lichtemittierendes Anzeigefeld nach Anspruch 4, wobei die erste Nut (100) in einer Richtung senkrecht zum Substrat (10) durch die pixeldefinierende Schicht (114) verläuft, wobei die Planarisierungsschicht (14) mit mehreren zweiten Nuten (200) versehen ist, die sich jeweils an eine entsprechende der mehreren ersten Nuten (100) anschließen, und eine Tiefe jeder der mehreren zweiten Nuten (200) geringer ist als eine Dicke der Planarisierungsschicht (14) oder dieser entspricht.
Organisches lichtemittierendes Anzeigefeld nach Anspruch 6, wobei jede der mehreren zweiten Nuten (200) in der Richtung senkrecht zum Substrat (10) durch die Planarisierungsschicht (14) verläuft, wobei die Dünnfilmtransistorarrayschicht (13) mit mehreren dritten Nuten (300) versehen ist, die sich jeweils an eine der mehreren zweiten Nuten (200) anschließen, wobei eine Tiefe jeder der mehreren dritten Nuten (300) geringer ist als eine Dicke der Dünnfilmtransistorarrayschicht (13) oder dieser entspricht.
Organisches lichtemittierendes Anzeigefeld nach Anspruch 1, wobei die Verkapselungsschicht (12) wenigstens eine anorganische Schicht (122; 124) und wenigstens eine organische Schicht (123) umfasst und die Leuchtelementschicht (11) eine anorganische Schicht (122) berührt.
Organisches lichtemittierendes Anzeigefeld nach Anspruch 8, wobei die Verkapselungsschicht (12) eine erste anorganische Schicht (122), eine erste organische Schicht (123) und eine zweite anorganische Schicht (124) umfasst, die in einer Richtung von dem Substrat (10) zur Leuchtelementschicht (11) sequentiell angeordnet sind.
Organisches lichtemittierendes Anzeigefeld nach Anspruch 1, wobei es sich sowohl bei der ersten Elektrodenschicht (111) als auch bei der zweiten Elektrodenschicht (112) um transparente leitende Schichten handelt.
Organisches lichtemittierendes Anzeigefeld nach Anspruch 1, wobei es sich bei der ersten Elektrodenschicht (111) um eine reflektierende Metallelektrode und bei der zweiten Elektrode (112) um eine transparente leitende Schicht handelt, oder es sich bei der ersten Elektrodenschicht (111) um eine transparente leitende Schicht und bei der zweiten Elektrode (112) um eine reflektierende Metallelektrode handelt.
Organisches lichtemittierendes Anzeigefeld nach Anspruch 1, wobei die mehreren ersten Nuten (100) bogenförmige Seitenwände aufweisen.
Organisches lichtemittierendes Anzeigefeld nach Anspruch 12, wobei ein Winkel zwischen einer Tangente (α) der Seitenwand der ersten Nut (100) und einer Bodenfläche der ersten Nut (100) in einem Bereich von 0° bis 60° liegt.
Verfahren zur Herstellung eines organischen lichtemittierenden Anzeigefelds, das umfasst: Bildung einer Leuchtelementschicht (11) auf einem Substrat (10); Bildung mehrerer erster Nuten (100) an der Leuchtelementschicht (11); und Bildung einer Verkapselungsschicht (12) auf der Leuchtelementschicht (11), wobei die mehreren ersten Nuten (100) mit der Verkapselungsschicht (12) gefüllt sind; wobei das Verfahren vor der Bildung einer Leuchtelementschicht (11) auf einem Substrat (10) ferner umfasst: das aufeinanderfolgende Bilden einer Dünnfilmtransistorarrayschicht (13) und einer Planarisierungsschicht (14) auf dem Substrat (10); wobei das Bilden einer Leuchtelementschicht (11) auf einem Substrat (10) umfasst: das Bilden einer ersten Elektrodenschicht (111) auf der Planarisierungsschicht (14), wobei die erste Elektrodenschicht (111) mehrere erste Subelektroden (1111) umfasst, von denen jede elektrisch mit einem entsprechenden Dünnfilmtransistor der Dünnfilmtransistorarrayschicht (13) verbunden ist; das Bilden einer pixeldefinierenden Schicht (114) auf der Planarisierungsschicht (14) und der ersten Elektrodenschicht (111); das Bilden mehrerer Öffnungen (1141) in einem einer leuchtenden Zone entsprechenden Bereich der pixeldefinierende Schicht (114), wobei die mehreren ersten Nuten (100) in einem einer nicht leuchtenden Zone entsprechenden Bereich der pixeldefinierenden Schicht gebildet werden (114), und wobei die mehreren ersten Nuten (100) zwischen mehreren Öffnungen (1141) angeordnet sind; das Bilden der Leuchtelementschicht (11) in mehreren Öffnungen (1141); und das Bilden einer zweiten Elektrodenschicht (112) auf der Leuchtelementschicht (11), wobei die zweite Elektrodenschicht (112) eine ebene Elektrode ist.
Verfahren nach Anspruch 14, wobei die Bildung einer Leuchtelementschicht (11) auf einem Substrat (10) umfasst: einer zweiten Elektrodenschicht (112), die mehrere parallel angeordnete zweite Subelektroden (1121) umfasst, wobei die mehreren ersten Subelektroden (1111) gegenüber den mehreren zweiten Subelektroden (1121) isoliert sind und sich mit diesen schneiden.
Verfahren nach Anspruch 15, wobei eine Tiefe der ersten Nut (100) geringer als eine Summe einer Dicke der ersten Elektrodenschicht (111), einer Dicke der Lichtemissionsfunktionsschicht (113) und einer Dicke der zweiten Elektrodenschicht (112) ist.
Verfahren nach Anspruch 14, wobei das Verfahren vor der Bildung einer Leuchtelementschicht (11) auf einem Substrat (10) ferner umfasst: das aufeinanderfolgende Bilden einer Dünnfilmtransistorarrayschicht (13) und einer Planarisierungsschicht (14) auf dem Substrat (10); wobei das Bilden einer Leuchtelementschicht (11) auf einem Substrat (10) umfasst: das Bilden einer pixeldefinierenden Schicht (114) auf der Planarisierungsschicht (14); das Bilden mehrerer Öffnungen (1141) in einem der leuchtenden Zone entsprechenden Bereich der pixeldefinierende Schicht (14), wobei die mehreren ersten Nuten (100) in einem der nicht leuchtenden Zone entsprechenden Bereich der pixeldefinierenden Schicht (114) gebildet werden und wobei die mehreren ersten Nuten (100) zwischen mehreren Öffnungen (1141) angeordnet sind; das Bilden einer ersten Elektrodenschicht (111) und der Leuchtelementschicht (11) in mehreren Öffnungen (1141), wobei die erste Elektrodenschicht (111) mehrere erste Subelektroden (1111) umfasst, von denen jede elektrisch mit einem entsprechenden Dünnfilmtransistor der Dünnfilmtransistorarrayschicht (13) verbunden ist; und das Bilden einer zweiten Elektrodenschicht (112), wobei die zweite Elektrodenschicht eine ebene Elektrode (1121) ist.
Verfahren nach Anspruch 14, wobei die mehreren Öffnungen (1141) und die mehreren ersten Nuten (100) im gleichen Prozess gebildet werden.