DE10054544A1 - Verfahren zum chemischen Metallisieren von Oberflächen - Google Patents
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Abstract
Es wird ein Verfahren zum chemischen Metallisieren von Substraten, insbesondere mit elektrisch nichtleitenden Oberflächen, vorgeschlagen, mit dem die Substrate auch unter Produktionsbedingungen sicher metallisiert werden können, das geringe Kosten verursacht und mit dem eine selektive Beschichtung ausschließlich der zu behandelnden Substrate, nicht aber der Oberflächen der Gestelle, ermöglicht wird. Das Verfahren umfaßt umfassend folgende Schritte: DOLLAR A a. Beizen der Oberflächen mit einer Chrom(VI)-Ionen enthaltenden Lösung; DOLLAR A b. Aktivieren der gebeizten Oberflächen mit einem Zinn(II)-Ionen enthaltenden Silberkolloid; DOLLAR A c. Behandeln der aktivierten Oberflächen mit einer Fluoroborationen enthaltenden Beschleunigerlösung zum Entfernen von Zinnverbindungen von den Oberflächen; DOLLAR A d. Abscheiden einer im wesentlichen aus Nickel bestehenden Schicht auf den mit der Beschleunigerlösung behandelten Oberflächen mit einem chemischen Nickelabscheidebad.
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum chemischen Metallisieren von Ober
flächen, insbesondere von Oberflächen von Acrylnitril/Butadien/Styrol-Copoly
meren (ABS) und von Mischungen dieses Copolymers mit anderen Kunststof
fen (ABS-Blends).
Insbesondere für dekorative Anwendungen werden Kunststoffteile mit Metall
überzogen. Beispielsweise Sanitärarmaturen, Automobilzubehör, Möbel
beschläge, Modeschmuck und Knöpfe werden entweder allseitig oder auch nur
teilweise metallisiert, um den Teilen ein ansprechendes Aussehen zu verleihen.
Ferner werden Kunststoffe auch aus funktionellen Gründen metallisiert, bei
spielsweise Gehäuse von elektrischen Geräten, um diese gegen Emission oder
Immission von elektromagnetischer Strahlung abzuschirmen. Außerdem kön
nen die Oberflächeneigenschaften von Kunststoffteilen durch metallische Über
züge gezielt verändert werden. In sehr vielen Fällen werden Copolymere aus
Acrylnitril, Butadien und Styrol sowie Mischungen dieser Copolymere mit ande
ren Polymeren, beispielsweise Polycarbonat, verwendet.
Zur Herstellung von metallischen Überzügen auf Kunststoffteilen, werden diese
üblicherweise an Gestellen befestigt und in einer bestimmten Verfahrensfolge
mit Behandlungsflüssigkeiten in Kontakt gebracht.
Hierzu werden die Kunststoffe üblicherweise zunächst vorbehandelt, um Ver
unreinigungen, wie Fette, von den Oberflächen zu entfernen. Außerdem wer
den meist Ätzverfahren eingesetzt, um die Oberflächen aufzurauhen, so daß
die Metallschichten auf ihnen ausreichend fest haften.
Danach werden die Oberflächen mit sogenannten Aktivatoren behandelt, um
eine katalytische Oberfläche für eine nachfolgende chemische Metallisierung zu
bilden. Hierzu werden entweder sogenannte ionogene Aktivatoren oder Kolloid
systeme eingesetzt. In "Kunsfstoffmetallisierung", Handbuch für Theorie und
Praxis, Eugen G. Leuze Verlag, Saulgau, 1991, Seiten 46, 47 ist angegeben,
daß die Kunststoffoberflächen zur Aktivierung mit ionogenen Systemen zuerst
mit Zinn(II)-Ionen behandelt werden, wobei nach der Behandlung mit den
Zinn(II)-Ionen beim Spülen mit Wasser fest haftende Gele aus Zinnoxidhydrat
entstehen. Bei der nachfolgenden Behandlung mit einer Palladiumsalzlösung
werden an den Oberflächen Palladiumkeime durch Reduktion mit den Zinn(II)-
Spezies gebildet, die katalytisch für die chemische Metallisierung sind. Zur Akti
vierung mit Kolloidsystemen werden im allgemeinen Palladiumkolloidlösungen
eingesetzt, die durch Umsetzung von Palladiumchlorid mit Zinn(II)-chlorid in
Gegenwart von überschüssiger Salzsäure entstehen (Annual Book of ASTM
Standard, Vol. 02.05 "Metallic and Inorganic Coatings; Metal Powders, Sintered
P/M Structural Parts", Designation: B727-83, Standard Practice for Preparation
of Plastic Materials for Electroplating, 1995, Seiten 446-450).
Nach der Aktivierung werden die Kunststoffteile zunächst chemisch metallisiert,
wobei eine metastabile Lösung eines Metallisierungsbades verwendet wird.
Diese Bäder enthalten das abzuscheidende Metall in Form von Salzen in einer
wäßrigen Lösung sowie ein Reduktionsmittel für das Metallsalz. Erst durch die
Behandlung der mit den Palladiumkeimen versehenen Kunststoffoberflächen
mit einem chemischen Metallisierungsbad wird durch Reduktion Metall gebildet,
das auf den Oberflächen als haftfeste Schicht abgeschieden wird. Üblicherwei
se werden Kupfer oder Nickel oder eine Nickellegierung mit Phosphor und/oder
Bor abgeschieden.
Auf die mit Hilfe des chemischen Metallisierungbades beschichteten Kunststoff
oberflächen können dann weitere Metallschichten elektrolytisch abgeschieden
werden.
In US-A-4,244,739 ist eine kolloidale Aktivatorlösung für die chemische Ab
scheidung von Metall auf nichtleitenden oder nur teilweise leitfähigen Unterla
gen beschrieben, die durch Vermischen mindestens eines wasserlöslichen
Salzes eines Edelmetalles (Metall der I. oder VIII. Nebengruppe des Perioden
systems der Elemente), mindestens eines wasserlöslichen Salzes eines Metalls
der IV. Hauptgruppe des Periodensystems der Elemente und einer aliphati
schen Sulfonsäure in einer wäßrigen Lösung gebildet wird. Als Edelmetall wer
den Palladium und als Salze des Metalls der IV. Hauptgruppe des Perioden
systems der Elemente Zinn(II)-Salze als bevorzugt angegeben.
Seit kurzen werden auch sogenannte Direktmetallisierungsverfahren einge
setzt. Beispielsweise ist in EP 0 616 053 A1 ein Verfahren zum Aufbringen
einer Metallschicht auf ein nichtleitendes Substrat ohne Anwendung chemi
scher Metallabscheidung beschrieben, bei dem das Substrat zuerst mit einem
kolloidalen Palladium/Zinn-Aktivator aktiviert und dann mit einer Lösung be
handelt wird, die unter anderem Kupferionen und einen Komplexbildner für die
Kupferionen enthält. Unmittelbar danach kann Metall elektrolytisch abgeschie
den werden.
Die bekannten Verfahren weisen den Nachteil auf, daß üblicherweise Palla
dium als Edelmetall zur Aktivierung der nichtleitenden Oberflächen eingesetzt
wird. Da Palladium sehr teuer ist, wurde nach einem Ersatzstoff gesucht, der
billiger als Palladium ist.
In JP-A-11241170 ist eine wäßrige Aktivatorlösung angegeben, die aus einem
Silbersalz, einem anionischen Tensid, einem Reduktionsmittel und Nickel-,
Eisen- oder Kobalt-Verbindungen hergestellt wird. Als Silbersalze werden unter
anderem anorganische Silbersalze, beispielsweise Silbernitrat, -cyanid, -per
chlorat und -sulfat, sowie organische Silbersalze, beispielsweise Silberacetat,
-salicylat, -citrat und -tartrat, als anionische Tenside Alkylsulfate, Alkylbenzol
sulfonate, Polyoxyalkylenalkylester, Sulfobernsteinsäuresalze, Laurylphospha
te, Polyoxyethylen-stearylether-phosphate, Polyoxyethylen-alkylphenylether-
phosphate sowie Taurin- und Sarcosin-Derivate, als Reduktionsmittel Alkali
borhydride, Aminborane, Aldehyde, Ascorbinsäure und Hydrazin und als
Nickel-, Eisen- und Kobaltverbindungen deren anorganische Salze, Ammin-
und Diaminkomplexe vorgeschlagen. Es ist angegeben, daß die Aktivatorlö
sung zur Metallisierung von Leiterplatten, Kunststoffen, Keramiken, Glas, Pa
pier, Textilien und Metall eingesetzt werden kann. Nach der Aktivierung können
die Materialien unter anderem mit Kupfer und Nickel chemisch beschichtet wer
den.
In "Metallmethansulfonate" von D. Guhl und F. Honselmann in Metalloberflä
che, Band 54 (2000), Seiten 34-37 ist ferner ein Verfahren zur Metallisierung
von nichtleitenden Oberflächen angegeben. Die Oberflächen werden zunächst
entfettet, dann mit einer Chrom/Schwefelsäure-Lösung gebeizt, danach in einer
Silberkolloidlösung aktiviert, die Methansulfonsäure, Silber- sowie Zinn(II)-me
thansulfonat enthält, und dann mit einer Oxalsäure-Lösung behandelt. An
schließend werden die Oberflächen mit handelsüblichen Bädern chemisch ver
kupfert oder vernickelt. Beispielsweise wird vorgeschlagen, mit diesem Verfah
ren ABS zu metallisieren.
Es hat sich herausgestellt, daß die bekannten Verfahren zur Aktivierung der
nichtleitenden Oberflächen mit Silberkeimen nicht geeignet sind, Schichten
insbesondere aus Nickel oder Nickellegierungen unter Produktionsbedingungen
auf die Oberflächen aufzubringen. Bekannte Nickelbäder sind gegenüber einer
Abscheidung von Nickel oder einer Nickellegierung relativ stabil. Daher können
Nickel- und Nickellegierungsschichten unter Produktionsbedingungen zwar
auch dann sicher abgeschieden werden, wenn Palladium als Edelmetall für die
Aktivierung eingesetzt wird, nicht aber dann, wenn Silber verwendet wird. In
"Metallmethansulfonate" ist hierzu zwar angegeben, daß Nickelschichten bei
Verwendung von Methansulfonat enthaltenden Silberkolloiden chemisch abge
schieden werden können. Dies kann aber dann nicht bestätigt werden, wenn
das Verfahren unter Produktionsbedingungen durchgeführt wird. Insbesondere
können unter diesen Bedingungen keine Verhältnisse eingestellt werden, bei
denen das Silberkolloid gegen Ausflockung über einen längeren Zeitraum stabil
ist und gleichzeitig Nickel gleichmäßig auch an solchen Stellen von komplex
geformten Kunststoffteilen abgeschieden wird, in denen sich eine Metallschicht
auch bei Verwendung eines Palladiumaktivators nur zögernd bildet. Insbeson
dere ist es auch erforderlich, daß das chemische Nickelbad über einen länge
ren Zeitraum stabil ist, d. h. daß kein Metall an den Behälterwänden und den
Metallgestellen für die Halterung der Kunststoffteile niedergeschlagen wird, und
daß auch das Silberkolloid über einen längeren Zeitraum stabil ist, d. h. daß sich
keine Ausfällungen in der Aktivierungslösung bilden.
Der vorliegenden Erfindung liegt von daher das Problem zugrunde, die Nachtei
le der bekannten Verfahren zu vermeiden und insbesondere ein Verfahren zum
chemischen Metallisieren von Substraten, insbesondere mit elektrisch nichtlei
tenden Oberflächen, zu finden, mit dem die Substrate auch unter Produktions
bedingungen sicher metallisiert werden können. Gleichzeitig sollen die Kosten
des Verfahrens verringert werden. Ferner soll das Verfahren auch eine selekti
ve Beschichtung ausschließlich der zu behandelnden Substrate, nicht aber der
Oberflächen der Gestelle, ermöglichen, an denen die Substrate für die Durch
führung des Verfahrens befestigt werden.
Gelöst wird dieses Problem durch das Verfahren nach Anspruch 1. Bevorzugte
Ausführungsformen der Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben.
Das erfindungsgemäße Verfahren umfaßt folgende Schritte:
- a) Beizen der Substratoberflächen mit einer Chrom(VI)-Ionen enthalten den Lösung;
- b) Aktivieren der gebeizten Oberflächen mit einem Zinn(II)-Ionen enthal tenden Silberkolloid;
- c) Behandeln der aktivierten Oberflächen mit einer Fluoroborationen ent haltenden Beschleunigerlösung zum Entfernen von Zinnverbindungen von den Oberflächen;
- d) Abscheiden einer im wesentlichen aus Nickel bestehenden Schicht auf den mit der Beschleunigerlösung behandelten Oberflächen mit ei nem chemischen Nickelabscheidebad.
Grundsätzlich können Substrate aus beliebigen Materialien metallisiert werden.
Insbesondere ist das Verfahren zur Metallisierung von elektrisch nichtleitenden
Substraten geeignet, wobei die Substrate entweder ganzflächig nichtleitend
sind oder zumindest teilweise nichtleitende Oberflächen aufweisen. Es handelt
sich hierbei um Kunststoffe, Keramiken, Gläser und um Substrate mit anderen
elektrisch nichtleitenden Oberflächen. Es ist aber auch möglich, Metalle zu me
tallisieren. Insbesondere wird das Verfahren zum Metallisieren von ABS und
ABS-Blends eingesetzt. Andere Kunststoffe sind beispielsweise Polyamide, Po
lyolephine, Polyacrylate, Polyester, Polycarbonat, Polysulfon, Polyetherimid,
Polyethersulfon, Polytetrafluorethylen, Polyaryletherketon, Polyimid, Polypheny
lenoxid sowie Flüssigkristallpolymere. In der Leiterplattentechnik werden metal
lische Überzüge zur Erzeugung elektrischer Leitfähigkeit von im allgemeinen
aus vernetzten Epoxidharzen hergestellten Platten eingesetzt. Die Überzüge
werden in diesem Falle zur Bildung von Leiterzügen, Anschlußplätzen oder zur
Durchkontaktierung in Löchern gebildet. Leiterplattenmaterialien können eben
falls metallisiert werden.
Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren ist es vor allem möglich, elektrisch
nichtleitende Oberflächen, aber auch Oberflächen anderer Substrate, in kosten
günstiger Weise zu metallisieren, indem ein Silberkolloid anstelle eines Palla
diumkolloids für die Aktivierung eingesetzt wird. Das Verfahren ermöglicht dar
über hinaus eine sichere Beschichtung nichtleitender Oberflächen mit Nickel
und Nickellegierungen auch in problematischen Oberflächenbereichen. Um
eine sichere Beschichtung zu erreichen, ist es nicht erforderlich, die Bedingun
gen bei der chemischen Beschichtung mit Nickel so einzustellen, daß das Nic
kelbad unter Bildung von Nickelniederschlägen beispielsweise an Behälterwän
den zur Zersetzung neigt, beispielsweise durch Erhöhen der Temperatur des
Nickelbades, Erhöhen der Konzentration des Reduktionsmittels im Nickelbad,
Erhöhen des pH-Wertes, Erhöhen der Konzentration von Nickelionen im Bad
und/oder Erniedrigen der Konzentration von im Nickelbad enthaltenen Korn
plexbildnern. Außerdem ist es hierzu auch nicht erforderlich, die Betriebsbedin
gungen der Silberkolloidlösung so einzustellen, daß sich diese während des
Betriebes zersetzt.
Ferner ist es mit dem erfindungsgemäßen Verfahren auch möglich, ausschließ
lich die zu beschichtenden Kunststoffteile selektiv zu beschichten, nicht aber
die Oberflächen der Gestelle, an denen die Teile während der Durchführung
des Verfahrens befestigt sind. Bei Untersuchungen der Adsorption von Silber
bei Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens wurde ebenso wie bei
Verwendung von Palladium als Edelmetall zur Aktivierung festgestellt, daß ein
üblicherweise zum Schutz der Gestelloberflächen verwendeter PVC-Überzug
nur wenig Silber adsorbiert, während die zu behandelnden Oberflächen Silber
in für die Aktivierung ausreichender Menge aufnimmt.
Zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens werden vorzugsweise
wäßrige Lösungen eingesetzt. Dies gilt sowohl für die Behandlungsschritte
selbst, beispielsweise für die Beizlösung und die Silberkolloidlösung, als auch
für die Spülschritte zwischen diesen Behandlungsschritten. Grundsätzlich kön
nen aber auch Lösungen verwendet werden, die anorganische oder organische
Lösungsmittel anstelle von Wasser als Lösungsmittel enthalten. Allerdings ist
Wasser wegen dessen Umweltfreundlichkeit und Kosten zu bevorzugen.
Die nachfolgende Beschreibung des erfindungsgemäßen Verfahrens bezieht
sich auf die Metallisierung von Kunststoffteilen, insbesondere aus ABS oder
ABS-Blends. Für die Metallisierung anderer Materialien im Rahmen der Erfin
dung ist das Verfahren entsprechend anzupassen. Insbesondere kann es er
forderlich sein, weitere Vorbehandlungsschritte vorzusehen, beispielsweise um
die Materialoberflächen zunächst zu hydrophilisieren. Hierzu können Behand
lungen mit Tensid-Lösungen und/oder organischen Lösungsmitteln vorgesehen
sein und/oder Vakuumätzverfahren eingesetzt werden.
Die Silberkolloidlösung wird durch Vermischen einer Silberionen enthaltenden
Lösung und einer Zinn(II)-Ionen enthaltenden Lösung hergestellt. Dabei wird
die Silberverbindung durch die Zinn(II)-Verbindung reduziert, so daß Silberkol
loidteilchen entstehen. Die Zinn(II)-Verbindungen werden gleichzeitig zu
Zinn(N)-Verbindungen, vermutlich Zinn(IV)-oxidhydrat, oxidiert, das wahr
scheinlich eine Schutzkolloidhülle für die Silberkolloidteilchen bildet. Nach einer
Reifungsperiode bei Raumtemperatur ist die Aktivierungslösung betriebsbereit.
Als Silberionen enthaltende Lösung kann beispielsweise eine wäßrige Lösung
von Silbersalzen eingesetzt werden. Als Silbersalz wird vorzugsweise Silber
methansulfonat verwendet. Diese Verbindung kann direkt eingesetzt oder durch
Umsetzung des Oxids, Hydroxid, Carbonats oder anderer Silbersalze mit Me
thansulfonsäure gebildet werden. Als Zinn(II)-Ionen enthaltende Lösung wird
vorzugsweise eine wäßrige Lösung eines Zinn(II)-Salzes, vorzugsweise eine
Lösung von Zinn(II)-methansulfonat, eingesetzt. Ferner enthält die Lösung
bevorzugt Methansulfonsäure im Überschuß. Grundsätzlich können auch a
ndere Silber- und Zinn(II)-Salze sowie eine oder mehrere andere Säuren ver
wendet werden. Die Konzentration von Zinn(II)-methansulfonat in der Kolloidlö
sung ist vorzugsweise größer als die des Silbermethansulfonats. Insbesondere
ist sie mindestens doppelt so groß wie die des Silbermethansulfonats. Die Kon
zentrationen der Hauptkomponenten zur Herstellung der Silberkolloidlösung
betragen vorzugsweise 100-2.000 mg Ag+ als Silbermethansulfonat, vorzugs
weise 150-400 mg, 1,5-10 g Sn2+ als Zinn(II)-methansulfonat und 1-30 g
einer 70 Gew.-%igen Methansulfonsäurelösung in 1 Liter Silberkolloidlösung.
Durch Untersuchung der Adsorption von Silber an ABS-Oberflächen konnte
festgestellt werden, daß die Menge von adsorbiertem Silber mit erhöhtem Sil
bergehalt in der Kolloidlösung ansteigt.
Es ist vorteilhaft, wenn zunächst eine konzentrierte Lösung des Silberkolloids
hergestellt wird, beispielsweise mit einer Silberionen-Konzentration von 1,5-
10 g/l und bevorzugt von 2 g/l. Diese Lösung wird unmittelbar vor der Verwen
dung mit einer konzentrierten Zinn(II)-methansulfonat- oder Methansulfonsäurelösung
durch Verdünnung auf die erforderliche Silberionen-Konzentration ein
gestellt. Zur Herstellung der Kolloidlösung können zunächst eine wäßrige Sil
bermethansulfonatlösung, eine wäßrige Zinn(II)-methansulfonatlösung und
eine wäßrige Methansulfonsäurelösung (üblicherweise als 70 Gew.-%ige wäß
rige Lösung kommerziell erhältlich) hergestellt werden. Die Reihenfolge der
Vermischung der drei Lösungen miteinander ist beliebig. Beispielsweise kann
die Silbermethansulfonatlösung vorgelegt, die Methansulfonsäurelösung zu die
ser zugegeben, beide miteinander vermischt und die Zinn(II)-methansulfonat-
Lösung zur Mischung der beiden ersten Lösungen schließlich zugegeben wer
den. Bereits bei Raumtemperatur verfärbt sich die Lösung von ursprünglich
farblos klar über schwach grünlich, gelblich nach braun, wobei sich die Farbe
der Lösung kontinuierlich vertieft. Nach der Reifungsperiode ist die Kolloidlö
sung stark dunkel gefärbt. Sobald die Kolloidlösung diese Färbung erreicht hat,
ist sie betriebsbereit. Der Reifungsprozeß kann deutlich beschleunigt werden,
wenn die Temperatur während des Reifungsprozesses erhöht wird. Beispiels
weise kann die Temperatur auf 40°C erhöht werden. Wird die Temperatur wäh
rend des Reifungsprozesses jedoch auf einen zu hohen Wert angehoben, so
kann sich ein Niederschlag in der Kolloidlösung bilden, der auf eine Zersetzung
des Silberkolloids zurückzuführen ist. Daher ist eine zu hohe Temperatur zu
vermeiden.
Zur weiteren Optimierung des erfindungsgemäßen Verfahrens kann die Silber
kolloidlösung zusätzlich mindestens ein weiteres Reduktionsmittel neben den
Zinn(II)-Salzen enthalten. Als Reduktionsmittel können beispielsweise Verbin
dungen verwendet werden, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Hydr
oxyphenylverbindungen, Hydrazin und Derivaten dieser Verbindungen. Die
Derivate schließen insbesondere die Salze des Hydrazin sein. Als Hydroxy
verbindungen sind vor allem Hydrochinon und Resorcin geeignet. Diese Stoffe
können vorzugsweise nach der Reifungsperiode als wäßrige Lösung zur Kol
loidlösung zugegeben werden.
Außerdem kann die Silberkolloidlösung Kupferionen enthalten. Diese können
der Lösung insbesondere in Form eines Kupfersalzes, beispielsweise in Form
von Kupfermethansulfonat zugegeben werden. Durch Zugabe der Kupferionen
wird der Reifeprozeß der Kolloidlösung beschleunigt. Beispielsweise kann somit
ein ursprünglich mehrere Tage in Anspruch nehmender Reifungsprozeß auf 3-
6 Stunden verkürzt werden. In gleicher Weise kann der Reifungsprozeß auch
durch Zugabe von Hydrazin, beispielsweise in einer Konzentration von 2-5 g/l,
oder durch Zugabe von dessen Salzen beschleunigt werden.
Für den Einsatz der Silberkolloidlösung im erfindungsgemäßen Verfahren wird
dessen Temperatur auf einen Wert von maximal 80°C eingestellt. Vorzugswei
se wird eine Temperatur im Bereich von 40-70°C und insbesondere eine Tem
peratur von 50-60°C eingestellt.
Zur Metallisierung von Kunststoffteilen aus ABS und ABS-Blends werden die
Teile zunächst in einer Chrom(VI)-Ionen enthaltenden Lösung gebeizt, um die
Oberfläche aufzurauhen. Vorzugsweise wird eine Chrom/Schwefelsäure-Lö
sung verwendet, wobei diese Lösung insbesondere 320-450 g/l Chromtrioxid,
vorzugsweise 360-380 g/l, Chromtrioxid, sowie 320-450 g/l konzentrierte
Schwefelsäure, vorzugsweise 360-380 g/l konzentrierte Schwefelsäure, ent
hält.
Die Chrom(VI)-Ionen enthaltende Lösung kann zusätzlich Palladiumionen ent
halten. Hierzu wird der Beizlösung bevorzugt ein Palladiumsalz, insbesondere
Palladiumsulfat oder ein anderes in der Beizlösung lösliches Palladiumsalz, zu
gegeben. Die Konzentration der Palladiumionen in der Beize beträgt vorzugs
weise 1-20 mg/l, besonders bevorzugt 5-15 g/l. Durch Untersuchung der Ad
sorption von Silber auf ABS-Oberflächen nach einer Behandlung mit der Silber
kolloidlösung wurde festgestellt, daß bei einer üblichen Behandlungszeit mit der
Silberkolloidlösung kein signifikanter Unterschied der Menge des adsorbierten
Silbers auf den Oberflächen nach Behandlung mit einer Palladiumionen enthal
tenden Beize und nach Behandlung mit einer keine Palladiumionen enthaltenden
Beize besteht, wenn die Konzentration der Silberionen in der Kolloidlösung
innerhalb des für eine praktische Anwendung üblichen Bereichs von 50-
1000 mg/l eingestellt wird. Dagegen wird die Initiationszeit zur Beschichtung mit
Nickel im chemischen Nickelbad (Zeitraum vom ersten In-Kontakt-Bringen der
Oberflächen bis zum Starten des chemischen Nickelbades) durch eine Zugabe
von Palladiumionen zur Beize erheblich verringert. Beispielsweise wird diese
Zeit etwa um den Faktor 3 erniedrigt, wenn etwa 10 mg/l Palladiumionen in der
Beize enthalten sind. Damit wird eine sicherere Beschichtung mit Nickel ermög
licht. Das bedeutet, daß auch schwieriger zu beschichtende Stellen auf der
Oberfläche von Kunststoffteilen problemlos mit Nickel überzogen werden kön
nen.
Für das Metallisierungsverfahren wird die Beizlösung auf eine Temperatur von
65°C aufgeheizt. Selbstverständlich kann die Lösung auch kälter oder wärmer
sein, beispielsweise eine Temperatur von 40°C oder 85°C aufweisen. Je nach
Art des zu behandelnden Kunststoffteils kann die Behandlungszeit in der Beiz
lösung 1-30 min betragen.
Bei bekannten Verfahren zum Vorbehandeln von ABS und ABS-Blends werden
die Kunststoffoberflächen nach dem Beizen zunächst gespült und anschließend
vorzugsweise mit einer Lösung behandelt, die ein Reduktionsmittel für
Chrom(VI)-Ionen enthält, unter anderem mit Sulfiten, Hydrogensulfiten, Hydra
zin, dessen Salzen, Hydroxylamin oder dessen Salzen. Für das erfindungs
gemäße Verfahren wurde allerdings festgestellt, daß eine Reduktion zumindest
dann schädlich ist, wenn Sulfite, Hydrogensulfite und andere Schwefelverbin
dungen eingesetzt werden, in denen der Schwefel eine Oxidationsstufe von +IV
oder darunter aufweist, da die Oberflächen in diesem Falle nicht wirksam akti
viert werden können.
Nach dem Spülen der Kunststoffoberflächen können die Kunststoffteile mit ei
ner Lösung in Kontakt gebracht werden, die adsorptionsfördernde Bestandteile
enthält. Als adsorptionsfördernde Lösungen werden sogenannte Konditionierungslösungen
eingesetzt. Hierbei handelt es sich um wäßrige Lösungen, in de
nen vor allem Polyelektrolyte, wie beispielsweise kationische Polymere, mit ei
nem Molekulargewicht oberhalb von 10.000 g/Mol enthalten sind. Beispielswei
se werden quaternisierte Polyvinylimidazol- und quaternisierte Polyvinylpyridin
verbindungen verwendet. Grundsätzlich sind auch andere Verbindungen ein
setzbar, beispielsweise die in DE 35 30 617 A1, US-A-4,478,883,
DE 37 43 740 A1, DE 37 43 741 A1, DE 37 43 742 A1 und DE 37 43 743 A1
genannten.
Danach werden die Teile wieder gespült, um überschüssige Konditionierungs
lösung von den Oberflächen zu entfernen.
Anschließend werden die Kunststoffteile vorzugsweise mit einer Vorbehand
lungslösung in Kontakt gebracht, die vor allem die auch in der Silberkolloidlö
sung enthaltenen Bestandteile enthält, beispielsweise Methansulfonsäure und
Zinn(II)-methansulfat. Diese Lösung dient dazu, die Kunststoffteile vor dem
Kontakt mit der Silberkolloidlösung zu benetzen, so daß sich die Konzentratio
nen aller Hauptbestandteile in der Kolloidlösung mit Ausnahme der Konzen
tration des Silbermethansulfonats durch das In-Kontakt-Bringen der Teile mit
der Kolloidlösung und Überführen der Teile in die nachfolgende Spüllösung
nicht wesentlich verändern. Hierzu werden die Konzentrationen dieser Stoffe in
der Vorbehandlungslösung auf etwa dieselben Werte eingestellt, die auch in
der Kolloidlösung eingestellt sind. Außerdem dient diese Lösung dazu, die
Silberkolloidlösung vor einem Eintrag von störenden Stoffen zu schützen.
Die Kunststoffteile werden danach ohne weiteren Spülschritt unmittelbar in die
Silberkolloidlösung überführt. Durch die Behandlung in der Kolloid-Lösung wer
den Silberkeime auf den Kunststoffoberflächen gebildet, die den Oberflächen
die erforderliche katalytische Aktivität für die nachfolgende chemische Abschei
dung von Nickel oder der Nickellegierung verleihen.
Nach der Aktivierung werden die Kunststoffoberflächen wieder gespült, um
überschüssiges Silberkolloid von den Oberflächen zu entfernen.
Danach werden die Kunststoffteile in eine Beschleunigerlösung überführt. In
der Beschleunigerlösung werden die Silberkeime wahrscheinlich von der
Zinn(IV)-Schutzkolloidhülle befreit, indem die Zinn(IV)-Verbindungen aufgelöst
werden. Dabei bleiben die hochaktiven Silberkeime auf den Oberflächen zu
rück. Mit der Methode der atomic force microscopy (AFM) konnte festgestellt
werden, daß die Größe der adsorbierten Partikel von ursprünglich etwa 30 nm
Durchmesser auf einer Unterlage durch nachträgliche Behandlung mit der Be
schleunigerlösung auf einen Wert von etwa 4 nm reduziert wird. Durch die Be
handlung wird also der überwiegende Teil der Partikel entfernt. Dies wird auf
die Auflösung der Zinn(N)-Hülle der Partikel zurückgeführt. Durch die spezielle
Zusammensetzung der Beschleunigerlösung wird die Hülle besonders wirksam
entfernt.
Die Beschleunigerlösung enthält Fluoroborationen. Vorzugsweise wird ein
Alkali-, Ammonium- oder Erdalkalifluoroborat eingesetzt, beispielsweise Natri
umfluoroborat. Die Konzentration der Fluoroborate in der Lösung beträgt ins
besondere 2-200 g/l, vorzugsweise 30-120 g/l und besonders bevorzugt 70-
90 g/l, jeweils bezogen auf Natriumfluoroborat. Die Beschleunigerlösung ist
vorzugsweise sauer. Der pH-Wert dieser Lösung kann insbesondere in einem
Bereich von 0 bis 7 eingestellt werden.
In einer besonderen Ausführungsfarm der Erfindung enthält die Lösung ferner
Chloride, vorzugsweise Alkali-, Ammonium- und/oder Erdalkalichloride, bei
spielsweise Natrium- und/oder Kaliumchlorid. Außerdem kann die Lösung Salz
säure enthalten, beispielsweise 40 ml/l einer 37 Gew.-%igen Salzsäurelösung.
Ist die Salzsäurekonzentration zu gering oder zu hoch, so können die Kunst
stoffoberflächen nicht vollständig mit Nickel beschichtet werden. Wahrschein
lich ist die Wirkung der Lösung zu gering, wenn die Salzsäurekonzentration zu
klein ist. Wenn deren Konzentration zu hoch ist und/oder wenn die Temperatur
der Beschleunigerlösung zu hoch ist, lösen sich die an den Kunststoffoberflä
chen adsorbierten Silberpartikel wahrscheinlich wieder auf.
Nach einem anschließenden Spülschritt werden die Kunststoffoberflächen
schließlich mit Nickel oder einer Nickellegierung beschichtet, indem sie mit ei
nem chemischen Nickelbad in Kontakt gebracht werden. Das chemische Nic
kelbad enthält mindestens ein Nickelsalz, vorzugsweise Nickelsulfat, sowie
ferner Komplexbildner für die Nickelionen, vorzugsweise Carbonsäuren und
Hydroxycarbonsäuren, beispielsweise Bernsteinsäure, Citronensäure, Äpfel
säure, Weinsäure und/oder Milchsäure sowie Essigsäure, Propionsäure, Mal
einsäure, Fumarsäure und/oder Itaconsäure. Der pH-Wert des Bades wird auf
8-9,5 eingestellt. Außerdem enthält das chemische Nickelbad vorzugsweise
ein erstes Reduktionsmittel, wie ein Hypophosphit. Außerdem enthält das Bad
vorzugsweise ein Boran als weiteres Reduktionsmittel, insbesondere ein Amin
boran und insbesondere bevorzugt Dimethylaminboran. Durch zusätzliche
Zugabe des Borans wird die Beschichtung der Kunststoffoberflächen verein
facht, da auch schwierig zu beschichtende Oberflächenbereiche vernickelt wer
den können. Die Konzentration von Dimethylaminboran in dem Bad wird auf
0,5-10 g/l, vorzugsweise 1-3 g/l eingestellt.
Die Temperatur des Bades beträgt je nach dessen Zusammensetzung vorzugs
weise 25-60°C. Der pH-Wert des Bades wird je nach dessen Zusammenset
zung auf 6-10 eingestellt.
Nach der Beschichtung mit Nickel werden die Kunststoffteile gespült und ge
trocknet.
Die nachfolgenden Beispiele dienen zur weiteren Erläuterung der Erfindung:
Alle nachfolgenden Beispiele betreffen Behandlungen mit dem in Tabelle 1 angegebenen Verfahrensablauf.
Alle nachfolgenden Beispiele betreffen Behandlungen mit dem in Tabelle 1 angegebenen Verfahrensablauf.
Zunächst wurden mehrere Silberkolloidlösungen hergestellt. Die Zusammenset
zungen sind in Tabelle 2 angegeben.
Die Lösungen wurden durch Vermischen der einzelnen Bestandteile in der an
gegebenen Reihenfolge in Wasser (erst Zugabe von AgMS (MS: Methansulfo
nat) zu Wasser, dann Zugabe von Sn(MS)2, dann Zugabe von MSA (Methan
sulfonsäure)) hergestellt und dann bei Raumtemperatur stehen gelassen. Eine
erste Grün-Verfärbung der Lösungen zeigte sich im allgemeinen bereits nach
einer halben Stunde. Die Lösung war aber erst nach etwa zwei Tagen betriebs
bereit.
Ein in Form eines Gehäuses für ein elektrisches Gerät gespritztes Kunststoffteil
aus ABS wurde nach dem in Tabelle 1 angegebenen Verfahrensablauf behan
delt.
Die Zusammensetzungen der einzelnen Behandlungslösungen sind in Tabelle
3 angegeben.
Bereits nach kurzer Beschichtungszeit im chemischen Nickelbad (etwa 5 sec)
zeigte sich durch das Aufsteigen von Gasblasen an dem Gehäuseteil eine erste
Reaktion, die von der Abscheidung von Nickel herrührte. Gleichzeitig bildete
sich ein zunächst schwarzer Überzug auf den Gehäuseoberflächen. Innerhalb
von 30 sec bildete sich auf der gesamten Oberfläche des Gehäuseteils eine
Nickelschicht aus. Innerhalb von 10 min wurde eine Schicht mit einer Dicke von
etwa 0,8 µm abgeschieden. Die Schicht war matt und silbrig hell. Sie überzog
das Gehäuseteil auch an Hinterschneidungen und in Hohlräumen und haftete
auf den Oberflächen fest. Dies wurde durch einen sogenannten Gitterschnitt
test untersucht, bei dem mehrere parallele Messerschnitte erst in einer Richtung
und dann in einer Richtung im spitzen Winkel dazu im Abstand von jeweils
etwa 2 mm durch die Nickelschicht vorgenommen wurde, so daß par
allelogrammförmige Flächen zwischen den Schnitten entstanden. Die Schicht
auf den Flächen haftete sehr gut. Auch mit einem Klebeband konnte die Nickel
schicht nicht entfernt werden.
In weiteren Versuchen wurde der Einfluß der Silbermethansulfonatkonzentra
tion auf die Adsorption von Silber auf ABS-Platten untersucht. Die Ergebnisse
sind in Tabelle 4 wiedergegeben.
Es zeigte sich, daß die Menge an an den ABS-Platten adsorbiertem Silber mit
der Silbermethansulfonatkonzentration in der Kolloidlösung ansteigt.
Bei diesem Versuch wurde der Einfluß eines Zusatzes von Kupferionen in Form
von Kupfermethansulfonat zur Silberkolloidlösung durch Untersuchung der
Adsorption von Cu, Ag und Sn auf ABS-Platten untersucht.
ABS-Platten wurden zu diesem Zweck nach dem in Tabelle 1 angegebenen
Verfahren behandelt, wobei die Lösungen die Zusammensetzungen gemäß
Tabelle 3 aufwiesen. Die Silberkolloidlösung enthielt 22 g/l Sn(MS)2 und 16 g/l,
einer 70 Gew.-%igen MSA-Lösung. Die Adsorption wurde nach folgenden Ver
fahren ermittelt:
Jeweils drei Testplatten aus Kunststoff mit definierter Oberflächegröße (6 cm × 15 cm) wurden mit exakt 50 ml einer Lösung aus 20 Vol.-% konzentrierte Sal petersäure und 80 Vol.-% einer 50 Gew.-%igen HBF4 Lösung behandelt. In der resultierenden Lösung wurden die Gehalte von Ag und Sn durch Atomabsorp tionsspektrometrie bestimmt.
Jeweils drei Testplatten aus Kunststoff mit definierter Oberflächegröße (6 cm × 15 cm) wurden mit exakt 50 ml einer Lösung aus 20 Vol.-% konzentrierte Sal petersäure und 80 Vol.-% einer 50 Gew.-%igen HBF4 Lösung behandelt. In der resultierenden Lösung wurden die Gehalte von Ag und Sn durch Atomabsorp tionsspektrometrie bestimmt.
Die Ergebnisse sind in Tabelle 5 wiedergeben.
Bei der chemischen Beschichtung mit Nickel wurde festgestellt, daß die Zugabe
von Kupfermethansulfonat zur Silberkolloidlösung zu einer verstärkten Akti
vierung der ABS-Oberflächen führte. Dies war an einem beschleunigten Start
bei der Nickelabscheidung zu erkennen. Aus Tabelle 5 ist erkennbar, daß die
Zugabe von Kupferionen zu einer Verringerung der Silberadsorption führt. Die
Reifung des Aktivators ist bei erhöhter Kupferkonzentration schneller abge
schlossen.
In einem weiteren Versuch wurde der Einfluß verschiedener Stoffe in der Be
schleunigerlösung auf die Bedeckung von ABS-Platten mit Nickel nach der che
mischen Beschichtung untersucht. Der Bedeckungsgrad in [%] gibt den Anteil
auf der Plattenoberfläche an, der mit Nickel nach 1 min überzogen war (in eini
gen Fällen wurde eine davon abweichende Beschichtungszeit angewendet).
Zur Durchführung des Versuches wurde der Verfahrensablauf gemäß Tabelle 1
angewendet, wobei die Behandlungslösungen die in Tabelle 3 angegebenen
Zusammensetzungen aufwiesen.
Zum einen wurde Fluoroborat als Beschleunigerbestandteil eingesetzt. Zum
Vergleich wurden auch andere Stoffe anstelle von Fluoroborat verwendet. Bei
Durchführung dieses Versuches waren 15 mg/l Pd2+ in der Beize enthalten. Das
chemische Nickelbad enthielt 2,0 g/l Dimethylaminboran.
Die Konzentrationen dieser Stoffe in der Beschleunigerlösung sind ebenfalls
angegeben. Es ergaben sich die in Tabelle 6 wiedergegebenen Ergebnisse für
zwei unterschiedliche Konzentrationen von Silber in der Kolloidlösung.
Der Versuch wurde wiederholt, wobei in diesem Falle die Bedeckung in Abhän
gigkeit von der Anwesenheit von Palladiumionen in der Beize ermittelt wurde.
Die Konzentration von Silber in der Silberkolloidlösung betrug 0,2 g/l und die
von Dimethylaminboran im chemischen Nickelbad 2 g/l. Die Bedingungen sind
im übrigen dieselben wie in Beispiel 5. Die Ergebnisse sind in Tabelle 7 wie
dergegeben.
Aus den Versuchsergebnissen ist eindeutig zu erkennen, daß die Anwesenheit
von Palladiumionen in der Beize ebenso wie die Verwendung von Fluoroborat
ionen wesentich zu einer sicheren Beschichtung von Kunststoffoberflächen mit
Nickel beiträgt. Allein mit Fluoroborat im neutralen pH-Bereich konnte eine voll
ständige Beschichtung der ABS-Platten mit Nickel auch ohne Verwendung von
Palladium in der Beize erreicht werden.
Durch weitere Vergleichsversuche wurden diese Ergebnisse zusätzlich abgesi
chert. In den Tabellen 8 und 9 sind die Ergebnisse zur Ermittlung der Metall
bedeckung bei Einstellung einer Silberkonzentration in der Silberkolloid-Lösung
auf 0,4 g/l bzw. 0,8 g/l, wiedergegeben. Die Bedingungen sind im übrigen diesel
ben wie in Beispiel 5.
Die vorstehenden Versuche wurden nochmals wiederholt, wobei in diesem
Falle ausschließlich NaBF4 zur Beschleunigung verwendet wurde. In diesem
Falle waren keine Palladiumionen in der Beize enthalten. Die Konzentration von
Dimethylaminboran im chemischen Nickelbad betrug 1 g/l. Die Bedingungen
sind im übrigen dieselben wie in Beispiel 5. Die Ergebnisse sind in Tabelle 10
wiedergegeben.
Aus den Ergebnissen in Tabelle 10 ist erkennbar, daß die Bedeckung auch
ohne Palladiumionen in der Beize zu hervorragender Metallbedeckung der
ABS-Platten führt. Außerdem ist die Bedeckung umso größer, je größer die
Silberkonzentration in der Silberkolloidlösung ist.
Claims (11)
1. Verfahren zum chemischen Metallisieren von Oberflächen, umfassend fol
gende Schritte:
- a) Beizen der Oberflächen mit einer Chrom(VI)-Ionen enthaltenden Lö sung;
- b) Aktivieren der gebeizten Oberflächen mit einem Zinn(II)-Ionen enthal tenden Silberkolloid;
- c) Behandeln der aktivierten Oberflächen mit einer Fluoroborationen ent haltenden Beschleunigerlösung zum Entfernen von Zinnverbindungen von den Oberflächen;
- d) Abscheiden einer im wesentlichen aus Nickel bestehenden Schicht auf den mit der Beschleunigerlösung behandelten Oberflächen mit ei nem chemischen Nickelabscheidebad.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Silberkol
loid zusätzlich Methansulfonat-Anionen enthält.
3. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeich
net, daß das Silberkolloid mindestens ein zusätzliches Reduktionsmittel enthält.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das mindestens
eine zusätzliche Reduktionsmittel ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend
aus Hydroxyphenylverbindungen, Hydrazin und Derivaten dieser Verbindungen.
5. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeich
net, daß die Temperator des Silberkolloids auf einen Wert von maximal 80°C
eingestellt wird.
6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Chrom(VI)-
Ionen enthaltende Lösung eine Chrom/Schwefelsäure-Lösung ist.
7. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeich
net, daß die Chrom(VI)-Ionen enthaltende Lösung zusätzlich Palladiumionen
enthält.
8. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeich
net, daß die Beschleunigerlösung zusätzlich Chlorid-Ionen enthält.
9. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeich
net, daß die Beschleunigerlösung einen pH-Wert im Bereich von 0 bis 7 auf
weist.
10. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekenn
zeichnet, daß das chemische Nickelbad ein Boran als Reduktionsmittel enthält.
11. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekenn
zeichnet, daß die gebeizten Oberflächen vor der Aktivierung mit einer Lösung
behandelt werden, die adsorptionsfördernde Bestandteile enthält.
Priority Applications (12)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10054544A DE10054544A1 (de) | 2000-11-01 | 2000-11-01 | Verfahren zum chemischen Metallisieren von Oberflächen |
PCT/EP2001/011468 WO2002036853A1 (en) | 2000-11-01 | 2001-10-04 | Method for electroless nickel plating |
AU2002216953A AU2002216953A1 (en) | 2000-11-01 | 2001-10-04 | Method for electroless nickel plating |
CA002425575A CA2425575A1 (en) | 2000-11-01 | 2001-10-04 | Method for electroless nickel plating |
ES01992803T ES2237615T3 (es) | 2000-11-01 | 2001-10-04 | Metodo de niquelado sin corriente. |
JP2002539589A JP3929399B2 (ja) | 2000-11-01 | 2001-10-04 | 無電解金属めっきのための方法 |
DE60109486T DE60109486T2 (de) | 2000-11-01 | 2001-10-04 | Verfahren zur chemischen vernickelung |
US10/415,585 US6902765B2 (en) | 2000-11-01 | 2001-10-04 | Method for electroless metal plating |
EP01992803A EP1343921B1 (de) | 2000-11-01 | 2001-10-04 | Verfahren zur chemischen vernickelung |
CNB018183484A CN1314835C (zh) | 2000-11-01 | 2001-10-04 | 无电金属电镀的方法 |
AT01992803T ATE291106T1 (de) | 2000-11-01 | 2001-10-04 | Verfahren zur chemischen vernickelung |
TW090125100A TWI253481B (en) | 2000-11-01 | 2001-10-11 | Method for electroless metal plating |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10054544A DE10054544A1 (de) | 2000-11-01 | 2000-11-01 | Verfahren zum chemischen Metallisieren von Oberflächen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE10054544A Ceased DE10054544A1 (de) | 2000-11-01 | 2000-11-01 | Verfahren zum chemischen Metallisieren von Oberflächen |
DE60109486T Expired - Lifetime DE60109486T2 (de) | 2000-11-01 | 2001-10-04 | Verfahren zur chemischen vernickelung |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (11)
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---|---|
US (1) | US6902765B2 (de) |
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WO (1) | WO2002036853A1 (de) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102005051632A1 (de) * | 2005-10-28 | 2007-05-10 | Enthone Inc., West Haven | Verfahren zum Beizen von nicht leitenden Substratoberflächen |
DE102011000138A1 (de) | 2011-01-14 | 2012-07-19 | Lpkf Laser & Electronics Ag | Verfahren zur selektiven Metallisierung eines Substrats sowie ein nach diesem Verfahren hergestellter Schaltungsträger |
EP2657367A1 (de) | 2012-04-24 | 2013-10-30 | Enthone Inc. | Vorätzzusammensetzung und Ätzverfahren für Kunststoffsubstrate |
DE102012112550A1 (de) | 2012-12-18 | 2014-06-18 | Lpkf Laser & Electronics Ag | Verfahren zur Metallisierung eines Werkstücks sowie ein Schichtaufbau aus einem Werkstück und einer Metallschicht |
WO2017016965A1 (en) | 2015-07-30 | 2017-02-02 | Basf Se | Process for metallizing plastic surfaces |
US10822703B2 (en) | 2015-07-30 | 2020-11-03 | Basf Se | Process for pretreatment of plastic surfaces for metallization |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4143385B2 (ja) * | 2002-03-05 | 2008-09-03 | 株式会社大和化成研究所 | 無電解めっきの触媒付与のための前処理液、該液を使用する前処理方法、該方法を使用して製造した無電解めっき皮膜及び(又は)めっき被覆体 |
JP3881614B2 (ja) * | 2002-05-20 | 2007-02-14 | 株式会社大和化成研究所 | 回路パターン形成方法 |
US7166152B2 (en) * | 2002-08-23 | 2007-01-23 | Daiwa Fine Chemicals Co., Ltd. | Pretreatment solution for providing catalyst for electroless plating, pretreatment method using the solution, and electroless plated film and/or plated object produced by use of the method |
US7407689B2 (en) * | 2003-06-26 | 2008-08-05 | Atotech Deutschland Gmbh | Aqueous acidic immersion plating solutions and methods for plating on aluminum and aluminum alloys |
US20050274445A1 (en) * | 2004-06-01 | 2005-12-15 | Paul Chang | Method for manufacturing decoration of imitation metal |
US7410899B2 (en) * | 2005-09-20 | 2008-08-12 | Enthone, Inc. | Defectivity and process control of electroless deposition in microelectronics applications |
US7297373B2 (en) * | 2005-11-18 | 2007-11-20 | Noble Fiber Technologies, Llc | Conductive composites |
KR100717909B1 (ko) * | 2006-02-24 | 2007-05-14 | 삼성전기주식회사 | 니켈층을 포함하는 기판 및 이의 제조방법 |
US20070235876A1 (en) * | 2006-03-30 | 2007-10-11 | Michael Goldstein | Method of forming an atomic layer thin film out of the liquid phase |
US8193087B2 (en) | 2006-05-18 | 2012-06-05 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Process for improving copper line cap formation |
US20080003366A1 (en) * | 2006-06-30 | 2008-01-03 | Dubin Valery M | Method of forming a conducting layer on a conducting and non-conducting substrate |
US20080175986A1 (en) * | 2007-01-24 | 2008-07-24 | Kenneth Crouse | Second surface metallization |
KR101058635B1 (ko) * | 2008-12-23 | 2011-08-22 | 와이엠티 주식회사 | 무전해 니켈 도금액 조성물, 연성인쇄회로기판 및 이의 제조 방법 |
EP2270255A1 (de) * | 2009-07-03 | 2011-01-05 | Enthone, Inc. | Beta-Aminosäure enthaltend Elektrolyt und Verfahren zur Ablagerung einer Metallschicht |
US8962070B2 (en) * | 2009-07-03 | 2015-02-24 | Enthone Inc. | Method for the deposition of a metal layer comprising a beta-amino acid |
FR2958944B1 (fr) | 2010-04-19 | 2014-11-28 | Pegastech | Procede de revetement d'une surface d'un substrat en materiau non metallique par une couche metallique |
CN103282545B (zh) * | 2010-09-03 | 2015-08-26 | Omg电子化学品有限责任公司 | 无电镍合金镀液及其沉积过程 |
US20120126181A1 (en) * | 2010-11-22 | 2012-05-24 | Whitcomb David R | Nanowire preparation methods, compositions, and articles |
US9327348B2 (en) | 2010-11-22 | 2016-05-03 | Junping Zhang | Nanowire preparation methods, compositions, and articles |
US8613888B2 (en) | 2010-11-23 | 2013-12-24 | Carestream Health, Inc. | Nanowire preparation methods, compositions, and articles |
US20130084395A1 (en) * | 2011-09-29 | 2013-04-04 | Roshan V. Chapaneri | Treatment of Plastic Surfaces After Etching in Nitric Acid Containing Media |
EP2610365B1 (de) * | 2011-12-31 | 2020-02-26 | Rohm and Haas Electronic Materials LLC | Stromloses abscheidungsverfahren |
US20130209689A1 (en) * | 2012-02-15 | 2013-08-15 | Mark Wojtaszek | Sulfonation of Plastic and Composite Materials |
LT6070B (lt) * | 2012-12-07 | 2014-09-25 | Atotech Deutschland Gmbh | Plastikų paviršiaus paruošimo prieš jų cheminį metalizavimą būdas |
US10772218B2 (en) * | 2017-10-03 | 2020-09-08 | The University Of Western Ontario | React-on-demand (ROD) fabrication method for high performance printed electronics |
CZ308348B6 (cs) | 2018-11-06 | 2020-06-10 | Bochemie A.S. | Způsob kontinuálního pokovení textilního materiálu, zařízení k provádění tohoto způsobu, pokovený textilní materiál a jeho použití |
JP7360155B2 (ja) * | 2019-11-18 | 2023-10-12 | 奥野製薬工業株式会社 | 無電解ニッケルめっき皮膜及び該無電解ニッケルめっき皮膜形成のための前処理方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1197720B (de) * | 1959-06-08 | 1965-07-29 | Shipley Co | Verfahren zur Vorbehandlung von insbesondere dielektrischen Traegern vor der stromlosen Metallabscheidung |
DE2928699A1 (de) * | 1978-07-25 | 1980-02-07 | Alfachimici Spa | Katalytische loesung zum stromlosen niederschlagen von metallen sowie verfahren fuer ihre herstellung |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE292869C (de) | ||||
US4035227A (en) * | 1973-09-21 | 1977-07-12 | Oxy Metal Industries Corporation | Method for treating plastic substrates prior to plating |
US4355083A (en) * | 1977-06-06 | 1982-10-19 | Nathan Feldstein | Electrolessly metallized silver coated article |
US4204013A (en) * | 1978-10-20 | 1980-05-20 | Oxy Metal Industries Corporation | Method for treating polymeric substrates prior to plating employing accelerating composition containing an alkyl amine |
US4582729A (en) * | 1983-06-30 | 1986-04-15 | Learonal, Inc. | Process for electro-magnetic interference shielding |
DE3523957A1 (de) * | 1985-07-04 | 1987-01-08 | Licentia Gmbh | Verfahren zur metallisierung von keramik |
JPS62205284A (ja) * | 1986-03-06 | 1987-09-09 | Nippon Mining Co Ltd | 無電解めつき用触媒液 |
FI95816C (fi) * | 1989-05-04 | 1996-03-25 | Ad Tech Holdings Ltd | Antimikrobinen esine ja menetelmä sen valmistamiseksi |
ES2155075T3 (es) | 1993-03-18 | 2001-05-01 | Atotech Usa Inc | Metodo de revestimiento por inmersion, auto-acelerante y auto-renovador, sin formaldehido. |
JP2737599B2 (ja) * | 1993-04-27 | 1998-04-08 | 上村工業株式会社 | プリント配線板の銅回路パターン上への無電解めっき方法 |
US5935706A (en) * | 1996-05-30 | 1999-08-10 | E. I. Dupont De Nemours & Comp | Thermally stable metal coated polymeric monofilament or yarn |
JP3826544B2 (ja) * | 1998-02-27 | 2006-09-27 | 奥野製薬工業株式会社 | 無電解めっき用触媒組成物 |
JPH11335858A (ja) * | 1998-05-27 | 1999-12-07 | Yuji Shikamata | 銀鏡面の形成方法及びその溶液 |
-
2000
- 2000-11-01 DE DE10054544A patent/DE10054544A1/de not_active Ceased
-
2001
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1197720B (de) * | 1959-06-08 | 1965-07-29 | Shipley Co | Verfahren zur Vorbehandlung von insbesondere dielektrischen Traegern vor der stromlosen Metallabscheidung |
DE2928699A1 (de) * | 1978-07-25 | 1980-02-07 | Alfachimici Spa | Katalytische loesung zum stromlosen niederschlagen von metallen sowie verfahren fuer ihre herstellung |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
"Metallmethansulfonate" mo Jahrgang 54 (2000) 4, S.34-37 * |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102005051632A1 (de) * | 2005-10-28 | 2007-05-10 | Enthone Inc., West Haven | Verfahren zum Beizen von nicht leitenden Substratoberflächen |
EP1785507A2 (de) | 2005-10-28 | 2007-05-16 | Enthone, Inc. | Verfahren zum Ätzen von nichtleitenden Substratoberflächen |
DE102005051632B4 (de) * | 2005-10-28 | 2009-02-19 | Enthone Inc., West Haven | Verfahren zum Beizen von nicht leitenden Substratoberflächen und zur Metallisierung von Kunststoffoberflächen |
DE102011000138A1 (de) | 2011-01-14 | 2012-07-19 | Lpkf Laser & Electronics Ag | Verfahren zur selektiven Metallisierung eines Substrats sowie ein nach diesem Verfahren hergestellter Schaltungsträger |
EP2657367A1 (de) | 2012-04-24 | 2013-10-30 | Enthone Inc. | Vorätzzusammensetzung und Ätzverfahren für Kunststoffsubstrate |
WO2013163316A2 (en) | 2012-04-24 | 2013-10-31 | Enthone Inc. | Pre-etching composition and etching process for plastic substrates |
DE102012112550A1 (de) | 2012-12-18 | 2014-06-18 | Lpkf Laser & Electronics Ag | Verfahren zur Metallisierung eines Werkstücks sowie ein Schichtaufbau aus einem Werkstück und einer Metallschicht |
WO2014094729A2 (de) | 2012-12-18 | 2014-06-26 | Lpkf Laser & Electronics Ag | Verfahren zur metallisierung eines werkstückes sowie ein schichtaufbau aus einem werkstück und einer metallschicht |
US9924601B2 (en) | 2012-12-18 | 2018-03-20 | Lpkf Laser & Electronics Ag | Method for the metallation of a workpiece and a layer structure made up of a workpiece and a metal layer |
WO2017016965A1 (en) | 2015-07-30 | 2017-02-02 | Basf Se | Process for metallizing plastic surfaces |
US10822703B2 (en) | 2015-07-30 | 2020-11-03 | Basf Se | Process for pretreatment of plastic surfaces for metallization |
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