CN204752855U - 一种贵金属饰品表面纳米处理装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型属于贵金属表面处理技术领域，公开了一种贵金属饰品以及贵金属饰品表面纳米处理装置，用于解决现有保护膜存在的耐磨性能差以及制造工艺复杂的问题。本实用新型的贵金属表面纳米处理装置包括对贵金属饰品进行预处理的预处理装置以及对贵金属饰品进行电镀的电镀装置，所述预处理装置与电镀装置之间设有离子真空溅射处理装置，所述离子真空溅射处理装置包括壳体，所述壳体上安装有钛化合物储存罐，所述壳体连通有用于对壳体进行抽真空处理的真空机，所述钛化合物储存罐连通有用于对壳体内的贵金属进行真空溅射处理的溅射头。
Description
技术领域
本实用新型属于贵金属表面处理技术领域，具体公开了一种贵金属饰品表面纳米处理装置。
背景技术
贵金属在其制作的最后阶段都需要进行表面处理，以达到理想的艺术效果，目前贵金属表面处理工艺有以下几种：1.电镀工艺、2.包金工艺、3.贴金工艺、4.鎏金工艺、5.描金工艺、6.烧蓝工艺、7.錾花工艺(錾工)、8.抢花(雕金)工艺、9.车花(铣花)工艺、10.喷砂、拉丝工艺、11.蚀刻工艺、12.轧花工艺、13.烫金工艺、14.珐琅工艺。
现有技术中关于贵金属表面处理工艺和装置也较多，例如申请号为201310172551.1的发明专利公开了一种贵金属产品以及贵金属产品表面处理方法，，依次包括一次抛光步骤、喷砂步骤和二次抛光步骤，且二次抛光步骤的时间比一次抛光步骤的时间短；喷砂步骤中，选用由钻石砂与普通砂调配成的砂进行喷砂；一次抛光步骤和二次抛光步骤中，抛光机中的抛光珠的尺寸大于喷砂步骤中的砂的尺寸；喷砂步骤中，需要将贵金属产品放入喷砂机中并在距离喷砂口15cm处进行均匀喷洒；喷砂步骤之前，还需要用遮挡材料遮住贵金属产品的表面不需要喷砂的区域；一次抛光步骤、喷砂步骤之间，还设有挑选步骤，包括：选取表面光滑、线条对称、图案饱满、花纹清晰的贵金属产品，贵金属产品用于进入喷砂步骤进行喷砂处理；二次抛光步骤之前，还需要用遮挡材料遮住贵金属产品的表面不需要进行二次抛光的区域。
贵金属在佩戴的过程中，珠宝装饰的合金与空气中存在的气体分子反应而变色。例如，暴露在空气中的银容易与空气中的含硫气体反应，形成由硫化银构成的黑色覆膜。因此含银合金容易失去其表面的光泽。Au-Al类合金等的含铝的贵金属合金具有下述问题，即，如果用手接触该合金，则其合金表面的铝容易因为汗等溶解，溶解部分的金与铝的比例变化而变色。
针对贵金属在佩戴过程中出现的问题，申请号为201280013894.7的发明专利公开了一种贵金属保护膜及贵金属保护膜的形成方法，该贵金属保护膜由石英玻璃膜构成，该石英玻璃膜是将以聚硅氮烷作为主要成分的液状玻璃覆膜形成用组合物涂敷在贵金属基体的表面上，将由玻璃覆膜形成用组合物构成的涂膜加水分解为二氧化硅，由此在贵金属基体的表面上形成的膜厚为0.2μm～1.0μm的石英玻璃膜，其中，玻璃覆膜形成用组合物不含有将聚硅氮烷转化为石英玻璃的催化剂成分，含有30重量%～42重量%的聚硅氮烷，贵金属基体是在金为78～80重量%以及铝为18～21重量%的范围内含有金及铝的Au-Al类合金。
然而申请号为201280013894.7的专利虽然能够通过设置贵金属保护膜对暴露在空气中的表面容易变色的贵金属基体、例如银合金及Au-Al类合金等含有铝的贵金属合金的表面的美观性进行维持的功能及耐久性优异，但是该保护膜存在着制造工艺复杂以及耐磨性差的问题。
实用新型内容
本实用新型为了解决现有保护膜存在的耐磨性能差以及制造工艺复杂的问题，而提供一种贵金属饰品表面纳米处理装置，能够在贵金属表面形成一耐磨绝缘层，并且该耐磨绝缘层与外表面金属颜色相似，具有耐磨性能好的特点，同时在制作上具有工艺简单的特点。
为解决上述技术问题，本实用新型所采用的技术方案是：
一种贵金属饰品表面纳米处理装置，包括对贵金属饰品进行预处理的预处理装置以及对贵金属饰品进行电镀的电镀装置，其特征在于，所述预处理装置与电镀装置之间设有离子真空溅射处理装置，所述离子真空溅射处理装置包括壳体，所述壳体上安装有钛化合物储存罐，所述壳体连通有用于对壳体进行抽真空处理的真空机，所述钛化合物储存罐连通有用于对壳体内的贵金属进行真空溅射处理的溅射头。
所述离子真空溅射处理装置与预处理装置之间设置有纳米基层处理装置。
所述的预处理装置、纳米基层处理装置、离子真空溅射处理装置和电镀装置配设有用于放置贵金属饰品的吊笼。
所述吊笼配设有行车，所述行车带动装有贵金属饰品的吊笼在预处理装置、纳米基层处理装置、离子真空溅射处理装置和电镀装置之间移动。
所述电镀装置内设置有阴极板和阳极板，所述阴极板靠近离子真空溅射处理装置，所述阳极板远离离子真空溅射处理装置。
所述电镀装置还配设有用于对贵金属进行尾处理的尾处理装置。
一种根据上述贵金属饰品表面纳米处理装置得到的贵金属饰品。
与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果：
本实用新型的贵金属饰品表面纳米处理装置，包括对贵金属饰品进行预处理的预处理装置以及对贵金属饰品进行电镀的电镀装置，所述预处理装置与电镀装置之间设有离子真空溅射处理装置，所述离子真空溅射处理装置包括壳体，所述壳体上安装有钛化合物储存罐，所述壳体连通有用于对壳体进行抽真空处理的真空机，所述钛化合物储存罐连通有用于对壳体内的贵金属进行真空溅射处理的溅射头。本实用新型通过溅射头对贵金属饰品表面进行离子真空溅射处理，在贵金属饰品表面形成钛化合物层（耐磨绝缘层），该钛化合物层的表面具有绝缘的作用，同时起到稳固的作用，增加贵金属饰品的耐磨性。相比于现有技术，本实用新型的钛化合物层具有耐磨性能好，同时具有工艺简单的特点。
附图说明
图1是本实用新型一实施例的结构示意图；
图中标记：1、预处理装置，2、钛化合物储存罐，3、纳米基层处理装置，4、溅射头，5、离子真空溅射处理装置，6、真空机，7、吊笼，8、阴极板，9、电镀装置，10、阳极板，11、尾处理装置。
具体实施方式
下面结合实施例对本实用新型作进一步的描述，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，并不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域的普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的其他所用实施例，都属于本实用新型的保护范围。
本实用新型的贵金属饰品表面纳米处理装置，包括对贵金属饰品进行预处理的预处理装置1以及对贵金属饰品进行电镀的电镀装置9，所述预处理装置1与电镀装置9之间设有离子真空溅射处理装置5，所述离子真空溅射处理装置5包括壳体，所述壳体上安装有钛化合物储存罐2，所述壳体连通有用于对壳体进行抽真空处理的真空机6，所述钛化合物储存罐2连通有用于对壳体内的贵金属进行真空溅射处理的溅射头4。
本实用新型的离子真空溅射处理装置的工作原理是：在真空状态下，在钛质靶面上加负高压，以氩气为介质气体，并设有反应气体，通过气体辉光放电，产生氩离子，在正交电场和磁场的作用下，在靶面附近形成高密度的等离子区，氩离子撞击带负高压的靶面，溅射出钛粒子，钛粒子同时与反应气体反应生产钛化合物，并沉积在被镀物（即工件）上。
所述离子真空溅射处理装置5与预处理装置1之间设置有纳米基层处理装置3。
所述的预处理装置1、纳米基层处理装置3、离子真空溅射处理装置5和电镀装置9配设有用于放置贵金属饰品的吊笼7。
所述吊笼7配设有行车12，所述行车12带动装有贵金属饰品的吊笼7在预处理装置1、纳米基层处理装置3、离子真空溅射处理装置5和电镀装置9之间移动。
本实用新型的预处理装置以及尾处理装置均属于现有技术，本领域的技术人员都能明白和理解，在此不再赘述。
本实用新型中提到的纳米基层处理装置3主要是对钛化合物物料进行除油、除杂以及清洗等工作，本领域的技术人员都明白和理解，在此不再赘述。
作为本实用新型一种优选的方式，电镀装置9内设置有阴极板8和阳极板10，所述阴极板8靠近离子真空溅射处理装置5，所述阳极板10远离离子真空溅射处理装置5。
优选地，本实用新型的电镀装置9还配设有用于对贵金属进行尾处理的尾处理装置。
本实用新型还提供了一种根据上述贵金属饰品表面纳米处理装置得到的贵金属饰品。
本实用新型通过溅射头对贵金属饰品表面进行离子真空溅射处理，在贵金属饰品表面形成钛化合物层（耐磨绝缘层），该钛化合物层的表面具有绝缘的作用，同时起到稳固的作用，增加贵金属饰品的耐磨性。相比于现有技术，本实用新型的钛化合物层具有耐磨性能好，同时具有工艺简单的特点。
实施例一
本实施例的贵金属饰品表面纳米处理装置，包括对贵金属饰品进行预处理的预处理装置以及对贵金属饰品进行电镀的电镀装置，所述预处理装置与电镀装置之间设有离子真空溅射处理装置，所述离子真空溅射处理装置包括壳体，所述壳体上安装有钛化合物储存罐，所述壳体连通有用于对壳体进行抽真空处理的真空机，所述钛化合物储存罐连通有用于对壳体内的贵金属进行真空溅射处理的溅射头。
实施例二
本实施例的贵金属饰品表面纳米处理装置，包括对贵金属饰品进行预处理的预处理装置以及对贵金属饰品进行电镀的电镀装置，所述预处理装置与电镀装置之间设有离子真空溅射处理装置，所述离子真空溅射处理装置包括壳体，所述壳体上安装有钛化合物储存罐，所述壳体连通有用于对壳体进行抽真空处理的真空机，所述钛化合物储存罐连通有用于对壳体内的贵金属进行真空溅射处理的溅射头；所述离子真空溅射处理装置与预处理装置之间设置有纳米基层处理装置。
实施例三
本实施例的贵金属饰品表面纳米处理装置，包括对贵金属饰品进行预处理的预处理装置以及对贵金属饰品进行电镀的电镀装置，所述预处理装置与电镀装置之间设有离子真空溅射处理装置，所述离子真空溅射处理装置包括壳体，所述壳体上安装有钛化合物储存罐，所述壳体连通有用于对壳体进行抽真空处理的真空机，所述钛化合物储存罐连通有用于对壳体内的贵金属进行真空溅射处理的溅射头；所述离子真空溅射处理装置与预处理装置之间设置有纳米基层处理装置；所述的预处理装置、纳米基层处理装置、离子真空溅射处理装置和电镀装置配设有用于放置贵金属饰品的吊笼。
实施例四
在实施例三的基础之上，所述吊笼配设有行车，所述行车带动装有贵金属饰品的吊笼在预处理装置、纳米基层处理装置、离子真空溅射处理装置和电镀装置之间移动。
实施例五
在上述任一实施例的基础之上，所述电镀装置内设置有阴极板和阳极板，所述阴极板靠近离子真空溅射处理装置，所述阳极板远离离子真空溅射处理装置。
实施例六
在上述任一实施例的基础之上，所述电镀装置还配设有用于对贵金属进行尾处理的尾处理装置。
实施例七
本实施例提供一种贵金属饰品，所述贵金属饰品的表面设有钛化合物层。
Claims (6)
1.一种贵金属饰品表面纳米处理装置，包括对贵金属饰品进行预处理的预处理装置以及对贵金属饰品进行电镀的电镀装置，其特征在于，所述预处理装置与电镀装置之间设有离子真空溅射处理装置，所述离子真空溅射处理装置包括壳体，所述壳体上安装有钛化合物储存罐，所述壳体连通有用于对壳体进行抽真空处理的真空机，所述钛化合物储存罐连通有用于对壳体内的贵金属进行真空溅射处理的溅射头。
2.根据权利要求1所述的贵金属饰品表面纳米处理装置，其特征在于，所述离子真空溅射处理装置与预处理装置之间设置有纳米基层处理装置。
3.根据权利要求2所述的贵金属饰品表面纳米处理装置，其特征在于，所述的预处理装置、纳米基层处理装置、离子真空溅射处理装置和电镀装置配设有用于放置贵金属饰品的吊笼。
4.根据权利要求3所述的贵金属饰品表面纳米处理装置，其特征在于，所述吊笼配设有行车，所述行车带动装有贵金属饰品的吊笼在预处理装置、纳米基层处理装置、离子真空溅射处理装置和电镀装置之间移动。
5.根据权利要求4所述的贵金属饰品表面纳米处理装置，其特征在于，所述电镀装置内设置有阴极板和阳极板，所述阴极板靠近离子真空溅射处理装置，所述阳极板远离离子真空溅射处理装置。
6.根据权利要求5所述的贵金属饰品表面纳米处理装置，其特征在于，所述电镀装置还配设有用于对贵金属进行尾处理的尾处理装置。
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