CN1806000B - 高分辨率干膜光阻用聚酯薄膜 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种薄膜，其可以防止由薄膜表面所带静电的放电引起的灾害、防止灰尘或尘埃等被吸附在基薄膜的表面、防止由异物粘附引起图案的不整齐、使品质稳定化，并且在将平坦的薄膜卷绕成卷轴状时的操作性、良好的滑动性等加工特性优异。本发明的高分辨率干膜光阻用聚酯薄膜，是在至少一面上具有良好的滑动性和防静电性的涂敷层的薄膜，该涂敷层表面的平均表面粗糙度(Ra)在2nm以上，且小于10nm；最大表面粗糙度(Rt)在20nm以上，且小于200nm。

Description

高分辨率干膜光阻用聚酯薄膜

技术领域

本发明涉及适于制造印刷配线板、引线框(lead frame)和BGA、CSP等组件(package)的干膜光阻(以下称为DFR)用薄膜，特别涉及适于制造要求配线图案密、精细图案的基板的DFR用薄膜。详细地说，涉及的DFR用薄膜，通过在透明性高、表面粗糙度非常平坦的薄膜上设置具有防静电性、良好的滑动性(slippry)的涂敷层，可以防止因薄膜表面带的静电放电而导致的灾害、防止灰尘和尘埃被吸引而粘附在基薄膜(base film)表面、防止因粘附异物引起图案的不整齐、使品质稳定化、并且在将平坦的薄膜卷成滚卷轴状时的操作性、良好的滑动性等加工性优异。

背景技术

近年来，在印刷配线电路板的制造等中广泛使用DFR。DFR通常由支承膜/光致抗蚀剂(photoresist)层/保护膜的结构构成。作为支承膜，主要使用机械性质、光学性质、耐药性、耐热性、尺寸稳定性、平面性等优异的聚酯薄膜，光致抗蚀膜由感光性树脂形成，作为保护膜，可以使用聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚酯薄膜。简单说明DFR的使用方法，首先剥下保护膜，使露出的光致抗蚀剂层与粘合在底座上的导电性基材贴合。导电性基材通常是铜板。然后，在支承膜一侧贴合印刷有电路的玻璃板或薄膜(称为光掩膜(photomask))，从该光掩膜一侧照射光。该照射光通常使用紫外线。光通过印刷在玻璃板上的电路图像的透明部分，光致抗蚀剂层的感光性树脂只在该曝光的部分反应。接着，除去玻璃板和支承体层，使用适当的溶剂除去光致抗蚀剂层的未曝光部分。再用酸等进行蚀刻，将除去光致抗蚀剂层后露出的导电性基材部分除去。然后，利用适当的方法除去反应的光致抗蚀剂层，底座上的导电性基材层形成为电路。

最近，形成的电路变得非常复杂、电线变细、其间隔变窄，图像形成的再现性、分辨率必须要高。因此，对用作为支承体的聚酯薄膜来说，就要求具有高品质。用作为支承体的聚酯薄膜，必须表面平坦、透明性高、薄膜浊度(film haze)低。在光致抗蚀膜(photoresist film)中，曝光光致抗蚀剂层时，光如上所述穿过支承体层。所以，如果支承体的透明性低，则光致抗蚀剂层不能充分曝光，而且，如果薄膜浊度高、薄膜表面粗糙度粗糙，则会产生由薄膜表面和内部的光的散射导致的分辨率恶化等问题。

表面平坦、透明性高、薄膜浊度低的聚酯薄膜，在薄膜的制造工序、卷绕工序等中的处理性差，并且容易产生静电。在形成光致抗蚀剂层以制造DFR时，若使用这样产生静电的薄膜卷(film roll)，则由于静电作用会吸引灰尘和尘埃等微量的异物，因此即使在无尘室(cleanroom)内也会发生异物粘附，特别由卷轴形成卷时，因剥离而产生强烈的静电，异物粘附进一步增多，而且存在因向光致抗蚀剂有机溶剂涂料火花放电而导致的着火危险和因为带电处的抗蚀剂粘合性变强引起难以剥离曝光后的支承膜等问题。

为了使这种薄膜的带电性和处理性良好，或为了使DFR自身的处理性、卷绕特性良好，通常采用使聚酯薄膜中含有粒子以在表面上形成微细的突起的方法。但是，通过添加粒子形成突起时，会由突起导致紫外线的散射和在抗蚀剂表面产生凹陷，或给最近的极细线的电路形成带来分辨率降低和缺陷，或使薄膜的透明性降低。正是由于具有这样矛盾的特性，所以还未发现得到同时满足透明性、带电性、良好的滑动性、平坦性的高分辨率DFR用薄膜的方法。

专利文献1：特开平7-333853号公报

专利文献2：特开2000-221688号公报

专利文献3：特开2001-117237号公报

发明内容

本发明是鉴于上述实际情况完成的发明，其解决的问题在于提供一种薄膜，可以防止由薄膜表面上带的静电的放电引起的灾害、防止灰尘和尘埃等被吸引粘附在薄膜的表面、防止由异物粘附导致的图案不整齐、使品质稳定化，并且在将平坦的薄膜卷成卷轴(roll)状时的操作性、滑动性等加工性优异。

本发明人为达到上述目的反复进行各种研究，结果发现，通过由特定的组成构成薄膜可以容易地解决上述问题，从而完成了本发明。

即，本发明的要点在于提供一种高分辨率干膜光阻用聚酯薄膜，是至少在一面上具有良好的滑动性和防静电性的涂敷层的薄膜，其特征在于：该涂敷层表面的平均表面粗糙度(Ra)在2nm以上，但小于10nm，最大表面粗糙度(Rt)在20nm以上但小于200nm。

本发明通过在透明性高、表面粗糙度非常平坦的薄膜上设置具有防静电性、良好的滑动性的涂敷层作为必须有高分辨率的干膜光阻的支承体，可以防止因薄膜表面带的静电放电而引起的灾害、防止灰尘和尘埃等被吸引而粘附在基薄膜的表面，防止由异物粘附导致的图案不整齐，使品质稳定化，并且在将平坦的薄膜卷成卷轴(roll)状时的操作性、滑动性等加工性优异，所以，其工业价值非常大。

具体实施方式

下面，详细说明本发明。

本发明中所说的聚酯，作为构成聚酯的二羧酸成分，可以举出例如对苯二甲酸、异苯二甲酸、2，6-萘二甲酸、六氢化对苯二甲酸、4，4’-联苯二羧酸、己二酸、癸二酸、十四烷双酸等。从薄膜的机械性质的观点看，特别优选对苯二甲酸、异苯二甲酸、2，6-萘二甲酸。作为构成聚酯的二醇成分，可以举出例如乙二醇、二甘醇、丙二醇(propyleneglycol)、1，3-丙二醇(propanediol)、1，4-丁二醇、新戊二醇、1，6-己二醇、环己烷二甲醇、聚乙二醇(polyethylene glycol)等。从薄膜的刚性的角度看，特别优选乙二醇。

上述的聚酯，作为第三成分，可以是将上述二羧酸成分或二醇成分共聚形成的共聚多酯，可以含有三官能以上多元羧酸成分或多元醇成分，得到的聚酯可以是实质上在线状范围内(例如5摩尔％以下)少量共聚的聚酯。作为本发明中的聚酯，特别优选聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚2，6-萘二酸乙二酯。利用常用的方法制备该聚酯时，若聚酯的固有粘度(邻氯苯酚中、35℃)为0.45以上，则薄膜的撕裂强度、刚性大等机械特性良好，所以优选。

其中，根据需要，聚酯中可以含有对苯二甲酸和异苯二甲酸等共聚聚酯、稳定剂、抗氧化剂等。本发明中使用的聚酯薄膜可以按照公知的方法制造。例如，双轴拉伸聚酯薄膜可以通过下述方法制造：将聚酯树脂干燥后，在挤出机中熔融，由模(die)(例如T模)在旋转冷却辊(drum)上挤出，迅速冷却以制造未拉伸薄膜，然后将该未拉伸薄膜在纵向和横向上拉伸，根据需要进行热固定。聚酯薄膜的厚度在10～25μm的范围，优选在10～18μm的范围。

本发明的薄膜，在薄膜基材的至少一面上具有良好的滑动性和防静电性的涂敷层，即使该涂敷层是两面的，也只有与光致抗蚀剂层接触的面或其相反面可以，优选在与保护膜接触的面即抗蚀剂相反面涂敷。DFR在卷成卷轴(roll)状时，支承膜的抗蚀剂相反面和保护膜接触，与保护膜接触的面具有良好的滑动性和防静电性时，防止该卷轴被卷回时产生剥离带电的效果显著。

本发明的薄膜的涂敷层表面的表面粗糙度Ra在2nm以上但小于10nm的范围，优选为2～7nm的范围。表面粗糙度Ra在10nm以上时，聚酯薄膜的透明性下降，薄膜表面的光散射变多，紫外线的曝光量降低，使得分辨率恶化。另外，涂敷层表面的最大表面粗糙度Rt在20nm以上且小于200nm的范围，优选为20～150nm的范围。最大表面粗糙度在200nm以上时，抗蚀剂表面产生的凹陷变大，利用酸蚀刻处理除去抗蚀剂时，如果管路边缘(line edge)存在凹陷部分，则会对蚀刻处理度有影响并引起部分管路脱落。另一方面，表面粗糙度Ra小于2nm、最大表面粗糙度Rt小于20nm时，特别是发现在制膜工序中薄膜表面产生瑕疵，瑕疵会成为涂敷在该表面的抗蚀剂表面的缺陷，对于抗蚀剂厚度薄的高分辨率DFR的显像性有很大影响。另外，为了使薄膜涂敷表面的摩擦系数达到优选的范围0.2～0.6，通过与涂敷层中的润滑剂共同作用得到适当的粗糙度，由此协同地降低摩擦系数，同时使卷成卷轴状时卷进的空气散出，使卷轴表面的细微凹凸、卷轴端面的起伏或褶皱等卷轴形态(roll formation)良好。

作为使得本发明的聚酯薄膜表面具有适当粗糙度的方法，通常选用在薄膜中配合微粒子的方法。作为这类含有粒子的例子，可举出碳酸钙、磷酸钙、二氧化硅、高岭土、滑石、二氧化钛、氧化铝、硫酸钡、氟化钙、氟化锂、沸石、硫化钼等无机粒子，交联高分子粒子、草酸钙等有机粒子，以及聚酯聚合时生成的析出粒子。这些粒子之中，为了得到高度的透明性和防缺陷性，特别优选氧化铝粒子、交联高分子粒子或二氧化硅粒子。由于这些粒子在与聚酯的亲和性、折射率等方面具有理想的特性，所以，可以在不提高薄膜的浊度值的情况下提高防止损伤和良好的滑动性。使表面层中含有的粒子可以是一种，也可以同时配合两种以上。使用同种粒子的情况下，可以同时使用粒径不同的粒子。该粒子的平均粒径通常为0.01～1.0μm、优选为0.02～0.6μm的范围。由于平均粒径超过1.0μm时，薄膜表面会形成超过需要大小的突起，所以会产生与电路印刷玻璃的表面贴合不充分从而产生缺陷的问题，由于粒子容易从薄膜表面脱落，引起耐磨性恶化，因此不优选。另外，平均粒径小于0.01μm时，由于突起形成不充分，所以薄膜的滑动性不足，发现制膜工序或抗蚀剂涂敷工序中有损伤发生。

本发明的干膜光阻用聚酯薄膜的浊度，换算成薄膜厚度16μm时优选1％以下，更优选0.6％以下。另外，350nm的光线透过率优选为80％以上，更优选为83％以上。如果浊度超过1％、波长350nm的光线透过率低于80％，则在高分辨率DFR的使用中，使得紫外线的曝光不充分，有导致电路的缺陷或引起分辨率降低的趋势。

本发明中所说的防静电性，是指例如表面的固有电阻为1.0×10¹³Ω/□以下，可以优选为1.0×10⁷～1.0×10¹¹Ω/□的范围。表面固有电阻的值超过1.0×10¹³Ω/□时，难以控制剥离带电。本发明的需要高分辨率的DFR用的支承膜，是表面粗糙度小、平坦的薄膜，如果不具有防静电性，则带电强烈，特别是由剥离带电引起的火花放电有使抗蚀剂溶剂着火的危险性。另外，聚酯薄膜的制膜工序或抗蚀剂涂敷工序中，由于因带电引起的灰尘、尘埃的粘附，会产生抗蚀剂涂敷缺陷或UV曝光后的异物缺陷。特别地，要求高分辨率的DFR中，即使是小的、极少的异物，也有可能导致电路的缺陷。

作为构成具有防静电性的层的成分，可以适当选择使用防静电树脂或导电性树脂等任意的具有防静电能力的高分子等。作为这样的防静电剂，可以举出例如具有季铵盐、吡啶盐(pyridinium)、伯～叔氨基等阳离子性官能团的阳离子性防静电剂，具有磺酸盐基、硫酸酯盐基、磷酸酯盐基、膦酸盐基等阴离子性官能团的阴离子类防静电剂，氨基酸类、氨基硫酸酯类等两性防静电剂，多元醇类、聚甘油类、聚乙二醇类等具有非离子性官能团的防静电剂等各种高分子型防静电剂，而且，可以使用具有叔氨基或季氨基、能通过电离辐射线聚合的单体或低聚物，例如N，N-二烷基氨基烷基(甲基)丙烯酸酯单体、它们的季铵盐化合物等聚合性防静电剂，以及聚苯胺、聚吡咯、聚噻吩等导电性聚合物等。其中，优选具有季铵盐型阳离子性官能团的高分子型防静电剂。

在本发明中，为了具有良好的滑动性，优选与防静电剂同时在涂敷层中配合蜡和微粒子。作为蜡，可以举出植物类蜡、动物类蜡、矿物类蜡、石油蜡等天然蜡、合成烃、改性蜡、氢化蜡等合成蜡。其中优选聚烯烃类化合物。具体地说，可以将具有溶解或分散使用由例如乙烯、丙烯、1-丁烯、4-甲基-1-戊烯等不饱和烃的聚合物或共聚物构成的聚烯烃类化合物等化合物作为基本框架的化合物，可以举出聚乙烯、聚丙烯、聚-1-丁烯、聚-4-甲基-1-戊烯、乙烯-丙烯共聚物、乙烯-1-丁烯共聚物、丙烯-1-丁烯共聚物。更具体地说，优选使用末端具有活性氢基的酸值10～50的聚烯烃，更优选氧化聚乙烯或氧化聚丙烯。

另一方面，作为共同使用的微粒子，优选配合平均粒径为0.01～0.2μm的无机粒子或有机粒子。平均粒径是干燥后的涂敷层厚度的2倍以上时，会发生粒子从涂敷层脱落的情况。反之，若平均粒径小于0.01μm，则有可能没有滑动性和卷绕改良的效果。作为这样的微粒子的例子，可以举出碳酸钙、磷酸钙、二氧化硅、高岭土、滑石、二氧化钛、氧化铝、硫酸钡、氟化钙、氟化锂、沸石、硫化钼等无机粒子，交联高分子粒子、草酸钙等有机粒子，为了得到高度的透明性，这些粒子中特别优选使用交联高分子或二氧化硅粒子。此外，在本发明中，为了提高与聚酯薄膜的粘合性，作为粘合剂，可以含有聚酯类、聚氨酯类、丙烯酸树脂类、聚乙烯树脂类、聚烃类等热塑性树脂和/或热硬化性丙烯酸树脂、蜜胺树脂、环氧树脂等热硬化性树脂等。

将这种同时使用蜡和微粒子的涂敷层涂在具有本发明的表面粗糙度的基材的聚酯薄膜面上，优选使薄膜的摩擦系数在0.2～0.6的范围。摩擦系数在该范围，可以防止将聚酯薄膜卷成卷轴状时产生褶皱和端面的损伤，使DFR卷成卷轴状时的卷绕性良好。摩擦系数小于0.2时，会产生卷绕不齐，反之，若超过0.6，则会产生褶皱或空气积存，所以不优选。

构成上述的层的防静电剂、蜡、微粒子、粘合剂、交联剂的量比，根据选择的化合物不同，最佳值也不同，所以没有特别地规定，但是优选满足下述的层特性的量比。涂敷层中的防静电剂的含量通常为5重量％以上，优选为10～90重量％的范围，防静电剂是具有离子性官能团的化合物的聚合物时，优选15～90重量％，更优选20～90重量％的范围。若防静电剂的比率过少，则难以得到充分的表面固有电阻，反之，若防静电剂的比率过多，则会有薄膜的粘合性不充分的情况。此外，蜡的配合量为1重量％以上，优选为2～10重量％的范围，若蜡的比率过少，则难以得到充分的易滑效果，若比率过多，则会妨碍与聚酯薄膜基材的粘合性，所以不优选。同时使用的微粒子的比率为1重量％以上，可以优选为2～10重量％。低于1重量％时，没有滑动性和卷绕的改良效果，为10重量％以上时，有可能由于粒子凝结阻碍光线透过，造成电路缺陷。

构成本发明的薄膜的良好的滑动性和防静电性层，优选涂敷水性涂液(以水为介质的水溶性树脂或水分散性树脂)形成，也可以涂敷含有少量有机溶剂的水性涂液形成。作为这种有机溶剂，可以举出例如乙醇、异丙醇、乙二醇、丙三醇等醇类，乙基溶纤剂、叔丁基溶纤剂、丙二醇单甲醚、四氢呋喃等醚类，丙酮、甲基乙基酮等酮类，醋酸乙酯等酯类，二甲基乙醇胺等胺类等。这些有机溶剂可以单独使用，或将多个组合使用。根据需要，适当选择这些有机溶剂加入到水性涂液中，可以有助于涂液的稳定性、涂敷性或涂膜特性。

在本发明中，使用的涂液的固体成分浓度没有特别限制，通常为30重量％以下，优选0.2～20重量％、更优选0.5～15重量％、特别优选1～10重量％。若涂液的固体成分浓度低，则涂敷容易产生磁性等在涂敷面状的均匀性上产生问题。另外，若涂液的固体成分浓度超过30重量％，则涂敷液的粘度有增大的趋势，因此会使得涂敷的外观恶化。

作为向基材薄膜涂敷涂液的方法，可以使用例如，原崎勇次著、槙书店、1979年发行“涂敷方法”中列出的逆转辊式涂布机、凹板式涂布机、棒式涂布机(rod coater)、气刀涂布机或这些以外的涂布装置。本发明的涂敷层可以通过在薄膜制膜中进行涂敷的联机涂布(inlinecoating)、在制成薄膜后进行涂敷的离线涂布(offiine coating)或这些以外的方法进行设置，优选通过联机涂布(inline coating)设置。

联机涂布(inline coating)是在制造聚酯薄膜的工序内进行涂敷的方法，具体地说，是在从聚酯熔融挤出到双轴拉伸后热固定并卷绕起来的任意阶段进行涂敷的方法。通常，可熔融·迅速冷却得到实质上非晶态的未拉伸薄膜，之后在长度方向(纵向)拉伸的单轴拉伸薄膜、热固定前的双轴拉伸薄膜的任一个上进行涂敷。其中，优选在单轴拉伸薄膜上涂敷后，在横向上拉伸的方法。根据这种方法，制膜和涂敷层干燥可以同时进行，因此具有制造成本方面的优势；在涂敷后进行拉伸，因此薄膜涂敷容易；涂敷后实施的热处理在其它方法无法达到的高温下进行，因此涂敷层和聚酯薄膜可以牢固地贴合。

本发明薄膜的涂敷层的厚度优选为大于等于0.02μm小于0.1μm。涂敷厚度小于0.02μm时，涂敷膜的均匀性恶化，防静电性变的参差不齐。反之，涂敷层厚度为0.1μm以上时，会有薄膜的生产率下降或在与聚酯薄膜的界面发生剥离的问题。

实施例

下面，根据实施例更具体地说明本发明，但是本发明不局限于以下的实施例。本发明中的薄膜特性等的测定方法如下所述。

(1)涂敷层厚度：

由涂敷液的消耗量换算求得。涂敷层的厚度用薄膜拉伸、干燥后的厚度表示。

(2)防静电性：

使用日本惠普公司生产的高电阻测定器：HP4339B和测定电极：HP16008B，在23℃、50％RH的测定环境下，充分调湿后，测定施加电压100V持续1分钟后的基材薄膜的防静电层的表面固有电阻值。根据该表面固有电阻值，按照以下的基准评价防静电性。

[表1]

○：表面固有电阻值小于1×10¹¹Ω/□

△：表面固有电阻值为1×10¹¹Ω/□以上，小于1×10¹³Ω/□

×：表面固有电阻值为1×10¹³Ω/□以上

(3)滑动性：

根据ASTM-D1894，测定聚酯薄膜涂敷面与相反面合计的动摩擦系数。根据测定的摩擦系数，按照以下的基准评价滑动性。

[表2]

○：动摩擦系数为0.2以上、小于0.5

△：动摩擦系数为0.5以上、小于0.7

×：动摩擦系数为0.7以上

(4)薄膜浊度：

根据JIS-7105，利用日本电色工业社生产的积分球式浊度计NDH-20D测定浊度，以薄膜厚度16μm将数值标准化。

(5)波长350nm的光线透过率：

使用(株)岛津制作所生产的分光光度计MPC-3100测定波长350nm的光线透过率。

(6)平均表面粗糙度(Ra)：

使用(株)小坂研究所社生产的表面粗糙度测定器(SE-3F)按如下方法求得。

即，从薄膜截面曲线向其中心线方向抽取基准长度L(2.5mm)的部分，以该抽取部分的中心线为x轴、纵向放大倍率的方向为y轴，粗糙度曲线以y＝f(x)表示时，以[μm]为单位表示按下式得到的值。自试样薄膜表面求出10根截面曲线，中心线平均粗糙度以由这些截面曲线求得的切下部分的中心线粗糙度的平均值表示。此外，探针的末端半径为2μm、负荷为30mg、截止(cut-off)值为0.08mm。

[数1]

$\mathrm{Ra}=(1/L){\∫}_0^L\left|f\left(x\right)\right|\mathrm{dx}$

(7)最大高度(Rt)

将Ra测定时得到的截面曲线的抽出部分，在与其平均线平行的两直线夹持的状态下，在截面曲线的纵向放大倍率的方向上测定两直线的间隔，将其值以微米(μm)为单位表示的值作为抽出部分的最大高度(Rt)。由试样薄膜表面求出10根截面曲线，最大高度以由这些截面曲线求得的抽出部分的最大高度的平均值表示。

(8)薄膜表面的瑕疵：

用肉眼检查产品和卷绕解开的薄膜表面，按照以下的基准进行评价。

[表3]

○：在检查范围内完全看不到瑕疵

△：在检查范围的一部分可看到轻微的瑕疵

×：可看到瑕疵

(9)光致抗蚀膜实用特性：

按照通常的方法制作出光致抗蚀膜。即，在与防静电和良好的滑动性的涂敷面相反侧的面上设置光致抗蚀剂层，在其上层压聚酯薄膜作为保护层。使用得到的光致抗蚀膜，进行印刷电路的制作。即，将剥离了保护层的光致抗蚀膜的光致抗蚀剂层表面贴合在设置在含有玻璃纤维的环氧树脂板上的铜板上。然后，将印刷了电路的玻璃板贴合在光致抗蚀膜上，从该玻璃板一侧进行紫外线的曝光。然后，进行剥离光致抗蚀膜、洗净、蚀刻等一系列的显象操作以制作电路。用肉眼或显微镜观察由此得到的电路，根据其品质对光致抗蚀膜进行以下的实用评价。

[表4]

<显象性>

○：具有极高的分辨率、得到清晰的电路。

△：看到清晰度稍差、线稍微有点宽等现象，使用上没有问题。

×：清晰度差，不能作为高密度的电路使用。

[表5]

○：看不到电路的缺陷。

△：很少看到电路的缺陷。

×：电路产生缺陷，实用上有障碍。

[表6]

<抗蚀剂表面的凹陷>

○：没有在使用上带来问题的凹陷。

△：确认有凹陷，但是在不需要高分辨率的级别是没有影响的水平。

×：确认有大的凹陷，实用上有障碍。

(10)DFR制造时的操作性：

对光致抗蚀膜制作时和使用时的操作性进行评价。

[表7]

<带电性>

○：在卷起的聚酯薄膜中完全没有带电、没有安全上的问题。

△：虽然可看到少许的带电，但是安全上、实用上没有问题。

×：带电剧烈，有使抗蚀剂涂敷液着火等安全上的问题，吸引尘埃、灰尘等，实用上有障碍。

[表8]

<卷曲特性>

○：因为薄膜中具有适当的粗糙度、具有充分的滑动性，所以卷曲特性良好。

△：粗糙度稍有不足，但有适度的滑动性，实用上没有问题。

×：没有适当的粗糙度和摩擦系数，因此卷绕散乱、卷入空气，会有对抗蚀剂特性产生障碍的问题。

以下的实施例、比较例中使用的防静电层、易滑层的成分如下。[防静电层、易滑层的成分]

·防静电剂(A1)：聚二烯丙基二甲基铵氯化物(平均分子量：约30000)

·蜡(B1)：氧化聚乙烯水分散体(Johnson Polymer公司生产、Johnwax 26)

·粒子(C1)：平均粒径0.1μm的胶体二氧化硅水分散体

·水性树脂(D1)：水性丙烯酸树脂(日本Carbide工业社生产、ニカヅ一ルY-8106B)

·交联剂(E1)：甲氧基羟甲基蜜胺(大日本ink社生产、ベツカミンJ101)

实施例1：

将特性粘度0.65dl/g的聚对苯二甲酸乙二醇酯(含有平均粒径约0.3μm的交联高分子粒子100ppm)的颗粒在180℃下用热风干燥结晶后，供给到挤出机，在280～300℃的温度下从T模熔融挤出呈薄片状，同时使用静电粘附法，在温度调整到20℃的镜面冷却鼓轮(drum)上铸型(cast)·迅速冷却，得到厚度约230μm的未拉伸薄膜。然后，将该薄膜在85℃下在长度方向拉伸3.7倍，得到单轴拉伸薄膜。作为该薄膜的防静电、易滑层，将季铵盐型阳离子性高分子防静电剂：A1、氧化聚乙烯蜡：B1、胶体二氧化硅粒子：C1、丙烯酸树脂：D1、蜜胺类化合物：E1以20/4/4/52/20(固体成分换算重量比)的比率混合，用离子交换水稀释调制到固体成分浓度3重量％，使用刮棒涂布机将调节后的涂敷液在聚酯薄膜的一面上涂敷约5μm(湿厚度)。然后，在110～150℃的范围在横向拉伸3.9倍，在230℃下进行热处理，得到完成结晶定向的厚度16μm的双轴拉伸聚酯薄膜。通过该横向拉伸处理以后的热处理，使涂膜干燥，得到设置有防静电、易滑层的薄膜。由该方法得到的聚酯薄膜的薄膜特性如下述表9所示。在与该涂敷层相反的面上，设置光致抗蚀膜并干燥后，在抗蚀剂的表面层压聚乙烯保护膜，从而做出干膜光阻(DFR)。该DFR的特性如下述表10所述。

实施例2：

除了将聚对苯二甲酸乙二醇酯中的交联高分子粒子的含量和构成防静电、易滑层的成分改变为下述表9记载的组成以外，使用与实施例1相同的方法，制作出双轴拉伸聚酯薄膜。该薄膜的特性、DFR的特性如下述表10所示。

实施例3：

除了将聚对苯二甲酸乙二醇酯中的交联高分子粒子的含量和构成防静电、易滑层的成分改变为下述表9记载的组成以外，使用与实施例1相同的方法，制作出双轴拉伸聚酯薄膜。该薄膜的特性、DFR的特性如下述表10所示。

实施例4：

除了将聚对苯二甲酸乙二醇酯中含有的粒子的种类、平均粒径改变为表9所示的种类和平均粒径，将构成防静电、易滑层的成分改变为下述表9记载的组成以外，使用与实施例1相同的方法，制作出双轴拉伸聚酯薄膜。该薄膜的特性、DFR的特性如下述表10所示。

实施例5：

除了将聚对苯二甲酸乙二醇酯中含有的粒子的种类、平均粒径改变为表9所示的种类和平均粒径，将构成防静电、易滑层的成分改变为下述表9记载的组成以外，使用与实施例1相同的方法，制作出双轴拉伸聚酯薄膜。该薄膜的特性、DFR的特性如下述表10所示。

比较例1：

除了将聚对苯二甲酸乙二醇酯中含有的粒子的种类、平均粒径改变为表9所示的种类和平均粒径，将构成防静电、易滑层的成分改变为下述表9记载的组成以外，使用与实施例1相同的方法，制作出双轴拉伸聚酯薄膜。该薄膜的特性、DFR的特性如下述表10所示。

比较例2：

除了聚对苯二甲酸乙二醇酯中不含有粒子以外，使用与实施例1相同的方法，制作出双轴拉伸聚酯薄膜。该薄膜的特性、DFR的特性如下述表10所示。

比较例3：

除了将聚对苯二甲酸乙二醇酯中含有的粒子的种类、平均粒径改变为表9所示的种类和平均粒径，并且不涂敷防静电、易滑层以外，使用与实施例1相同的方法，制作出双轴拉伸聚酯薄膜。该薄膜的特性、DFR的特性如下述表10所示。

比较例4～6

除了将聚对苯二甲酸乙二醇酯中含有的粒子种类、平均粒径改变为表9所示的种类和平均粒径，将构成防静电、易滑层的成分改变为下述表9记载的组成以外，使用与实施例1相同的方法，制作出双轴拉伸聚酯薄膜。该薄膜的特性、DFR的特性如下述表10所示。

Claims (3)

1.一种高分辨率干膜光阻用聚酯薄膜，其特征在于：由在聚酯薄膜基材的至少一面上具有包含防静电剂、蜡和平均粒径为0.01～0.2μm的无机粒子或者有机粒子的涂敷层的至少2层结构构成，该涂敷层的厚度大于等于0.02μm小于0.1μm，表面的平均表面粗糙度在2nm以上，但小于10nm；最大表面粗糙度在20nm以上，但小于200nm。

2.如权利要求1所述的高分辨率干膜光阻用聚酯薄膜，其特征在于：涂敷层表面的表面固有电阻率在1.0×10¹³Ω/□以下，摩擦系数为0.2～0.6。

3.如权利要求1或2所述的高分辨率干膜光阻用聚酯薄膜，其特征在于：薄膜浊度在1.0％以下，波长350nm的光线透过率在80％以上。