CN1535082B - 淀积掩模框架组件及其制造方法、有机电致发光器制造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
第一实施例 | 第二实施例 | 第三实施例 | 第一比较例 | 第二比较例 | 第三比较例 | 第四比较例 | |
ΔPt | ±5微米 | ±5微米 | ±5微米 | ±10微米 | ±5微米 | ±5微米 | ±5微米 |
ΔX | ±3微米 | ±3微米 | ±3微米 | ±5微米 | ±3微米 | ±3微米 | ±3微米 |
ΔWs1 | ±5微米 | ±5微米 | ±5微米 | ±5微米 | ±10微米 | ±10微米 | ±10微米 |
像素间隙 | 130点每英寸 | 150点每英寸 | 100点每英寸 | 130点每英寸 | 130点每英寸 | 100点每英寸 | 100点每英寸 |
孔径效率 | 60% | 55% | 69% | 60% | 60% | 69% | 58% |
亮度故障率 | 0% | 0% | 0% | 9% | 14% | 12% | 0% |
混色产生比率 | 0% | 0% | 0% | 3% | 5% | 3% | 0% |
盲区产生比率 | 0% | 0% | 0% | 0% | 1.2% | 1.2% | 1.2% |
像素短路产生比率 | 0% | 0% | 0% | 0% | 0.5% | 0.5% | 0.5% |
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