KR20160000069A - 마스크 프레임 어셈블리 및 그 제조방법 - Google Patents

마스크 프레임 어셈블리 및 그 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20160000069A
KR20160000069A KR1020140076631A KR20140076631A KR20160000069A KR 20160000069 A KR20160000069 A KR 20160000069A KR 1020140076631 A KR1020140076631 A KR 1020140076631A KR 20140076631 A KR20140076631 A KR 20140076631A KR 20160000069 A KR20160000069 A KR 20160000069A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
polymer film
frame
polymer
slit
frame assembly
Prior art date
Application number
KR1020140076631A
Other languages
English (en)
Inventor
남기현
김혜동
안성국
Original Assignee
삼성디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성디스플레이 주식회사 filed Critical 삼성디스플레이 주식회사
Priority to KR1020140076631A priority Critical patent/KR20160000069A/ko
Priority to US14/637,222 priority patent/US9982333B2/en
Publication of KR20160000069A publication Critical patent/KR20160000069A/ko
Priority to US15/965,574 priority patent/US20180245199A1/en
Priority to KR1020210125016A priority patent/KR102354388B1/ko
Priority to KR1020220006803A priority patent/KR102527233B1/ko
Priority to KR1020230054120A priority patent/KR102572717B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50—Substrate holders
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B3/00—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form
    • B32B3/26—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids ; characterised by an apertured layer
    • B32B3/266—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids ; characterised by an apertured layer characterised by an apertured layer, the apertures going through the whole thickness of the layer, e.g. expanded metal, perforated layer, slit layer regular cells B32B3/12
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/02—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by a sequence of laminating steps, e.g. by adding new layers at consecutive laminating stations
    • B32B37/025—Transfer laminating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B38/00—Ancillary operations in connection with laminating processes
    • B32B38/10—Removing layers, or parts of layers, mechanically or chemically
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C16/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/50—Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/60—Substrates
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
    • G03F1/84—Inspecting
    • G03F1/86—Inspecting by charged particle beam [CPB]
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/88—Dummy elements, i.e. elements having non-functional features
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10—Deposition of organic active material
    • H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

본 발명의 일 실시예는 하나 이상의 개구부를 갖는 프레임과 프레임에 결합되며 복수개의 슬릿을 갖는 고분자필름을 구비하는 마스크 프레임 어셈블리를 개시한다.

Description

마스크 프레임 어셈블리 및 그 제조방법 {Mask frame assembly and method for manufacturing the same}
본 발명의 실시예들은 마스크 프레임 어셈블리 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 더 상세하게는 기판상에 증착 물질을 증착하기 위한 마스크 프레임 어셈블리 및 그 제조방법에 관한 것이다.
디스플레이 장치들 중, 유기 발광 디스플레이 장치는 시야각이 넓고 컨트라스트가 우수할 뿐만 아니라 응답속도가 빠르다는 장점을 가지고 있어 차세대 디스플레이 장치로서 주목을 받고 있다.
유기 발광 디스플레이 장치는 서로 대향된 제1 전극 및 제2 전극 사이에 발광층 및 이를 포함하는 중간층을 구비한다. 이때 상기 전극들 및 중간층은 여러 방법으로 형성될 수 있는데, 그 중 한 방법이 독립 증착 방식이다. 독립 증착 방법을 이용하여 유기 발광 디스플레이 장치를 제작하기 위해서는, 유기층 등이 형성될 기판 면에, 형성될 유기층 등의 패턴과 동일한 패턴을 가지는 파인 메탈 마스크(fine metal mask: FMM)를 밀착시키고 유기층 등의 재료를 증착하여 소정 패턴의 유기층을 형성한다.
전술한 배경기술은 발명자가 본 발명의 도출을 위해 보유하고 있었거나, 본 발명의 도출 과정에서 습득한 기술 정보로서, 반드시 본 발명의 출원 전에 일반 공중에게 공개된 공지기술이라 할 수는 없다.
본 발명의 실시예들은 마스크 프레임 어셈블리 및 그 제조방법을 제공한다.
본 발명의 일 실시예는 하나 이상의 개구부를 갖는 프레임과 프레임에 결합되며 복수개의 슬릿을 갖는 고분자필름을 구비하는 마스크 프레임 어셈블리를 개시한다.
본 실시예에 있어서, 프레임은 금속으로 이루어질 수 있다.
본 실시예에 있어서, 프레임과 고분자필름 사이에 개재되어 프레임과 고분자필름을 점착시키는 점착층을 더 구비할 수 있다.
또한, 고분자필름은 폴리이미드, 폴리페닐렌설파이드, 폴리아릴 에티르 케톤, 리퀴드 크리스탈 폴리머 중 적어도 하나로 이루어질 수 있다.
또한, 고분자필름은 패턴부를 포함하고, 슬릿은 패턴부에 형성될 수 있다.
또한, 개구부는 패턴부에 대응하는 위치에 형성될 수 있다.
본 발명의 다른 실시예는 글라스 상에 고분자용액을 코팅하는 단계와, 고분자용액을 건조 및 경화하여 고분자필름을 형성하는 단계와, 고분자필름에 프레임을 결합하는 단계와, 글라스를 고분자필름에서 탈착하는 단계와, 고분자필름에 슬릿을 가공하는 단계를 포함하는 마스크 프레임 어셈블리의 제조방법을 개시한다.
본 실시예에 있어서, 고분자필름에 프레임을 결합하는 단계는, 고분자필름에 점착층을 도포하는 단계와, 점착층에 프레임을 결합하는 단계를 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 고분자필름에 슬릿을 가공하는 단계는, 슬릿을 가공하는데 레이저 패터닝을 이용할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 고분자필름에 슬릿을 가공하는 단계는, 슬릿을 가공하는데 노광을 이용할 수 있다.
본 발명의 실시예들에 관한 마스크 프레임 어셈블리 및 그 제조방법은 초정밀 증착 패터닝이 가능하고, 아울러 기판이나 마스크 처짐에 의한 증착막 두께 왜곡 현상을 개선하는 효과를 가진다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 관한 마스크 프레임 어셈블리를 나타내는 사시도이다.
도 2는 도 1의 마스크 프레임 어셈블리의 측면단면도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 관한 마스크 프레임 어셈블리를 나타내는 측면단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 프레임 어셈블리의 제조방법을 나타내는 순서도이다.
도 5a는 글라스 상에 고분자용액을 코팅하는 단계를 나타내는 도면이다.
도 5b는 고분자용액을 건조 및 경화하여 고분자필름을 형성하는 단계를 나타내는 도면이다.
도 5c는 고분자필름에 프레임을 결합하는 단계를 나타내는 도면이다.
도 5d는 글라스를 고분자필름에서 탈착하는 단계를 나타내는 도면이다.
도 5e는 고분자필름에 슬릿을 가공하는 단계를 나타내는 도면이다.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 본 발명의 효과 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
이하의 실시예에서 층, 막, 영역, 판 등의 각종 구성요소가 다른 구성요소 “상에” 있다고 할 때, 이는 다른 구성요소 “바로 상에” 있는 경우뿐 아니라 그 사이에 다른 구성요소가 개재된 경우도 포함한다. 또한 설명의 편의를 위하여 도면에서는 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다. 예컨대, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.
또한, 어떤 실시예가 달리 구현 가능한 경우에 특정한 공정 순서는 설명되는 순서와 다르게 수행될 수도 있다. 예를 들어, 연속하여 설명되는 두 공정이 실질적으로 동시에 수행될 수도 있고, 설명되는 순서와 반대의 순서로 진행될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 관한 마스크 프레임 어셈블리를 나타내는 분해사시도이다.
먼저 도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 프레임 어셈블리(10)는 프레임(100)과 고분자필름(200)을 구비한다.
도 1에 나타난 프레임(100)은 금속으로 제조될 수 있으며, 사각 형상으로 하나 이상의 개구부(110)를 갖도록 형성되어 있으나, 일 실시의 사상은 이에 제한되지 아니하며, 원형 또는 육각형 등의 다양한 형태로 형성될 수 있다.
고분자필름(200)은 프레임(100)의 개구부(110)에 대응하는 패턴부(210a)를 가지며, 패턴부(210a)에는 증착 공정 시 증착물을 통과시키는 복수개의 슬릿(210b)이 형성되어 있다.
고분자필름(200)은 폴리이미드(polyimide, PI), 폴리페닐렌설파이드(poly phenylene sulfide, PPS), 폴리아릴 에테르 케톤(polyether etherketone, PEEK) 또는 리퀴드 크리스탈 폴리머(liquid crystal polymer)와 같은 고분자 물질로 형성될 수 있다. 상술한 재료들은 고성능 플라스틱으로써, 내열성이 뛰어나며 저온에서 고온까지 특성의 변화가 적고, 내화학성과 내마모성도 강해 열악한 환경에서 안정적인 성능 유지가 가능한 물질이다. 예를 들어, 본 발명의 일 실시예의 고분자필름(200)을 제조하는데 사용되는 폴리이미드는 3ppm/℃ 이하의 열팽창계수(Coefficient of Thermal Expansion, CTE)를 갖는데, 이는 500℃ 이상의 온도에서도 정밀한 증착 공정이 가능함을 의미한다.
고분자필름(200)은 고분자용액(200a)을 글라스(50)(도 5a 내지 도 5d 참조) 상에 얇게 도포하여 건조 및 경화시킴으로써 제조된다. 일반적인 증착 공정에서, 이러한 고분자필름(200)은 디스플레이 기판(미도시)을 가운데 두고 정전척(미도시)에 의해 당겨짐으로써 디스플레이 기판에 밀착하게 된다.
이때, 고분자필름(200)의 두께는 10~50μm가 적당하다. 만약 고분자필름(200)의 두께가 필요 이상으로 지나치게 얇으면, 정전척에 의해 디스플레이 기판과 밀착될 때 고분자필름(200)이 찢어지거나 형태가 변형될 수도 있다. 반대로, 고분자필름(200)의 두께가 필요이상으로 지나치게 두꺼우면, 고분자필름(200) 자체의 무게로 인해 디스플레이 기판과 완전히 밀착하지 못하게 되며, 이는 증착 시 고분자필름(200)의 슬릿(210b)이 정의하는 영역 이외의 영역에까지 증착물질이 도달하는 섀도우(shadow) 현상과, 증착막 두께 왜곡현상을 일으키게 된다. 따라서, 고분자필름(200)은 증착 공정을 수행하는데 적절한 두께로 형성되어야 하며, 즉 상술한 바와 같이 10~50μm의 두께로 고분자필름(200)을 제작하게 되면 파손이나 변형 또는 처짐 현상 없이 대면적의 기판에도 초정밀한 증착 패터닝이 가능하다.
이하, 도 2를 참조하여 마스크 프레임 어셈블리(10)를 구성하는 프레임(100)과 고분자필름(200)의 결합구조에 대해 설명하도록 한다.
도 2는 도 1의 마스크 프레임 어셈블리의 측면단면도이다.
도 2를 참조하면, 마스크 프레임 어셈블리(10)는 프레임(100)의 개구부(110)와 고분자필름(200)의 패턴부(210a)가 대응되도록 정렬된다. 프레임(100)과 고분자필름(200)은 여러가지 방식으로 결합될 수 있는데, 도 2에 나타난 마스크 프레임 어셈블리(10)는 고분자필름(200)이 건조 및 경화되는 동안 프레임(100)을 고분자필름(200)에 결합한 상태를 나타낸다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 관한 마스크 프레임 어셈블리를 나타내는 측면단면도이다.
도 3을 참조하면, 마스크 프레임 어셈블리(10)는 프레임(100)과 고분자필름(200) 사이에 점착층(300)을 더 구비하여, 프레임(100)과 고분자필름(200)을 점착한 상태를 나타낸다. 점착층(300)의 재료로 바람직하게는 실리콘을 사용할 수 있다.
일반적으로 반복적으로 유기물 증착 공정을 수행하다 보면 마스크 프레임 어셈블리(10) 상에 유기물이 누적되어 잔류하게 된다. 이렇게 마스크 프레임 어셈블리(10) 상에 유기물이 누적된 채 계속해서 유기물 증착 공정을 수행하면, 상술한 섀도우 현상이나 증착막 두께 왜곡현상이 일어난다. 이때, 실리콘으로 프레임(100)과 고분자필름(200)을 결합하게 되면 프레임(100)과 고분자필름(200)의 탈부착이 용이해지므로 프레임(100)으로부터 고분자필름(200)을 신속하게 탈부착함으로써 효율적인 유기물 증착 공정을 수행할 수 있게 된다.
이하, 도 4 및 도 5a 내지 도 5e를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 프레임 어셈블리(10)의 제조방법에 대해 설명하기로 한다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 프레임 어셈블리의 제조방법을 나타내는 순서도이며, 도 5a는 글라스 상에 고분자용액을 코팅하는 단계를 나타내는 도면이고, 도 5b는 고분자용액을 건조 및 경화하여 고분자필름을 형성하는 단계를 나타내는 도면이며, 도 5c는 고분자필름에 프레임을 결합하는 단계를 나타내는 도면이고, 도 5d는 글라스를 고분자필름에서 탈착하는 단계를 나타내는 도면이며, 도 5e는 고분자필름에 슬릿을 가공하는 단계를 나타내는 도면이다.
도 4를 참조하면, 일 실시예에 따른 마스크 프레임 어셈블리(10)의 제조방법은 글라스(50) 상에 고분자용액(200a)을 코팅하는 단계(S401)와, 고분자용액(200a)을 건조 및 경화하는 단계(S402)와, 고분자필름(200) 상에 프레임(100)을 결합하는 단계(S403)와, 글라스(50)를 탈착하는 단계(S404)와, 고분자필름(200)의 패턴부(210a)에 복수개의 슬릿(210b)을 가공하는 단계(S405)를 포함할 수 있다.
고분자용액(200a)을 코팅하는 단계(S401)에서, 고분자용액(200a)의 재료로써 상술한 바와 같이 폴리이미드, 폴리페닐렌설파이드, 폴리아릴 에테를 케톤 또는 리퀴드 크리스탈 폴리머와 같은 고분자 물질을 사용할 수 있다.
글라스(50)에 고분자용액(200a)을 코팅한 뒤(S401)(도 5a참조), 고분자용액(200a)을 건조 및 경화(S402)하면 고분자필름(200)이 글라스(50) 상에 형성된다(도 5b 참조).
글라스(50) 상에 형성된 고분자필름(200)에 프레임(100)을 결합하는 단계(S403)는 바람직하게는 두 가지 방식으로 구현될 수 있다.
먼저, 프레임(100)은 고분자용액(200a)이 완전하게 건조되기 이전에 프레임(100)을 고분자용액(200a)에 결합시킬 수 있는데, 도 5c는 이러한 방식으로 프레임(100)과 고분자필름(200)이 결합된 형태를 나타내는 도면이다.
이와는 다르게, 프레임(100) 상에 도포된 고분자용액(200a)이 완전히 건조 및 경화되어 고분자필름(200)이 된 이후, 도 3에 나타난 바와 같이 고분자필름(200) 상에 점착층(300)을 도포하고, 다시 점착층(300)에 프레임(100)을 결합하는 방식으로 프레임(100)과 고분자필름(200)을 결합할 수도 있다. 이러한 점착층(300)의 재료로는 실리콘이 사용될 수 있으며, 이에 대해서는 상술한 바가 있으므로 여기에서는 자세한 설명을 생략하도록 한다.
이렇게 프레임(100)과 고분자필름(200)이 서로 결합한 뒤에는, 글라스(50)를 탈착하여 고분자필름(200)의 패턴부(210a)에 슬릿(210b)을 형성할 준비를 한다(S404).
마지막으로, 글라스(50)가 탈착되고 나면, 고분자필름(200) 상에 슬릿(210b)을 형성하게 된다(S405). 이때, 고분자필름(200)의 슬릿(210b)은 다양한 방법으로 형성될 수 있는데, 레이저로 패터닝 하는 방법이나 노광(light exposure) 방식으로 슬릿(210b)을 형성하는 방법이 바람직하다.
이와 같이 본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 하여 설명하였으나 이는 예시적인 것에 불과하며 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 실시예의 변형이 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
10: 마스크 프레임 어셈블리 200a: 고분자용액
100: 프레임 210a: 패턴부
110: 개구부 210b: 슬릿
200: 고분자필름 300: 점착층

Claims (10)

  1. 하나 이상의 개구부를 갖는 프레임; 및
    상기 프레임에 결합되며 복수개의 슬릿을 갖는 고분자필름; 을 구비하는, 마스크 프레임 어셈블리.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 프레임은 금속으로 이루어진, 마스크 프레임 어셈블리.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    상기 프레임과 상기 고분자필름 사이에 개재되어 상기 프레임과 상기 고분자필름을 점착시키는 점착층을 더 구비하는, 마스크 프레임 어셈블리.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 고분자필름은 폴리이미드, 폴리페닐렌설파이드, 폴리아릴 에티르 케톤, 리퀴드 크리스탈 폴리머 중 적어도 하나를 포함하는, 마스크 프레임 어셈블리.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 고분자필름은 패턴부를 포함하고, 상기 슬릿은 상기 패턴부에 형성되는, 마스크 프레임 어셈블리.
  6. 제 5항에 있어서,
    상기 개구부는 상기 패턴부에 대응하는 위치에 형성되는, 마스크 프레임 어셈블리.
  7. 글라스 상에 고분자용액을 코팅하는 단계;
    상기 고분자용액을 건조 및 경화하여 고분자필름을 형성하는 단계;
    상기 고분자필름에 프레임을 결합하는 단계;
    상기 글라스를 상기 고분자필름에서 탈착하는 단계; 및
    상기 고분자필름에 슬릿을 가공하는 단계;
    를 포함하는, 마스크 프레임 어셈블리의 제조방법.
  8. 제 7항에 있어서,
    상기 고분자필름에 프레임을 결합하는 단계는,
    상기 고분자필름에 점착층을 도포하는 단계와, 상기 점착층에 상기 프레임을 결합하는 단계를 포함하는, 마스크 프레임 어셈블리의 제조방법.
  9. 제 7항 또는 제 8항에 있어서,
    상기 고분자필름에 슬릿을 가공하는 단계는,
    상기 슬릿을 가공하는데 레이저 패터닝을 이용하는, 마스크 프레임 어셈블리의 제조방법.
  10. 제 7항 또는 제 8에 있어서,
    상기 고분자필름에 슬릿을 가공하는 단계는,
    상기 슬릿을 가공하는데 노광을 이용하는, 마스크 프레임 어셈블리의 제조방법.
KR1020140076631A 2014-06-23 2014-06-23 마스크 프레임 어셈블리 및 그 제조방법 KR20160000069A (ko)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140076631A KR20160000069A (ko) 2014-06-23 2014-06-23 마스크 프레임 어셈블리 및 그 제조방법
US14/637,222 US9982333B2 (en) 2014-06-23 2015-03-03 Mask frame assembly and method of manufacturing the same
US15/965,574 US20180245199A1 (en) 2014-06-23 2018-04-27 Mask frame assembly and method of manufacturing the same
KR1020210125016A KR102354388B1 (ko) 2014-06-23 2021-09-17 마스크 프레임 어셈블리 제조방법
KR1020220006803A KR102527233B1 (ko) 2014-06-23 2022-01-17 마스크 프레임 어셈블리
KR1020230054120A KR102572717B1 (ko) 2014-06-23 2023-04-25 마스크 프레임 어셈블리

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140076631A KR20160000069A (ko) 2014-06-23 2014-06-23 마스크 프레임 어셈블리 및 그 제조방법

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020210125016A Division KR102354388B1 (ko) 2014-06-23 2021-09-17 마스크 프레임 어셈블리 제조방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20160000069A true KR20160000069A (ko) 2016-01-04

Family

ID=54869120

Family Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140076631A KR20160000069A (ko) 2014-06-23 2014-06-23 마스크 프레임 어셈블리 및 그 제조방법
KR1020210125016A KR102354388B1 (ko) 2014-06-23 2021-09-17 마스크 프레임 어셈블리 제조방법
KR1020220006803A KR102527233B1 (ko) 2014-06-23 2022-01-17 마스크 프레임 어셈블리
KR1020230054120A KR102572717B1 (ko) 2014-06-23 2023-04-25 마스크 프레임 어셈블리

Family Applications After (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020210125016A KR102354388B1 (ko) 2014-06-23 2021-09-17 마스크 프레임 어셈블리 제조방법
KR1020220006803A KR102527233B1 (ko) 2014-06-23 2022-01-17 마스크 프레임 어셈블리
KR1020230054120A KR102572717B1 (ko) 2014-06-23 2023-04-25 마스크 프레임 어셈블리

Country Status (2)

Country Link
US (2) US9982333B2 (ko)
KR (4) KR20160000069A (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11584983B2 (en) 2020-03-06 2023-02-21 Samsung Display Co., Ltd. Method of manufacturing mask, mask manufactured by the same, and method of manufacturing display apparatus by using the same

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106019819A (zh) 2016-07-22 2016-10-12 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及其制作方法
CN113737128A (zh) * 2017-01-31 2021-12-03 堺显示器制品株式会社 蒸镀掩模、蒸镀掩模及有机半导体元件的制造方法
KR102191388B1 (ko) * 2018-06-12 2020-12-15 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 마스크프레임 및 마스크조립체
CN108761998A (zh) * 2018-06-20 2018-11-06 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版张网框架及掩膜版张网工艺
KR20210091382A (ko) * 2020-01-13 2021-07-22 삼성디스플레이 주식회사 마스크, 이의 제조 방법, 및 표시 패널 제조 방법
JP7120262B2 (ja) * 2020-02-06 2022-08-17 大日本印刷株式会社 蒸着マスク準備体の製造方法、フレーム付き蒸着マスク準備体の製造方法、及びフレーム付き蒸着マスク準備体
KR20220113588A (ko) * 2021-02-05 2022-08-16 삼성디스플레이 주식회사 마스크 및 이의 제조 방법

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100626282B1 (ko) 2001-09-28 2006-09-22 엘지전자 주식회사 유기전계발광소자의 마스크장치 및 이를 이용한 화소패터닝방법
JP4072422B2 (ja) * 2002-11-22 2008-04-09 三星エスディアイ株式会社 蒸着用マスク構造体とその製造方法、及びこれを用いた有機ｅｌ素子の製造方法
JP4173722B2 (ja) * 2002-11-29 2008-10-29 三星エスディアイ株式会社 蒸着マスク、これを利用した有機ｅｌ素子の製造方法及び有機ｅｌ素子
KR100534580B1 (ko) * 2003-03-27 2005-12-07 삼성에스디아이 주식회사 표시장치용 증착 마스크 및 그의 제조방법
KR100561705B1 (ko) 2004-06-18 2006-03-15 전자부품연구원 니켈 전주도금법을 이용한 금속마스크 제작방법 및 이를이용한 금속 마스크
JP2006152339A (ja) 2004-11-26 2006-06-15 Canon Inc 蒸着用マスク構造体の製造方法
KR100982021B1 (ko) 2008-07-22 2010-09-13 엘지디스플레이 주식회사 분할 마스크 조립체
KR20100026655A (ko) 2008-09-01 2010-03-10 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 증착용 마스크 및 이를 이용한 유기전계발광 소자의 제조방법
KR20120014732A (ko) 2010-08-10 2012-02-20 에프엔에스테크 주식회사 플렉시블 마스크를 이용한 ｏｌｅｄ 증착 방법
KR101759347B1 (ko) * 2010-12-14 2017-08-01 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 그 제조방법
KR101742816B1 (ko) 2010-12-20 2017-06-02 삼성디스플레이 주식회사 마스크 프레임 조립체, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법
KR101240955B1 (ko) 2010-12-27 2013-03-11 웅진케미칼 주식회사 고온에서의 열적 치수안정성이 우수한 폴리이미드 필름 및 그를 이용한 디스플레이 소자용 기판
KR20140007417A (ko) 2011-03-17 2014-01-17 카티바, 인크. 기판 상에 하나 이상의 유기 물질을 증착하기 위한 장치 및 방법
KR101837624B1 (ko) * 2011-05-06 2018-03-13 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 그 제조방법
CN103797149B (zh) * 2011-09-16 2017-05-24 株式会社V技术 蒸镀掩膜、蒸镀掩膜的制造方法及薄膜图案形成方法
KR101931770B1 (ko) 2011-11-30 2018-12-24 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체 및 유기 발광 표시장치
JP5895539B2 (ja) * 2012-01-12 2016-03-30 大日本印刷株式会社 蒸着マスク
TWI595104B (zh) * 2012-01-12 2017-08-11 大日本印刷股份有限公司 A method of manufacturing an imposition vapor deposition mask, and a method of manufacturing an organic semiconductor device
KR101361898B1 (ko) * 2012-01-17 2014-02-14 주식회사 야스 필름 밴드 마스크
TWI580712B (zh) 2012-06-08 2017-05-01 東麗 杜邦股份有限公司 聚亞醯胺膜
KR102002494B1 (ko) 2012-11-30 2019-07-23 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 어셈블리

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11584983B2 (en) 2020-03-06 2023-02-21 Samsung Display Co., Ltd. Method of manufacturing mask, mask manufactured by the same, and method of manufacturing display apparatus by using the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR20230064597A (ko) 2023-05-10
US20180245199A1 (en) 2018-08-30
KR102354388B1 (ko) 2022-01-24
KR102527233B1 (ko) 2023-05-02
KR20210120944A (ko) 2021-10-07
KR102572717B1 (ko) 2023-08-31
KR20220012970A (ko) 2022-02-04
US9982333B2 (en) 2018-05-29
US20150368785A1 (en) 2015-12-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102354388B1 (ko) 마스크 프레임 어셈블리 제조방법
JP6342405B2 (ja) 担体上の解放可能な基板
WO2017215063A1 (zh) 柔性oled的制作方法及柔性oled
US9530961B2 (en) Mask assembly for deposition, deposition apparatus, and method employing the same
JP2012510728A (ja) フレキシブル基板アセンブリを準備する方法およびその方法により準備されたフレキシブル基板アセンブリ
CN103258971A (zh) 显示元件的封装方法及其装置
JP2012163912A5 (ko)
JP2009058956A (ja) ペリクル付着装置及びそれを利用したペリクル付着方法
US20170278897A1 (en) Package substrate and manufacturing method thereof, and oled display device and manufacturing method thereof
KR20160046071A (ko) 마스크 어셈블리, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법
JP2016521247A (ja) ガラス構造体ならびにガラス構造体の製造および加工方法
JP2017531832A5 (ko)
TW201535182A (zh) 可撓性元件與製作其之方法
JP6473896B2 (ja) 圧電デバイスおよびそれの製造方法
JP6563796B2 (ja) 封止構造、有機ｅｌ表示装置、及びセンサ
CN104795433B (zh) 显示面板及其制作方法、显示装置
KR102334577B1 (ko) 소자 전사방법 및 이를 이용한 전자패널 제조방법
RU2645151C1 (ru) Способ изготовления микроэлектронного узла
US20150118412A1 (en) Device and method to form protective coating
JP2015205452A (ja) 機能性素子の製造方法および印刷装置
JP2015188803A5 (ko)
US20190157564A1 (en) Method for oled device fabrication using patterned film mask
JP6559588B2 (ja) 封止装置用弾性シートおよびその製造方法
JP2015122170A (ja) 封止シート、封止体および装置
WO2019208206A1 (ja) 有機半導体装置及び有機半導体装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
X091 Application refused [patent]
AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
X601 Decision of rejection after re-examination
A107 Divisional application of patent