CN1329934C - 键单元,在键帽上打标的方法,和用该打标方法制作键单元的方法 - Google Patents

Abstract

通过提取Nd:YAG激光器的二次谐波，获得波长为532nm的激光束，或通过提取Nd:YAG激光器的三次谐波，获得波长为355nm的激光束，用在移动电话等塑料键帽上形成的金属薄膜上，作为打标的激光束，可以完全除去受该光束照射的金属薄膜部分，或者只除去受该光束照射的金属薄膜的表面部分，从而形成平的非常小的凹点集合。据此，可以获得在其上直接打标形成字符或符号的有金属薄膜的键单元。

Description

键单元，在键帽上打标的方法，和用该打标方法制作键单元的方法

技术领域

本发明涉及：键单元，该键单元有键帽，键帽表面有金属薄膜，这种键单元用于移动装置，诸如便携式电话或便携式数字助手(PDA)；在键帽上打标的方法，以便在有金属薄膜的键帽上形成预定的图形，诸如字符或符号；和利用该打标方法制作键单元的方法。

背景技术

键单元是构成诸如便携式电话等移动装置的一种部件，在这种移动装置中，在一个薄板表面上集中和排列了大量的开关操作键(按钮)。一个键是由粘附在键垫表面的键帽构成的，键帽由硬树脂之类制成，键垫由软的材料如硅橡胶或热塑弹性体制成；键垫在它的背面有开关下压凸块(通称“下压单元”)。各键由键垫互连。有开关元件的电路板，布置在如上所述构成的键单元的下表面，以便在每一相应位置形成键开关。作为如上所述键单元的一种照明类型键单元的构造，每一键的字符、符号等由光源来的光照明。

因为键帽被布置在实际移动装置中最引人注目的位置，所以特别注意它的设计和装饰。通过电镀等方法，在整个键帽表面上，即在键帽面对键垫的底面和帽表面上形成金属薄膜，是受欢迎的，因为它既耐用又给人以高贵的感觉。

通常，在金属键的表面，形成表明键的功能的字符、符号等。作为在金属键表面形成字符、符号等的方法，可以考虑用激光打标处理。但是，在形成字符、符号等时，在金属键上直接用激光打标，是有困难的，该金属薄膜厚度在0.1到30μm，有高的反射率，是通过电镀等方法形成在塑料制的键帽上的，而激光打标是在照射部分完全除去金属薄膜，所以与用简单的激光打标或切割金属镀层等比较，是有难点的。

例如，如果试图使用波长1064nm的近红外光，如广泛使用的固体激光器Nd:YAG(掺钕离子的钇铝石榴石晶体)的基本波长，在其中有铬等镜镀层形成在塑料制的键表面的键帽上，直接形成字符、符号等，会产生在实际字符等形成之前，非照射点部分的温度上升的问题，因为下层塑料熔化等而不能进行充分的处理。可以认为，这是由于照射点的能量密度不够，由于近红外光的波长相对地长，光斑直径难以用透镜光学***调节。

因为在金属键上进行激光打标的这种困难，用于制作部分电镀的键，即字符、符号等作为没有镀层部分混合在有镀层的表面中的键，至今仍沿用复杂的处理过程(例如JP-A-2001-73154)。就是说，按照JP-A-2001-73154，执行的处理程序是“模制塑料键帽→表面粗糙/激活→无电极电镀铜→在铜上无电极电镀锡→在锡镀层上进行激光打标处理(暴露出铜电镀层)→在字符部分通过刻蚀除去铜电镀层→无电极电镀镍(字符部分除外)→在镍上电镀金”。

此外，有一种打标方法称为“Shibo处理”。这种方法是把大量非常小的凹点(凹点直径和深度在10到30μm)的平面集合，形成在金属键表面的金属薄膜上。为了用Shibo处理表示字符等的形状，照例一般使用电铸模。电铸模是通过把模制键帽的模拼合起来使用的，且键帽表面形成字符等非常小的凹点的平面集合部分，已被作成阴模。

下面是用电铸模处理的例子。首先，用合成树脂、铜合金之类制备未打标的键帽基体，通过适当的表面粗糙装置，在基体上形成需要的图形，如字符或符号。之后，把脱模剂附着在基体上，在基体是合成树脂的情形，还要用银镜处理使之导电，然后进行金属电镀，直到厚度达数毫米。这一电镀过程需要数十天的时间，且这一过程称为“电铸”。完成电铸后，把电镀形成的部分从基体剥下，能够获得一电铸模。然后，把能够电镀的树脂，如ABS(丙烯睛-丁二烯-苯乙烯共聚物)注入模中，模制键帽，其中要把电铸模拼合起来，以形成键帽。其次，通过电镀在键帽表面上形成金属薄膜，于是，在其上已经形成字符或符号的金属键，已经用Shibo处理获得。但是，电铸模的缺点是不能快速适应字符或符号等图形的变化。

因此，像用激光打标直接形成字符或符号等的情形，通过打标完全除去照射部分的金属薄膜，可以认为该部分的金属薄膜，就是说，只有该金属薄膜的表面层部分被激光打标除去，并形成大量非常小的凹点的平面集合，完成Shibo处理。实际上，通过激光在铁板或铝板上打标，是用Shibo处理形成字符等。但是，当金属薄膜厚度太薄，不可能用Shibo处理。此外，甚至在薄膜厚度相对地厚的情形，与对简单的金属板相比，仍有许多困难问题。

发明内容

本发明要解决的问题

本发明要解决的问题是提供一种打标方法，直接以简单的过程，通过激光照射，在金属薄膜上打标，形成预定的图形如字符或符号，该金属薄膜是在合成树脂制成的键帽上，键帽用于如便携式电话的移动装置中，该打标方法完全除去照射部分的金属薄膜，或只除去照射部分的金属薄膜的表面层部分，形成大量非常小的凹点的平面集合。

解决问题的手段

在解决上述问题中，作为激光，是使用波长1064nm并在照射部分的会聚直径为30μm或更小的YAG激光，通过提取YAG激光器的二次谐波获得波长532nm的激光，或波长180nm并在照射部分有分子级会聚直径的准分子激光。

在上述手段中，采用上述激光的主要理由如下。首先，在相同振幅的情形，激光能量随波长变短而增加。第二，如图8中曲线(引自Yu Kanoka“Laser Processing”，1995年5月/THE NIKKAN KOGYOSHIMBUN，LTM.)所示，虽然电镀表面的反射率在长波长端接近1，但在靠近500nm的边界的短波长端下降(吸收增加)。第三，也不同于从近红外到远红外，在从可见光到近紫外光，能够通过透镜会聚，容易获得10到30μm的光斑直径。第四，在准分子激光器的情形，能够获得分子级的光斑直径。

在激光打标时，光束光斑(焦点)在平面中被拖动，扫描出字符、符号等。相反，当金属薄膜完全除去时，光斑还沿金属薄膜的深度方向移动。此时，光斑直径被控制在最大约30μm。此外，对光束光斑沿深度方向的移动，该移动必须控制在金属薄膜的厚度范围内，以便使激光直接打在下面的塑料层上。这样的控制能够用激光照射设备精确地施行，在该激光照射设备中，形成光束光斑的光学***是用计算机严格控制的。

上述激光照射设备中使用的激光，从激光能量随波长变短而增加的观点看，最好短些。然而，能量密度也可以通过降低光斑直径进行改进。

另一方面，从电镀金属表面的光吸收，在靠近500nm的边界的短波长端增加的观点看，可见光或550nm或更短的近紫外光是足够的。

通过使用波长满足上述条件的激光，同时保持不是照射点部分的温度在许可的温度或更低，能够迅速除去金属薄膜，或能够迅速只除去照射部分金属薄膜的表面部分，形成大量非常小的凹点的平面集合，并通过打标，形成预定的图形如字符或符号。在这种情形中，激光的照射类型可以是连续型和脉冲型的任一种，只要提供必需的光功率。

接照权利要求1的本发明，由于图形如字符、或符号，是用激光通过Shibo处理，在键帽表面电镀的金属薄膜上打标形成的，所以能够获得富有装饰性且其中的图形不因使用等而剥离和消失的超耐用的键单元。

按照权利要求2的本发明，由于照射点上光能的吸收能够增加，且光束光斑直径能够在对键帽打标时调节，从而改进照射点上的能量吸收密度，和能够在金属电镀层上进行快速打标，同时保持不是照射点部分的温度在许可的温度或更低，从而能够获得没有热变形并富有装饰性的键单元。

按照权利要求3的本发明，由于照射点上光能的吸收能够增加，且光束光斑直径能够在对键帽进行字符、符号等激光打标时调节，从而改进照射点上的能量吸收密度，并在照射部分快速地只除去金属薄膜的表面部分，通过打标形成大量非常小的凹点的平面集合，同时保持不是照射点部分的温度在许可的温度或更低。

按照权利要求4的本发明，由于照射点上光能的吸收能够增加，且光束光斑直径能够在对键帽打标时调节，从而改进照射点上的能量吸收密度，和能够在金属电镀层上进行快速打标，同时保持不是照射点部分的温度在许可的温度或更低。

按照权利要求5的本发明，由于在目标尚未确定的状态中能够实施的所有步骤都被完成，并在键帽顶面上一旦相对于目标的字符/符号的部分被决定后，尽快用激光打标完成所有步骤，所以能够在确定目标后以最短的时间完成键单元，消除市场产量(market production)导致的浪费库存(wasteful stock)。

附图说明

图1是视图，一般表明本发明使用的激光照射设备的组成；

图2是概念图，用于解释YAG激光器的二次谐波的构成；

图3是平面图，画出本发明中的键单元(字符、符号等打标前)；

图4是平面图，画出本发明中的键单元(字符、符号等打标后)；

图5是垂直断面图，放大画出键单元第一例子的结构；

图6是垂直断面图，放大画出键单元第二例子的结构；

图7是方框图，表明在本发明的键单元制作方法中，制作过程的流程；和

图8是曲线，表明各种类型电镀表面对激光波长(横轴)的抵抗力(纵轴)的变化。

参考数字说明

1：激光振荡装置

2：数据输入装置

3：控制装置

4：激光振荡装置

5：光学***

5a、5b：反射镜

5c：透镜

10：键单元

10A：键单元

11：键垫

11a：下压凸块

12：键帽

12a：顶面

12b：侧面

12c：底面

13：图形，如字符或符号

14：主体

15：金属薄膜

16：激光

17：有色层

18：透明粘合剂

19：圆顶帽

20：基底

21：图形，如字符或符号

具体实施方式

本文后面将参考附图说明本发明的实施例。

首先说明激光照射设备。图1和2是概念性的图，用于解释本发明使用的激光照射设备1。激光照射设备1包括，数据输入装置2、控制装置3、激光振荡装置4、包含多个反射镜和一个透镜的光学***5，等等。

数据输入装置2施行有关图形如字符或符号的数据(立体数据(solid data))的输入，并存储输入数据。输入数据是以计算机准备的例如CAD数据的形式输入的。控制装置3通过上述数据输入装置2输入的数据，产生用于实际处理过程使用的数据，控制激光振荡装置4和光学***5的操作。

激光振荡装置4使波长532nm的光作为激光振荡，它是通过Nd:YAG激光器1064nm波长的基波的半波长转换获得的。该半波长转换是通过提取Nd:YAG激光器的二次谐波实现的。这样构成的激光称为“二次谐波YAG激光”。波长532nm的激光也叫“绿激光”，因为它呈绿色。图2是概念图，表明在二次谐波YAG激光器中，激光振荡装置4的构成例子(引自Haruhiro Kobayashi“Lecture of Laser”，1992年1月/THE NIKKAN KOGYO SHIMBUN，LTM.)。

另一方面，作为上述的激光，也可以使用提取Nd:YAG激光器的三次谐波获得波长为355nm的近紫外光。该提取三次谐波的Nd:YAG激光，称为“三次谐波YAG激光”。在该情形中，激光振荡装置4的构成，在原理上也基本与图2所示相同。

还有，作为上述的激光，固体激光器，如掺Nd(钕)离子的玻璃激光器，或YVO₄激光器的二次到四次谐波之一，也能够使用。

如在图1所示，光学***5包括：两个反射镜(电流计扫描器)5a和5b，在彼此不同的方向中旋转，用于控制激光的照射方向；一个透镜(F0透镜)5c，用于使激光会聚；等等。

有如上所述构造的激光照射设备1，通过基于输入信号的处理，控制光学***等的操作。通过控制激光光束光斑的三维位置，和激光照射的ON/OFF彼此关系的定时，在键单元12的顶面12a的金属薄膜15上，完全自动地进行字符、符号等的打标。

因此，通过激光照射设备1，每一键单元键帽的顶面，如稍后说明的那样，被激光照射。光束光斑(焦点)在平面中被拖动，扫描出字符、符号等。在完全除去金属薄膜的情形中，光束光斑也沿金属薄膜的深度方向移动。从而被照射部分的金属薄膜被完全除去，或只除去照射部分金属薄膜的表明层部分，并进行形成大量非常小的凹点的平面集合的处理(本文此后简称“Shibo处理”)，通过打标形成图形如字符或符号。

下面将说明键单元构造的第一例子10，在该例子中，图形如字符或符号是使用上述激光照射设备1打标形成的。

虽然通过举例说明，其中，在第一例子10中，任何键帽都有金属薄膜，并对该金属薄膜进行激光打标，以及将在下面说明的键单元的第二例子10A，但本发明不受这两个例子的限制。至少有一层或多层金属薄膜的键单元，并用激光对这些金属薄膜进行打标的，都可以使用。此外，为了对字符、符号等使打标方法一致，在键单元中，作为没有金属薄膜的键帽，最好用表面有一层通过印刷或涂敷的叠层的键帽，而字符、符号等则通过用激光打印或书写，对该层进行打标形成。

一般如图3和4所示，键单元10的构成包括：透明的软弹性体如硅橡胶或热塑弹性体制成的键垫11；和置于键垫11上的大量键帽12。图3画出如字符和符号的图形尚没有打标前的键单元10。图4画出如字符和符号的图形13(作为例子，画出了那些***字符)已经打标后的键单元10。关于键帽12，位于上部中央并有最大轮廓的键帽12A用作所谓的多方向键。

图6在垂直断面中，画出如字符和符号的图形13已经用激光照射设备1打标后的键单元10。

就是说，在键帽12中，0.1到30μm厚的金属薄膜15，已经用各种金属薄膜形成装置，如电镀、汽相淀积、溅射、和CVD(化学汽相淀积方法)，在适度透明的合成树脂制的顶面12a和侧面12b形成。

在除电镀之外的各种金属薄膜形成装置，如溅射的情形中，用于产生金属薄膜15的金属，只要这些金属薄膜形成装置能够适应，就不受特殊限制。简而言之，如果满足如便携式电话的移动装置要求的各种条件，诸如耐用性、化学抗蚀性，那么它应当与设计要求，诸如色调和质地保持平衡。

此外，如果限于用电镀形成金属薄膜15的话，则键帽12的主体14的材料，限制在能电镀的树脂(电镀级树脂)，如ABS树脂。但是，如果金属薄膜15是用除电镀之外的形成装置，如汽相淀积、溅射、和CVD的话，则各种透明的树脂，如PC(聚碳酸酯)树脂和PET(聚对苯二甲酸乙二酯)树脂，都可广泛使用。

通常是，在用汽相淀积、溅射、或CVD形成的金属薄膜15的厚度相对薄的情形中，为了增加耐用性、抗腐蚀性等等，要在金属薄膜15上加上没有画出的UV(紫外)硬化树脂涂层等外涂层。因为该外涂层在激光16照射时，在照射部分连同金属薄膜15一起被除去，所以该外涂层最好在激光16处理后，再涂在键帽12上。

键帽12的顶面12a上的金属薄膜15，通过上述激光照射设备1的激光16照射，完全除去照射部分的金属薄膜15，形成图形13，如字符或符号，于是，金属薄膜下的合成树脂制的主体14表面被暴露出来，当从上面观看键帽13时能够看到。此外，在没有金属薄膜15的键帽12底面12c，通过印刷方法或喷涂方法，诸如丝网印刷、浸染印刷、渗透印刷、或喷涂，形成适当彩色的有色层17。

上述有色层17可以在金属薄膜形成之前，立刻在金属薄膜15(主体14表面)下面键帽12的顶面上形成上述有色层17，而不是形成在键帽12的底面12c。当被照明的字符是无色时，不需要上述有色层17。金属薄膜15厚度，按照形成方法，从约1到30μm范围内变化。就是说，在用汽相淀积、溅射、或CVD等形成的情形，金属薄膜15的厚度比较薄。但是，在用电镀形成的情形，金属薄膜15有多层结构，0.2到1μm厚的无电极电镀d镍层在最下层，约7到15μm厚的铜电镀层在上面，4到8μm厚的镍电镀层又在上面，和0.1到2μm厚的铬、金等在最上层。上述下面第二层无电极电镀是无针孔的结构，以防漏光。当然，存在许多种电镀层结构，本发明不受上述结构的限制。

此外，在金属薄膜15是用汽相淀积(真空汽相淀积等)形成的情形，在适当树脂制成的键帽12主体14上形成的层，具有的多层结构如下。就是说，上述多层结构的构成，例如有：10到20μm厚的基本(打底)覆盖层作为最下层加在主体14上，1μm或更薄的金属薄膜15用汽相淀积形成在基本覆盖层上，然后是加在金属薄膜15上的10到20μm厚的透明外涂层。

在金属薄膜15是用溅射或CVD形成的情形，与上面类似，在适当树脂制成的键帽12主体14上形成的层，具有的多层结构如下。上述多层结构的构成，例如有：通过溅射或CVD，直接在构成主体14的树脂上形成1μm或更薄的金属薄膜15，然后是加在金属薄膜15上的10到20μm厚的透明外涂层。

如上所述，在用金属薄膜形成装置形成的金属薄膜比较薄的情形，例如汽相淀积、溅射、或CVD等，通过用UV硬化树脂涂层等外涂层加在金属薄膜15上，能够改进金属薄膜15的耐用性、抗腐蚀性等。此外，通过使用有色透明涂料作为外涂层，也能使该金属薄膜15着色成任意颜色。

各有上述结构的键帽12，用透明粘合剂18固定在键垫11的顶面。在键垫11的一个顶面上，与各个键帽12对应设置的各个用于压下圆顶开关19(只画出一个)的下压凸块(下压单元)11a(只画出一个)，是整体形成的。上述圆顶开关19位于基底20上，基底20有适当的包括未画出的固定触点的电路图。

图形13，如字符或符号的形成过程，对键单元10是如图6所示的情形，一般地说明如下。就是说，如图1所示，键单元10每一键帽12的顶面12a，用作为激光照射设备1来的激光16的上述绿激光照射。然后，如图5所示，在金属薄膜15表面上，把光束的光斑直径调节成10到30μm，并顺着要形成的图形13，如字符或符号的平面形状，扫描金属薄膜15。此时，以变化的位置在光束光斑深度方向，重复照射若干次，照射部分的金属薄膜15被完全除去，成为图形13如字符或符号的形状，使主体部分14暴露出来。

作为与上述激光不同的一种激光，也可以使用波长1064nm并在照射部分的会聚直径为30μm或更小的YAG激光，提取三次谐波获得的波长355nm的YAG激光，或波长180μm并在照射部分的会聚直径为分子级的准分子激光。

因此，在上述键单元10是用在便携式电话中的情形，在使用时，从没有画出的光源来的光，穿过透明的键垫11，通过有色层17，进入键帽12的底面，并从图形13如字符或符号出射，到达外部。因此，便携式电话的用户能够容易识别键帽12上的字符、符号等。当键帽12下压时，键垫11跟着键帽12的下压运动变形，圆顶开关19被下压凸块11a下压而变形，从而使基底20上未画出的固定触点之间导电。

另一方面，在键帽12的激光16照射部分上，可以不完全除去金属薄膜15，而只在照射部分除去金属薄膜的表面层部分，形成大量非常小的凹点的平面集合，就是说，实施所谓的Shibo处理。因为上述Shibo处理只除去金属薄膜15的表面层部分，在金属薄膜15是用薄膜厚度比较薄(厚度约1μm或更薄)的金属薄膜形成装置形成的情形，例如汽相淀积、溅射、或CVD的情形，Shibo处理不能与之相适应，因为厚度太薄。因此，作为在此情形下的金属薄膜，希望通过电镀等获得厚度比较厚(厚度为3到30μm)的金属层。

图6是垂直断面图，画出键单元的第二例子10A的一部分，在其上已经用激光打标进行了Shibo处理。在该第二例子中，结构上与上面第一例子键单元10相同的各部分，用与第一例子相同的参考数字标记，因此省略对它们的说明。

如图6所示，在键单元10A的情形下，图形21如字符或符号的形成过程，一般地说明如下。如图1所示，键单元10A每一键帽12的顶面12a，用作为激光照射设备1来的激光16的上述绿激光照射。然后，如图6所示，在金属薄膜15表面上，把光束的光斑直径调节成10到30μm，并顺着要形成的图形13，如字符或符号的平面形状，扫描金属薄膜15。此时，在光束光斑深度方向的固定位置照射，只除去金属薄膜15的表面层部分，形成凹坑，并通过在底面形成大量非常小的凹点的平面集合，构成图形21如字符或符号。在此情形下，当金属薄膜15已经用电镀等形成的情形下，因为金属薄膜15的厚度是10到30μm，每一构成图形21如字符或符号的非常小的凹点，最好最大是20μm或更小。

对上述图形20如字符或符号，有一种方法是，字符、符号等的外线，是用Shibo处理，没有变化。而一种方法是，在字符、符号等的外线之外，用Shibo处理形成凹坑，包围字符、符号等的外线。此外，如果图形21如字符或符号底面的金属薄膜15的厚度，经过减薄处理，达到有金属感又不损失透明度的程度，则从键帽12底面12c进入的光源的光，能够从图形21如字符或符号出射，所以字号、符号等属于照明类型。在这种情形中，与上述键单元10类似，如果在键帽12底面12c等设置有色层17，则字符、符号等也能够以任意彩色照明。

下面将说明本发明的键单元10或键单元10A的制作方法。

就是说，如图7所示，键垫11和键帽12是用适当的模制方法，如注模方法(步骤S1和步骤S2)分别形成的；再有，金属薄膜15是用各种金属薄膜形成装置，如电镀，汽相淀积、溅射、和CVD(在单元10A的情形，只用电镀形成)，形成在键帽12的顶面12a和侧面12b(步骤S3)；并且，如有必要，在键帽12的底面12c上，形成有色层17(步骤S4)。最后，用透明粘合剂18等，粘结键帽12(步骤S5)。在键单元10或10A中，有金属薄膜15的键帽12，与表面层有印刷或喷涂形成图形如字符和符号标记的键帽混合的情形，则那些没有金属薄膜15的键帽，不经上述步骤S3，并在步骤S4对表面进行印刷或喷涂。

当键单元10或10A的目标已被确定，和与使用的语言有关的字符、符号等已经决定时，用激光照射设备1对键单元10或10A的每一键帽打标(步骤S6)。对键帽12完成该打标步骤之后，键单元10或10A可以单独发货，或装入预定的移动装置中。

在上述键单元第一例子10和第二例子10A中，已经说明，任何有金属薄膜15的键帽12，和在这些键帽12上的所有字号、符号等，可以用激光对金属薄膜15进行打标形成。但是，本发明不限于这一点。如字符或符号的图形13或20，可以用上述打标方法，在至少一个键帽12上形成。

此外，因为上述如字符或符号的图形13或20的差别，仅在用激光照射时，沿键帽12上金属薄膜15的深度方向，光束光斑位置的控制方法上，两者能够在一个键单元上适当混合。还有，不是所有键帽12都要有金属薄膜15，有金属薄膜15的键帽12与没有金属薄膜15的键帽可以混合。在这种有不同结构的键帽混合的情形中，通过使用激光照射设备1的激光，所有图形如字符和符号的打标，能够统一成为一种。

Claims (5)

1、一种在移动装置中使用的键单元，在这种移动装置中，有大量键帽布置在薄板状的键垫上，键垫由硅橡胶或软热塑弹性体制成，该键单元的特征在于，至少一个键帽的结构是，在透明硬树脂制成的主体上，除底面外的帽表面和/或侧面覆盖由电镀形成的金属薄膜，并通过激光照射键帽，形成字符和/或符号的图形，然后在照射部分只除去金属薄膜的表面部分，以构成大量小的凹点的平面集合。

2、按照权利要求1的键单元，其特征在于，作为激光，是使用如下激光之一：通过提取掺钕离子的钇铝石榴石激光器的二次谐波获得波长532nm的激光、通过提取掺钕离子的钇铝石榴石激光器的三次谐波获得波长355nm的激光、波长1064nm并在照射部分的会聚直径为30μm或更小的钇铝石榴石激光、和波长180nm并有分子级会聚直径的准分子激光。

3、一种在键帽上打标的方法，包括：用激光照射键单元键帽表面电镀形成的金属薄膜，以在照射部分只除去金属薄膜的表面部分，并形成大量小的凹点的平面集合，从而形成字符和/或符号的图形，该键单元用在移动装置中，其中有大量键帽布置在薄板状的键垫上，键垫由硅橡胶或软热塑弹性体制成，该方法的特征在于，激光的波长为1100nm或更短。

4、按照权利要求3的在键帽上打标的方法，其特征在于，作为激光，是使用如下激光之一：通过提取掺钕离子的钇铝石榴石激光器的二次谐波获得波长532nm的激光、通过提取掺钕离子的钇铝石榴石激光器的三次谐波获得波长355nm的激光、波长1064nm并在照射部分的会聚直径为10到30μm的钇铝石榴石激光、和波长180nm并有分子级会聚直径的准分子激光。

5、一种制作键单元的方法，其特征在于：未打标的键帽包括与键单元结合的有金属薄膜的键帽；在除对键帽进行打标步骤外的所有其他步骤均已完成的状态下，临时停止制作；保持该停止制作状态，直到确定了该产品所必需的字符或符号的内容为止；以及然后，按照权利要求3的打标方法，进行字符或符号的打标，完成该键单元的制作。

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