CN113088879B - 精细金属掩模版及掩模装置 - Google Patents

Abstract

本申请实施例提供了一种精细金属掩模板及掩模装置。在本申请实施例提供的精细金属掩模板中，包括图案区域和位于图案区域***的辅助区，图案区域包括在平行于精细金属掩模版的第一方向上交替排列的第一子图案区域和第二子图案区域，由于第一子图案区域的两侧均设置有第一凹形区，第一凹形区将图案区域的至少部分分隔形成若干相互分离的子部分，通过第一凹形区释放精细金属掩模板的应力，能够有效降低精细金属掩模板中积聚的应力，从而能够降低精细金属掩模版中出现的褶皱的幅值程度，进而能够保障精细金属掩模版的平坦度。

Description

精细金属掩模版及掩模装置

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体而言，本申请涉及一种精细金属掩模版及掩模装置。

背景技术

目前，在OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示面板的蒸镀制备工艺过程中，通常会使用FMM(Fine Metal Mask，精细金属掩模版)，加热蒸发的有机发光材料穿过高精度金属掩模版的开口，并沉积到背板的相应位置处，从而获得所需分辨率的显示面板。因此，精细金属掩模版会影响显示面板的分辨率。

现有精细金属掩模版在使用时首先需要张网，由于制作工艺的影响，现有制作完成的精细金属掩模版往往会出现褶皱现象，张网过程中往往会进一步加剧精细金属掩模版的褶皱现象，导致褶皱的幅值过大，导致精细金属掩模版的平坦度降低，从而对后续有机发光材料的蒸镀制备工艺产生影响，导致显示面板的生产良率降低。

发明内容

本申请针对现有方式的缺点，提出一种精细金属掩模版及掩模装置，用以解决现有技术中存在精细金属掩模版中褶皱的幅值过大的技术问题。

第一个方面，本申请实施例提供了一种精细金属掩模版，包括：图案区域和位于图案区域***的辅助区；

图案区域包括至少两个第一子图案区域和至少两个第二子图案区域，第一子图案区域和第二子图案区域在平行于精细金属掩模版的第一方向上交替排列；在平行于精细金属掩模版的第二方向上，第一子图案区域的两侧均设置有第一凹形区，第二方向垂直于第一方向；精细金属掩模版沿第一方向的尺寸大于沿第二方向的尺寸。

第二个方面，本申请实施例提供了一种掩模装置，包括：精细金属掩模版框架、精细金属掩模版支撑架和至少一个如上述第一个方面所提供的精细金属掩模版；

精细金属掩模版支撑架设置有镂空区域，镂空区域与精细金属掩模版中第二子图案区域的第一图形区相匹配。

本申请实施例提供的技术方案带来的有益技术效果包括：

在本申请实施例提供的精细金属掩模板中，包括图案区域和位于图案区域***的辅助区，图案区域包括在平行于精细金属掩模版的第一方向上交替排列的第一子图案区域和第二子图案区域，由于第一子图案区域的两侧均设置有第一凹形区，第一凹形区将图案区域的至少部分分隔形成若干相互分离的子部分，通过第一凹形区释放精细金属掩模板的应力，能够有效降低精细金属掩模板中积聚的应力，从而能够降低精细金属掩模版中出现的褶皱的幅值程度，进而能够保障精细金属掩模版的平坦度。

本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。

附图说明

本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1为本申请实施例提供的一种精细金属掩模版的结构示意图；

图2为本申请实施例提供的图1中所示精细金属掩模版的A处放大示意图；

图3为本申请实施例提供的另一种精细金属掩模版的结构示意图；

图4为本申请实施例提供的又一种精细金属掩模版的结构示意图；

图5为本申请实施例提供的图4中所示精细金属掩模版的B处放大示意图；

图6为本申请实施例提供的图4中所示精细金属掩模版的C处放大示意图；

图7为本申请实施例提供的一种掩模装置的结构示意图。

附图标记说明：

100-精细金属掩模版；

11-图案区域；111-第一子图案区域；1111-第一凹形区；112-第二子图案区域；1121-第二凹形区；1122-第一图形区；

12-辅助区；121-缓冲区域；1211-切割线；122-夹爪区域；1221-对位孔；123-实心子区；

200-精细金属掩模版框架；

300-精细金属掩模版支撑架；301-镂空区域。

具体实施方式

下面详细描述本申请，本申请的实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的部件或具有相同或类似功能的部件。此外，如果已知技术的详细描述对于示出的本申请的特征是不必要的，则将其省略。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能解释为对本申请的限制。

本技术领域技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)，具有与本申请所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语，应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样被特定定义，否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。

本技术领域技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本申请的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。应该理解，这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的全部或任一单元和全部组合。

首先对本申请涉及的几个名词进行介绍和解释：

本申请的发明人进行研究发现，目前OLED显示面板的制备过程中，OLED显示面板中像素区的发光材料通常是采用FMM进行蒸镀形成的。FMM上的图案区域的精度直接影响着蒸镀混色良率，而FMM的褶皱则是影响FMM Pattern精度主要工艺因素。

现有FMM的图案区域主要通过刻蚀形成，因刻蚀工艺的影响，FMM上图案区域的刻蚀会使FMM存在面内应力，而FMM存在面内应力时极易发生失稳而形成“M”型褶皱，张网过程中往往会进一步加剧FMM中褶皱的幅值。从而导致精细金属掩模版的平坦度降低，对后续有机发光材料的蒸镀制备工艺产生影响，导致显示面板出现混色问题，导致显示面板的生产良率降低。

本申请提供的精细金属掩模版及掩模装置，旨在解决现有技术的如上技术问题。

下面以具体地实施例对本申请的技术方案以及本申请的技术方案如何解决上述技术问题进行详细说明。

本申请实施例提供了一种精细金属掩模版100，该精细金属掩模版100的结构示意图如图1所示，图1中A处的放大示意图如图2所示。精细金属掩模版100包括：图案区域11和位于图案区域11***的辅助区12；

图案区域11包括至少两个第一子图案区域111和至少两个第二子图案区域112，第一子图案区域111和第二子图案区域112在平行于精细金属掩模版100的第一方向上交替排列；在平行于精细金属掩模版100的第二方向上，第一子图案区域111的两侧均设置有第一凹形区1111，第二方向垂直于第一方向；精细金属掩模版100沿第一方向的尺寸大于沿第二方向的尺寸。

在本申请实施例提供的精细金属掩模板100中，包括图案区域11和位于图案区域11***的辅助区12，图案区域11包括在平行于精细金属掩模版100的第一方向上交替排列的第一子图案区域111和第二子图案区域112，由于第一子图案区域111的两侧均设置有第一凹形区1111，第一凹形区1111将图案区域11的至少部分分隔形成若干相互分离的子部分，通过第一凹形区1111释放精细金属掩模板100的应力，能够有效降低精细金属掩模板100中积聚的应力，从而能够降低精细金属掩模版100中出现的褶皱的幅值程度，进而能够保障精细金属掩模版100的平坦度。

本申请实施例中，在平行于精细金属掩模版100的第一方向上交替排列的第一子图案区域111和第二子图案区域112，且在平行于精细金属掩模版100的第二方向上，第一子图案区域111的两侧均设置有第一凹形区1111。在精细金属掩模版100的第一方向上，第一凹形区1111将图案区域11的至少部分分隔形成若干相互分离的子部分，使得精细金属掩模板100中积聚的应力可以通过第一凹形区1111释放，从而能够有效降低精细金属掩模板100中积聚的应力，进而能够降低精细金属掩模版100中出现的褶皱的幅值程度，进而能够保障精细金属掩模版100的平坦度。

同时，能够保障精细金属掩模版100的平坦度满足后续有机发光材料的蒸镀制备工艺的要求，从而能够降低显示面板出现混色问题的几率，能够提升显示面板的生产良率。

本申请实施例中，精细金属掩模版100沿第一方向的尺寸大于沿第二方向的尺寸，即如图3所示，第一方向为精细金属掩模版100的长度方向，第二方向为精细金属掩模版100的宽度方向。

本技术领域人员理解的是，由于现有技术中的精细金属掩模板为对称结构，因此，本申请实施例中提供的精细金属掩模板100也为对称结构，即第一凹形区1111的设置数量的排布方式应满足相关要求，使得精细金属掩模板100为对称结构。

本申请实施例中，如图1所示，在平行于精细金属掩模版100的第二方向上，辅助区12包括位于图案区域11两侧的实心子区123，实心子区123中包括与第一凹形区1111对应的凸部。

应该说明的是，本申请实施例中为了便于说明和区分细金属掩模版100中各个结构的位置关系，因此采用虚线来表示区分，实际精细金属掩模板100的产品中并不存在相关虚线，实际精细金属掩模板100为一体成型结构。

在本申请的一个实施例中，在图案区域11的中央指向两端的方向上，第一凹形区1111的最大宽度逐渐减小。

本申请实施例中，如图3所示的精细金属掩模版100，在图案区域11的中央指向两端的方向上，第一凹形区1111的最大宽度逐渐变大。可选地，本申请实施例中，即在远离图案区域11的中心线D的方向上，第一凹形区1111的最大宽度逐渐减小。

应该说明的是，本申请的发明人进行研究发现，FFM中中部的褶皱程度往往大于两端的褶皱程度，即中部褶皱的幅值大于两端褶皱的幅值。

本申请实施例中，通过设置在远离图案区域11的中心线D的方向上，第一凹形区1111的最大宽度逐渐减小，从而使得位于中心线D附近的第一凹形区1111的最大宽度大于位于两端的第一凹形区1111的最大宽度，能够使得精细金属掩模版100中部的应力及时得以释放，能够避免精细金属掩模版100中两端与中部的应力释放不平衡导致的褶皱问题，从而能够进一步降低精细金属掩模版100中出现的褶皱的幅值程度，能够进一步保障精细金属掩模版100的平坦度，能够进一步降低显示面板出现混色问题的几率，能够进一步提升显示面板的生产良率。

在本申请的一个实施例中，在第一方向上，第一凹形区1111的最大宽度W1，与第一子图案区域111宽度g的平方和第一差值的平方之和的开方成正相关；第一差值为第一距离d1和第二距离d2的差值，第一距离d1为第二子图案区域112的边界线和辅助区12的边界线在第一方向上的距离，第二距离d2为第二子图案区域的边界线112和第二子图案区域112中第一图形区1122的边界线在第一方向上的距离。

应该说明的是，同一个精细金属掩模版100中，所有第一凹形区1111的最大宽度W1相同，这样可以便于精细金属掩模版100的制作，有助于降低精细金属掩模版100的生产成本。可选地，结合图2具体说明同一个精细金属掩模版100中，所有第一凹形区1111的最大宽度W1均相同的情况下，第一凹形区1111的最大宽度W1的计算方式，本申请实施例中，第一凹形区1111的最大宽度W1的表达式为：

表达式(1)中，δ1为第一参数，δ1的取值与精细金属掩模版100的制作工艺、精细金属掩模版100的张网工艺以及采用精细金属掩模版100蒸镀的蒸镀工艺相关。

在本申请的一个实施例中，在第二方向上，第一凹形区1111的边界线与辅助区12的边界线的最大长度K1，与第二距离d2和第一凹形区1111的最大宽度W1成正相关。

可选地，结合图2具体说明第一凹形区1111的边界线与辅助区12的边界线的最大长度K1，本申请实施例中，第一凹形区1111的边界线与辅助区12的边界线的最大长度K1的表达式为：

K1＝d1+δ2*(d2+W1) 表达式(2)

表达式(2)中，δ2为第二参数，δ2的取值与精细金属掩模版100的制作工艺、精细金属掩模版100的张网工艺以及采用精细金属掩模版100蒸镀的蒸镀工艺相关。

应该说明的是，同一个精细金属掩模版100中，所有第一凹形区1111的边界线与辅助区12的边界线的最大长度K1相同，这样可以便于精细金属掩模版100的制作，有助于降低精细金属掩模版100的生产成本。当然，也可以使得在远离图案区域11的中心线D的方向上，第一凹形区1111的边界线与辅助区12的边界线的最大长度K1逐渐减小，从而可以进一步提高精细金属掩模版100的平坦度，满足不同显示面板的精度要求。

在本申请的一个实施例中，如图3所示也可以使得在远离图案区域11的中心线D的方向上，第一凹形区1111的最大宽度W1逐渐减小，从而可以进一步提高精细金属掩模版100的平坦度，满足不同显示面板的精度要求。可选地，结合图2和图3具体说明同一个精细金属掩模版100中，第一凹形区1111的最大宽度W1不相同的情况下，每个第一凹形区1111的最大宽度Wi的计算方式，本申请实施例中，每个第一凹形区1111的最大宽度Wi的表达式为：

表达式(3)中，δ3为第三参数，δ3的取值与精细金属掩模版100的制作工艺、精细金属掩模版100的张网工艺以及采用精细金属掩模版100蒸镀的蒸镀工艺相关；s为图案区域11在第一方向上的尺寸；i为自图案区域11的两端指向中央的方向上，图案区域11中每个第一凹形区1111的排列序号，例如，图3中所示的图案区域11中，在图案区域11的一侧设置有七个第一凹形区1111，位于图案区域11最外端的两个第一凹形区1111的序列号均为1，位于图案区域11中心线D处的第一凹形区1111的序列号4。

本申请实施例中，根据表示式(3)可知，在图案区域11中央指向两端的方向上，由于位于图案区域11中心线D处的第一凹形区1111的序列号，大于位于图案区域11两端的第一凹形区1111的序列号，因此，位于中心线D附近的第一凹形区1111的最大宽度大于位于两端的第一凹形区1111的最大宽度，从而能够使得精细金属掩模版100中部的应力及时得以释放，能够避免精细金属掩模版100中两端与中部的应力释放不平衡导致的褶皱问题，进而能够进一步降低精细金属掩模版100中出现的褶皱的幅值程度，能够进一步保障精细金属掩模版100的平坦度。

相应的，本申请实施例中，每个第一凹形区1111的边界线与辅助区12的边界线的最大长度Ki的表达式为：

Ki＝d1+δ2*(d2+Wi) 表达式(4)

本申请实施例中，每个第一凹形区1111的边界线与辅助区12的边界线的最大长度Ki均随第一凹形区1111的最大宽度Wi而变化，从而使得精细金属掩模版100中的每个第一凹形区1111都与第一凹形区1111所处的位置相匹配，从而能够使得精细金属掩模版100中各处应力及时得以释放，能够避免精细金属掩模版100中各处的应力释放不平衡导致的褶皱问题，进而能够进一步降低精细金属掩模版100中出现的褶皱的幅值程度，能够进一步保障精细金属掩模版100的平坦度。

应该说明的是，δ1、δ2和δ3均为常数，δ1、δ2和δ3的取值范围均与精细金属掩模版100的制作工艺、精细金属掩模版100的张网工艺以及采用精细金属掩模版100蒸镀的蒸镀工艺相关。当精细金属掩模版100的制作工艺、精细金属掩模版100的张网工艺以及采用精细金属掩模版100蒸镀的蒸镀工艺确定时，δ1、δ2和δ3的取值也将确定。本申请实施例中，δ1、δ2和δ3的取值范围均大于0，且小于1。

在本申请的一个实施例中，在第二方向上，第二子图案区域112的两侧均设置有第二凹形区1121。

本申请实施例中，如图1-图3所示，在第二方向上，第二子图案区域112的两侧均设置有第二凹形区1121。

本申请实施例中，在平行于精细金属掩模版100的第一方向上交替排列的第一子图案区域111和第二子图案区域112，且在平行于精细金属掩模版100的第二方向上，第一子图案区域111的两侧均设置有第一凹形区1111，第二子图案区域112的两侧均设置有第二凹形区1121。在精细金属掩模版100的第一方向上，第一凹形区1111和第二凹形区1121将图案区域11的至少部分分隔形成若干相互分离的子部分，通过设置第二凹形区1121，可以进一步缩短各个子部分之间的间隔距离，使得精细金属掩模板100中积聚的应力可以通过第一凹形区1111和第二凹形区1121释放，从而能够进一步有效降低精细金属掩模板100中积聚的应力，进而能够进一步降低精细金属掩模版100中出现的褶皱的幅值程度，能够进一步保障精细金属掩模版100的平坦度。

本申请实施例中，如图1所示，实心子区123中包括与第二凹形区1121对应的凸部。

在本申请的一个实施例中，第二子图案区域112的第一图形区1122位于两个第二凹形区1121之间。

本申请实施例中，第二子图案区域112包括第二凹形区1121和第一图形区1122，第二子图案区域112的两侧设置有第二凹形区1121，第一图形区1122位于两个第二凹形区1121之间。

本申请实施例中，如图2所示，用虚线框表示第一图形区1122，实际细金属掩模版100产品中不存在虚线框。应该说明的是，本申请实施例中，第二子图案区域112的第一图形区1122与待加工显示面板的有效显示区(即AA区)相对应。因此，根据不同的显示面板形式，可以设置不同形状的第一图形区1122。

本申请实施例中，由于第一图形区1122位于两个第二凹形区1121之间，第一图形区1122中积聚的应力能够及时通过第二凹形区1121释放，能够提高精细金属掩模版100中应力释放的速度，从而有助于提高精细金属掩模版100的张网工序的完成速度，从而有助于提高显示面板的蒸镀制造速度，提高显示面板的生产速率。

在本申请的一个实施例中，在第一方向上，第二凹形区1121的最大宽度E，与第二子图案区域112宽度L的平方和第一差值的平方之差的开方成正相关；第一差值为第一距离d1和第二距离d2的差值，第一距离d1为第二子图案区域112的边界线和辅助区1210的边界线在第一方向上的距离，第二距离d2为第二子图案区域112的边界线和第二子图案区域112中第一图形区1122的边界线在第一方向上的距离。

可选地，结合图2具体说明同一个精细金属掩模版100中，第二凹形区1121的最大宽度E的计算方式，本申请实施例中，第二凹形区1121的最大宽度E的表达式：

表达式(5)中，δ4为第四参数，δ4的取值与精细金属掩模版100的制作工艺、精细金属掩模版100的张网工艺以及采用精细金属掩模版100蒸镀的蒸镀工艺相关。

在本申请的一个实施例中，在第二方向上，第二凹形区1121的边界线与辅助区12的边界线的最大长度F，与第二距离d2成正相关。

可选地，结合图2具体说明第二凹形区1121的边界线与辅助区12的边界线的最大长度F，本申请实施例中，第二凹形区1121的边界线与辅助区12的边界线的最大长度F的表达式为：

F＝d1+δ5*d2 表达式(6)

表达式(6)中，δ5为第五参数，δ5的取值与精细金属掩模版100的制作工艺、精细金属掩模版100的张网工艺以及采用精细金属掩模版100蒸镀的蒸镀工艺相关。

应该说明的是，同一个精细金属掩模版100中，所有第二凹形区1121的最大宽度E相同，所有第二凹形区1121的边界线与辅助区12的边界线的最大长度F相同，这样可以便于精细金属掩模版100的制作，有助于降低精细金属掩模版100的生产成本。当然，也可以使得在远离辅助区12的中心线D的方向上，第二凹形区1121最大宽度E逐渐减小，从而可以进一步提高精细金属掩模版100的平坦度，满足不同显示面板的精度要求。

应该说明的是，δ4和δ5均为常数，δ4和δ5的取值范围均与精细金属掩模版100的制作工艺、精细金属掩模版100的张网工艺以及采用精细金属掩模版100蒸镀的蒸镀工艺相关。当精细金属掩模版100的制作工艺、精细金属掩模版100的张网工艺以及采用精细金属掩模版100蒸镀的蒸镀工艺确定时，δ4和δ5取值也将确定。本申请实施例中，δ4和δ5的取值范围均大于0，且小于1。

在本申请的一个实施例中，在垂直于精细金属掩模版100的方向上，第一凹形区1111和/或第二凹形区1121的边界线的形状，包括直线段和曲线段中一种或组合。

本申请实施例中，如图1-3所示，第一凹形区1111和第二凹形区1121的边界线的形状均只包括直线段。

可选地，如图4所示为本申请实施例提供的又一种精细金属掩模版的结构示意图；图5为图4中所示精细金属掩模版的B处放大示意图。本申请实施例中，精细金属掩模版100中未设置有第二凹形区1121，第一子图案区域111的两侧均设置有第一凹形区1111，且第一凹形区1111的边界线的形状为圆弧形。

本申请实施例中，第一凹形区1111的最大宽度W1的计算方式参见表达式(1)，第一凹形区1111的边界线与辅助区12的边界线的最大长度K1的计算方式参见表达式(2)。应该说明的是，如图4-图5所示，第一凹形区1111的最大宽度W1为圆弧形线段两端之间的距离。

本技术领域技术人员理解的是，第一凹形区1111和第二凹形区1121的边界线的形状，还可以包括直线段和曲线段的组合形式。

应该说明的是图1-图5所示的精细金属掩模版100，图形区域11整体为镂空结构，本申请实施例中，图1-图5中图形区域11中的方形框对应的区域为镂空图案，镂空图案与待加工显示面板中的子像素开口的位置相对应。

在本申请的一个实施例中，辅助区12包括缓冲区域121和夹爪区域122；图案区域11的两端均设置有缓冲区域121，缓冲区域121远离图案区域12的一端设置有夹爪区域122，缓冲区域121或夹爪区域122中设置有对位孔1221。

本申请实施例中，如图1、图3和图4所示，图案区域11的两端均设置有缓冲区域121，缓冲区域121远离图案区域12的一端设置有夹爪区域122，在移动或安装精细金属掩模版100的过程中，夹爪区域122便于技术人员的握持或相关设备的固定。缓冲区域121的用于隔离夹爪区域122与图案区域11，张网过程中，能够减小施加于夹爪区域122的张力对图案区域11的影响，从而可以有效降低精细金属掩模版100中出现的褶皱的幅值程度，进而能够保障精细金属掩模版100的平坦度。

本申请实施例中，缓冲区域121中设置有至少一组镂空图案，可选地，如图1、图3和图4所示，缓冲区域121中设置有三组镂空图案。通过在缓冲区域121设置镂空图案，张网过程中，缓冲区域121的镂空图案能够及时释放因施加于夹爪区域122的张力而产生的应力，能够进一步减小施加于夹爪区域122的张力对图案区域11的影响，从而可以有效降低精细金属掩模版100中出现的褶皱的幅值程度，进而能够保障精细金属掩模版100的平坦度。

本申请实施例中，缓冲区域121或夹爪区域122中设置有对位孔1221，可选地，如图1、图3和图4所示，夹爪区域122中设置有对位孔1221，在安装精细金属掩模版100的过程中，对位孔1221用于装精细金属掩模版100的定位。

可选地，如图6所示，缓冲区域121中设置有三组镂空图案，且相邻两组镂空图案中设置有一条切割线1211，当精细金属掩模版100张网完成，沿着切割线1211将夹爪区域122和部分缓冲区域121切割掉，从而完成精细金属掩模版100的安装。本技术领域技术人员可以根据实际需求，设置镂空图案的组数以及切割线1211的位置。

基于同一发明构思，本申请实施例提供了一种掩模装置，包括：精细金属掩模版框架200、精细金属掩模版支撑架300和至少一个如上述各个实施例所述的精细金属掩模版100；精细金属掩模版支撑架300设置有镂空区域301，镂空区域301与精细金属掩模版100中第二子图案区域112的第一图形区1122相匹配。

本申请实施例中，如图7所示，精细金属掩模版支撑架300与精细金属掩模版框架200固定连接，精细金属掩模版100固定连接于精细金属掩模版支撑架300上，且精细金属掩模版100中第二子图案区域112的第一图形区1122与精细金属掩模版支撑架的镂空区域301相对应。

本申请实施例提供的掩模装置，与前面的各实施例具有相同的发明构思及相同的有益效果，该掩模装置中精细金属掩模版100未详细示出的内容可参照前面的各实施例，在此不再赘述。

应用本申请实施例，至少能够实现如下有益效果：

在本申请实施例提供的精细金属掩模板100中，包括图案区域11和位于图案区域11***的辅助区12，图案区域11包括在平行于精细金属掩模板100的第一方向上交替排列的第一子图案区域111和第二子图案区域112，由于第一子图案区域111的两侧均设置有第一凹形区1111，第一凹形区1111将图案区域11的至少部分分隔形成若干相互分离的子部分，通过第一凹形区1111释放精细金属掩模板100的应力，能够有效降低精细金属掩模板100中积聚的应力，从而能够降低精细金属掩模版100中出现的褶皱的幅值程度，进而能够保障精细金属掩模版100的平坦度。

同时，能够保障精细金属掩模版100的平坦度满足后续有机发光材料的蒸镀制备工艺的要求，从而能够降低显示面板出现混色问题的几率，能够提升显示面板的生产良率。

本技术领域技术人员可以理解，本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案可以被交替、更改、组合或删除。进一步地，具有本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的其他步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。进一步地，现有技术中的具有与本申请中公开的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本说明书的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上所述仅是本申请的部分实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。

Claims (10)

1.一种精细金属掩模版，其特征在于，包括：图案区域和位于所述图案区域***的辅助区；

所述图案区域包括至少两个第一子图案区域和至少两个第二子图案区域，所述第一子图案区域和所述第二子图案区域在平行于所述精细金属掩模版的第一方向上交替排列；在平行于所述精细金属掩模版的第二方向上，所述第一子图案区域的两侧均设置有第一凹形区，所述第二方向垂直于所述第一方向；所述精细金属掩模版沿所述第一方向的尺寸大于沿所述第二方向的尺寸；

在所述第一方向上，所述第一凹形区的最大宽度，与所述第一子图案区域宽度的平方和第一差值的平方之和的开方成正相关；所述第一差值为第一距离和第二距离的差值，所述第一距离为所述第二子图案区域的边界线和所述辅助区的边界线在所述第二方向上的距离，所述第二距离为所述第二子图案区域的边界线和所述第二子图案区域中第一图形区的边界线在所述第二方向上的距离。

2.根据权利要求1所述的精细金属掩模版，其特征在于，在所述图案区域的中央指向两端的方向上，所述第一凹形区的最大宽度逐渐减小。

3.根据权利要求1所述的精细金属掩模版，其特征在于，在所述第二方向上，所述第一凹形区的边界线与所述辅助区的边界线的最大长度，与所述第二距离和所述第一凹形区的最大宽度成正相关。

4.根据权利要求1所述的精细金属掩模版，其特征在于，在所述第二方向上，所述第二子图案区域的两侧均设置有第二凹形区。

5.根据权利要求4所述的精细金属掩模版，其特征在于，所述第二子图案区域的第一图形区位于两个所述第二凹形区之间。

6.根据权利要求4所述的精细金属掩模版，其特征在于，在所述第一方向上，所述第二凹形区的最大宽度，与所述第二子图案区域宽度的平方和所述第一差值的平方之差的开方成正相关。

7.根据权利要求6所述的精细金属掩模版，其特征在于，在所述第二方向上，所述第二凹形区的边界线与所述辅助区的边界线的最大长度，与所述第二距离成正相关。

8.根据权利要求4所述的精细金属掩模版，其特征在于，在垂直于所述精细金属掩模版的方向上，所述第一凹形区和/或所述第二凹形区的边界线的形状，包括直线段和曲线段中一种或组合。

9.根据权利要求1所述的精细金属掩模版，其特征在于，所述辅助区包括缓冲区域和夹爪区域；

所述图案区域的两端均设置有所述缓冲区域，所述缓冲区域远离所述图案区域的一端设置有所述夹爪区域，所述缓冲区域或所述夹爪区域中设置有对位孔。

10.一种掩模装置，其特征在于，包括：精细金属掩模版框架、精细金属掩模版支撑架和至少一个如上述权利要求1-9中任一项所述的精细金属掩模版；

所述精细金属掩模版支撑架设置有镂空区域，所述镂空区域与所述精细金属掩模版中第二子图案区域的第一图形区相匹配。

Images