CN112951096B - 显示面板及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种显示面板及其制备方法。所述显示面板，包括显示区域、走线区域、搭接区域、开槽区域与弯折区域；显示区域、走线区域、搭接区域、开槽区域与弯折区域依次排列；走线区域与搭接区域在显示区域的正投影位于开槽区域在显示区域的正投影内；显示面板还包括第一无机层、平坦化层与第二无机层；第一无机层位于走线区域、搭接区域与开槽区域；平坦化层位于第一无机层上，且位于走线区域、搭接区域与开槽区域，平坦化层包括凹槽，凹槽位于开槽区域；第二无机层位于平坦化层远离第一无机层的一侧，第二无机层位于走线区域、搭接区域与至少部分开槽区域中，在凹槽中第二无机层与第一无机层接触。根据本发明的实施例，可以提高显示面板的良率。

Description

显示面板及其制备方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法。

背景技术

相关技术中，随着显示技术的发展，市场对于高屏占比的显示面板的需求越来越迫切，同时，显示面板还朝着轻薄化方向发展，例如，Touch On Cell(外嵌式触控显示面板)可以使显示面板更轻薄。Touch On Cell可以采用FMLOC(Flexible Metal Layer on Cell，屏上柔性多层结构)的触控方案。

相关技术中，高屏占比的显示面板可以搭载Pad Bending(端子弯折)技术，该技术需要在Pad(端子)走线前弯折，弯折区域的触控线无法在触控层设计，需要进行跳线搭接至驱动电路层，再跳线搭接回触控层。但是，由于FMLOC是在TFE(Thin-Film Encapsulation，薄膜封装)及EVEN(蒸镀)工艺流程结束后制备，FMLOC中的无机层采用低温工艺制备，且位于显示区域之外的部分会镀在驱动电路层上的平坦化层(PLN)上，这种结构不稳定，在水与药液的浸泡下会脱落发生剥离，且如果FMLOC中的无机层脱落会对位于显示区域与弯折区域之间的走线造成不良影响，减低了显示面板的良率。

发明内容

本发明提供一种显示面板及其制备方法，以解决相关技术中的不足。

根据本发明实施例的第一方面，提供一种显示面板，包括显示区域与周边区域，所述周边区域与所述显示区域相邻；所述周边区域包括走线区域、搭接区域、开槽区域与弯折区域；在第一方向上，所述显示区域、所述走线区域、所述搭接区域、所述开槽区域与所述弯折区域依次排列；所述走线区域在所述显示区域的正投影位于所述开槽区域在所述显示区域的正投影内，所述搭接区域在所述显示区域的正投影位于所述开槽区域在所述显示区域的正投影内；

所述显示面板还包括：驱动电路层、平坦化层与触控层；所述驱动电路层包括第一无机层，所述触控层包括第二无机层；

所述第一无机层至少位于所述走线区域、所述搭接区域与所述开槽区域；所述平坦化层位于所述第一无机层上，且至少位于所述走线区域、所述搭接区域与所述开槽区域，所述平坦化层包括凹槽，所述凹槽位于所述开槽区域；所述第二无机层位于所述平坦化层远离所述第一无机层的一侧，所述第二无机层自所述走线区域向所述开槽区域延伸，且位于所述走线区域、所述搭接区域与至少部分所述开槽区域中，在所述凹槽中，所述第二无机层与所述第一无机层相接触。

在一个实施例中，在第二方向上，所述开槽区域自所述平坦化层的一侧延伸至所述平坦化层的另一侧，所述第二方向与所述第一方向相交。

在一个实施例中，所述开槽区域在所述第一无机层上的投影为矩形。

在一个实施例中，所述开槽区域从至少两侧包围所述搭接区域。

在一个实施例中，所述开槽区域从三侧包围所述搭接区域。

在一个实施例中，所述走线区域的数目为两个，所述搭接区域的数目为两个，所述开槽区域的数目为两个，所述凹槽的数目为两个；

针对每个所述开槽区域，在第一方向上，存在一个在所述显示区域的正投影位于所述开槽区域在所述显示区域的正投影内的所述走线区域，并存在一个在所述显示区域的正投影位于所述开槽区域在所述显示区域的正投影内的所述搭接区域；

两个所述开槽区域之间存在间隔；每个所述开槽区域各自存在一个所述凹槽。

在一个实施例中，所述触控层包括触控线、第二金属层与第三金属层；

所述触控线至少位于所述走线区域与所述搭接区域中；所述驱动电路层包括第一金属层，所述第一金属层至少位于所述搭接区域与所述弯折区域，所述触控线在所述搭接区域中搭接至所述第一金属层；

所述第二无机层位于所述第二金属层与所述第三金属层之间，所述第二金属层包括第一触控电极，所述第三金属层包括第二触控电极，所述触控线位于所述第二金属层与所述第三金属层中的其中一层。

在一个实施例中，所述驱动电路层包括像素电路，所述像素电路位于所述显示区域，所述像素电路包括电容，所述电容包括第一电极与第二电极，所述第一无机层还位于所述显示区域，所述第一无机层位于所述第一电极与所述第二电极之间。

根据本发明实施例的第二方面，提供一种显示面板的制备方法，所述显示面板包括显示区域与周边区域，所述周边区域与所述显示区域相邻；所述周边区域包括走线区域、搭接区域、开槽区域与弯折区域；在第一方向上，所述显示区域、所述走线区域、所述搭接区域、所述开槽区域与所述弯折区域依次排列；所述走线区域在所述显示区域的正投影位于所述开槽区域在所述显示区域的正投影内，所述搭接区域在所述显示区域的正投影位于所述开槽区域在所述显示区域的正投影内；所述方法，包括：

形成驱动电路层，所述驱动电路层包括第一无机层；所述第一无机层至少位于所述走线区域、所述搭接区域与所述开槽区域；

形成平坦化层，所述平坦化层位于所述第一无机层上，且至少位于所述走线区域、所述搭接区域与所述开槽区域，所述平坦化层包括凹槽，所述凹槽位于所述开槽区域；

形成触控层，所述触控层包括第二无机层，所述第二无机层位于所述平坦化层远离所述第一无机层的一侧，所述第二无机层自所述走线区域向所述开槽区域延伸，且位于所述走线区域、所述搭接区域与至少部分所述开槽区域中，在所述凹槽中，所述第二无机层与所述第一无机层相接触。

在一个实施例中，所述形成平坦化层，包括：

形成有机层，所述有机层位于所述第一无机层上，且至少位于所述走线区域、所述搭接区域与所述开槽区域；所述有机层远离所述第一无机层的表面为平面；

采用掩膜版对所述有机层进行图案化处理，得到所述平坦化层。

根据上述实施例可知，由于平坦化层包括凹槽，凹槽位于开槽区域，开槽区域位于走线区域与搭接区域靠近弯折区域的一侧，而且，触控层中的第二无机层位于平坦化层远离第一无机层的一侧，且自走线区域向开槽区域延伸，第二无机层位于走线区域、搭接区域与至少部分开槽区域中，且在开槽区域中，第二无机层与第一无机层相接触，由于第二无机层与第一无机层均为无机层，因此，二者接触之处致密性好。当第二无机层靠近弯折区域一侧的边界位于凹槽与弯折区域之间时，即使第二无机层靠近弯折区域一侧的边界发生剥离，也可以避免剥离向走线区域与搭接区域延伸，当第二无机层靠近弯折区域一侧的边界位于凹槽内时，可以避免第二无机层靠近弯折区域一侧的边界发生剥离，因此，可以避免对位于显示区域与弯折区域之间的走线造成不良影响，可以提高显示面板的良率。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本发明。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本发明的实施例，并与说明书一起用于解释本发明的原理。

图1是根据相关技术示出的一种显示面板的结构示意图；

图2是根据相关技术示出的另一种显示面板的结构示意图；

图3是根据本发明实施例示出的一种显示面板的结构示意图；

图4是根据本发明实施例示出的另一种显示面板的结构示意图；

图5是根据本发明实施例示出的另一种显示面板的结构示意图；

图6是根据本发明实施例示出的另一种显示面板的结构示意图；

图7是根据本发明实施例示出的另一种显示面板的结构示意图；

图8是根据本发明实施例示出的一种显示面板的制备方法的流程图。

具体实施方式

这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本发明相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本发明的一些方面相一致的装置和方法的例子。

相关技术中，如图1与图2所示，在显示区域11与弯折区域12之间的区域中，触控层(未示出)中的无机层13容易发生剥离，剥离区域14会沿平坦化层15上的挖槽16的边界继续延伸，对触控线17与搭接区域18造成不良影响，减低了显示面板的良率。其中，图1～图2中，平坦化层15位于驱动电路层中的无机层19上，柔性膜层110位于弯折区域12。

为解决上述技术问题，本发明实施例提供一种显示面板及其制备方法，可以避免对位于显示区域与弯折区域之间的走线造成不良影响，提高显示面板的良率。

本发明实施例提供一种显示面板。如图3所示，该显示面板包括显示区域11与周边区域(未示出)，周边区域与显示区域11相邻。

如图3所示，周边区域包括走线区域31、搭接区域18、开槽区域32与弯折区域12。在第一方向Y上，显示区域11、走线区域31、搭接区域18、开槽区域32与弯折区域12依次排列。走线区域31在显示区域11的正投影位于开槽区域32在显示区域11的正投影内，搭接区域18在显示区域11的正投影位于开槽区域32在显示区域11的正投影内。

在本实施例中，如图4所示，显示面板还包括驱动电路层(未示出)、平坦化层15与触控层(未示出)。驱动电路层包括第一无机层41，触控层包括第二无机层42。

第一无机层41至少位于走线区域31、搭接区域18与开槽区域32。平坦化层15位于第一无机层41上，且至少位于走线区域31、搭接区域18与开槽区域32，平坦化层15包括凹槽151，凹槽151位于开槽区域32。第二无机层42位于平坦化层15远离第一无机层41的一侧，第二无机层42自走线区域31向开槽区域32延伸，且位于走线区域31、搭接区域18与至少部分开槽区域32中。在凹槽151中，第二无机层42与第一无机层41相接触。

在本实施例中，由于平坦化层15包括凹槽151，凹槽151位于开槽区域32，开槽区域32位于走线区域31与搭接区域18靠近弯折区域12的一侧，而且，触控层中的第二无机层42位于平坦化层15远离第一无机层41的一侧，且自走线区域31向开槽区域32延伸，第二无机层42位于走线区域31、搭接区域18与至少部分开槽区域32中，且在开槽区域32中，第二无机层42与第一无机层41相接触，由于第二无机层42与第一无机层41均为无机层，因此，二者接触之处致密性好。当第二无机层42靠近弯折区域12一侧的边界位于凹槽151与弯折区域12之间时，即使第二无机层42靠近弯折区域12一侧的边界发生剥离，也可以避免剥离向走线区域31与搭接区域18延伸，当第二无机层42靠近弯折区域12一侧的边界位于凹槽151内时，可以避免第二无机层42靠近弯折区域12一侧的边界发生剥离，因此，可以避免对位于显示区域11与弯折区域12之间的走线造成不良影响，可以提高显示面板的良率。

以上对本发明实施例提供的显示面板进行了简要的介绍，下面对本发明实施例提供的显示面板进行详细的介绍。

本发明实施例还提供一种显示面板。该显示面板，如图3所示，该显示面板包括显示区域11与周边区域，周边区域与显示区域11相邻。周边区域可围绕显示区域11，但不限于此。

如图3所示，周边区域包括走线区域31、搭接区域18、开槽区域32与弯折区域12。走线区域31、搭接区域18、开槽区域32与弯折区域12位于显示区域11的同一侧。如图3所示，在第一方向Y上，显示区域11、走线区域31、搭接区域18、开槽区域32与弯折区域12依次排列。

在本实施例中，如图3所示，走线区域31在显示区域11的正投影位于开槽区域32在显示区域11的正投影内，搭接区域18在显示区域11的正投影位于开槽区域32在显示区域11的正投影内。

在本实施例中，如图3所示，在第二方向X上，开槽区域32整体上自平坦化层15的一侧延伸至平坦化层15的另一侧，第二方向X与第一方向Y相交且垂直。开槽区域32可从至少两侧包围搭接区域18。例如，开槽区域32可从三侧包围搭接区域18。当然，在其他实施例中，开槽区域32可呈直条状，即在第一无机层41上的投影可为矩形。

在本实施例中，如图4所示，显示面板还包括驱动电路层、平坦化层15与触控层。

在本实施例中，驱动电路层包括像素电路，像素电路位于显示区域11。像素电路例如可以为2T1C像素电路、3T1C像素电路、4T1C像素电路、7T1C像素电路或8T1C像素电路，但不限于此。像素电路包括晶体管与电容。每个晶体管包括栅极、源极、漏极以及多个无机层。多个无机层均为绝缘层。电容包括第一电极、第二电极与第一无机层41，第一无机层41位于第一电极、第二电极之间，第一无机层41为绝缘层，第一无机层41位于显示区域11、走线区域31、搭接区域18与开槽区域32。当然，第一无机层41也可以是晶体管中的多个无机层中的一个。第一无机层41的材料可以是氧化硅或氮化硅。

在本实施例中，驱动电路层包括第一金属层(未示出)。第一金属层可以为上述的第一电极、第二电极、栅极、源极与漏极中任意一个所在的金属层。第一金属层位于显示区域11、搭接区域18与弯折区域12。第一金属层可用于将位于显示区域中的电路与位于显示面板背面的芯片电连接。例如，第一金属层可用于将像素电路与位于显示面板背面的驱动芯片连接，也可将触控电极与位于显示面板背面的触控芯片连接。

在本实施例中，如图4所示，触控层包括第二金属层(未示出)、第三金属层(未示出)与第二无机层42，第二无机层42位于第二金属层与第三金属层之间。其中，第二金属层包括第一触控电极，第三金属层包括第二触控电极，第二金属层与第三金属层中的其中一层包括触控线17。第一触控电极与第二触控电极位于显示区域11中，触控线17至少位于走线区域31与搭接区域18中，触控线17的部分可位于显示区域11中。第一触控电极与第二触控电极中的至少一个与触控线17电连接。例如，第一触控电极与触控线17电连接，或，第二触控电极与触控线17电连接，或第一触控电极与第二触控电极分别与触控线17电连接。触控线17在搭接区域18中通过金属过孔33搭接至第一金属层，并通过第一金属层连接至显示面板背面的触控芯片。第二无机层42自显示区域11向开槽区域32延伸，且位于显示区域11、走线区域31、搭接区域18以及开槽区域32中。第二无机层42的材料可以是氧化硅或氮化硅。

如图4所示，平坦化层15位于第一无机层41上，平坦化层15位于显示区域11、走线区域31、搭接区域18与开槽区域32，平坦化层15包括凹槽151，凹槽151位于开槽区域32。凹槽151可从至少两侧包围搭接区域18。例如，凹槽151可从三侧包围搭接区域18。当然，在其他实施例中，凹槽151可呈直条状，即在第一无机层41上的投影可为矩形。

如图4所示，第二无机层42位于平坦化层15远离第一无机层41的一侧。在凹槽151中，第二无机层42与第一无机层41相接触。由于第二无机层42与第一无机层41均为无机层，因此，二者接触之处致密性好。

在本实施例中，第二无机层42靠近弯折区域12一侧的边界位于凹槽151与弯折区域12之间，由于在凹槽151中第二无机层42与第一无机层41相接触，二者接触之处致密性好，即使第二无机层42靠近弯折区域12一侧的边界发生剥离，也可以避免剥离向走线区域31与搭接区域18延伸，可以避免第二无机层42靠近弯折区域12一侧的边界发生剥离，因此，可以避免对位于显示区域11与弯折区域12之间的走线造成不良影响，可以提高显示面板的良率。

另外，需要说明的是，柔性膜层110位于弯折区域12。柔性膜层110的材料可以为有机材料，柔性膜层110的材料可以与像素定义层的材料相同，或与平坦化层15的材料相同。

本发明的实施例还提出了一种显示面板。如图5～图6所示，与上述实施例不同的是，在本实施例中，第二无机层42位于显示区域11、走线区域31、搭接区域18与部分开槽区域32中，即第二无机层42靠近弯折区域12一侧的边界位于凹槽151内。

在本实施例中，由于第二无机层42靠近弯折区域12一侧的边界位于凹槽151内，在凹槽151中第二无机层42与第一无机层41相接触，由于第二无机层42与第一无机层41均为无机层，二者接触之处致密性好，可以避免第二无机层42靠近弯折区域12一侧的边界发生剥离，因此，可以避免对位于显示区域11与弯折区域12之间的走线造成不良影响，可以提高显示面板的良率。

本发明的实施例还提出了一种显示面板。如图7所示，与上述实施例不同的是，在本实施例中，走线区域31的数目为两个，搭接区域18的数目为两个，开槽区域32的数目为两个，凹槽151的数目为两个。

针对每个开槽区域32，存在一个在显示区域11的正投影位于开槽区域32在显示区域11的正投影内的走线区域31，并存在一个在显示区域11的正投影位于开槽区域32在显示区域11的正投影内的搭接区域18。两个开槽区域32之间可存在间隔。当然，两个开槽区域32之间也可连续。

在本实施例中，每个开槽区域32各自存在一个凹槽151。两个凹槽151之间可连通。

在本实施例中，在第二方向X上，显示面板的长度为70毫米，每个开槽区域32的长度为10毫米，但不限于此。

在本实施例中，在每个凹槽151中，第二无机层42与第一无机层41相接触。由于第二无机层42与第一无机层41均为无机层，因此，二者接触之处致密性好。

在本实施例中，第二无机层42靠近弯折区域12一侧的边界位于凹槽151与弯折区域12之间，由于在凹槽151中第二无机层42与第一无机层41相接触，二者接触之处致密性好，即使第二无机层42靠近弯折区域12一侧的边界发生剥离，也可以避免剥离向走线区域31与搭接区域18延伸，可以避免第二无机层42靠近弯折区域12一侧的边界发生剥离，因此，可以避免对位于显示区域11与弯折区域12之间的走线造成不良影响，可以提高显示面板的良率。

本发明的实施例还提出了一种显示面板的制备方法，用于制备上述任一实施例所述的显示面板。该显示面板的制备方法，如图8所示，可以包括以下步骤801～803：

在步骤801中，形成驱动电路层，驱动电路层包括第一无机层41；第一无机层41至少位于走线区域31、搭接区域18与开槽区域32。

在步骤802中，形成平坦化层15，平坦化层15位于第一无机层41上，且至少位于走线区域31、搭接区域18与开槽区域32，平坦化层15包括凹槽151，凹槽151位于开槽区域32。

在本实施例中，形成平坦化层15的方法为：先形成有机层，该有机层位于第一无机层41上，且至少位于走线区域31、搭接区域18与开槽区域32。有机层远离第一无机层41的表面为平面。例如，有机层可位于显示区域11、走线区域31、搭接区域18与开槽区域32。然后，采用掩膜版对有机层进行图案化处理，得到上述的平坦化层15。

在步骤803中，形成触控层，触控层包括第二无机层42，第二无机层42位于平坦化层15远离第一无机层41的一侧，第二无机层42自走线区域31向开槽区域32延伸，且位于走线区域31、搭接区域18与至少部分开槽区域32中，在凹槽151中第二无机层42与第一无机层41相接触。

本实施例中，由于平坦化层15包括凹槽151，凹槽151位于开槽区域32，开槽区域32位于走线区域31与搭接区域18靠近弯折区域12的一侧，而且，触控层中的第二无机层42位于平坦化层15远离第一无机层41的一侧，且自走线区域31向开槽区域32延伸，第二无机层42位于走线区域31、搭接区域18与至少部分开槽区域32中，且在开槽区域32中，第二无机层42与第一无机层41相接触，由于第二无机层42与第一无机层41均为无机层，因此，二者接触之处致密性好。当第二无机层42靠近弯折区域12一侧的边界位于凹槽151与弯折区域12之间时，即使第二无机层42靠近弯折区域12一侧的边界发生剥离，也可以避免剥离向走线区域31与搭接区域18延伸，当第二无机层42靠近弯折区域12一侧的边界位于凹槽151内时，可以避免第二无机层42靠近弯折区域12一侧的边界发生剥离，因此，可以避免对位于显示区域11与弯折区域12之间的走线造成不良影响，可以提高显示面板的良率。

需要说明的是，本发明实施例提供的显示面板可应用于如下的显示装置：电子纸、手机、平板电脑、电视机、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

其中，上述流程所采用的形成工艺例如可包括：沉积、溅射等成膜工艺和刻蚀等构图工艺。

需要指出的是，在附图中，为了图示的清晰可能夸大了层和区域的尺寸。而且可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“上”时，它可以直接在其他元件上，或者可以存在中间的层。另外，可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“下”时，它可以直接在其他元件下，或者可以存在一个以上的中间的层或元件。另外，还可以理解，当层或元件被称为在两层或两个元件“之间”时，它可以为两层或两个元件之间唯一的层，或还可以存在一个以上的中间层或元件。通篇相似的参考标记指示相似的元件。

在本发明中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。术语“多个”指两个或两个以上，除非另有明确的限定。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的公开后，将容易想到本发明的其它实施方案。本发明旨在涵盖本发明的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本发明的一般性原理并包括本发明未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本发明的真正范围和精神由下面的权利要求指出。

应当理解的是，本发明并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本发明的范围仅由所附的权利要求来限制。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括显示区域与周边区域，所述周边区域与所述显示区域相邻；所述周边区域包括走线区域、搭接区域、开槽区域与弯折区域；在第一方向上，所述显示区域、所述走线区域、所述搭接区域、所述开槽区域与所述弯折区域依次排列；所述走线区域在所述显示区域的正投影位于所述开槽区域在所述显示区域的正投影内，所述搭接区域在所述显示区域的正投影位于所述开槽区域在所述显示区域的正投影内；

所述显示面板还包括：驱动电路层、平坦化层与触控层；所述驱动电路层包括第一无机层，所述触控层包括第二无机层；

所述第一无机层至少位于所述走线区域、所述搭接区域与所述开槽区域；所述平坦化层位于所述第一无机层上，且至少位于所述走线区域、所述搭接区域与所述开槽区域，所述平坦化层包括凹槽，所述凹槽位于所述开槽区域；所述第二无机层位于所述平坦化层远离所述第一无机层的一侧，所述第二无机层自所述走线区域向所述开槽区域延伸，且位于所述走线区域、所述搭接区域与至少部分所述开槽区域中，在所述凹槽中，所述第二无机层与所述第一无机层相接触。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在第二方向上，所述开槽区域自所述平坦化层的一侧延伸至所述平坦化层的另一侧，所述第二方向与所述第一方向相交。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述开槽区域在所述第一无机层上的投影为矩形。

4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述开槽区域从至少两侧包围所述搭接区域。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述开槽区域从三侧包围所述搭接区域。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述走线区域的数目为两个，所述搭接区域的数目为两个，所述开槽区域的数目为两个，所述凹槽的数目为两个；

针对每个所述开槽区域，存在一个在所述显示区域的正投影位于所述开槽区域在所述显示区域的正投影内的所述走线区域，并存在一个在所述显示区域的正投影位于所述开槽区域在所述显示区域的正投影内的所述搭接区域；

两个所述开槽区域之间存在间隔；每个所述开槽区域各自存在一个所述凹槽。

7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述触控层包括触控线、第二金属层与第三金属层；

所述触控线至少位于所述走线区域与所述搭接区域中；所述驱动电路层包括第一金属层，所述第一金属层至少位于所述搭接区域与所述弯折区域，所述触控线在所述搭接区域中搭接至所述第一金属层；

所述第二无机层位于所述第二金属层与所述第三金属层之间，所述第二金属层包括第一触控电极，所述第三金属层包括第二触控电极，所述触控线位于所述第二金属层与所述第三金属层中的其中一层。

8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述驱动电路层包括像素电路，所述像素电路位于所述显示区域，所述像素电路包括电容，所述电容包括第一电极与第二电极，所述第一无机层还位于所述显示区域，所述第一无机层位于所述第一电极与所述第二电极之间。

9.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述显示面板包括显示区域与周边区域，所述周边区域与所述显示区域相邻；所述周边区域包括走线区域、搭接区域、开槽区域与弯折区域；在第一方向上，所述显示区域、所述走线区域、所述搭接区域、所述开槽区域与所述弯折区域依次排列；所述走线区域在所述显示区域的正投影位于所述开槽区域在所述显示区域的正投影内，所述搭接区域在所述显示区域的正投影位于所述开槽区域在所述显示区域的正投影内；所述方法，包括：

形成驱动电路层，所述驱动电路层包括第一无机层；所述第一无机层至少位于所述走线区域、所述搭接区域与所述开槽区域；

形成平坦化层，所述平坦化层位于所述第一无机层上，且至少位于所述走线区域、所述搭接区域与所述开槽区域，所述平坦化层包括凹槽，所述凹槽位于所述开槽区域；

形成触控层，所述触控层包括第二无机层，所述第二无机层位于所述平坦化层远离所述第一无机层的一侧，所述第二无机层自所述走线区域向所述开槽区域延伸，且位于所述走线区域、所述搭接区域与至少部分所述开槽区域中，在所述凹槽中，所述第二无机层与所述第一无机层相接触。

10.根据权利要求9所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述形成平坦化层，包括：

形成有机层，所述有机层位于所述第一无机层上，且至少位于所述走线区域、所述搭接区域与所述开槽区域；所述有机层远离所述第一无机层的表面为平面；

采用掩膜版对所述有机层进行图案化处理，得到所述平坦化层。

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