CN111013362A - 一种氯硅烷生产中尾气处理*** - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种氯硅烷生产中尾气处理***，包括顺次连接的尾气收集盘尾气收集罐、尾气压缩机、分离罐、淋洗塔和吸收水池；尾气通过尾气收集盘进入尾气收集罐进行收集，尾气收集罐中尾气经尾气压缩机压缩后进入分离罐进行气液分离，经气液分离后液体被收集，气体进入淋洗塔进行水解反应被处理，吸收水池与淋洗塔之间设有循环水泵。本发明通过压缩可以回收一部分氯硅烷。废气处理采用的吸收剂是NaCl饱和盐水，控制pH＝8‑10，使硅酸在循环水中呈一种很好分离的疏松体，漂浮在吸收循环水池面，很易与水分离。循环水清澈，不需加絮凝剂沉淀、离心机分离处理。

Description

一种氯硅烷生产中尾气处理***
技术领域
本发明属于化工领域，特别涉及一种氯硅烷生产中尾气处理***。
背景技术
高纯氯硅烷生产，主要指光纤和电子工业用高纯SiCl4、SiHCl3等生产，随着光纤和微电子产业发展，5G商业化的开启，对高纯氯硅烷需求越来越多。有代表性的氯硅烷尾气处理方法是采用碱水溶液吸收氯硅烷尾气中的HCl、SiHCl3、SiCl4等，用碱水对尾气中氯硅烷进行水解反应，尾气中的氯硅烷水解生成硅酸、HCl和H2，生成的HCl和尾气中HCl都在水中以稀盐酸形式存在，其中一部分与碱反应生成盐，H2从洗涤塔顶部排出。该方法的特点为：硅酸在洗涤塔内是一种白色胶状物(原硅酸H4SiO4)，比水轻，像肥皂泡一样飘在水中，很难清除；白色胶状物易堵塞洗涤塔塔顶排气口，造成H2不能从塔顶高空排放；大量污水要经过絮凝、沉降、离心处理排放，环境压力很大。以某企业年产15000吨高纯光纤用SiCl4为例，年废水排放量为1.3万吨。如此大量废水处理，增加了企业生产成本，不利于人类生态环境保护，也制约了行业发展。
《科协论坛》中报道了变压吸附在三氯氢硅尾气处理中的应用，该方法是目前三氯氢硅合成工艺尾气回收主流。通过变压吸附，可以回收氯硅烷和HCl返回合成炉，尾气中H2返回HCl合成工序，不产生废弃物。但操作复杂，能耗大，一组吸附塔和软件建设一次性投资数百万，且必须与合成炉配套，适用于有三氯氢硅合成工序的大规模生产。
专利CN101810984A公开了一种有机氯硅烷工艺尾气回收利用方法，包括合成反应步骤以及冷凝收集步骤，其特征在于：(1)、将经冷凝收集步骤后的尾气，送入喷淋吸收塔，用有机溶剂喷淋吸收尾气中剩余的四氯化硅；(2)、经喷淋吸收步骤后的尾气，送入石墨降膜吸收塔用水吸收尾气中的氯化氢生成盐酸。该方法采用大量有机溶剂物理吸收有机氯硅烷中有机硅和SiCl4，未吸收的HCl用水吸收成盐酸销售，该方法能解决尾气中有机硅和氯硅烷回收问题，可是用来吸收的大量有机溶剂要进行处理，解析出来的SiCl4杂质偏多不能用在生成高纯SiCl4。
《化工管理》中报道了“氯硅烷尾气处理方法”，该方法报道了对多晶硅生产中产生的氯硅烷、HCl、H2进行水解处理方法，水解的废水通过采用污水净化器，板框过滤固体等处理，只能缓解部分环保压力。
发明内容
针对上述技术缺点，本发明的目的在于提供一种氯硅烷生产中尾气处理***，该尾气处理***处理工艺简单，操作方便，成本低，能耗小，尾气中夹带的氯硅烷绝大部分被回收，不产生工艺废水。
为达到上述目的，本发明采用以下技术方案：
一种氯硅烷生产中尾气处理***，其特征在于：包括顺次连接的尾气收集盘、尾气收集罐、尾气压缩机、分离罐、淋洗塔和吸收水池；
尾气通过所述尾气收集盘进入所述尾气收集罐进行收集，所述尾气收集罐中尾气经所述尾气压缩机压缩后进入所述分离罐进行气液分离，经气液分离后液体被收集，气体进入淋洗塔进行水解反应被处理，所述吸收水池与淋洗塔之间设有循环水泵。
如上所述一种氯硅烷生产中尾气处理***，其特征在于：所述吸收水池中装有PH＝8-10的NaOH饱和盐水。
如上所述一种氯硅烷生产中尾气处理***，其特征在于：所述淋洗塔和吸收水池设有两套，两套可同时使用也可交替使用。
如上所述一种氯硅烷生产中尾气处理***，其特征在于：还包括吸收水暂存池，所述吸收水暂存池与吸收水池之间设有转水泵用于所述吸收水暂存池与吸收水池之间相互转运水。
如上所述一种氯硅烷生产中尾气处理***，其特征在于：所述吸收水池上设有污泥泵用于抽取所述吸收水池下层的污泥。
本发明的有益效果在于：
1、通过压缩可以回收一部分氯硅烷。
2、废气处理采用的吸收剂是NaCl饱和盐水，控制pH＝8-10，使硅酸在循环水中呈一种很好分离的疏松体，漂浮在吸收循环水池面，很易与水分离。循环水清澈，不需加絮凝剂沉淀、离心机分离处理。
3、氯硅烷水解生成的偏硅酸在洗涤塔中呈一种疏松体，对管道堵塞有很大缓解。
4、由于及时捞出水解生成固体物，吸收循环水清澈，不需处理和排放，达到了工业废水零排放环保效益。
附图说明
图1是本发明尾气处理***结构示意图；
其中：1、尾气收集盘；2、尾气收集罐；3、尾气压缩机；4、分离罐；5、淋洗塔；6、吸收水池；7、循环水泵；8、吸收水暂存池；9、转水泵；10、污泥泵。
具体实施方式
为了更好地说明本发明的目的、技术方案和优点，下面将结合具体实施例对本发明做进一步描述。本发明可以以许多不同的形式实施，而不应该被理解为限于在此阐述的实施例。相反，提供这些实施例，使得本公开将是彻底和完整的，并且将把本发明的构思充分传达给本领域技术人员，本发明将仅由权利要求来限定。
如图1所示，一种氯硅烷生产中尾气处理***，尾气处理***包括顺次连接的尾气收集盘1、尾气收集罐2、尾气压缩机3、分离罐4、淋洗塔5和吸收水池6。
尾气通过尾气收集盘1进入尾气收集罐2进行收集，尾气收集罐2中尾气经尾气压缩机3压缩后进入分离罐4进行气液分离，经气液分离后液体被收集，气体进入淋洗塔5进行水解反应被处理，吸收水池6与淋洗塔5之间设有循环水泵7。
本申请中，吸收水池6中装有PH＝8-10的NaOH饱和盐水。
本申请中，淋洗塔5和吸收水池6设有两套，两套可同时使用也可交替使用。
本申请中，尾气处理***还包括吸收水暂存池8，吸收水暂存池8与吸收水池6之间设有转水泵9用于吸收水暂存池8与吸收水池6之间相互转运水。当两个吸收水池6的任何一个要清理池底时，将吸收水用转水泵9抽入吸收水暂存池8，保证一套在吸收尾气，一套在清理池底污泥，不影响生产。
本申请中，吸收水池6上设有污泥泵10用于抽取吸收水池6下层的污泥。
尾气处理过程：
尾气收集罐2收集的尾气通过尾气压缩机3压缩后进入分离罐4进行气液分离，分离出来液体主要含氯硅烷，回收于凝缩液罐外售化工厂，废气进入处理***采用加NaOH(pH＝8-10)的饱和盐(NaCl)水对流吸收。废气中主要成分为氮气夹带的少量SiCl4、SiHCl3、HCl等，在淋洗塔5与吸收液对流接触发生化学反应，未吸收的氮气在25m高排气筒排放。在pH＝8-10范围内氯硅烷与循环饱和盐水中NaOH生成不溶于水的偏硅酸(H2SiO3)夹带反应生成盐(NaCl)，该松散的固体会漂浮在循环水池面上，很容易从循环饱和盐水中捞出存放。被捞出的固体为一般工业废物，可以综合利用也可以填埋。回收和废气处理原理如下：
氯硅烷回收原理：
尾气收集罐2的尾气通过尾气压缩机3由0.01mPa压缩到0.4mPa进入分离罐4，分离罐为一个单级分离器，尾气成分为氮气夹带的HCl、SiHCl3、SiCl4等，各组分在分离罐4达到气液平衡，平衡时各组分气相浓度yi与液相浓度xi关系可以用相平衡方程：yi＝Kxi表示，氯硅烷为重组分相平衡常数K比HCl小，重组分氯硅烷进入液相而从氮气中分离。分离后的氯硅烷液体进入提纯***凝缩液收集罐外售作为化工原料使用。
废气处理工序：
本发明采用饱和盐水，加固体NaOH调节pH＝8-10为吸收液，废气中氮气夹带的少量氯硅烷与吸收液在淋洗塔5逆流接触反应，在该吸收液条件下发生水解反应生成松散的湿状二氧化硅颗粒(偏硅酸H2SiO3)和HCl，生成的HCl继续被NaOH中和生成NaCl。生成的NaCl部分吸附在松散的偏硅酸上，漂浮于循环水面被捞出，另一少部分溶解在饱和盐水中成过饱和盐水，过饱和盐水在吸收水池6底部析出。
以高纯四氯化硅生产为例(其他氯硅烷相同)，尾气中含有氮气夹带的少量HCl、SiHCl3、SiCl4，经水吸收先与水生成白色胶状物原硅酸(H4SiO4)和氯化氢(HCl)。H4SiO4只有在pH＜3稳定，当加减调节pH大于3后，原硅酸会脱去一分子水生成稳定偏硅酸(H2SiO3)。偏硅酸为白色松散体，不溶于水，漂浮在吸收水池面；HCl(生成和尾气中的)与NaOH反应生成氯化钠。反应原理：
SiCl4+4H2O→H4SiO4+4HCl(HCl存在且pH＜3) (1)
加入NaOH后，pH＝8-10：
H4SiO4(Si02·2H2O)→H2SiO3(Si02·H2O)↓+H2O(pH>3) (2)
HCl+NaOH→NaCl↓+H2O (3)
偏硅酸H2SiO3(Si02·H2O)为白色松散体，在水中几乎不溶解，干燥后为Si02(白炭黑)。NaCl于20℃时在水中溶解度为36.2g/100cm3，随着HCl在水中溶解，NaCl溶解量越来越少。
吸收水池吸收生产工艺：
(1)从吸收水暂存池8取入前次澄清的饱和NaCl盐水到吸收水池6，补充新鲜水到水池深度约80％，加入固体NaOH调pH＝8-10。
(2)开启循环水泵7，将吸收水打入淋洗塔5，在淋洗塔5中与尾气对流接触，吸收尾气中残留的氯硅烷、HCl。
(3)当吸收水池6中pH＝8时，加固体NaOH使吸收液pH＝10。
(4)随着反应进行，生成的松散湿状二氧化硅颗粒(偏硅酸H2SiO3)吸附生成的一部分NaCl与吸收液很好分开会漂浮在池面，可及时捞出。
(5)达到一定时间后，由于NaCl析出，吸收水池6变浑浊、成糊状悬浮物影响吸收，表明吸收水池要清理，将一个吸收水池6切换到另一个吸收水池6吸收，变浑浊的吸收水池6待处理。
吸收水池清理工艺：
(1)停循环水泵7，循环水沉淀约24h，采用转水泵9将上层清液抽入吸收水暂存池8存放。
(2)采用挖泥机将吸收水池6池底的固体挖出收集，填埋。
应用例
按表1对光纤用SiCl4生产过程中产生的氯硅烷水解污水取样4000ml，按方法进行五次循环处理过程。
首先在第一次处理中加入96.6g(将pH值调到10)的NaOH到4000ml(pH＝1)现场污水中，，在pH＝10下沉淀24h，固体很容易分离。取出第一次处理的上清液800ml，然后对第一次处理的上清液加120.3g SiCl4，调成pH＝1二次污水，对二次污水加106.7g NaOH将pH值调到10，沉淀24h，取出二次上清液500ml，然后进行第三次处理。如此五次处理，捞出疏松体偏硅酸固体，上清液清澈，可以达到很好效果。
表1污水处理实验结果汇总
第一次处理 第二次处理 第三次处理 第四次处理 第五次处理
V(初始清液)/ml 4000 800 500 300 150
加入SiCl<sub>4</sub>量/g 0 120.3 53.1 35.6 20.8
加入NaOH量/g 96.6 106.7 48.9 32.8 20.3
清液量/ml 3800 700 400 250 130
固体渣量/g 50.2 45.5 22.3 13.8 8.2
显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。

Claims (5)

1.一种氯硅烷生产中尾气处理***，其特征在于：包括顺次连接的尾气收集盘(1)、尾气收集罐(2)、尾气压缩机(3)、分离罐(4)、淋洗塔(5)和吸收水池(6)；
尾气通过所述尾气收集盘(1)进入所述尾气收集罐(2)进行收集，所述尾气收集罐(2)中尾气经所述尾气压缩机(3)压缩后进入所述分离罐(4)进行气液分离，经气液分离后液体被收集，气体进入淋洗塔(5)进行水解反应被处理，所述吸收水池(6)与淋洗塔(5)之间设有循环水泵(7)。
2.根据权利要求1所述一种氯硅烷生产中尾气处理***，其特征在于：所述吸收水池(6)中装有PH＝8-10的NaOH饱和盐水。
3.根据权利要求1所述一种氯硅烷生产中尾气处理***，其特征在于：所述淋洗塔(5)和吸收水池(6)设有两套，两套可同时使用也可交替使用。
4.根据权利要求1所述一种氯硅烷生产中尾气处理***，其特征在于：还包括吸收水暂存池(8)，所述吸收水暂存池(8)与吸收水池(6)之间设有转水泵(9)用于所述吸收水暂存池(8)与吸收水池(6)之间相互转运水。
5.根据权利要求1所述一种氯硅烷生产中尾气处理***，其特征在于：所述吸收水池(6)上设有污泥泵(10)用于抽取所述吸收水池(6)下层的污泥。
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Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10049012A1 (de) * 2000-10-04 2002-04-11 Bayer Ag Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Silan enthaltenden Gasen und Flüssigkeiten
CN101444681A (zh) * 2008-12-15 2009-06-03 浙江富士特硅材料有限公司 三氯氢硅生产尾气回收的方法及其专用设备
CN103071322A (zh) * 2012-12-24 2013-05-01 昆明冶研新材料股份有限公司 全自动上下一体行车式往返刮板机
CN203899432U (zh) * 2013-09-16 2014-10-29 陕西天宏硅材料有限责任公司 多晶硅生产废气淋洗废水处理装置
CN105289191A (zh) * 2015-11-05 2016-02-03 南京德邦金属装备工程股份有限公司 一种氯硅烷尾气处理方法与装置
CN105327600A (zh) * 2014-08-08 2016-02-17 新特能源股份有限公司 多晶硅生产工艺中含有氯硅烷的尾气的处理装置
CN105377392A (zh) * 2013-04-09 2016-03-02 瓦克化学股份公司 用于处理包含氯硅烷的液体的装置和方法
CN206424773U (zh) * 2017-01-10 2017-08-22 乐山职业技术学院 一种多晶硅废气处理与余热利用装置
CN107441913A (zh) * 2016-05-30 2017-12-08 新特能源股份有限公司 多晶硅生产工艺的尾气处理***及处理方法
CN107970756A (zh) * 2017-11-28 2018-05-01 南京德邦金属装备工程股份有限公司 一种氯硅烷废气处理方法

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10049012A1 (de) * 2000-10-04 2002-04-11 Bayer Ag Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Silan enthaltenden Gasen und Flüssigkeiten
CN101444681A (zh) * 2008-12-15 2009-06-03 浙江富士特硅材料有限公司 三氯氢硅生产尾气回收的方法及其专用设备
CN103071322A (zh) * 2012-12-24 2013-05-01 昆明冶研新材料股份有限公司 全自动上下一体行车式往返刮板机
CN105377392A (zh) * 2013-04-09 2016-03-02 瓦克化学股份公司 用于处理包含氯硅烷的液体的装置和方法
CN203899432U (zh) * 2013-09-16 2014-10-29 陕西天宏硅材料有限责任公司 多晶硅生产废气淋洗废水处理装置
CN105327600A (zh) * 2014-08-08 2016-02-17 新特能源股份有限公司 多晶硅生产工艺中含有氯硅烷的尾气的处理装置
CN105289191A (zh) * 2015-11-05 2016-02-03 南京德邦金属装备工程股份有限公司 一种氯硅烷尾气处理方法与装置
CN107441913A (zh) * 2016-05-30 2017-12-08 新特能源股份有限公司 多晶硅生产工艺的尾气处理***及处理方法
CN206424773U (zh) * 2017-01-10 2017-08-22 乐山职业技术学院 一种多晶硅废气处理与余热利用装置
CN107970756A (zh) * 2017-11-28 2018-05-01 南京德邦金属装备工程股份有限公司 一种氯硅烷废气处理方法

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