CN110783387A - 一种显示基板、显示装置及显示基板的制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种显示基板、显示装置及显示基板的制作方法；其中，所述显示基板包括衬底基板、电极层和像素限定层，所述电极层位于所述衬底基板和所述像素限定层之间，所述像素限定层包括透光区，所述透光区的像素限定层图形环绕所述电极层的电极设置，所述透光区中除所述像素限定层图形之外的区域为镂空区。本发明提供的技术方案解决了现有的显示基板的透光率较低的问题。

Description

一种显示基板、显示装置及显示基板的制作方法

技术领域

本发明涉及通信技术领域，尤其涉及一种显示基板、显示装置及显示基板的制作方法。

背景技术

随着科技的迅速发展，屏下感光模组已经成为目前终端设备的主要发展趋势之一。为确保感光模组的感光效果，屏下感光模组需要感光传感器在有限时间内接收到足够的光通量。但是，目前的显示基板的设计，存在透光率较低的问题。

发明内容

本发明实施例提供一种显示基板、显示装置及显示基板的制作方法，以解决现有的显示基板的透光率较低的问题。

为解决上述问题，本发明是这样实现的：

第一方面，本发明实施例提供了一种显示基板，包括衬底基板、电极层和像素限定层，所述电极层位于所述衬底基板和所述像素限定层之间，所述像素限定层包括透光区，所述透光区的像素限定层图形环绕所述电极层的电极设置，所述透光区中除所述像素限定层图形之外的区域为镂空区。

第二方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括如第一方面中所述的显示基板。

第三方面，本发明实施例还提供了一种显示基板的制作方法，应用于如第一方面中所述的显示基板，所述方法包括以下步骤：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板上形成电极层；

在所述电极层的背对所述衬底基板的一侧形成像素限定层，并在所述像素限定层中形成透光区；

其中，所述透光区的像素限定层图形环绕所述电极层的电极设置，所述透光区中除所述像素限定层图形之外的区域为镂空区。

本发明实施例提供的显示基板，像素限定层包括透光区，而透光区中包括镂空区的设计，进而透光区也就只包括像素限定层图形，光线入射到透光区时，镂空区并不会对光线的穿过造成任何影响，也就不会造成光通量的衰减。这样，相比于现有的并不存在镂空区设计的像素限定层，本发明实施例提供的像素限定层的透光率更好，镂空区的设计能够有效增大像素限定层的透光率，进而也就增大了显示基板的透光率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获取其他的附图。

图1是本发明实施例提供的一种显示基板的结构图；

图2是本发明实施例提供的一种显示基板中发光结构的结构图；

图3是本发明实施例提供的一种显示基板中像素限定层的结构图；

图4是本发明实施例提供的一种显示基板的制作方法的流程图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获取的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例提供了一种显示基板，请参照图1至图3，所述显示基板包括衬底基板101、电极层114和像素限定层115，电极层114位于衬底基板101和像素限定层115之间，像素限定层115包括透光区，透光区的像素限定层图形1151环绕电极层114的电极设置，透光区中除所述像素限定层图形1151之外的区域为镂空区1150。

需要说明的是，透光区可以是像素限定层115中的一部分区域，或者像素限定层115整体都可以是设计成透光区。透光区中包括镂空区1150，镂空区1150的设计可以是指将透光区中除像素限定层图形1151以外的部分去除，例如可以是通过蚀刻去除，进而透光区也就只包括像素限定层图形1151，光线入射到透光区时，镂空区1150并不会对光线的穿射造成任何影响，光线几乎能够100％地穿过镂空区1150。这样，相比于现有的并不存在镂空区1150设计的像素限定层115，本发明实施例提供的像素限定层115的透光率更好，镂空区1150的设计能够有效增大像素限定层115的透光率，进而也就增大了显示基板的透光率。

这样的设计，也就更有利于显示基板应用于设置有屏下感光模组的显示装置中，如移动终端等。屏下感光模组可以是正对显示基板中像素限定层115的透光区设置，也就是说，感光模组相对于显示基板的正投影位于透光区内。可以理解地，透光区中设计有镂空区1150，镂空区1150并不会衰减光线的光通量，以满足感光模组的光通量要求，确保感光模组的感光功能。例如，感光模组可以是屏下指纹识别模组或是屏下摄像头模组，镂空区1150的设计增大了显示基板的透光率，也就更有利于光学指纹的解锁或是屏下摄像头的成像。

本发明实施例中，电极层114为阳极层，透光区的像素限定层图形1151也就是环绕阳极层的电极设置。如图3所示，假设阳极层的电极图形为方形，则透光区的像素限定层图形1151也就是环绕在方形电极图形外，进而以界定出设置于阳极层电极上的像素，透光区除像素限定层图形1151以外的区域也就可以通过蚀刻而形成镂空区1150，以增大透光区的透光率。

另外，显示基板还包括支撑柱116，支撑柱116设于像素限定层115的背对衬底基板101的一侧，透光区的像素限定层图形1151包括第一图形及第二图形，第一图形环绕电极层114的电极设置，支撑柱116在透光区的正投影位于第二图形内。第二图形用于对支撑柱116的设置提供支撑作用，进而透光区中除第一图形和第二图形以外的区域也就是镂空区1150，以确保透光区具有较大的透光率。

可选地，第一图形与第二图形可以是相邻设置。请具体参照图3，环绕电极层114的电极设置的第一图形11511与用于为支撑柱116提供支撑的第二图形11512相邻设置，例如第一图形11511在衬底基板101上的正投影与第二图形11512在衬底基板101上的正投影可以是相接触，或者是间隔。

或者在另外一种实现方式中，第二图形可以是位于第一图形内，也就是第二图形为第一图形的一部分，第二图形11512在衬底基板101上的正投影与第一图形11511在衬底基板101上的正投影是重叠的，进而支撑柱116在透光区的正投影也就位于环绕电极层114的电极设置的第一图形内。这样，也就使得支撑柱116可以是设置在环绕电极层114的电极设置的像素限定层图形1151上，更合理地利用了透光区的像素限定层图形1151，也就使得镂空区1150能够具有更大的范围，进一步增大了透光区的透光率，也就增大了显示基板的透光率。

需要说明的是，在一些实施方式中，设计有镂空区1150的透光区可以是像素限定层115中的一部分区域，该透光区可以是第一透光区，像素限定层115中除第一透光区以外的区域为第二透光区，那么第二透光区也就不包括镂空区1150的设计。可选地，支撑柱116可以是设置在第二透光区的背对衬底基板101的一侧，那么支撑柱116相对于像素限定层115的正投影也就是位于第二透光区，设计有镂空区1150的第一透光区也就不存在支撑柱116的正投影。这样，也就使得第一透光区的像素限定层图形1151只需环绕电极层114的电极设置即可，以确保镂空区1150具有较大的范围，进而也就确保了透光区能够具有较大的透光率。

可选地，本发明实施例提供的显示基板，可以是AMOLED(Active-matrix OrganicLight Emitting Diode，有源矩阵有机发光二极管)显示基板，也可以是PMOLE(PassiveMatrix OLED，被动式有机发光二极管)，还可以是QLED(Quantum Dot Emitting Diode，量子点发光二极管)。显示基板主要包括衬底基板、薄膜晶体管和发光结构；其中，薄膜晶体管主要包括栅极层(GE)、源极漏极金属层(SD)等。

本发明实施例中，请具体参照图1，所述衬底基板101可以是指第一衬底基板，显示基板还可以包括依次设置的第一缓冲层(PB1)102、第二衬底基板(PI2)103、第二缓冲层(PB2)104、保护层105、第一栅极绝缘层(GI1)106、有源层(Poly)107、第一栅极层(GE1)109、第二栅极绝缘层(GI2)108、第二栅极层(GE2)111、中间绝缘层(ILD)110、源极漏极金属层(SD)112、有机平坦层(PLN)113、阳极层(Anode)、像素限定层(PDL)115、支撑层(PS)116。其中，所述电极层114为阳极层。

可以理解地，显示基板中的发光结构主要包括第一电极层、第二电极层和位于第一电极层与第二电极层之间的发光单元。在图1提供的显示基板的基础上，还可以包括阴极层和设置在阳极层与阴极层之间的发光单元。如图2所示，在显示基板为AMOLED的情况下，在阳极层(Anode)和阴极层(Cathode)117之间还可以包括依次设置的空穴注入层(HIL)121、空穴传输层(HTL)122、发光层(EML)123、电子传输层(ETL)124、电子注入层(EIL)125。需要说明地，以上各结构层在显示基板中的具***置关系可以是参照现有技术，在此不做赘述。

本发明实施例还提供一种显示装置，包括如上实施例中所述的显示基板。所述显示装置包括上述显示基板的全部技术特征，并能达到相同的技术效果，为避免重复，此处不再赘述。

所述显示装置可以是手机、平板电脑、电子书阅读器、MP3播放器、MP4播放器、数码相机、膝上型便携计算机、车载电脑、台式计算机、智能电视机、可穿戴设备等。

本发明实施例中，所述显示装置还包括感光模组，所述感光模组位于显示基板中衬底基板的背对所述像素限定层的一侧，所述感光模组相对于所述显示基板的正投影位于所述透光区内。也就是说，所述感光模组为屏下感光模组，光线需要穿过显示基板才能被感光模组接收。如上所述的，透光区包括镂空区的设计，进而透光区的透光率较高，而感光模正对像素限定层的透光区设置，也就确保了感光模组能够接收到较大的光通量，以确保感光模组的感光功能。

可选地，感光模组可以是指纹识别模组或是摄像头模组，透光区中镂空区的设计也就更有利于光学指纹的解锁或是屏下摄像头的成像，以提升感光模组功能实现的顺畅性。

本发明实施例还提供了一种显示基板的制作方法，应用于如上所述的显示基板。请参照图4，所述显示基板的制作方法包括以下步骤：

步骤401、提供一衬底基板。

可选地，所述衬底基板可以是柔性衬底，或者透明衬底等。

本发明实施例中，可以是包括第一衬底基板(PI1)和第二衬底基板(PI2)，在所述第一衬底基板和第二衬底基板之间还可以形成第一缓冲层(PB1)，在第二衬底基板的背对第一缓冲层的一侧形成第二缓冲层(PB2)。本实施例中所选用的衬底基板及缓冲层可以是参考相关技术，此处不做具体限定。

步骤402、在所述衬底基板上形成电极层。

本实施例中，所述电极层为阳极层。

在阳极层与衬底基板之间，还可以形成保护层、第一栅极绝缘层(GI1)、第一栅极层(GE1)、第二栅极绝缘层(GI2)、第二栅极层(GE2)、中间绝缘层(ILD)、源极漏极金属层(SD)、有机平坦层(PLN)等。本实施例中电极层的制备以及上述各结构层的位置关系及制备方法可以是参考相关技术，此处不做进一步限定。

步骤403、在所述电极层的背对所述衬底基板的一侧形成像素限定层，并在所述像素限定层中形成透光区。

其中，所述透光区的像素限定层图形环绕所述电极层的电极设置，所述透光区的除所述像素限定层图形之外的区域为镂空区。

需要说明地，透光区可以是像素限定层中的一部分区域，或者也可以是整个像素限定层都为透光区。透光区中包括镂空区的设计，镂空区的形成可以是对透光区中除像素限定层图形以外的区域进行蚀刻以去除，进而镂空区并不会对光线的入射造成任何影响，光线穿过镂空区后，光通量不会被衰减，进而也就增加了透光区的透光率，使得显示基板的透光率也增大。

本实施例中，透光区的像素限定层图形环绕电极层的电极设置。在一种实现方式中，可以是像素限定层整层都为透光区；在电极层形成后，也就确定了电极层的电极位置，可以是在电极层的每一个电极***形成环绕电极的像素限定层图形，进而也就形成了像素限定层，该像素限定层中未形成像素限定层图形以外的区域也就是镂空区。

本实施例制备的显示基板的具体结构可以参考上述显示基板实施例中的描述，此处不再赘述。

可选地，在所述步骤403之后，所述方法还可以包括：

在所述像素限定层的背对所述衬底基板的一侧形成支撑柱；其中，所述支撑柱在所述透光区的正投影位于所述像素限定层图形内。

这样，也就使得位于透光区背对衬底基板一侧的支撑柱可以是设置在环绕电极层的电极设置的像素限定层图形上，更合理地利用了透光区的像素限定层图形，也就使得镂空区能够具有更大的范围，进一步增大了透光区的透光率，也就增大了显示基板的透光率。

或者，在一些实施方式中，设计有镂空区的透光区可以是像素限定层中的一部分区域，该透光区可以是第一透光区，像素限定层中除第一透光区以外的区域为第二透光区，那么第二透光区也就不包括镂空区的设计。可选地，支撑柱可以是设置在第二透光区的背对衬底基板的一侧，那么支撑柱相对于像素限定层的正投影也就是位于第二透光区，设计有镂空区的第一透光区也就不存在支撑柱的正投影。这样，也就使得第一透光区的像素限定层图形只需环绕电极层的电极设置即可，以确保镂空区具有较大的范围，进而也就确保了透光区能够具有较大的透光率。

本实施例中，所述电极层为阳极层，在像素限定层的背对衬底基板的一侧还可以形成阴极层；在所述阳极层与所述阴极层之间还包括依次形成的空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、发光层(EML)、电子传输层(ETL)、电子注入层(EIL)等，具体的制备方法可以是参考相关技术，此处不做进一步限定。

本实施例制备的显示基板，通过在像素限定层形成包括镂空区的透光区，使得镂空区不会对光线造成阻碍，也就不会对光通量造成衰减，进而增加了透光区的透光率，更有助于显示基板应用在设置有屏下感光模组的显示装置中，以满足屏下感光模组对光通量的需求。

以上，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (9)

1.一种显示基板，其特征在于，包括衬底基板、电极层和像素限定层，所述电极层位于所述衬底基板和所述像素限定层之间，所述像素限定层包括透光区，所述透光区的像素限定层图形环绕所述电极层的电极设置，所述透光区中除所述像素限定层图形之外的区域为镂空区。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括支撑柱，所述支撑柱设于所述像素限定层的背对所述衬底基板的一侧，所述透光区的像素限定层图形包括第一图形及第二图形，所述第一图形环绕所述电极层的电极设置，所述支撑柱在所述透光区的正投影位于所述第二图形内。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述第二图形位于所述第一图形内。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述电极层为阳极层。

5.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-4中任一项所述的显示基板。

6.根据权利要求5所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置还包括感光模组，所述感光模组位于所述衬底基板的背对所述像素限定层的一侧，所述感光模组在所述显示基板的正投影位于所述透光区内。

7.据权利要求6所述的显示装置，其特征在于，所述感光模组为摄像头模组或指纹识别模组。

8.一种显示基板的制作方法，应用于如权利要求1-4中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板上形成电极层；

在所述电极层的背对所述衬底基板的一侧形成像素限定层，并在所述像素限定层中形成透光区；

其中，所述透光区的像素限定层图形环绕所述电极层的电极设置，所述透光区的除所述像素限定层图形之外的区域为镂空区。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

在所述像素限定层的背对所述衬底基板的一侧形成支撑柱；其中，所述支撑柱在所述透光区的正投影位于所述像素限定层图形内。

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