CN110767725B - 一种显示基板、显示装置及显示基板的制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种显示基板、显示装置及显示基板的制作方法；其中，所述显示基板包括衬底基板、支撑柱及位于所述衬底基板与所述支撑柱之间的栅极层，所述衬底基板包括第一透光区及除所述第一透光区以外的非透光区，所述支撑柱在所述衬底基板上形成的正投影位于所述非透光区，和/或，所述支撑柱在所述衬底基板形成的正投影被栅极层图形在所述衬底基板形成的正投影覆盖。本发明提供的技术方案解决了现有的显示基板透光率较低的问题。

Description

一种显示基板、显示装置及显示基板的制作方法
技术领域
本发明涉及通信技术领域，尤其涉及一种显示基板、显示装置及显示基板的制作方法。
背景技术
随着科技的迅速发展，屏下感光模组已经成为目前终端设备的主要发展趋势之一。为确保感光模组的感光效果，屏下感光模组需要感光传感器在有限时间内接收到足够的光通量。但是，目前的显示基板的设计，存在透光率较低的问题。
发明内容
本发明实施例提供一种显示基板、显示装置及显示基板的制作方法，以解决现有的显示基板的透光率较低的问题。
为解决上述问题，本发明是这样实现的：
第一方面，本发明实施例提供了一种显示基板，包括衬底基板、支撑柱及位于所述衬底基板与所述支撑柱之间的栅极层，所述衬底基板包括第一透光区及除所述第一透光区以外的非透光区，所述支撑柱在所述衬底基板上形成的正投影位于所述非透光区，和/或，所述支撑柱在所述衬底基板形成的正投影被栅极层图形在所述衬底基板形成的正投影覆盖。
第二方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括如第一方面中所述的显示基板。
第三方面，本发明实施例还提供了一种显示基板的制作方法，应用于如第一方面中所述的显示基板，所述方法包括以下步骤：
提供一衬底基板；
在所述衬底基板上形成栅极层；
在所述栅极层的背对所述衬底基板的一侧形成支撑柱；
其中，所述衬底基板包括第一透光区及除所述第一透光区以外的非透光区，所述支撑柱在所述衬底基板上形成的正投影位于所述非透光区，和/或，所述支撑柱在所述衬底基板形成的正投影被栅极层图形在所述衬底基板形成的正投影覆盖。
本发明提供的显示基板，支撑柱在衬底基板上形成的正投影位于非透光区，和/或，支撑柱在衬底基板形成的正投影被栅极层图形在所述衬底基板形成的正投影覆盖。也就是说，支撑柱即使相对于第一透光区设置，支撑柱在第一透光区形成的正投影也会被栅极层图形在第一透光区的正投影覆盖，那么支撑柱也就不会在衬底基板上的第一透光区内形成投影，这样也就增加了第一透光区的透光率，进而也就增加了显示基板的透光率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获取其他的附图。
图1是本发明实施例提供的一种显示基板的结构图；
图2是本发明实施例提供的另一种显示基板的结构图；
图3是本发明实施例提供的一种显示基板中发光结构的结构图；
图4是本发明实施例提供的一种显示基板的制作方法的流程图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获取的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供了一种显示基板，如图1所示，所述显示基板包括衬底基板101、支撑柱116及位于衬底基板101与支撑柱116之间的栅极层109，所述衬底基板101包括第一透光区及除第一透光区以外的非透光区，支撑柱116在衬底基板101上形成的正投影位于所述非透光区，和/或，支撑柱116在衬底基板101形成的正投影被栅极层图形在衬底基板101形成的正投影覆盖。
本发明实施例的一种实施方式中，支撑柱116在衬底基板101上形成的正投影位于非透光区。也就是说，第一透光区内不包括支撑柱116在衬底基板101上形成的正投影，进而增加了第一透光区的透光率，也就增加了显示基板的透光率。
或者，在本发明实施例的另一种实施方式中，支撑柱116在衬底基板101上形成的正投影被栅极层图形在衬底基板101形成的正投影覆盖。这种情况下，支撑柱116即使相对于第一透光区设置，支撑柱在第一透光区形成的正投影也会被栅极层图形在第一透光区的正投影覆盖，这样也就更好地利用了栅极层图形不透光的性质，避免了支撑柱116设置在其他位置时会另外在第一透光区形成正投影，这样也就增加了第一透光区的透光率，进而也就增加了显示基板的透光率。
需要说明地，第一透光区可以是衬底基板101中的一部分区域，第一透光区内不包括支撑柱116在衬底基板101上形成的正投影。例如，图2中示出的衬底基板101可以是衬底基板的一部分区域，该部分区域为第一透光区。显示基板中相对于第一透光区的部分未设置有支撑柱116。者，第一透光区可以是指整个衬底基板101，显示基板中相对于第一透光区的部分设置有支撑柱116，但是支撑柱116可以是与栅极层图形相对设置，如图1所示；由于栅极层图形不透光，进而也就使得支撑柱116相对于栅极层的正投影会落在栅极层图形的范围内，也就被栅极层图形所遮挡，从而支撑柱116不会在衬底基板101上的第一透光区内形成投影。本实施例提供的技术方案，也就能够避免支撑柱116设置在其他位置会对光线穿透造成影响、降低第一透光区透光率的问题，进而增加了显示基板的透光率。
或者，在本发明实施例的又一种实施方式中，支撑柱116在衬底基板101上形成的正投影位于所述非透光区，且支撑柱116在衬底基板101形成的正投影被栅极层图形在衬底基板101形成的正投影覆盖。也就是说，支撑柱116不会与第一透光区相对设置，那么支撑柱116也就不会在第一透光区形成投影，并且，支撑柱116在非透光区形成的正投影也被栅极层图形在衬底基板101形成的正投影覆盖，也就避免了支撑柱116设置在其他位置时还会在衬底基板101上形成正投影，这样也就增加了衬底基板的透光率，进而也就增加了显示基板的透光率。
这样的设计，也就更有利于显示基板应用于设置有屏下感光模组的显示装置中，如移动终端等。可选地，屏下感光模组可以是正对显示基板中的第一透光区设置，也就是说，感光模组相对于显示基板的正投影位于第一透光区内。可以理解地，支撑柱116在衬底基板101上形成的正投影位于非透光区，即使支撑柱116相对于第一透光区设置，支撑柱116在第一透光区形成的正投影也被栅极层图形在第一透光区形成的正投影覆盖，进而第一透光区中不包括支撑柱116在衬底基板101上形成的正投影，也就降低了对光通量的衰减，以更好地满足感光模组的光通量要求，确保感光模组的感光功能。例如，感光模组可以是屏下指纹识别模组或是屏下摄像头模组，第一透光区的设计增大了显示基板的透光率，也就更有利于光学指纹的解锁或是屏下摄像头的成像。
可选地，栅极层109包括与第一透光区相对设置的第二透光区，栅极层图形位于第二透光区。
可以理解地，栅极层图形为金属材质，不透光。栅极层109位于衬底基板101与支撑柱116之间，且栅极层109包括与第一透光区相对设置的第二透光区；如图1所示，支撑柱116位于栅极层109的上方，位于第二透光区上方的支撑柱116是与第二透光区内的栅极层图形相对设置的，进而支撑柱116相对第二透光区的正投影也就落在了栅极层图形内(如图1中虚线区域)。这样，也就很好地利用了栅极层图形不透光的特点，进而支撑柱116在第一透光区也就不会产生正投影。而栅极层图形位于第二透光区，栅极层的除第二透光区以外的区域未设置有栅极层图形，也就能够增加栅极层的除第二透光区以外区域的透光率，以增加显示基板的透光率。
需要说明地，第二透光区与第一透光区相对设置，而支撑柱116是可以相对于衬底基板101的非透光区设置的，也即第一透光区上方未设置有支撑柱116。请参照图2，图2中示出的衬底基板101可以是衬底基板的一部分区域，该部分区域为第一透光区，设于该第一透光区上方的为栅极层109中的第二透光区。从图2可以看出，第二透光区上方未设置有支撑柱，进而第一透光区内也就不包括支撑柱形成的正投影，确保了第一透光区具有较好的透光率。
或者，在另一种实施方式中，栅极层图形在衬底基板101上形成的正投影位于非透光区。也就是说，栅极层109的第二透光区内不包括栅极层图形，而第一透光区内也不包括支撑柱116形成的正投影，这样也就使得相对设置的第一透光区和第二透光区都具有较好的透光率，也就进一步增加了第一透光区的透光率，更有利于显示基板应用在具有屏下感光模组的电子设备中。
另外，显示基板还包括源极漏极金属层112，源极漏极金属层112位于栅极层109与支撑柱116之间，源极漏极金属层的图形在衬底基板101上形成的正投影与支撑柱116在衬底基板101上形成的正投影至少部分重合。可以理解地，源极漏极金属层的图形不透光，支撑柱116在衬底基板101上的正投影与源极漏极金属层的图形在衬底基板101上的正投影至少部分重合，也就能够降低支撑柱116对光线穿透的影响。例如，支撑柱116可以是与源极漏极金属层的图形相对设置，利用源极漏极金属层的图形不透光的特点，进而降低了支撑柱116在衬底基板101上产生的投影面积，甚至不会在衬底基板101上产生正投影，也就能够避免支撑柱116设置在其他位置会对光线穿透造成影响，增加了显示基板的透光率。
可选地，所述源极漏极金属层的图形在衬底基板101上形成的正投影覆盖支撑柱116在衬底基板101上形成的正投影。这样，也就更好地利用了源极漏极金属层的图形不透光的特点，使得支撑柱116不会在衬底基板101上的其他区域产生投影，避免支撑柱116设置在其他位置会对光线穿透造成影响，以增加显示基板的透光率。
可选地，本发明实施例提供的显示基板，可以是AMOLED(Active-matrix OrganicLight Emitting Diode，有源矩阵有机发光二极管)显示基板，也可以是PMOLE(PassiveMatrix OLED，被动式有机发光二极管)，还可以是QLED(Quantum Dot Emitting Diode，量子点发光二极管)。显示基板主要包括衬底基板101、薄膜晶体管和发光结构。
本发明实施例中，请具体参照图1和图2，所述衬底基板可以是指第一衬底基板101，所述栅极层可以是指第一栅极层109。作为一种优选的实现方式，显示基板可以包括依次设置的第一衬底基板(PI1)101、第一缓冲层(PB1)102、第二衬底基板(PI2)103、第二缓冲层(PB2)104、保护层105、第一栅极绝缘层(GI1)106、有源层(Poly)107、第一栅极层(GE1)109、第二栅极绝缘层(GI2)108、第二栅极层(GE2)111、中间绝缘层(ILD)110、源极漏极金属层(SD)112、有机平坦层(PLN)113、阳极层(Anode)114、像素限定层(PDL)115、支撑柱(PS)116。
可以理解地，显示基板中的发光结构主要包括第一电极层、第二电极层和位于第一电极层与第二电极层之间的发光单元。在图1提供的显示基板的基础上，还可以包括阴极层和设置在阳极层与阴极层之间的发光单元。如图3所示，在显示基板为AMOLED的情况下，在阳极层(Anode)114和阴极层(Cathode)117之间还可以包括依次设置的空穴注入层(HIL)121、空穴传输层(HTL)122、发光层(EML)123、电子传输层(ETL)124、电子注入层(EIL)125。需要说明地，以上各结构层在显示基板中的具***置关系可以是参照现有技术，在此不做赘述。
本发明实施例还提供一种显示装置，包括如上实施例中所述的显示基板。所述显示装置包括上述显示基板的全部技术特征，并能达到相同的技术效果，为避免重复，此处不再赘述。
所述显示装置可以是手机、平板电脑、电子书阅读器、MP3播放器、MP4播放器、数码相机、膝上型便携计算机、车载电脑、台式计算机、智能电视机、可穿戴设备等。
本发明实施例中，所述显示装置还包括感光模组，所述感光模组位于显示基板中衬底基板的背对所述栅极层的一侧，所述感光模组相对于所述显示基板的正投影位于所述第一透光区内。所述感光模组为屏下感光模组，光线需要穿过显示基板才能被感光模组接收。如上所述的，第一透光区内不包括支撑柱在所述衬底基板上形成的正投影，降低了支撑柱对透光率的影响，进而第一透光区的透光率较高，而感光模正对第一透光区设置，也就确保了感光模组能够接收到较大的光通量，以确保感光模组的感光功能。
可选地，感光模组可以是指纹识别模组或是摄像头模组，第一透光区更有利于光学指纹的解锁或是屏下摄像头的成像，以提升感光模组功能实现的顺畅性。
本发明实施例还提供了一种显示基板的制作方法，应用于如上所述的显示基板。请参照图4，所述显示基板的制作方法包括以下步骤：
步骤401、提供一衬底基板。
可选地，所述衬底基板可以是柔性衬底，或者透明衬底等。
本发明实施例中，可以是包括第一衬底基板(PI1)和第二衬底基板(PI2)，在所述第一衬底基板和第二衬底基板之间还可以形成第一缓冲层(PB1)，在第二衬底基板的背对第一缓冲层的一侧形成第二缓冲层(PB2)。本实施例中所选用的衬底基板及缓冲层可以是参考相关技术，此处不做具体限定。
步骤402、在所述衬底基板上形成栅极层。
可以理解地，栅极层中包括栅极层图形，而栅极层图形不透光。所述栅极层的形成可以是参考相关技术，本实施例对此不做赘述。
步骤403、在所述栅极层的背对所述衬底基板的一侧形成支撑柱。
其中，所述衬底基板包括第一透光区及除所述第一透光区以外的非透光区，所述支撑柱在所述衬底基板上形成的正投影位于所述非透光区，和/或，所述支撑柱在所述衬底基板形成的正投影被栅极层图形在所述衬底基板形成的正投影覆盖。
也就是说，在形成衬底基板后，可以是在衬底基板上界定出第一透光区。在形成支撑柱时，可以是将支撑柱设置在非透光区上方，和/或将支撑柱与栅极层图形相对设置，进而以避免支撑柱在第一透光区内形成正投影。这样，也就确保了第一透光区的透光率较高，更有利于显示基板应用在安装有屏下感光模组的显示装置中。其中，衬底基板、栅极层及支撑柱的具体结构及相对位置关系可以是参考上述显示基板实施例中的具体描述，并能达到上述实施例中的全部有效效果，本实施例对此不再赘述。
另外，所述栅极层包括与所述第一透光区相对设置的第二透光区，所述栅极层图形位于所述第二透光区。
可以理解地，栅极层的图形不透光；在界定出衬底基板上的第一透光区后，可以是在栅极层上界定出与第一透光区相对的第二透光区，并将栅极层图形形成在第二透光区；在形成支撑柱时，将位于第二透光区上方的支撑柱与第二透光区中的栅极层图形相对设置，进而支撑柱相对第二透光区的正投影也就位于栅极层的图形内，也就不会在第一透光区形成支撑柱的正投影。这样，也就确保了第一透光区的透光率较高，更有利于显示基板应用在安装有屏下感光模组的显示装置中。并且，栅极层图形位于第二透光区内，那么栅极层的除第二透光区以外的区域未设置有栅极层图形，也就能够增加栅极层的除第二透光区以外区域的透光率，进而增加显示基板的透光率。
或者在其他的实施方式中，栅极层图形还可以是位于所述第二透光区之外。也就是说，栅极层的第二透光区内不包括栅极层图形，而第一透光区内也不包括支撑柱形成的正投影，这样也就使得相对设置的第一透光区和第二透光区都具有较好的透光率，也就进一步增加了第一透光区的透光率，更有利于显示基板应用在具有屏下感光模组的电子设备中。
另外，还可以在栅极层与支撑柱之间形成源极漏极金属层，且源极漏极金属层的图形在衬底基板上的正投影与支撑柱在衬底基板上的正投影至少部分重合。可以理解地，源极漏极金属层的图形不透光，这样的设置也就能够降低支撑柱对光线穿透的影响。例如，支撑柱可以是与源极漏极金属层的图形相对设置，利用源极漏极金属层的图形不透光的特点，进而降低了支撑柱在衬底基板上产生的投影面积，甚至不会在衬底基板上产生正投影，也就能够避免支撑柱设置在其他位置会对光线穿透造成影响，增加了显示基板的透光率。本实施例制备的显示基板的具体结构可以是参照上述显示基板实施例中的描述，此处不再赘述。
以上，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (7)

1.一种显示基板，其特征在于，包括衬底基板、支撑柱及位于所述衬底基板与所述支撑柱之间的栅极层，所述衬底基板包括第一透光区及除所述第一透光区以外的非透光区，所述支撑柱在所述衬底基板形成的正投影被栅极层图形在所述衬底基板形成的正投影覆盖；
所述栅极层包括第二透光区；所述第二透光区与所述第一透光区相对应设置，所述栅极层图形位于所述第二透光区；所述栅极层的除第二透光区以外的区域未设置有栅极层图形。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括源极漏极金属层，所述源极漏极金属层位于所述栅极层与所述支撑柱之间，所述源极漏极金属层的图形在所述衬底基板上形成的正投影与所述支撑柱在所述衬底基板上形成的正投影至少部分重叠。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述源极漏极金属层的图形在所述衬底基板上形成的正投影覆盖所述支撑柱在所述衬底基板上形成的正投影。
4.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-3中任一项所述的显示基板。
5.根据权利要求4所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置还包括感光模组，所述感光模组位于所述衬底基板的背对所述栅极层的一侧，所述感光模组在所述显示基板的正投影位于所述第一透光区内。
6.据权利要求5所述的显示装置，其特征在于，所述感光模组为摄像头模组或指纹识别模组。
7.一种显示基板的制作方法，应用于如权利要求1-3中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述方法包括以下步骤：
提供一衬底基板；
在所述衬底基板上形成栅极层；
在所述栅极层的背对所述衬底基板的一侧形成支撑柱；
其中，所述衬底基板包括第一透光区及除所述第一透光区以外的非透光区，所述支撑柱在所述衬底基板形成的正投影被栅极层图形在所述衬底基板形成的正投影覆盖；所述栅极层包括第二透光区；所述第二透光区与所述第一透光区相对应设置，所述栅极层图形位于所述第二透光区；所述栅极层的除第二透光区以外的区域未设置有栅极层图形。
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