CN110603307B - 含纳米气泡的无机氧化物微粒及包含其的研磨剂 - Google Patents

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Abstract

本发明的课题在于提供在作为研磨剂使用的工序中浓缩稳定性优异的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液。通过一种含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液来解决上述课题，所述含纳米气泡的无机氧化物微粒包含：无机氧化物微粒，其平均粒径为1～500nm，且包含含有Ce的微粒；和纳米气泡，其平均气泡直径为50～500nm，且为非氧化性气体，所述非氧化性气体为选自N2及H2中的至少一者。

Description

含纳米气泡的无机氧化物微粒及包含其的研磨剂
技术领域
本发明涉及含纳米气泡的无机氧化物微粒及包含其的研磨剂。
背景技术
在半导体基板、布线基板等半导体器件等中，表面状态对半导体特性造成影响，因此要求对这些部件的表面或端面进行极高精度的研磨。
以往，作为这样的构件的研磨方法，进行如下方法：通过进行较粗的1次研磨处理后，进行精密的2次研磨处理，从而得到平滑的表面或划痕等损伤少的极高精度的表面。
作为在作为这样的精研磨的2次研磨中使用的研磨剂，以往提出例如如下的方法等。
在专利文献1中提出一种研磨用二氧化硅溶胶，其特征在于，其是二氧化硅微粒分散于分散介质而成的二氧化硅溶胶，该二氧化硅微粒的粒径分布中的最频粒径处于5～100nm的范围，而且满足如下条件：1)超过最频粒径的二氧化硅微粒的比例相对于全部二氧化硅微粒为0.1～30体积％的范围，2)最频粒径以下的粒径分布中的粒径变动系数为8～70％的范围。而且还记载了如下内容：根据这样的研磨用二氧化硅溶胶，应用于研磨用途，抑制线状痕、划痕等的产生，持续地显示优异的研磨速度。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2013-177617号公报
发明内容
发明要解决的课题
一般而言，二氧化硅微粒等无机氧化物微粒分散于分散介质而成的无机氧化物微粒分散液，只要没有特别障碍，则固体成分浓度高时适合于搬运的作业或各种工序中的处理。另外，在将该无机氧化物微粒分散液应用于研磨用途的情况下，研磨处理大多在开放体系中进行，在研磨液制备时大多会因由周围的环境变化(温度、湿度等)或罐内的搅拌所致的研磨液的液面变动、飞散液等而产生干燥物或由部分浓缩所致的微凝胶等异物，因此一般在所需的工序或最终工序中进行精密过滤。另外，对于研磨需要时间的研磨基板(例如钽酸锂、钽酸铌、蓝宝石等)，根据需要将研磨液再次循环使用，大多会因与周围的环境变化或研磨液的消耗相伴的循环罐的液面变化、与来自循环液的返回管路的研磨液的落下相伴的液面变动等，而招致在循环罐壁面的水垢生成、由研磨液的浓缩所致的微凝胶的产生、凝聚物的生成等。对于这样的异物而言，通过精密过滤能够一定程度地除去硬且大的异物，但是难以完全除去特别柔软且细小的微凝胶。已知基于包含这样的微凝胶异物的无机氧化物微粒分散液的研磨处理会招致在被研磨面的划痕(线状痕)的产生、研磨作业的操作性降低。
予以说明，认为因无机氧化物微粒分散液的浓缩而招致在被研磨面的划痕(线状痕)的产生、研磨作业的操作性降低的原因在于产生，如下影响：例如在二氧化硅微粒分散液的情况下，二氧化硅微粒分散液中所含的微凝胶(低分子二氧化硅的凝聚体等)通过浓缩而使微凝胶彼此进一步凝聚、或者发生微凝胶与二氧化硅微粒的凝聚，由此生成可能成为划痕产生或操作性降低原因的大小的凝聚物。
予以说明，这样的现象并不限定于二氧化硅溶胶，也同样地发生在二氧化铈溶胶、氧化铝溶胶、氧化钛溶胶等通常在研磨中使用的研磨剂及它们的复合微粒中。
另外，并不限于二氧化硅微粒分散液，无机氧化物微粒分散液大多在其制备工序及研磨工序中也会因由周围的环境变化(温度、湿度等)、罐内的搅拌所致的研磨液的液面变动、飞散液等，而生成非沉降性的微粒或微凝胶。已知：在将无机氧化物微粒分散液应用于研磨用途的情况下，上述非沉降性的微粒或微凝胶进一步凝聚而成为粗大粒子，在将无机氧化物微粒分散液用于研磨用途之前进行的过滤处理中，容易招致过滤性的降低。
本发明人为了解决如上所述的课题而进行深入研究，发现：在特定条件下向包含二氧化铈溶胶、烧成二氧化铈、二氧化硅二氧化铈复合溶胶、二氧化铈氧化铝复合溶胶、二氧化铈氧化钛复合溶胶等含有Ce的微粒的无机氧化物微粒分散液中添加纳米气泡，并且在纳米气泡能够发挥其功能的特定条件下进行混合，由此得到能够解决上述课题的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液及包含其的研磨剂。
即，本发明的目的在于在作为研磨剂使用的工序中提供浓缩稳定性优异的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液及包含其的研磨剂。
本发明利用纳米气泡的破裂效果将在二氧化铈微粒分散液、含有烧成二氧化铈粉末的分散液、二氧化硅二氧化铈复合微粒分散液、二氧化铈氧化铝复合微粒分散液、二氧化铈氧化钛复合微粒分散液等包含含有Ce的微粒的无机氧化物微粒分散液中存在的微凝胶进行破碎、分散，由此使微凝胶减少，进而抑制粗大粒子的产生，从而达成浓缩稳定性和过滤性的提高。
用于解决课题的手段
本发明人为了解决上述课题而进行深入研究，完成了本发明。
本发明为以下的(1)～(8)。
(1)一种含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液，包含：
无机氧化物微粒，其平均粒径为1～500nm，且包含含有Ce的微粒；和
纳米气泡，其平均气泡直径为50～500nm，且为非氧化性气体，所述非氧化性气体是选自N2及H2中的至少一者。
(2)根据上述(1)所述的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液，其包含105个/mL以上的纳米气泡。
(3)根据上述(1)或(2)所述的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液，其中，当在将固体成分浓度调整为0.005质量％且将pH调整为4.5的情况下的流动电位设为V2[mV]、并且在将除去上述纳米气泡而将固体成分浓度调整为0.005质量％且将pH调整为4.5的情况下的流动电位设为V1[mV]时，流动电位差ΔV＝V1―V2为10mV以上。
(4)根据上述(1)～(3)中任一项所述的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液，其特征在于，上述无机氧化物微粒为二氧化硅二氧化铈复合微粒。
(5)根据上述(1)～(4)中任一项所述的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液，其特征在于，上述二氧化硅二氧化铈复合粒子中的二氧化铈含有率为10质量％以上。
(6)根据上述(1)～(5)中任一项所述的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液，其特征在于，相对于将上述纳米气泡假定为球而由上述纳米气泡的平均气泡直径(r)和平均气泡个数(N)求得的合计表面积(4πr2N)，一价阴离子的含量小于8.8×10-6摩尔/m2。
(7)根据上述(1)～(6)中任一项所述的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液，其特征在于，相对于将上述纳米气泡假定为球而由上述纳米气泡的平均气泡直径(r)和平均气泡个数(N)求得的合计表面积(4πr2N)，二价阴离子的含量小于4.4×10-6摩尔/m2。
(8)一种研磨剂，其包含上述(1)～(7)中任一项所述的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液。
发明效果
根据本发明，可以提供在作为研磨剂使用的工序中即使由浓缩等而发生固体成分的上升，浓缩稳定性和过滤性也优异、并且可抑制操作性降低的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液及包含其的研磨剂。
附图说明
图1是表示实施例和比较例的浓缩稳定性的图表。
图2是表示实施例和比较例的浓缩稳定性的另一图表。
图3是表示实施例和比较例的浓缩稳定性的又另一图表。
具体实施方式
对本发明进行说明。
本发明是一种含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液，包含：无机氧化物微粒，其平均粒径为1～500nm，且包含含有Ce的微粒；和纳米气泡，其平均气泡直径为50～500nm，且为非氧化性气体，所述非氧化性气体是选自N2及H2中的至少一者。
以下，将这样的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液也称作“本发明的分散液”。
在本发明的分散液中，首先，准备无机氧化物微粒和纳米气泡。
无机氧化物微粒是平均粒径为1～500nm的无机氧化物微粒，其通常分散于溶剂中。
予以说明，在本发明的分散液中，无机氧化物微粒的平均粒径是指：由基于在后述的实施例中详细说明的使用透过型电子显微镜的图像解析法的测定结果推算的值。
在此，无机氧化物微粒适宜为以二氧化铈微粒作为主成分的无机氧化物微粒，或者优选为以Ce作为必须成分、并且以包含选自例如Si、Al、B、Mg、Ca、Ba、Mo、Zr、Ga、Be、Sr、Y、La、Ce、Sn、Fe、Zn、Mn、C、H及Ti中的至少1种元素的复合氧化物作为主成分的无机氧化物微粒。
无机氧化物微粒可以包含二氧化铈微粒和上述复合氧化物两者作为主成分，另外，优选为实质上包含它们中的至少一者的无机氧化物微粒。予以说明，该无机氧化物微粒是包含无机复合氧化物微粒的概念。
在此，“主成分”是指含有率优选为50质量％以上(即无机氧化物微粒包含的、Si、Al、B、Mg、Ca、Ba、Mo、Zr、Ga、Be、Sr、Y、La、Ce、Sn、Fe、Zn、Mn、C、H及Ti的氧化物的合计含有率为50质量％以上)，更优选为60质量％以上，更优选为80质量％以上，更优选为90质量％以上，进一步优选为95质量％以上。另外，“实质上”是指可以包含从原料和制造工序混入的杂质。以下，提及的“主成分”及“实质上”只要没有特别说明则均以这样的含义使用。
无机氧化物微粒包含Ce。例如在无机氧化物微粒包含二氧化铈微粒(优选作为主成分)的情况下，氧缺陷容易减少，因此为了避免该氧缺陷，更优选使用N2或H2的非氧化性气体作为纳米气泡。
＜关于二氧化铈和非氧化性气体＞
包含Ce的无机氧化物微粒理想的是二氧化铈微粒或二氧化硅二氧化铈复合微粒。已知二氧化铈微粒或二氧化硅二氧化铈复合微粒对二氧化硅具有特异的研磨效果，显示高研磨速度。其研磨机制的一般说法为4价的二氧化铈粒子表面的Ce3+与二氧化硅特异性地反应。但是，Ce3+容易减少因无机氧化物微粒分散液中所含的氧化性的气体等所致的氧缺陷。为了避免该氧缺陷，更优选使用N2或H2的非氧化性气体作为纳米气泡。
＜关于二氧化硅二氧化铈复合微粒＞
包含Ce的无机氧化物微粒，理想的是二氧化硅二氧化铈复合微粒。这是由于：Si与氧化铈容易形成侵入型固溶体，形成侵入型固溶体的结果使氧化铈的结晶结构产生应变，产生氧缺位，由此促进Ce3+的生成。
另外，在无机氧化物微粒因杂元素的存在而形成侵入型固溶体并且氧缺位增加的情况下，也优选使用非氧化性气体作为纳米气泡。作为这样的例子，可列举无机氧化物微粒包含Ce、并且还包含Si、C、N、La、Zr、Al等杂元素的情况。
＜组成＞
在无机氧化物微粒为二氧化硅二氧化铈复合微粒的情况下，该二氧化硅二氧化铈复合微粒中的二氧化铈的含有比例(质量％)、即二氧化铈/(二氧化硅+二氧化铈)×100优选为10质量％以上，更优选为20质量％以上，最优选为30质量％以上。这是由于：在二氧化铈质量％低于10质量％的情况下，由于二氧化铈的含量过低，因此有可能不会对二氧化硅显示充分的研磨效果。
无机氧化物微粒的平均粒径为500nm以下，优选为300nm以下，更优选为200nm以下，更优选为100nm以下。另外，平均粒径为1nm以上，优选为5nm以上。
＜关于流动电位＞
在将含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液用蒸馏水及硝酸溶液进行稀释而制成固体成分浓度0.005质量％、pH4.5时，理想的是该含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液的流动电位取负值。这是由于：在流动电位取负值的情况下，含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液的分散稳定性提高。
＜关于δ流动电位＞
从本发明的分散液中除去纳米气泡，得到包含含有Ce的无机氧化物微粒的分散液后，用蒸馏水及硝酸溶液进行稀释，制成固体成分浓度调整为0.005质量％、pH调整为4.5的分散液，将该分散液的流动电位设为V1，并且将包含含有Ce的无机氧化物微粒及纳米气泡的分散液(即本发明的分散液)同样地制成固体成分浓度调整为0.005质量％、pH调整为4.5的分散液，将该分散液的流动电位设为V2，此时的电位差ΔV(ΔV＝V1―V2)理想的是10mV以上。
在此，流动电位差ΔV为10mV以上是指微粒分散液的流动电位负增大。通常，纳米气泡具有负电位而保持稳定性，尤其在低pH区域中将氧化铈等具有正流动电位的无机氧化物微粒和纳米气泡分散液混合时，纳米气泡的一部分吸附于无机氧化物微粒表面，该表面被纳米气泡覆盖，因此推定负流动电位增大。即使无机氧化物微粒是具有负电位的无机氧化物微粒，在其电位小的情况下，ΔV增大，纳米气泡的一部分通过物理吸附等而覆盖无机氧化物微粒表面，推定负电位增大。
若纳米气泡的一部分覆盖包含Ce的无机氧化物微粒表面，则使无机氧化物微粒的分散稳定性提高，因此是理想的。另外，由于纳米气泡为非氧化性的气体，因此认为还具有抑制Ce3+的氧化的效果。
可以分散这样的无机氧化物微粒的溶剂并无特别限定，但优选为水(包含离子交换水、纯水)。
纳米气泡是气泡直径为500nm以下的微细气泡。该气泡直径优选为400nm以下，进一步优选为350nm以下。另外，该气泡直径为50nm以上，更优选为70nm以上。
纳米气泡的平均气泡直径及气泡个数通过利用纳米粒子追踪解析法测定液体中的气泡的布朗运动移动速度来求得。
关于纳米气泡中所含的气体的种类，是能够通过纳米气泡的破裂而发挥破碎微凝胶的效果的气体，其是选自N2及H2中的至少一者。在此，纳米气泡只要实质上由选自N2及H2中的至少一者构成即可，容许以被认为是从原料和制造工序中混入的杂质的程度的量包含其他气体、例如O2。
本发明的分散液优选包含1.0×105个/mL以上的纳米气泡，更优选包含1.1×105个/mL以上的纳米气泡，更优选包含1.0×108个/mL以上的纳米气泡，进一步优选包含1.1×108个/mL以上的纳米气泡。该纳米气泡的个数优选为1000×108个/mL以下，更优选为500×108个/mL以下，进一步优选为100×108个/mL以下。
微气泡的产生方法并无特别限制，可以使用以往公知的方法。可列举例如回旋流式、静态混合机式、喷射器式、文氏管式、加压溶解式、细孔式、旋转式、超声波式、蒸气凝缩式、电解式等。
本发明的分散液可以通过将包含如上所述的无机氧化物微粒的分散液(也称作“无机氧化物微粒分散液”)和包含纳米气泡的水溶液加以混合而得到。另外，也可以通过在无机氧化物微粒分散液的内部产生纳米气泡而得到。
在无机氧化物微粒分散液的内部产生纳米气泡的方法并无特别限定，可以利用前述的以往公知的方法。
若在得到包含无机氧化物微粒分散液和纳米气泡水溶液的溶液的同时或之后将包含无机氧化物微粒分散液和纳米气泡水溶液的溶液保持在例如5～80℃、并且进行(优选0.5小时以上)混合，则可以在作为研磨剂使用的工序中得到浓缩稳定性优异的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液。
保持包含无机氧化物微粒分散液和纳米气泡水溶液的溶液的温度，优选为5～80℃，更优选为50℃以下，进一步优选为30℃以下。
另外，若包含无机氧化物粒子分散液和纳米气泡水溶液的溶液共存，则纳米气泡带负电，因此与无机粒子的表面相互作用而使负电荷变大。
另外，在具有负电荷的纳米气泡表面进行相互作用，纳米气泡因气体成分的溶解而变小，同时压力变高，溶解速度被加速。但是，若与阴离子相比而存在更多阳离子，则随着纳米气泡变小，表面的阳离子密度上升，形成包含阳离子的屏障，气体成分的溶解速度降低，纳米气泡的气体的溶解速度降低，使消失变慢，结果认为使浓缩稳定性得以继续。
相比，若阴离子变多，则与纳米气泡表面的阳离子反应，纳米气泡的寿命变短，浓缩稳定性变差。
最佳的阴离子量还与阳离子量相关。
所需的一价阴离子量理想的是：相对于将上述纳米气泡假定为球而由含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液(本发明的分散液)中所含的平均气泡直径(r)和平均气泡个数(N)求得的合计表面积(4πr2N)，一价阴离子的含量小于8.8×10-6摩尔/m2。
另外，所需的二价阴离子量理想的是：相对于将上述纳米气泡假定为球而由含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液(本发明的分散液)中所含的平均气泡直径(r)和平均气泡个数(N)求得的合计表面积，二价阴离子的含量小于4.4×10-6摩尔/m2。
在无机氧化物微粒分散液中添加纳米气泡水溶液，进行混合。混合手段并无特别限定，优选基于搅拌的混合等。对混合的时间并无特别限制，但优选混合例如0.5小时以上。
这样得到的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液可以优选用作在作为制造半导体基板、布线基板等半导体器件等的过程之一的精研磨(2次研磨)中使用的研磨剂。
也可以将含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液直接用作研磨剂，作为添加剂，可以包含例如选自以往公知的研磨促进剂、表面活性剂、杂环化合物、pH调整剂及pH缓冲剂中的1种以上。予以说明，当在由含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液制备研磨用浆料时等需要稀释含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液的情况下，理想的是添加含有纳米气泡的水进行稀释。
另外，在使用研磨剂来研磨半导体器件等的情况下，如果在微凝胶少时能够短时间完成研磨剂的过滤，则会使生产效率提高，故优选。在使用本发明的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液作为研磨剂的情况下，不仅过滤速度非常快，而且浓缩稳定性优异。
本发明人推测这样使过滤速度快、浓缩稳定性良好的理由在于通过在纳米气泡消失时产生的冲击波来分散微凝胶。如果因分散微凝胶而消失，则使粗大粒子进一步减少，因此认为会使被研磨面的面精度提高(划痕等减少)。进而，还确认到研磨速度的提高。
本发明是包含如上所述的本发明的分散液的研磨剂。
本申请发明的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液可以通过使该分散液中存在纳米气泡而抑制或杀死该分散液中的霉类、菌类及藻类等的发芽、产生及幼体、以及幼态的生长。这些数微米以下的生物应该也称作纳米生物，因此难以进行通常的过滤等机械性的除去，还容易从空气中飞来。因此，用药剂来杀死它们，但是其本身为有机物，还不能避免残留而成为污染源。
与此相对，已知一般存在于液体中的数微米的纳米气泡对在液体中生长并繁殖的霉类、菌类及藻类等具有杀霉、杀菌或杀藻的效果，但当在这些微生物繁殖后将数微米的纳米气泡添加到液体中的情况下，虽然能够停止繁殖，但是微生物的残骸大量残留，即使滤出这些死骸，也会在残留于过滤器表面的死骸上繁殖。另外，数微米的纳米气泡的寿命为数日以内，因此无持续性，对于在过滤后从过滤器挤过去的胞子等或空气飞来的纳米生物效果弱。因此，例如在半导体的研磨用途等中，为了纳米生物的死灭而添加的药剂或以异物的形式残留的微生物的残骸有可能对半导体的性能造成影响。
另一方面，当在该分散液中霉类、菌类或藻类的生育充分进行之前将数微米以下的纳米气泡添加到无机微粒分散液的情况下，由于纳米气泡存在数月以上，因此可以在这些微生物的生长前的胞子乃至幼体及幼态的阶段进行破坏。因此，由于它们不会在过滤器面繁殖，因此不仅胞子、幼体及幼态等不会从过滤器等挤过去，而且即使从空气中飞来而混入，也能抑制其成长，并且能够抑制霉类、菌类及藻类的大量产生，能够降低由来自上述药剂的有机物及来自生体的有机异物的残留所致的影响。因此，例如在将本申请发明的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液应用于半导体的精密电路的研磨用途的情况下，能够抑制不良发生。因此，在本申请发明的含纳米气泡的无机氧化物微粒的制造方法中，作为包含含有Ce的微粒的无机氧化物微粒分散液，优选使用包含胞子或幼体及幼态阶段或其以前的阶段的霉类、菌类及藻类的该分散液作为原料。
予以说明，关于数微米以下的纳米气泡对胞子乃至幼体等的破坏机制，可视为如下机制：产生因自加压效果经时地使气泡缩小并崩坏的现象(热点现象)，破坏水分子，由此产生的自由基会破坏构成胞子乃至幼体及幼态等的外表面的分子键，由此阻碍它们的生理活动。
在此，所使用的“幼体”及“幼态”并非以严密的术语来使用，其作为进行前者能够发挥动物性的生物的增殖功能、后者能够发挥植物性的生物的增殖功能的生长的前阶段的生理活动的生物的统称来使用。
通常来说，Ce对二氧化硅的特异性的研磨效果在学会等研究者之间的一般说法为4价二氧化铈粒子的表面的Ce3+与二氧化硅特异性地反应。如果这正确的话，优选在二氧化铈系磨粒的分散介质中不包含氧化性物质。即，本申请发明通过抑制二氧化铈的氧化且抑制纳米尺寸的大小的生物的生理活性，并且抑制磨粒分散液及研磨浆料中的基板残留性的有机物，从而可以防止半导体等的基板的污染。
实施例
以下对于实施例及比较例中使用的分析方法或测定方法进行记述。
[无机氧化物微粒的平均粒径]
无机氧化物微粒的平均粒径利用图像解析法来测定。具体而言，在利用透过型电子显微镜(株式会社日立制作所制、H-800)以25万倍的倍率对试样的无机氧化物微粒分散液进行照片拍摄而得到的照片投影图中，以无机氧化物微粒的最大径作为长轴，测定其长度，并且将该值设为长径(DL)。另外，在长轴上确定将长轴2等分的点，并且求出与该长轴正交的直线与微粒的外缘相交的2点，测定该2点间的距离，设为短径(DS)。然后，将短径(DS)和长径(DL)的单纯平均值设为该微粒的粒径。这样对任意的500个微粒求得粒径，将它们的平均值设为无机氧化物微粒的平均粒径。
[纳米气泡的平均气泡直径和纳米气泡的气泡个数]
关于纳米气泡水溶液中的纳米气泡的平均气泡直径和纳米气泡的气泡个数，使用纳米粒子追踪解析法对液体中的气泡的布朗运动移动速度进行了测定。具体而言，一边吸取测定试样(含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液)约20mL，一边注入测定设备(Malvern公司制“Nanosight NS300”)，用纳米粒子追踪解析法测定纳米气泡的平均气泡直径和纳米气泡的气泡个数。
[浓缩稳定性的测定方法]
将实施例或比较例中所得的无机氧化物微粒分散液放入1L的茄型烧瓶中，设置与旋转蒸发器中，设定成浴温60℃后，在真空度-740mmHg进行浓缩。在茄型烧瓶内壁面观察到凝胶状物的时刻停止浓缩，回收无机氧化物溶胶，测定了固体成分浓度。
将在实施例或比较例中刚得到无机氧化物微粒分散液后进行这样的操作而得到的固体成分浓度的值设为表示初始浓缩稳定性的指标。另外，将在实施例或比较例中得到无机氧化物微粒分散液后经过30天后进行这样的操作而得到的固体成分浓度的值设为表示经过30天后的浓缩稳定性的指标。
[粗大粒子的个数测定方法]
将用包含过滤助剂的过滤器对测定试样进行过滤处理之前(或之后)的胶体二氧化硅浆料用6mL的注射器注入下述测定设备中，测定粗大粒子量。
测定设备和测定条件如下所示。
测定设备：PSS公司制“AccuSizer 780APS”
注射回路容积(Injection Loop Volume)：1mL
流速(Flow Rate)：60mL/分钟
数据收集时间(Data Collection Time)：60秒
通道数(NumberChannels)：128
[流动电位差(ΔV)的测定方法]
准备实施例或比较例所得的无机氧化物微粒分散液中的无机氧化物微粒浓度为0.005质量％的无机氧化物微粒分散液200g(固体成分质量0.01g)，一边将其搅拌，一边用0.5％硝酸溶液调整为pH4.5，之后，用京都电子工业公司制流动电位计(AT-610)测定了电位。将该值设为V2。
准备将原料的无机氧化物微粒分散液用蒸馏水稀释成无机氧化物微粒浓度为0.005质量％的无机氧化物微粒分散液200g(固体成分质量0.01g)，一边将其搅拌，一边用0.5％硝酸溶液调整成pH4.5，之后，同样地用流动电位计测定电位。将该值设为V1。
将这样求得的V1与V2的流动电位差的值设为ΔV(ΔV＝V1―V2)。
[杂质的定量]
无机氧化物微粒分散液或含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液中的分散液所含的氯离子、硝酸根离子、硫酸根离子的浓度均用离子色谱法来测定。
[含纳米气泡的无机粒子氧化物微粒分散液中的纳米气泡的定量]
将含纳米气泡的无机粒子氧化物微粒分散液用超滤膜(旭化成制SIP-1013截留分子量6000)进行过滤，除去无机氧化物微粒，使用纳米粒子追踪解析法测定滤液中的气泡的布朗运动移动速度，由此求得纳米气泡的平均气泡直径及气泡个数。具体而言，一边吸取测定试样(含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液)约20mL，一边注入测定设备(Malvern公司制“Nanosight NS300”)，利用纳米粒子追踪解析法进行了测定。
[30天后的纳米气泡残留比例]
用上述方法测定纳米气泡水溶液中的纳米气泡的平均气泡直径和纳米气泡的气泡个数，将所得的纳米气泡的气泡个数设为“原料纳米气泡水溶液中的纳米气泡个数”。接着，将规定量的该纳米气泡水溶液和规定量的无机氧化物微粒分散液加以混合，而制备得到含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液。将包含该含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液的测定试样2L在25℃下保存30天后，一边从其中吸取约20mL，一边与上述同样地除去无机氧化物微粒，之后，求出纳米气泡的平均粒径和纳米气泡的气泡个数，将该气泡个数设为“30天后的纳米气泡个数”。
然后，将[30天后的纳米气泡个数]/[原料纳米气泡水溶液中的纳米气泡个数]×100设为“30天后的纳米气泡残留比例”。
＜参考例1＞
准备平均粒径3nm的二氧化硅微粒分散于水而成的二氧化硅微粒分散液(固体成分浓度5质量％)500g，将温度保持于20℃，向其中添加平均气泡直径为200nm的1.1×108个/ml的含N2的纳米气泡水溶液500g。然后，保持该温度并搅拌1Hr，得到含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液。按照上述浓缩稳定性的测定方法将所得的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液进行浓缩，评价了浓缩稳定性。将处理条件等及各测定结果示于第1表中。
另外，将所得的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液用过滤器(过滤器直径：0.5μm)在过滤压1mPa下进行过滤时的过滤速度为35g/分钟。对于通过过滤器的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液，使用PSS公司制AccuSizer 780APS，测定了粒径0.51μm以上的粗大粒子的个数，结果为20万个/ml。
＜参考例2＞
准备平均粒径80nm的二氧化硅微粒分散于水而成的二氧化硅微粒分散液(固体成分浓度40质量％)500g，将温度保持于20℃，向其中添加平均气泡直径为180nm的1.1×108个/ml的含N2的纳米气泡水溶液500g。然后，保持该温度并搅拌2Hr，之后，按照上述浓缩稳定性的测定方法将所得的无机氧化物微粒分散液进行浓缩，评价了浓缩稳定性。将处理条件等及各测定结果示于第1表中。
＜参考例3＞
准备平均粒径12nm的二氧化硅微粒分散于水而成的二氧化硅微粒分散液(固体成分浓度30质量％)500g，将温度保持于20℃，向其中添加平均气泡直径为150nm的2.2×108个/ml的含N2的纳米气泡水溶液500g。然后，保持该温度并搅拌2Hr，之后，按照上述浓缩稳定性的测定方法将所得的无机氧化物微粒分散液进行浓缩，评价了浓缩稳定性。将处理条件等及各测定结果示于第1表中。
＜参考例4＞
准备平均粒径5nm的二氧化硅微粒分散于水而成的二氧化硅微粒分散液(固体成分浓度20质量％)500g，将温度保持于20℃，向其中添加平均气泡直径为293nm的2.0×108个/ml的含N2的纳米气泡水溶液500g。然后，保持该温度并搅拌2Hr，之后，与参考例1同样地按照上述浓缩稳定性的测定方法将得到的溶液进行浓缩。将处理条件等及结果示于第1表中。
＜参考例5＞
准备平均粒径250nm的二氧化硅微粒分散于水而成的二氧化硅微粒分散液(固体成分浓度48质量％)500g，将温度保持于5℃，向其中添加平均气泡直径为80nm的5.0×108个/ml的含N2的纳米气泡水溶液500g。然后，保持该温度并搅拌1.5Hr搅拌，之后，与参考例1同样地按照上述浓缩稳定性的测定方法将得到的溶液进行浓缩。将处理条件等及结果示于第1表中。
＜比较例1＞
将平均粒径20nm的二氧化硅微粒分散于水而成的二氧化硅微粒分散液(固体成分浓度：5质量％)的pH维持为9，一边将温度保持于80℃，一边用5小时添加硝酸铈水溶液(二氧化铈换算浓度：5质量％)。予以说明，二氧化硅微粒分散液和硝酸铈水溶液按照SiO2/CeO2质量比＝50/50进行投入，制备二氧化硅二氧化铈复合氧化物微粒分散液(SiO2/CeO2质量比＝50/50)。
之后，用超滤膜水洗后，进行浓缩。准备这样的包含SiO2·CeO2的无机氧化物微粒分散液(固体成分浓度：20质量％、平均粒径25nm)500g。然后，使该水溶液内产生平均气泡直径为300nm的1.0×108个/ml的含O2的纳米气泡。产生纳米气泡后的溶液为1000g。
然后，将溶液的温度保持于20℃并搅拌24Hr，之后，与参考例1同样地按照上述浓缩稳定性的测定方法将得到的溶液进行浓缩。将处理条件等及结果示于第1表中。
＜参考例6＞
将平均粒径17nm的二氧化硅微粒分散于水而成的二氧化硅微粒分散液(固体成分浓度：5质量％)的pH维持为9，一边保持温度80℃，一边用5小时添加碳酸锆铵水溶液(氧化锆换算浓度：5质量％)。予以说明，二氧化硅微粒分散液和碳酸锆铵水溶液按照使SiO2/ZrO2质量比＝75/25的方式进行投入，制备二氧化硅·氧化锆复合微粒分散液(SiO2/ZrO2质量比＝75/25)。
之后，用超滤膜水洗后，进行浓缩。准备这样的包含SiO2·ZrO2的无机氧化物微粒分散液(固体成分浓度：20质量％、平均粒径20nm)500g，将温度保持于10℃，向其中添加平均气泡直径为70nm的2.0×108个/ml的含N2的纳米气泡水溶液500g。然后，保持该温度并搅拌2Hr，之后，与参考例1同样地按照上述浓缩稳定性的测定方法将得到的溶液进行浓缩。将处理条件等及结果示于第1表中。
＜实施例1＞
准备平均粒径20nm的二氧化铈微粒分散于水而成的二氧化铈微粒分散液(固体成分浓度20质量％)500g，将温度保持于30℃，向其中添加平均气泡直径为290nm的15×108个/ml的含N2的纳米气泡水溶液500g。然后，保持温度30℃并搅拌60小时，之后，按照上述浓缩稳定性的测定方法将所得的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液进行浓缩，评价了浓缩稳定性。将处理条件等及各测定结果示于第1表中。
另外，将按照前述的“流动电位差(ΔV)的测定法”测定的上述二氧化铈微粒分散液的流动电位(V1)[―50mV]、含纳米气泡的二氧化铈微粒分散液的流动电位(V2)[―110mV]及由V1和V2求得的流动电位差(ΔV)[60mV]记于第1表中。
另外，按照前述的“杂质的定量”中记载的方法，测定所得含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液中所含的杂质的浓度。另外，将无机氧化物微粒(二氧化铈微粒)和纳米气泡共存的实施例1涉及的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液用超滤膜(旭化成制SIP-1013截留分子量6000)进行过滤，除去无机氧化物微粒(二氧化铈微粒)，测定了滤液中的纳米气泡的平均气泡直径和气泡个数，结果为290nm、13.8亿个/mL。30天后的纳米气泡残留比例为92％。将处理条件等及各测定结果示于第1表中。
然后，对于它们，在实施例2以后也测定了同样的数据。将其测定结果示于第1表中。
予以说明，对于测定了流动电位(V2)的含纳米气泡的二氧化铈微粒分散液(固体成分浓度20质量％)500g，一边将其容积保持恒定，一边使用超滤膜(以孔径计的截留分子量5000)而添加5000g的蒸馏水进行溶剂置换，由此除去纳米气泡，得到不含纳米气泡的二氧化铈微粒分散液(固体成分浓度20质量％)500g。对该二氧化铈微粒分散液，使用流动电位计，再次测定了流动电位(V1)，结果在pH4.5下为―50mV。
这表示：可以求出从任意的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液中仅除去纳米气泡后的流动电位(V1)，并且求出该V1和含纳米气泡的二氧化铈微粒分散液的流动电位(V2)及由V1和V2求得的流动电位差(ΔV)。
＜实施例2＞
准备平均粒径10nm的二氧化铈微粒分散于水而成的二氧化铈微粒分散液(固体成分浓度20质量％)500g，将温度保持于30℃，向其中添加平均气泡直径为90nm的15×108个/ml的含N2的纳米气泡水溶液500g。然后，保持温度30℃并搅拌40小时，之后，按照上述浓缩稳定性的测定方法将所得的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液进行浓缩，评价了浓缩稳定性。另外，还与实施例1同样地进行残留纳米气泡比例、杂质的定量等。将处理条件等及各测定结果示于第1表中。
＜实施例3＞
准备平均粒径5nm的二氧化铈微粒分散于水而成的二氧化铈微粒分散液(固体成分浓度10质量％)500g，将温度保持于30℃，向其中添加平均气泡直径为90nm的10×108个/ml的含H2的纳米气泡水溶液500g。然后，保持温度30℃并搅拌30小时，之后，按照上述浓缩稳定性的测定方法将所得的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液进行浓缩，评价了浓缩稳定性。另外，还进行了杂质的定量等。将处理条件等及各测定结果示于第1表中。
＜实施例4＞
准备平均粒径250nm的高结晶二氧化铈微粒分散于水而成的二氧化铈微粒分散液(固体成分浓度20质量％)500g，将温度保持于30℃，向其中添加平均气泡直径为100nm的12×108个/ml的含N2的纳米气泡水溶液500g。然后，保持温度30℃并搅拌50小时，之后，按照上述浓缩稳定性的测定方法将所得的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液进行浓缩，评价了浓缩稳定性。另外，还进行了杂质的定量等。将处理条件等及各测定结果示于第1表中。
＜实施例5＞
准备平均粒径80nm的二氧化硅二氧化铈微粒分散于水而成的二氧化铈微粒分散液(固体成分浓度20质量％)500g，将温度保持于30℃，向其中添加平均气泡直径为250nm的12×108个/ml的含N2的纳米气泡水溶液500g。然后，保持温度30℃并搅拌60小时，之后，按照上述浓缩稳定性的测定方法将所得的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液进行浓缩，评价了浓缩稳定性。另外，还与实施例1同样地进行了残留纳米气泡比例、杂质的定量等。将处理条件等及各测定结果示于第1表中。
＜实施例6＞
准备平均粒径150nm的二氧化硅二氧化铈微粒分散于水而成的二氧化铈微粒分散液(固体成分浓度20质量％)500g，将温度保持于30℃，向其中添加平均气泡直径为300nm的10×108个/ml的含H2的纳米气泡水溶液500g。然后，保持温度30℃并搅拌30小时，之后，按照上述浓缩稳定性的测定方法将所得的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液进行浓缩，评价了浓缩稳定性。另外，还进行了杂质的定量等。将处理条件等及各测定结果示于第1表中。
＜实施例7＞
准备平均粒径20nm的二氧化硅二氧化铈微粒分散于水而成的二氧化铈微粒分散液(固体成分浓度20质量％)500g，将温度保持于30℃，向其中添加平均气泡直径为290nm的15×108个/ml的含N2的纳米气泡水溶液500g。然后，保持温度30℃并搅拌60小时，之后，按照上述浓缩稳定性的测定方法将所得的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液进行浓缩，评价了浓缩稳定性。另外，还与实施例1同样地进行了残留纳米气泡比例、杂质的定量等。将处理条件等及各测定结果示于第1表中。
＜参考例7＞
准备平均粒径12nm的二氧化硅微粒分散于水而成的二氧化硅微粒分散液(固体成分浓度30质量％)500g，将温度保持于20℃，向其中添加平均气泡直径为150nm的2.2×108个/ml的含N2的纳米气泡水溶液500g。然后，将温度保持于95℃并搅拌0.1Hr，之后，与参考例1同样地按照上述浓缩稳定性的测定方法将得到的溶液进行浓缩。另外，还进行了杂质的定量等。将处理条件等及结果示于第1表中。
另外，将所得的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液与参考例1的情况同样地用过滤器(过滤器径：0.5μm)在过滤压1mPa下过滤时的过滤速度为10g/分钟。对于通过过滤器后的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液，使用PSS公司制AccuSizer780APS，测定了粒径0.51μm以上的粗大粒子的个数，结果为60万个/ml。
＜参考例8＞
准备平均粒径12nm的二氧化硅微粒分散于水而成的二氧化硅微粒分散液(固体成分浓度30质量％)500g，将温度保持于20℃，向其中添加平均气泡直径1000nm的2×104个/ml的含N2的纳米气泡水溶液500g。然后，保持该温度并搅拌2Hr搅拌，之后，与参考例1同样地按照上述浓缩稳定性的测定方法将得到的溶液进行浓缩。另外，还进行了杂质的定量等。将处理条件等及结果示于第1表中。
＜参考例9＞
准备平均粒径80nm的二氧化硅微粒分散于水而成的二氧化硅微粒分散液(固体成分浓度40质量％)500g，将温度保持于20℃。然后，不添加纳米气泡水溶液，而与参考例1同样地按照上述浓缩稳定性的测定方法进行浓缩。另外，还进行了杂质的定量等。将处理条件等及结果示于第1表中。
＜比较例2＞
准备平均粒径25nm的二氧化硅二氧化铈微粒(SiO2/CeO2质量比＝50/50、固体成分浓度20质量％)分散于水而成的二氧化硅二氧化铈微粒分散液500g，将温度保持于20℃。然后，不添加纳米气泡水溶液而与参考例1同样地按照上述浓缩稳定性的测定方法进行浓缩。另外，还进行了杂质的定量等。将处理条件等及结果示于第1表中。
＜参考例10＞
准备平均粒径20nm的二氧化硅氧化锆微粒(SiO2/ZrO2质量比＝75/25、固体成分浓度20质量％)分散于水而成的二氧化硅氧化锆微粒分散液500g，保持于温度20℃。然后，不添加纳米气泡水溶液而与参考例1同样地按照上述浓缩稳定性的测定方法进行浓缩。另外，还进行了杂质的定量等。将处理条件等及结果示于第1表中。
＜比较例3＞
准备平均粒径20nm的二氧化铈微粒分散于水而成的二氧化铈微粒分散液(固体成分浓度20质量％)500g，将温度保持于20℃。然后，不添加纳米气泡水溶液而与实施例1同样地按照上述浓缩稳定性的测定方法进行浓缩。另外，还进行了杂质的定量等。将处理条件等及结果示于第1表中。
＜比较例4＞
准备平均粒径10nm的二氧化铈微粒分散于水而成的二氧化铈微粒分散液(固体成分浓度20质量％)500g，将温度保持于20℃。然后，不添加纳米气泡水溶液而与实施例1同样地按照上述浓缩稳定性的测定方法进行浓缩。另外，还进行了杂质的定量等。将处理条件等及结果示于第1表中。
＜比较例5＞
准备平均粒径5nm的二氧化铈微粒分散于水而成的二氧化铈微粒分散液(固体成分浓度10质量％)500g，将温度保持于20℃。然后，不添加纳米气泡水溶液而与实施例1同样地按照上述浓缩稳定性的测定方法进行浓缩。另外，还进行了杂质的定量等。将处理条件等及结果示于第1表中。
＜比较例6＞
准备平均粒径250nm的高结晶二氧化铈微粒分散于水而成的二氧化铈微粒分散液(固体成分浓度20质量％)500g，将温度保持于20℃。然后，不添加纳米气泡水溶液而与实施例1同样地按照上述浓缩稳定性的测定方法进行浓缩。另外，还进行了杂质的定量等。将处理条件等及结果示于第1表中。
＜比较例7＞
准备平均粒径80nm的二氧化硅二氧化铈微粒(SiO2/CeO2质量比＝50/50、固体成分浓度20质量％)分散于水而成的二氧化硅二氧化铈微粒分散液(固体成分浓度20质量％)500g，将温度保持于20℃。然后，不添加纳米气泡水溶液而与实施例1同样地按照上述浓缩稳定性的测定方法进行浓缩。另外，还进行了杂质的定量等。将处理条件等及结果示于第1表中。
＜比较例8＞
准备平均粒径150nm的二氧化硅二氧化铈微粒(SiO2/CeO2质量比＝50/50、固体成分浓度20质量％)分散于水而成的二氧化硅二氧化铈微粒分散液(固体成分浓度20质量％)500g，将温度保持于20℃。然后，不添加纳米气泡水溶液而与实施例1同样地按照上述浓缩稳定性的测定方法进行浓缩。另外，还进行了杂质的定量等。将处理条件等及结果示于第1表中。
＜比较例9＞
准备平均粒径20nm的二氧化铈微粒分散于水而成的二氧化铈微粒分散液(固体成分浓度20质量％)500g，将温度保持于20℃，向其中添加平均气泡直径为1000nm的0.0002×108个/ml的含N2的纳米气泡水溶液500g。然后，保持温度95℃并搅拌2小时，之后，与参考例1同样地按照上述浓缩稳定性的测定方法将得到的溶液进行浓缩。另外，还进行了杂质的定量等。将处理条件等及结果示于第1表中。
＜杂质离子浓度测定＞
[关于实施例]
作为实施例1～实施例7的各无机氧化物微粒分散液中使用的分散介质(水)，使用了离子交换水。另外，关于各实施例中使用的纳米气泡水溶液，使用自来水作为分散介质(水)。然后，将通过上述方法对利用上述处理得到的溶液(含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液)中所含的氯离子、硝酸根离子或硫酸根离子浓度进行测定的结果记于第1表中。
关于实施例1、实施例2、实施例5及实施例7，将溶液(含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液)在室温下保存30天，再进行了浓缩稳定性试验，将其结果记载于第1表中。
[关于比较例]
作为在比较例2～比较例10中使用的分散介质(水)，使用离子交换水。另外，关于各比较例中使用的纳米气泡水溶液，使用自来水作为分散介质(水)。
关于比较例2～8及比较例10，向利用上述处理得到的溶液(含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液)中添加微量的硝酸水溶液(浓度10质量％)后，用上述方法测定了氯离子、硝酸根离子或硫酸根离子浓度。将其结果记载于第1表中。
予以说明，关于比较例10，将溶液(含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液)在室温下保存30天，再进行浓缩稳定性试验，将其结果记载于第1表中。
关于比较例9，在相同的溶液(含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液)中添加微量的盐酸水溶液(浓度10质量％)后，用上述方法测定了氯离子、硝酸根离子或硫酸根离子浓度。将其结果记载于第1表中。
[表1]
第1表(其一)
Figure BDA0002262195350000221
※1：纳米气泡调合方法：A是后添加法，B是在无机氧化物溶液中进行调整的方法。
[表2]
节2表(其二)
Figure BDA0002262195350000231
※2：关于比较例2～8及参考例9、10，由于是不含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液，因此该栏表示为“-”。
浓缩稳定性在同种的无机氧化物的情况下与无机氧化物微粒的粒径(平均粒径)具有相关关系，因此将平均粒径与浓缩稳定性的关系示于图表(图1)中。
由图1的图表可知：例如，在参考例3的情况下，与二氧化硅微粒的平均粒径相等的参考例7或参考例8相比，浓缩稳定性更优异。另外可知：参考例2同样与二氧化硅微粒的平均粒径相等的参考例9相比浓缩稳定性更优异。
另一方面，可知：若无机氧化物微粒分散液和纳米气泡水溶液的搅拌时间像参考例7那样短、或者搅拌时的溶液温度像参考例8那样高，则浓缩稳定性差。另外，可知：若像参考例9那样不使用纳米气泡水溶液，则浓缩稳定性差。予以说明，比较例1和比较例2、参考例4和参考例10、实施例1和比较例3显示出：虽然基于本发明的这些效果具有程度上的差异，但是在除二氧化硅微粒以外的无机氧化物微粒分散液中也得以同样的体现。
本申请要求以2017年6月1日申请的日本申请特愿2017-109447为基础的优先权，并且将其公开内容全部援引于此。

Claims (8)

1.一种含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液，其特征在于，包含：
无机氧化物微粒，其平均粒径为1～500nm，且包含含有Ce的微粒；和
纳米气泡，其平均气泡直径为50～500nm，且为非氧化性气体，所述非氧化性气体是选自N2及H2中的至少一者。
2.根据权利要求1所述的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液，其特征在于，
包含105个/mL以上的纳米气泡。
3.根据权利要求1或2所述的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液，其特征在于，
当在将固体成分浓度调整为0.005质量％且将pH调整为4.5的情况下的流动电位设为V2、并且在将除去所述纳米气泡而将固体成分浓度调整为0.005质量％且将pH调整为4.5的情况下的流动电位设为V1时，流动电位差ΔV＝V1―V2为10mV以上，所述V2和所述V1的单位是mV。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液，其特征在于，
所述无机氧化物微粒是二氧化硅二氧化铈复合微粒。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液，其特征在于，
所述二氧化硅二氧化铈复合微粒中的二氧化铈含有率为10质量％以上。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液，其特征在于，
相对于将所述纳米气泡假定为球而由所述纳米气泡的平均气泡直径r和平均气泡个数N求得的合计表面积，一价阴离子的含量小于8.8×10-6摩尔/m2，所述合计表面积为4πr2N。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液，其特征在于，
相对于将所述纳米气泡假定为球而由所述纳米气泡的平均气泡直径r和平均气泡个数N求得的合计表面积，二价阴离子的含量小于4.4×10-6摩尔/m2，所述合计表面积为4πr2N。
8.一种研磨剂，其特征在于，
包含权利要求1～7中任一项所述的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液。
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