JP5615529B2 - 無機酸化物微粒子分散液、研磨用粒子分散液及び研磨用組成物 - Google Patents
無機酸化物微粒子分散液、研磨用粒子分散液及び研磨用組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5615529B2 JP5615529B2 JP2009261039A JP2009261039A JP5615529B2 JP 5615529 B2 JP5615529 B2 JP 5615529B2 JP 2009261039 A JP2009261039 A JP 2009261039A JP 2009261039 A JP2009261039 A JP 2009261039A JP 5615529 B2 JP5615529 B2 JP 5615529B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- inorganic oxide
- oxide fine
- polishing
- particle dispersion
- fine particles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Description
0.8の短径/長径比を有するコロイダルシリカを使用することが開示されている。このような歪な形状のコロイダルシリカは、球状コロイダルシリカよりも研磨力が高く、研磨剤として半導体ウェーハの精密研磨に使用すると、単位時間当たりの研磨量が著しく増加し、研磨された半導体ウェーハの生産能率を顕著に高めることができると開示されている。
物を提供することを目的とする。
1)電子顕微鏡により求められる短径/長径比が0.3〜0.8の範囲にある無機酸化物微粒子の個数が、全無機酸化物微粒子個数の20〜45%の範囲。
2)電子顕微鏡により求められる短径/長径比が0.5以下の無機酸化物微粒子の個数が、全無機酸化物微粒子個数の10%以下。
本発明に係る無機酸化物微粒子分散液は、無機酸化物微粒子が分散媒に分散してなる無機酸化物微粒子分散液である。
。前記平均粒子径が前記範囲よりも小さすぎるものは調製することが非常に困難であり、調製できたとしても、実用上の研磨速度が充分ではない。また、前記平均粒子径が大きすぎると、線状痕が多発し易い。
1)電子顕微鏡により求められる短径/長径比が0.3〜0.8の範囲にある無機酸化物微粒子の個数が、全無機酸化物微粒子個数の20〜45%の範囲。
2)電子顕微鏡により求められる短径/長径比が0.5以下の無機酸化物微粒子の個数が、全無機酸化物微粒子個数の10%以下。
メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、メチルイソカルビノールなどのアルコール類;
アセトン、2−ブタノン、エチルアミルケトン、ジアセトンアルコール、イソホロン、シクロヘキサノンなどのケトン類;
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類;
ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、3,4−ジヒドロ−2H−ピランなどのエーテル類;
2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−ブトキシエタノール、エチレングリコールジメチルエーテルなどのグリコールエーテル類;
2−メトキシエチルアセテート、2−エトキシエチルアセテート、2−ブトキシエチルアセテートなどのグリコールエーテルアセテート類;
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソブチル、酢酸アミル、乳酸エチル、エチレンカーボネートなどのエステル類;
ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;
ヘキサン、ヘプタン、iso−オクタン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類;
塩化メチレン、1,2−ジクロルエタン、ジクロロプロパン、クロルベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類;
ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類;
N−メチル−2−ピロリドン、N−オクチル−2−ピロリドンなどのピロリドン類
などを例示することができる。
[無機酸化物微粒子分散液の製造方法]
本発明に係る無機酸化物微粒子分散液の製造方法について、以下に述べる。
シード粒子分散液
シード粒子分散液の製造方法は公知であるが、シリカ系のシード粒子分散液は、例えば、酸性珪酸液(シリカ濃度1〜7質量%)を20〜98℃に保持し、pH:4〜11になるようにアルカリを添加する。そして、30〜98℃で1〜3時間保持した後、アルカリ添加によりpHを9〜11に調整し、温度を40〜98℃まで昇温させ、1〜3時間保持した後、室温まで冷却
し、限外モジュールでシリカ濃度5〜20質量%まで濃縮することにより得られる。また、
シード粒子分散液については、公知のシリカゾルを適用することもできる。このようなシリカゾルについては、珪酸塩を酸で中和して得られるシリカヒドロゲルを解膠して得られるシリカゾル、加水分解性基を有する珪素化合物(アルコキシシランやハロゲン化シラン、シラザンなど)を、酸ないしアルカリ存在下に加水分解・重縮合して得られるシリカゾルなどを挙げることができるが、これらの限定されるものではない。
シード粒子の成長
シード粒子分散液を加熱し、pH9〜12.5、温度(50〜200℃)の条件下、連続的にまたは断続的に、珪酸液、珪酸塩やアルミン酸塩、ポリ金属塩化合物、金属過酸化物を添加したのち、洗浄する。これらは2種以上併用してもよい。アルミン酸塩としては、アルミン酸ナトリウム、アルミン酸カリウムなどが挙げられる。ポリ金属塩化合物とは、アルミニウム、チタンなどの金属の塩であり、かつ2量体以上の重合体構造をとるものであり、2種以上のポリ金属塩化合物の複合体であっても良い。これらは、水系溶媒中において、優れた凝集能力を発揮するものとして知られている。
H)nCl6-n〕m (ただし、1<n<5、m<10)で表される。例えば、塩酸と水酸化アルミニウムを反応させて得られる塩基性塩化アルミニウムに、アルミナ濃度、塩基度を調節する目的で、各種添加剤を混合反応させる方法により製造される。
過酸化セリウム(CeO3)などを挙げることができる。
[研磨用微粒子]
本発明にかかる研磨用微粒子は、前記無機酸化物微粒子からなる。また、無機酸化物微粒子の他に、公知の研磨剤微粒子が含まれていてもよく、具体的には、上記特定のパラメータの範囲を外れたシリカ、アルミナなどを含んでいてもよく、炭化ケイ素、窒化ホウ素なども挙げられる。これら公知の研磨剤微粒子は、本発明にかかる研磨剤微粒子全体の0〜50質量%の範囲で含まれていることが望ましい。より望ましい態様は、前記無機酸化物微粒子のみからなるものである。
[研磨用組成物]
本発明の無機酸化物微粒子分散液は、研磨用組成物の成分として配合されて、優れた研磨効果を発揮するものである。
れらの成分を添加して得られる混合物を本発明においては、「研磨用組成物」と呼称する。
研磨促進剤
本発明に係る研磨用組成物には、被研磨材の種類によっても異なるが、必要に応じて従来公知の研磨促進剤を使用することができる。研磨促進剤として具体的には、過酸化水素、過酢酸、過酸化尿素などおよびこれらの混合物を挙げることができる。このような過酸化水素等の研磨促進剤を含む研磨剤組成物を用いると、被研磨材が金属の場合には効果的に研磨速度を向上させることができる。
界面活性剤及び/又は親水性化合物
研磨用組成物の分散性や安定性を向上させるためにカチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性系の界面活性剤または親水性化合物を添加することができる。
ールアミド、ポリオキシエチレン脂肪酸アミド、ポリオキシエチレンアルキルアミド等が例示される。その他に、フッ素系界面活性剤などが挙げられる。
複素環化合物
本発明の研磨用組成物については、被研磨基材に金属が含まれる場合に、金属に不動態層または溶解抑制層を形成させて、被研磨基材の侵食を抑制する目的で、複素環化合物を含有させても構わない。ここで、「複素環化合物」とはヘテロ原子を1個以上含んだ複素環を有する化合物であり、前記研磨促進剤、界面活性剤、pH調整剤およびpH緩衝剤以外の物質である。ヘテロ原子とは、炭素原子、又は水素原子以外の原子を意味する。複素環とはヘテロ原子を少なくとも一つ持つ環状化合物を意味する。ヘテロ原子は複素環の環系の構成部分を形成する原子のみを意味し、環系に対して外部に位置していたり、少なくとも一つの非共役単結合により環系から分離していたり、環系のさらなる置換基の一部分であるような原子は意味しない。ヘテロ原子として好ましくは、窒素原子、硫黄原子、酸素原子、セレン原子、テルル原子、リン原子、ケイ素原子、及びホウ素原子などを挙げることができるがこれらに限定されるものではない。複素環化合物の例として、イミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、テトラゾールなどを用いることができる。より具体的には、1,2,3,4−テトラゾール、5−アミノ−1,2,3,4−テトラゾール、5−メチル−1,2,3,4−テトラゾール、1,2,3−トリアゾール、4−アミノ−1,2,3−トリアゾール、4,5−ジアミノ−1,2,3−トリアゾール、1,2,4−トリアゾール、3−アミノ1,2,4−トリアゾール、3,5−ジアミノ−1,2,4−トリアゾールなどを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
pH調整剤
上記各添加剤の効果を高めるためなどに必要に応じて酸または塩基を添加して研磨用組成物のpHを調節することができる。
pH緩衝剤
研磨用組成物のpH値を一定に保持するために、pH緩衝剤を使用しても構わない。pH緩衝剤としては、例えば、リン酸2水素アンモニウム、リン酸水素2アンモニウム、4ホウ酸アンモ四水和水まどのリン酸塩及びホウ酸塩または有機酸などを使用することができる。
溶媒
本発明に係る研磨用組成物については、必要に応じて溶媒を用いることができる。溶媒としては通常、水を用いるが、必要に応じてメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール等のアルコール類を用いることができ、他にエーテル類、エステル類、ケトン類など水溶性の有機溶媒を用いることができる。また、水と有機溶媒からなる混合溶媒であってもよい。
[実施例]
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定的に解釈され
るものではない。
[1]粒子形状等の測定
1)平均粒子径(D1)[動的光散乱法による]
動的光散乱法により測定される平均粒子径(D1)については、レーザー光による動的光散乱法により、粒子径分布測定装置(Particle Sizing Systems社製:NICOMP MODEL380)を用いて平均粒子径を測定した。
2)平均粒子径(D2)[比表面積換算粒子径]
無機酸化物微粒子の比表面積測定は、窒素吸着法にて行った。具体的には、無機酸化物微粒子分散液50mlをHNO3でpH3.5に調整し、1−プロパノール40mlを加
え、110℃で16時間乾燥した試料について、乳鉢で粉砕後、マッフル炉にて500℃、1時間焼成し、測定用試料とした。そして、比表面積測定装置(ユアサアイオニクス製、マルチソーブ12)を用いて、窒素の吸着量から、BET1点法により比表面積を算出した。測定は、試料0.5gを測定セルに取り、窒素30体積%/ヘリウム70体積%混合ガス気流中、300℃で20分間脱ガス処理を行い、その上で試料を上記混合ガス気流中で液体窒素温度に保ち、窒素を試料に平衡吸着させる。次に、上記混合ガスを流しながら試料温度を徐々に室温まで上昇させ、その間に脱離した窒素の量を検出し、予め作成した検量線により、無機酸化物微粒子の比表面積(Sa)を算出した。
(D2)=6000/(ρ×Sa)(ρ:試料の密度、シリカ試料の場合は2.2とした。)
3)短径/長径比
短径/長径比は、透過型電子顕微鏡(型番H-800、日立製作所製)を使用して、倍
率250,000倍の写真を撮影し、任意の100個の無機酸化物微粒子について、長径(最大の長さ)と短径(長径に相当する長軸に対し直交する短軸のうち最も長い軸の長さ)を測定し、それぞれ短径/長径比を算出し、次のI、II及びIIIの各範囲に該当する無機酸化物微粒子の個数を算定した。
I.短径/長径比0.3〜0.8の範囲
II.短径/長径比0.5以下の範囲
III.短径/長径比0.8〜1.0の範囲
更に、測定した全無機酸化物微粒子の短径の平均値と同じく長径の平均値を算定した。4)平均異形度
平均異形度は、動的光散乱法による平均粒子径(D1)を比表面積換算平均粒子径(D2)で除して求めた。
[2]アルミニウム基板に対する研磨特性の評価方法
被研磨基板
被研磨基板として、アルミニウムディスク用基板を使用した。このアルミニウムディスク用基板は、アルミニウム基板にNi−Pを10μmの厚さに無電解メッキ(Ni88%とP12%の組成の硬質Ni−Pメッキ層)をした基板(95mmΦ/25mmΦ−1.27mmt)である。なお、この基板は一次研磨済みで、表面粗さ(RA)は0.17nmであった。
研磨試験
上記被研磨基板を研磨装置(ナノファクター(株)製:NF300)にセットし、研磨パッド(ロデール社製「アポロン」)を使用し、基板荷重0.05MPA、テーブル回転速度30rpmで研磨用スラリーを20g/分の速度で5分間供給して研磨を行った。
磨用スラリーについて、この研磨試験を同一の研磨用スラリーについて3回行って、その平均値を研磨速度とした。相対研磨速度は、比較例3の研磨速度を1として、比較例3に対する比を相対研磨速度とした。
スクラッチ(線状痕)の測定
スクラッチの発生状況については、アルミニウムディスク用基板を上記と同様に研磨処理した後、超微細欠陥・可視化マクロ装置(VISION PSYTEC社製、製品名:MicrO−MAX)を使用し、ZOOm15にて全面観察し、65.97cm2に相当
する研磨処理された基板表面に存在するスクラッチ(線状痕)の個数を数えて合計した。
[実施例1]
[珪酸液の調製(1)]
固形分濃度7質量%の珪酸ナトリウム(3号水硝子)7,000gを限外モジュール(旭化成社製SIP−1013)に通液し、濾水を回収して、精製水硝子を得た。この精製水硝
子のシリカ濃度が5%になるように純水を添加した。そして、このシリカ濃度5%の水硝子6,500gを強酸性陽イオン交換樹脂SK1BH(三菱化学社製)2.2Lに空間速度
3.1で通液させて、珪酸液6,650gを得た。得られた珪酸液のシリカ濃度は4.7
質量%であった。
[異形シリカシード(1)の調製]
珪酸液の調製1の操作を繰り返して、珪酸液(シリカ濃度4.7質量%)23.3Kg
を調製した。この珪酸液に、純水36.7Kgを添加し、シリカ濃度1.8質量%の希釈珪酸液を調製した。この希釈珪酸液を40℃に昇温し、濃度1質量%のアンモニア水を添加して、pHを4.2に調整した。そして、引き続き40℃で2時間保持した後、さらに濃
度15質量%のアンモニア水を添加しpHを10.6に調整してから、温度95℃まで昇
温させて、1時間保持し、室温まで冷却して限外モジュールでシリカ濃度12質量%まで濃縮した。これを異形シリカシード(1)とした。
[異形シリカゾル(1)の調製]
純水917.7gに珪酸ナトリウム水溶液(固形分濃度24.3質量%)77.3gを混合したのち、異形シリカシード(1)176gを添加し、均一になるまで攪拌した。ついで83℃に昇温し、83℃で30分間保持した。さらに珪酸液(シリカ濃度4.5質量%)10.7Kgを18時間かけて添加し、添加終了後も83℃のまま1時間放置した。
続いて、室温まで冷却し、限外モジュールを用いて固形分濃度12質量%まで濃縮し、
さらにロータリーエバポレーター にて固形分濃度30質量%まで濃縮した。
得られたシリカゾルは、動的光散乱法による平均粒子径(D1)55nm、比表面積95m2/g、比表面積換算粒子径(D2)29nmであった。
[実施例2]
[異形シリカシード(2)の調製]
珪酸ナトリウム水溶液(SiO2/Na2Oモル比が3.1、シリカ濃度24質量%)をイオ
ン交換水で希釈して、シリカ濃度5%の珪酸ナトリウム水溶液(pH11.3)を1Kg得
た。
量%)を加えて中和し、常温で1時間保持して、シリカヒドロゲルを調製した。
リカ固形分の約120倍相当量)で充分に洗浄し、塩類を除去し、シリカヒドロゲルを得
た。洗浄後の硫酸ナトリウム濃度はシリカ分に対して、0.01%未満だった。
機にて流動性のあるスラリー状態としたシリカヒドロゲル分散液とし、これに濃度5質量%の水酸化ナトリウム水溶液と濃度28質量%のアンモニア水の1:1混合物を、SiO2/Na2O(モル比)が75となるように添加し、160℃で1時間加熱した。
[異形シリカゾル(2)の調製]
純水735gに、珪酸ナトリウム水溶液(固形分濃度24.3%)53.6gを添加し、続いて異形シリカシード(2)40.2gを添加し、均一になるまで攪拌した。ついで9
0℃に昇温し、90℃のまま30分保持した後、珪酸液(シリカ濃度4.5質量%)7403gを18時間かけて添加し、添加終了後も90℃のまま1時間保持した。
[実施例3]
[異形シリカゾル(3)の調製]
純水190.8gに珪酸ナトリウム水溶液(固形分濃度24.3質量%)の69.7gを
添加し、ついで珪酸液(シリカ濃度4.5質量%)8.0gを添加し均一になるまで攪拌
した。ついで98℃に昇温し、98℃のまま30分保持した。さらに珪酸液(濃度4.5
質量%)の558gを5時間かけて添加し、ついで珪酸液(シリカ濃度4.5質量%)9492gを10時間かけて添加し、添加終了後も98℃のまま1時間保持した。冷却後に限外モジュールを用いて濃度12質量%まで濃縮し、さらにロータリーエバポレーターで濃度30質量%まで濃縮した。得られたシリカゾルは、動的光散乱法による平均粒子径(D1)110nm、比表面積(Sa)52m2/g、比表面積換算粒子径(D2)52nmであった。
[実施例4]
[異形シリカゾル(4)の調製]
純水260gに珪酸ナトリウム水溶液(固形分濃度24.3質量%)12.78gを添加し、ついで珪酸液(シリカ濃度4.5質量%)1.46gを添加し均一になるまで攪拌し
た。ついで98℃に昇温し、98℃のまま80分保持した。98℃に保持した液に珪酸液(シリカ濃度4.5質量%)160gを78分かけて添加し、さらに珪酸液(シリカ濃度4.5質量%)1682.3gを822分かけて添加した。
[比較例1]
珪酸液の調製(1)に記したのと同様な製造方法により得られた珪酸液23.3Kgに純水36.7Kgを添加して、シリカ濃度1.8質量%の希釈珪酸液を調製した。この珪酸液を20℃で120時間保持した後、40℃に昇温し、濃度1質量%のアンモニア水を添加して、pH4.2に調整し、引き続き40℃で2時間保持した。
質量%まで濃縮し、異形シリカシードを得た。
表1に示す日揮触媒化成(株)社製のシリカゾルSI-80Pを用いた。得られたシリカゾルを用いて、上記評価を行なった。 結果を併せて表1に示す。
ードディスク、アルミハードディスクなどの研磨用途に好適に使用することができる。
Claims (5)
- 動的光散乱法による測定される平均粒子径(D1)が3〜300nm、比表面積(Sa)が10〜800m2/gの範囲にある無機酸化物微粒子としてシリカ微粒子が分散媒に分散してなる無機酸化物微粒子分散液であって、該無機酸化物微粒子が次の条件を満たすことを特徴とする無機酸化物微粒子分散液。
1)顕微鏡により求められる短径/長径比が0.3〜0.8の範囲にある無機酸化物微粒子の個数が、全無機酸化物微粒子個数の20〜45%の範囲。
2)電子顕微鏡により求められる短径/長径比が0.5以下の範囲にある無機酸化物微粒子の個数が、全無機酸化物微粒子個数の10%以下。 - 全無機酸化物微粒子個数の55〜80%が、短径/長径比0.8〜1.0の範囲にあることを特徴とする請求項1に記載の無機酸化物微粒子分散液。
- 前記無機酸化物微粒子の平均異形度(D1)/(D2)[但し、(D2)は比表面積換算粒子径を意味する]の値が1.5〜2.2の範囲にあることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の無機酸化物微粒子分散液。
- 前記請求項1〜3の何れかに記載の無機酸化物微粒子分散液からなる研磨用粒子分散液。
- 請求項1〜4の何れかに記載の無機酸化物微粒子分散液と、研磨促進剤、界面活性剤、複素環化合物、pH調整剤およびpH緩衝剤からなる群より選ばれる1種以上とを含むことを特徴とする研磨用組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009261039A JP5615529B2 (ja) | 2009-11-16 | 2009-11-16 | 無機酸化物微粒子分散液、研磨用粒子分散液及び研磨用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009261039A JP5615529B2 (ja) | 2009-11-16 | 2009-11-16 | 無機酸化物微粒子分散液、研磨用粒子分散液及び研磨用組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011104694A JP2011104694A (ja) | 2011-06-02 |
JP5615529B2 true JP5615529B2 (ja) | 2014-10-29 |
Family
ID=44228793
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009261039A Active JP5615529B2 (ja) | 2009-11-16 | 2009-11-16 | 無機酸化物微粒子分散液、研磨用粒子分散液及び研磨用組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5615529B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1142177A (ja) * | 1997-07-28 | 1999-02-16 | Build:Kk | 高い温水耐久性を有する浴槽およびその補修方法 |
JP6259182B2 (ja) * | 2012-12-12 | 2018-01-10 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | ニッケルリンめっきが施された磁気ディスク基板の一次研磨用研磨液 |
JP6138677B2 (ja) * | 2013-12-27 | 2017-05-31 | 花王株式会社 | 磁気ディスク基板用研磨液組成物 |
MY182263A (en) * | 2014-01-31 | 2021-01-18 | Hoya Corp | Method for manufacturing magnetic-disk substrate and method for manufacturing magnetic disk |
TWI757349B (zh) * | 2016-11-07 | 2022-03-11 | 日商日揮觸媒化成股份有限公司 | 研磨用氧化矽系粒子及研磨材 |
TWI762528B (zh) * | 2016-12-02 | 2022-05-01 | 日商日揮觸媒化成股份有限公司 | 研磨用氧化矽系粒子及研磨材 |
WO2018221304A1 (ja) * | 2017-06-01 | 2018-12-06 | 日揮触媒化成株式会社 | ナノバブル含有無機酸化物微粒子およびそれを含む研磨剤 |
JP7482699B2 (ja) | 2020-06-29 | 2024-05-14 | 日揮触媒化成株式会社 | 異形シリカ粒子分散液の製造方法 |
JP2022091234A (ja) * | 2020-12-09 | 2022-06-21 | 日揮触媒化成株式会社 | 異形シリカ系微粒子分散液およびその製造方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3441142B2 (ja) * | 1994-02-04 | 2003-08-25 | 日産化学工業株式会社 | 半導体ウェーハーの研磨方法 |
JP4011566B2 (ja) * | 2003-07-25 | 2007-11-21 | 扶桑化学工業株式会社 | シリカゾル及びその製造方法 |
US20100146864A1 (en) * | 2005-08-10 | 2010-06-17 | Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd | Nodular Silica Sol and Method of Producing the Same |
JP4963825B2 (ja) * | 2005-11-16 | 2012-06-27 | 日揮触媒化成株式会社 | 研磨用シリカゾルおよびそれを含有してなる研磨用組成物 |
JP2008273780A (ja) * | 2007-04-27 | 2008-11-13 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 改質シリカ系ゾルおよびその製造方法 |
JP4949209B2 (ja) * | 2007-11-22 | 2012-06-06 | 日揮触媒化成株式会社 | 非球状アルミナ−シリカ複合ゾル、その製造方法および研磨用組成物 |
JP5602358B2 (ja) * | 2007-11-30 | 2014-10-08 | 日揮触媒化成株式会社 | 非球状シリカゾル、その製造方法および研磨用組成物 |
JP2009137791A (ja) * | 2007-12-05 | 2009-06-25 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 非球状複合シリカゾルおよびその製造方法 |
JP5188175B2 (ja) * | 2007-12-28 | 2013-04-24 | 日揮触媒化成株式会社 | シリカゾルおよびその製造方法 |
JP5495508B2 (ja) * | 2008-05-23 | 2014-05-21 | 日揮触媒化成株式会社 | 研磨用粒子分散液およびその製造方法 |
JP5084670B2 (ja) * | 2008-09-01 | 2012-11-28 | 日揮触媒化成株式会社 | シリカゾルおよびその製造方法 |
JP5464834B2 (ja) * | 2008-10-14 | 2014-04-09 | 日揮触媒化成株式会社 | 研磨用シリカゾル、研磨用組成物および研磨用シリカゾルの製造方法 |
JP5421006B2 (ja) * | 2009-07-10 | 2014-02-19 | 日揮触媒化成株式会社 | 粒子連結型シリカゾルおよびその製造方法 |
-
2009
- 2009-11-16 JP JP2009261039A patent/JP5615529B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011104694A (ja) | 2011-06-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5615529B2 (ja) | 無機酸化物微粒子分散液、研磨用粒子分散液及び研磨用組成物 | |
JP5495508B2 (ja) | 研磨用粒子分散液およびその製造方法 | |
JP5587957B2 (ja) | 金平糖状シリカ系ゾル | |
JP5860587B2 (ja) | 研磨用シリカゾル、研磨用組成物及び研磨用シリカゾルの製造方法 | |
JP5084670B2 (ja) | シリカゾルおよびその製造方法 | |
JP4963825B2 (ja) | 研磨用シリカゾルおよびそれを含有してなる研磨用組成物 | |
JP5188175B2 (ja) | シリカゾルおよびその製造方法 | |
WO2010052945A1 (ja) | 非球状シリカゾル、その製造方法および研磨用組成物 | |
JP2009137791A (ja) | 非球状複合シリカゾルおよびその製造方法 | |
JP6603142B2 (ja) | シリカ系複合微粒子分散液、その製造方法及びシリカ系複合微粒子分散液を含む研磨用スラリー | |
JP2008273780A (ja) | 改質シリカ系ゾルおよびその製造方法 | |
JP6207345B2 (ja) | シリカ粒子の製造方法 | |
JP6385307B2 (ja) | 板状粒子、及び該板状粒子を含む研磨用組成物 | |
JP5464834B2 (ja) | 研磨用シリカゾル、研磨用組成物および研磨用シリカゾルの製造方法 | |
JP5574702B2 (ja) | 有機粒子とシリカ粒子の凝集体からなる研磨用粒子分散液およびその製造方法 | |
JP5940754B1 (ja) | サファイア板用研磨液組成物 | |
JP5421006B2 (ja) | 粒子連結型シリカゾルおよびその製造方法 | |
JP4291665B2 (ja) | 珪酸質材料用研磨剤組成物およびそれを用いた研磨方法 | |
JP7038031B2 (ja) | セリア系複合微粒子分散液、その製造方法及びセリア系複合微粒子分散液を含む研磨用砥粒分散液 | |
JP7331437B2 (ja) | シリカ粒子、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | |
JP2010024119A (ja) | 金平糖状シリカゾルの製造方法 | |
JP2013177617A (ja) | 研磨用シリカゾルおよび研磨用組成物 | |
JP5346167B2 (ja) | 粒子連結型アルミナ−シリカ複合ゾルおよびその製造方法 | |
JP5270303B2 (ja) | 研磨用シリカゾルおよびその製造方法 | |
JP7455623B2 (ja) | 粒子連結型シリカ微粒子分散液およびその製造方法、並びに研磨用砥粒分散液 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120904 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140617 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140815 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140902 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140910 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5615529 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |