CN110161812A - 重工药液及其制备方法、重工装置 - Google Patents

重工药液及其制备方法、重工装置 Download PDF

Info

Publication number
CN110161812A
CN110161812A CN201910489290.3A CN201910489290A CN110161812A CN 110161812 A CN110161812 A CN 110161812A CN 201910489290 A CN201910489290 A CN 201910489290A CN 110161812 A CN110161812 A CN 110161812A
Authority
CN
China
Prior art keywords
heavy industry
medical fluid
parts
substrate
component
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201910489290.3A
Other languages
English (en)
Inventor
刘闽
李广圣
池田昌隆
张勇
史海洋
钮磊
李望
李良
王彬宇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Chengdu CEC Panda Display Technology Co Ltd
Original Assignee
Chengdu CEC Panda Display Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Chengdu CEC Panda Display Technology Co Ltd filed Critical Chengdu CEC Panda Display Technology Co Ltd
Priority to CN201910489290.3A priority Critical patent/CN110161812A/zh
Publication of CN110161812A publication Critical patent/CN110161812A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/42—Stripping or agents therefor
    • G03F7/422—Stripping or agents therefor using liquids only
    • G03F7/425—Stripping or agents therefor using liquids only containing mineral alkaline compounds; containing organic basic compounds, e.g. quaternary ammonium compounds; containing heterocyclic basic compounds containing nitrogen
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/42—Stripping or agents therefor
    • G03F7/422—Stripping or agents therefor using liquids only
    • G03F7/426—Stripping or agents therefor using liquids only containing organic halogen compounds; containing organic sulfonic acids or salts thereof; containing sulfoxides

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)

Abstract

本发明提供一种重工药液及其制备方法、重工装置。本发明的重工药液包括如下重量份的组分：去离子水：20～30份；四甲基氢氧化铵：3～10份；二甲基亚砜：30～45份；N‑甲基吡咯烷酮：1～5份；二甘醇‑甲醚：10～20份；羟胺：1～5份。本发明能够提高对基板重工的效果。

Description

重工药液及其制备方法、重工装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种重工药液及其制备方法、重工装置。
背景技术
目前，液晶显示技术已经成为显示技术的主流，液晶显示器(Liquid CrystalDisplay，LCD)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，在人们的日常生活中得到了广泛的应用。
然而，在液晶显示器面板的制造过程中，各个膜层的制程间经常会发生有异物附着或曝光出的膜层图案大小不符合标准等缺陷，导致后续制程产生膜层剥落或显示异常等问题，因此，为了避免上述问题的发生，必须针对此种表面具有不良缺陷的基板进行重工(Rework)的步骤，在去除基板上的上述不良缺陷后使重工后的基板再次投入生产。COA(Color Filter on Array)技术是将彩色滤光层制备在阵列基板上的技术。以COA基板为例，在阵列基板上形成彩色滤光层后，若发现彩色滤光层中存在不良缺陷，需要对该COA基板进行重工步骤。现有技术中，大多借助物理剥离设备，将阵列基板上的彩色滤光层进行直接剥离。
然而，上述重工步骤由于对彩色滤光层采用物理剥离，容易出现彩色滤光层剥离不彻底，重工效果差的问题。
发明内容
本发明提供一种重工药液及其制备方法、重工装置，能够提高重工的效果。
第一方面，本发明提供一种重工药液，包括如下重量份的组分：去离子水：20～30份；四甲基氢氧化铵：3～10份；二甲基亚砜：30～45份；N-甲基吡咯烷酮：1～5份；二甘醇-甲醚：10～20份；羟胺：1～5份。
第二方面，本发明提供一种上述重工药液的制备方法，包括：将除去离子水以外的各组分加入到所述去离子水中，得到所述重工药液。
第三方面，本发明提供一种重工装置，包括：反应腔室和设置在反应腔室内部的基板承载组件和喷淋头，待重工基板放置在基板承载组件上，述喷淋头设置在基板承载组件上方，喷淋头用于向待重工基板喷淋上述的重工药液，以使待重工基板表面的色阻材料层剥离。
本发明的重工药液及其制备方法、重工装置。重工药液包括如下重量份的组分：去离子水：20～30份；四甲基氢氧化铵：3～10份；二甲基亚砜：30～45份；N-甲基吡咯烷酮：1～5份；二甘醇-甲醚：10～20份；羟胺：1～5份。该重工药液通过将四甲基氢氧化铵、二甲基亚砜、N-甲基吡咯烷酮、二甘醇-甲醚、羟胺以及去离子水进行合理组配，使该重工药液在对基板表面的彩色滤光层进行溶解而将传统的物理剥离改为化学剥离，且剥离更为彻底，从而提高了重工效果。
本发明提供的重工药液的制备方法，工艺简单，便于在一般的生产条件下实现。
本发明的重工装置通过对基板喷淋重工药液将基板上的色阻材料层、PS、BM溶解从而剥离，由于将现有技术中的物理剥离改为化学溶解剥离，因此剥离较为彻底，重工效果好。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作以简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明提供的重工装置的结构示意图；
图2为本发明提供的重工药液对COA基板进行重工后的阵列基板照片；
图3为本发明提供的重工药液对COA基板进行重工后的阵列基板的局部放大照片；
图4为本发明提供的重工药液对COA基板进行重工后色阻材料层剥离物的照片；
图5为使用常规基板剥离清洗液对COA基板进行重工后的阵列基板照片；
图6为使用常规基板剥离清洗液对COA基板进行重工后的阵列基板的局部放大照片；
图7为使用常规基板剥离清洗液对COA基板进行重工后色阻材料层剥离物的照片；
图8为本发明提供的重工药液对COA基板进行重工后的阵列基板的电性测试图像；
图9为使用常规基板剥离清洗液对COA基板进行重工后的阵列基板的电性测试图像；
图10为正常的不需要重工的阵列基板的电性测试图像。
附图标记说明：
1-反应腔室；
2-基板承载组件；
3-喷淋头；
4-待重工基板；
5-运送辊；
6-第一储液罐；
7-第二储液罐；
8-储液罐；
9-加热器；
10-切换组件；
61-第一储液罐的出液端；
71-第二储液罐的出液端；
101、102-切换组件的进液端；
103-切换组件的出液端。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
现有技术在彩膜基板或COA基板中形成彩色滤光层后，若彩色滤光层有不良缺陷，需要进行重工时，往往利用重工设备直接将彩色滤光层物理剥离，该过程中，有可能出现彩色滤光层局部剥离不净的问题，残留有色阻的基板重新投入生产，会导致后续制程产生膜层剥落等问题，影响基板的良率并最终导致显示面板显示异常。为了避免该问题的发生，本发明考虑改变剥离的性质，将物理剥离改为化学溶解，以便在重工过程中能够完全地去除彩色滤光层。
实施例一
本发明实施例一提供一种重工药液，该重工药液中包括如下重量份的组分：
去离子水：20～30份；
四甲基氢氧化铵：3～10份；
二甲基亚砜：30～45份；
N-甲基吡咯烷酮：1～5份；
二甘醇-甲醚：10～20份；
羟胺：1～5份。
该重工药液用于去除彩膜基板或者COA基板中的色阻材料层(彩色滤光层)。具体的，通过采用重工药液对基板上的色阻材料层、PS(Photo Spacer，感光间隙子)、BM(BlackMatrix，黑色矩阵)溶解从而剥离，由于将现有技术中的物理剥离改为化学溶解剥离，因此剥离较为彻底，重工效果好。
其中，去离子水(DIW、CAS No.：7732-18-5)作为溶剂，用于溶解其余的组分。
四甲基氢氧化铵(TMAH、CAS No.：75-59-2)具有较强的腐蚀性，用于剥离基板上的色阻材料层、PS、BM，以将色阻材料层、PS、BM从基板上去除。
N-甲基吡咯烷酮(NMP、CAS No.：872-50-4)易溶于水，能溶解大多数有机与无机化合物、极性气体、天然及合成高分子化合物，作为优良的溶剂，将其作为重工药液的组分，能够有效溶解基板表面的各种杂质，并且对基板无损伤，还可生物降解。
二甲基亚砜(DMSO、CAS No.：67-68-5)和N-甲基吡咯烷酮(NMP、CAS No.：872-50-4)配合，用于溶解剥离后的色阻材料层、PS以及BM。这是由于剥离后的色阻材料层、PS以及BM等容易堵塞设备的滤网，造成设备故障，为了避免这种情况的发生，需要将剥离后的色阻材料层、PS以及BM溶解。此外，由于二甲基亚砜具有钝化作用，因此四甲基氢氧化铵和二甲基亚砜配合使用，能够降低重工药液对基板上的金属配线的腐蚀性。
二甘醇-甲醚(DGME、CAS No.：111-77-3)和羟胺(Hydroxylamine、CAS No.：7803-49-8)能够增加重工药液的流动性。其中，二甘醇-甲醚作为渗透剂，可以抑制重工药液腐蚀基板上的金属配线。
另外，在重工药液的配置过程中，需要对药液配制罐中的药液液位进行监控，但由于搅拌容易在药液内部产生气泡等，影响药液配制罐中的液位高度判断的准确性。因此，可以选择使重工药液的配方组分还包括1～5重量份的消泡剂和/或表面活性剂，以消除搅拌过程中所产生的气泡，消泡剂可以为不含有机硅类的聚合物。此外，表面活性剂主要用于有效降低药液的表面张力，改善药液的流平性。
本发明一实施方式的重工药液，以重工药液总重量为100％计，包括：
去离子水：20％～30％；四甲基氢氧化铵：3％～10％；二甲基亚砜：30％～45％；N-甲基吡咯烷酮：1％～5％；二甘醇-甲醚：10％～20％；羟胺：1％～5％。
其中，重工药液中的各组分的重量(质量)百分含量具体是指各组分的有效含量。此外，在重工药液包含有消泡剂和/或表面活性剂的情况下，消泡剂和/或表面活性剂的质量百分含量为1％～5％。
进一步的，本发明的重工药液以重工药液总重量为100％计，由下列组分构成：
去离子水：20％～30％；四甲基氢氧化铵：3％～10％；二甲基亚砜：30％～45％；N-甲基吡咯烷酮：1％～5％；二甘醇-甲醚：10％～20％；羟胺：1％～5％。
对上述实施作进一步改进，则重工药液中的各组分的重量份为：
去离子水：22～26份；四甲基氢氧化铵：5～10份；二甲基亚砜：35～41.5份；N-甲基吡咯烷酮：3～5份；二甘醇-甲醚：15～20份；羟胺：1～4份；此外，在重工药液包含有消泡剂和/或表面活性剂的情况下，消泡剂和/或表面活性剂的重量份为5份。
进一步的，本发明的重工药液，以重工药液总重量为100％计，包括：
去离子水：22％～26％；四甲基氢氧化铵：5％～10％；二甲基亚砜：35％～41.5％；N-甲基吡咯烷酮：3％～5％；二甘醇-甲醚：15％～20％；羟胺：1％～4％。
此外，在重工药液包含有消泡剂和/或表面活性剂的情况下，消泡剂和/或表面活性剂的质量百分含量为5％。
此外，可选的，本发明的重工药液以重工药液总重量为100％计，由下列组分构成：
去离子水：22％～26％；四甲基氢氧化铵：5％～10％；二甲基亚砜：35％～41.5％；N-甲基吡咯烷酮：3％～5％；二甘醇-甲醚：15％～20％；羟胺：1％～4％。
本实施例还提供几种重工药液的各组分的优选方案：作为一种可选的实施方式，重工药液中的各组分的重量份为：
去离子水：20份；四甲基氢氧化铵：10份；二甲基亚砜：41.5份；N-甲基吡咯烷酮：5份；二甘醇-甲醚：17份；羟胺：1.5份；此外，在重工药液包含有消泡剂和/或表面活性剂的情况下，消泡剂和/或表面活性剂的重量份为5份。
进一步的，本发明的重工药液，以重工药液总重量为100％计，包括：
去离子水：20％；四甲基氢氧化铵：10％；二甲基亚砜：41.5％；N-甲基吡咯烷酮：5％；二甘醇-甲醚：17％；羟胺：1.5％。此外，在重工药液包含有消泡剂和/或表面活性剂的情况下，消泡剂和/或表面活性剂的质量百分含量为5％。
此外，可选的，本发明的重工药液以重工药液总重量为100％计，由下列组分构成：
去离子水：20％；四甲基氢氧化铵：10％；二甲基亚砜：41.5％；N-甲基吡咯烷酮：5％；二甘醇-甲醚：17％；羟胺：1.5％；消泡剂和/或表面活性剂：5％。
作为另一种可选的实施方式，重工药液中的各组分的重量份为：
去离子水：25份；四甲基氢氧化铵：9份；二甲基亚砜：40份；N-甲基吡咯烷酮：4.5份；二甘醇-甲醚：16份；羟胺：2份；此外，在重工药液包含有消泡剂和/或表面活性剂的情况下，消泡剂和/或表面活性剂的重量份为3.5份。
进一步的，本发明的重工药液，以重工药液总重量为100％计，包括：
去离子水：25％；四甲基氢氧化铵：9％；二甲基亚砜：40％；N-甲基吡咯烷酮：4.5％；二甘醇-甲醚：16％；羟胺：2％。此外，在重工药液包含有消泡剂和/或表面活性剂的情况下，消泡剂和/或表面活性剂的质量百分含量为3.5％。
此外，可选的，本发明的重工药液以重工药液总重量为100％计，由下列组分构成：
去离子水：25％；四甲基氢氧化铵：9％；二甲基亚砜：40％；N-甲基吡咯烷酮：4.5％；二甘醇-甲醚：16％；羟胺：2％；消泡剂和/或表面活性剂：3.5％。
作为再一种可选的实施方式，重工药液中的各组分的重量份为：
去离子水：23份；四甲基氢氧化铵：10份；二甲基亚砜：39份；N-甲基吡咯烷酮：5份；二甘醇-甲醚：17份；羟胺：3份；此外，在重工药液包含有消泡剂和/或表面活性剂的情况下，消泡剂和/或表面活性剂的重量份为3份。
进一步的，本发明的重工药液，以重工药液总重量为100％计，包括：
去离子水：23％；四甲基氢氧化铵：10％；二甲基亚砜：39％；N-甲基吡咯烷酮：5％；二甘醇-甲醚：17％；羟胺：3％。此外，在重工药液包含有消泡剂和/或表面活性剂的情况下，消泡剂和/或表面活性剂的质量百分含量为3％。
此外，可选的，本发明的重工药液以重工药液总重量为100％计，由下列组分构成：
去离子水：23％；四甲基氢氧化铵：10％；二甲基亚砜：39％；N-甲基吡咯烷酮：5％；二甘醇-甲醚：17％；羟胺：3％；消泡剂和/或表面活性剂：3％。
另外，在本实施例的重工药液还包括其它组分时，可以在去离子水中继续加入其它组分以形成重工药液，对于其他组分和本实施例公开的组分的添加先后顺序没有特别地限定。
下面使用上述以重工药液总重量为100％计，组分包括：去离子水：20％；四甲基氢氧化铵：10％；二甲基亚砜：41.5％；N-甲基吡咯烷酮：5％；二甘醇-甲醚：17％；羟胺：1.5％；消泡剂和/或表面活性剂5％的重工药液对待重工的COA基板进行重工，另外还使用常规基板剥离清洗液对另一组待重工的COA基板进行重工，并将两种药液的重工结果进行对比。
实验条件：温度70℃，实验时长为1000S。
图2为本发明提供的重工药液对COA基板进行重工后的阵列基板照片；图3为本发明提供的重工药液对COA基板进行重工后的阵列基板的局部放大照片；图4为本发明提供的重工药液对COA基板进行重工后色阻材料层剥离物的照片；图5为使用常规基板剥离清洗液对COA基板进行重工后的阵列基板照片；图6为使用常规基板剥离清洗液对COA基板进行重工后的阵列基板的局部放大照片；图7为使用常规基板剥离清洗液对COA基板进行重工后色阻材料层剥离物的照片；
如图2所示，使用上述组分的重工药液对COA基板进行重工后，阵列基板上的色阻材料层剥离干净，如图3所示，对阵列基板上的金属配线层基本无腐蚀，重工效果较好。如图5所示，上述组分的重工药液对对色阻材料层慢慢溶解。
与之相对地，如图5所示，使用常规基板剥离清洗液对COA基板进行重工后，阵列基板上的色阻材料层剥离也较为干净，但如图6所示，对阵列基板上的金属配线层严重腐蚀。如图7所示，常规基板剥离清洗液对对色阻材料层成片剥落下来，虽然对色阻材料层的剥离较为容易，但由于严重腐蚀了阵列基板上的金属配线，因此重工效果较差。
此外，本实施例还对上述重工后的COA基板进行了电性测试实验，图8为本发明提供的重工药液对COA基板进行重工后的阵列基板的电性测试图像；图9为使用常规基板剥离清洗液对COA基板进行重工后的阵列基板的电性测试图像；图10为正常的不需要重工的阵列基板的电性测试图像。如图8、9、10所示，横轴和纵轴均为长度尺寸，而图中的斑点代表基板上电性测试失败的部位，如图8所示，采用本发明提供的重工药液对COA基板进行重工后的阵列基板上没有出现电性测试失败的部位，良率为100％，如图9所示，使用常规基板剥离清洗液对COA基板进行重工后的阵列基板上出现大量的电性测试失败的部位，良率为0％，而对于图10所示的不需要重工的阵列基板，由于工艺制程中的不可控因素等原因，出现一个电性测试失败的部位，良率为98％。由以上可以看出，上述重工药液能够提高基板的重工效果，极大的提高了产品的良率。
本实施例的重工药液包括如下重量份的组分：去离子水：20～30份；四甲基氢氧化铵：3～10份；二甲基亚砜：30～45份；N-甲基吡咯烷酮：1～5份；二甘醇-甲醚：10～20份；羟胺：1～5份。通过采用重工药液对基板上的色阻材料层、PS、BM溶解从而剥离，由于将现有技术中的物理剥离改为化学溶解剥离，因此剥离较为彻底，重工效果好。
实施例二
本实施例提供一种重工药液制备方法，用于制备实施例一所述的重工药液，该方法包括：将除去离子水以外的各组分加入到去离子水中，得到重工药液。
具体的，可以将四甲基氢氧化铵、二甲基亚砜、N-甲基吡咯烷酮、二甘醇-甲醚、羟胺加入去离子水中，并混合均匀以制得重工药液。当然，在重工药液还包括其它组分的情况下，可以将除了上述组分之外的其它组分也加入去离子水中，并混合均匀。
其中，将四甲基氢氧化铵、二甲基亚砜、N-甲基吡咯烷酮、二甘醇-甲醚、羟胺加入去离子水中具体是指，将四甲基氢氧化铵、二甲基亚砜、N-甲基吡咯烷酮、二甘醇-甲醚、羟胺按照实施例1中所记载的配方的比例加入去离子水中。此外，这里的混合均匀可以是搅拌均匀，也可以是通过其他已知的方法实现混合均匀，此处不再赘述。在下面的描述中，均以搅拌均匀为例来进行说明。
具体的，将四甲基氢氧化铵：3～10份、二甲基亚砜：30～45份、N-甲基吡咯烷酮：1～5份、二甘醇-甲醚：10～20份、羟胺：1～5份加入去离子水：20～30份中，并搅拌均匀以制得重工药液。在重工药液的组分中包含有消泡剂和/或表面活性剂的情况下，还在去离子水中加入1～5重量份的消泡剂和/或表面活性剂。
在另一种可选的实施方式中，将四甲基氢氧化铵：5～10份、二甲基亚砜：35～41.5份、N-甲基吡咯烷酮：3～5份、二甘醇-甲醚：15～20份、羟胺：1～4份加入去离子水：22～26份中，并搅拌均匀以制得重工药液。在重工药液的组分中包含有消泡剂和/或表面活性剂的情况下，还在去离子水中加入重量份为5份的消泡剂和/或表面活性剂。
本实施例还提供重工药液的各组分几种优选方案的配制方法，作为一种可选的实施方式，将四甲基氢氧化铵：10份、二甲基亚砜：41.5份、N-甲基吡咯烷酮：5份、二甘醇-甲醚：17份、羟胺：1.5份加入去离子水：20份中，并搅拌均匀以制得重工药液。在重工药液的组分中包含有消泡剂和/或表面活性剂的情况下，还在去离子水中加入5重量份的消泡剂和/或表面活性剂。
作为另一种可选的实施方式，将四甲基氢氧化铵：9份、二甲基亚砜：40份、N-甲基吡咯烷酮：4.5份、二甘醇-甲醚：16份、羟胺：2份加入去离子水：25份中，并搅拌均匀以制得重工药液。在重工药液的组分中包含有消泡剂和/或表面活性剂的情况下，还在去离子水中加入3.5重量份的消泡剂和/或表面活性剂。
作为再一种可选的实施方式，将四甲基氢氧化铵：10份、二甲基亚砜：39份、N-甲基吡咯烷酮：5份、二甘醇-甲醚：17份、羟胺：3份加入去离子水：23份中，并搅拌均匀以制得重工药液。在重工药液的组分中包含有消泡剂和/或表面活性剂的情况下，还在去离子水中加入3重量份的消泡剂和/或表面活性剂。
另外，与之对应地，若本发明的重工药液的配置过程中，以最终重工药液总重量为100％计，则该重工药液的配置方法为：
将四甲基氢氧化铵：3～10％、二甲基亚砜：30～45％、N-甲基吡咯烷酮：1～5％、二甘醇-甲醚：10～20％、羟胺：1～5％加入去离子水：20～30％中，并搅拌均匀以制得重工药液。在重工药液的组分中包含有消泡剂和/或表面活性剂的情况下，还在去离子水中加入重量百分含量为1～5％的消泡剂和/或表面活性剂。
进一步的，将四甲基氢氧化铵：5～10％、二甲基亚砜：35～41.5％、N-甲基吡咯烷酮：3～5％、二甘醇-甲醚：15～20％、羟胺：1～4％加入去离子水：22～26％中，并搅拌均匀以制得重工药液。在重工药液的组分中包含有消泡剂和/或表面活性剂的情况下，还在去离子水中加入重量百分含量为5％的消泡剂和/或表面活性剂。
本实施例还提供重工药液的各组分几种优选方案的配制方法，作为一种可选的实施方式，将四甲基氢氧化铵：10％、二甲基亚砜：41.5％、N-甲基吡咯烷酮：5％、二甘醇-甲醚：17％、羟胺：1.5％加入去离子水：20％中，并搅拌均匀以制得重工药液。在重工药液的组分中包含有消泡剂和/或表面活性剂的情况下，还在去离子水中加入重量百分含量为5％的消泡剂和/或表面活性剂。
作为另一种可选的实施方式，将四甲基氢氧化铵：9％、二甲基亚砜：40％、N-甲基吡咯烷酮：4.5％、二甘醇-甲醚：16％、羟胺：2％加入去离子水：25％中，并搅拌均匀以制得重工药液。在重工药液的组分中包含有消泡剂和/或表面活性剂的情况下，还在去离子水中加入重量百分含量为3.5％的消泡剂和/或表面活性剂。
作为再一种可选的实施方式，将四甲基氢氧化铵：10％、二甲基亚砜：39％、N-甲基吡咯烷酮：5％、二甘醇-甲醚：17％、羟胺：3％加入去离子水：23％中，并搅拌均匀以制得重工药液。在重工药液的组分中包含有消泡剂和/或表面活性剂的情况下，还在去离子水中加入重量百分含量为3％的消泡剂和/或表面活性剂。
在上述过程中，选择将四甲基氢氧化铵、二甲基亚砜、N-甲基吡咯烷酮、二甘醇-甲醚、羟胺加入去离子水中，这是为了避免将除了去离子水之外的其它组分彼此混合时放热，对药液的配置过程造成安全隐患，而将除去离子水之外的其它组分分别加入去离子水中，就可以避免这种情况的发生。
此外，可选的，在上述配制过程中，可以使四甲基氢氧化铵、二甲基亚砜、N-甲基吡咯烷酮、二甘醇-甲醚、羟胺依次加入去离子水中，并搅拌均匀，可以进一步避免各个组分之间混合时的放热。
进一步的，上述将除去离子水以外的各组分加入到所述去离子水中，具体包括：在所述去离子水中每加入一种组分后，搅拌预设时间、例如30分钟之后再加入下一个组分。这样可以使每种组分在充分的溶解之后，再加入下一个组分，可以使整个重工药液更加均匀。
另外，优选上述重工药液的制备过程在常温下进行，即25℃左右。
本实施例的重工药液的制备方法包括：将除去离子水以外的各组分加入到所述去离子水中，得到所述重工药液。制备方法简单，以该方法制备出的重工药液对基板进行重工时，能够提高对基板重工的效果。
实施例三
图1为本发明提供的重工装置的结构示意图，如图1所示，本实施例提供一种重工装置，本实施例的重工装置中所使用的重工药液是实施例一所述的重工药液，使用实施例二所述的方法制备而成。对于重工药液的具体成分和其具体制备方法在实施例一和实施例二中已经详细叙述，此处不再赘述。
本实施例提供的重工装置包括：反应腔室1和设置在反应腔室1内部的基板承载组件2和喷淋头3，基板承载组件2用于放置待重工基板，因此可以将待重工基板4放置在基板承载组件2上，喷淋头3设置在基板承载组件2上方，喷淋头3用于向待重工基板4喷淋如实施例一所述的重工药液，以使待重工基板4表面的色阻材料层剥离。
本实施例中的反应腔室1是重工过程中的发生化学反应的腔室，可以根据需要设有一个或多个。喷淋头3设置在基板承载组件2上方，用于向待重工基板4喷淋重工药液，其个数可以根据实际需要选择。当然，考虑到对基板的重工效果，可以适当增加喷淋头的个数。如上述实施例中所述，重工药液可以去除待重工基板4上的色阻材料层、PS、BM。
此外，可选的，基板承载组件2包括多个并排设置的运送辊5，多个运送辊5的轴线形成在一个平面上，且该平面相对于水平面具有夹角α。即，使各个运送辊5倾斜设置，可以使待重工基板4也倾斜设置，这样，当重工药液喷淋到待重工基板4上时，可以提高重工药液的置换性，并提高重工药液的活性。具体的，在待重工基板4上有位于较高位置处的部分，也有位于较低位置处的部分，例如喷淋到待重工基板4上的较高位置处的重工药液除了和该较高位置处的色阻材料层发生反应之外，还可以顺着待重工基板4流到较低位置处，增加了重工药液和待重工基板4的接触时间以及接触面积，因此可以提高重工药液的置换性，能够使色阻材料层的剥离更彻底。图1中是重工装置的侧视图，进一步的，多个运送辊5之间平行设置，且彼此之间间距相等。此外，不管基板承载组件2相对于水平面的夹角α为多少度，都要保证待重工基板4的待重工的表面朝上，便于喷淋头3将重工药液喷淋到待重工的表面上。
图1中例示的是基板承载组件2倾斜设置、反应腔室未倾斜的情况，实际中，也可以是整个反应腔室1倾斜设置，且基板承载组件2相对于反应腔室1的底壁平行设置的情况，这样基板承载组件2也相对于水平面倾斜，即基板承载组件2也相对于水平面具有夹角α。
另外，可选的，本实施例的重工装置还包括储液罐8，储液罐8中容置有重工药液，储液罐8与喷淋头3相连通，以向喷淋头3供应重工药液，在储液罐上8设有用于对储液罐8内的重工药液进行加热的加热器9。这样，可以将重工药液储存在储液罐8中，储液罐8和喷淋头3之间可以通过管道(未图示)等连通，以向喷淋头3供应重工药液。
在对基板进行重工的过程中，若仅设有一个储液罐，在储液罐中储存的重工药液使用完毕，或者是储液罐发生故障时，有可能储液罐无法正常向喷淋头3提供重工药液，这时需要暂停储液罐的运作，向储液罐添加重工药液或者排除储液罐的故障之后再重新启动重工过程，这会导致重工制程的耗时较长。为了避免这种情况的发生，可以考虑设置两个储液罐，这两个储液罐轮流使用，在其中一个储液罐由于重工药液消耗完毕或者由于故障而无法继续供应重工药液时，喷淋头3可以由另一个储液罐供应重工药液，不会影响到正常重工步骤的进行。
具体可选的，本实施例的重工装置，还包括切换组件10，储液罐8包括第一储液罐6和第二储液罐7，第一储液罐的出液端61和第二储液罐的出液端71分别与切换组件的进液端101、进液端102连接，切换组件的出液端103与喷淋头3相连通，切换组件10用于控制第一储液罐的出液端61与喷淋头3连通，或者控制第二储液罐的出液端71与喷淋头3连通。此外，当切换组件10控制第一储液罐的出液端61与喷淋头3连通时，同时控制第二储液罐的出液端71与喷淋头3切断连通；当切换组件10控制第二储液罐的出液端71与喷淋头3连通时，同时控制第一储液罐的出液端61与喷淋头3切断连通，以保证在同一时刻只有一个储液罐向喷淋头3提供重工药液。切换组件10具体可以是切换阀等。在具体使用的过程中，当第一储液罐6由于药液耗光或者故障等原因无法继续供应重工药液时，切换组件10立即切换为由第二储液罐7进行供应。同样的，在第二储液罐7无法继续供应重工药液时，切换组件10立即切换为由第一储液罐6进行供应。
可选的，本实施例的重工装置还包括冲洗腔室(未图示)，冲洗腔室用于对在反应腔室中重工后的待重工基板进行冲洗。在反应腔室中利用重工药液对基板进行重工后，有可能被剥离掉的色阻材料层等还会附着在基板的表面，这样可以在冲洗腔室中对基板进行再次冲洗，以将基板上残留的色阻材料颗粒彻底去除。冲洗腔室中例如可以设置有喷淋头等，利用喷淋头喷淋清洗液对基板进行冲洗，此外，为了增加对基板的冲洗效果，可以选择使冲洗腔室中的喷淋头的喷出压力为7公斤。
下面介绍一种基板的重工方法，该方法包括：
S10、将基板放置在基板承载装置上；
S20、向基板喷淋上述重工药液；
S30、对基板进行冲洗。
其中，S10、将基板放置在基板承载装置上具体包括，将基板放置在反应腔室1中的运送辊5上，并使待重工的表面朝上，一般来说，喷淋头3设置在反应腔室1中基板承载组件2的上部，喷淋头3的喷淋口朝向基板承载组件2，这样方便喷淋头3将重工药液喷淋到基板的待重工的表面上。
此外，S20、向基板喷淋上述重工药液具体是指向基板喷淋实施例一所述的重工药液，喷淋到基板上的重工药液和基板上的色阻材料层发生化学反应，使色阻材料层发生剥离，并溶解。
在基板上的色阻材料层发生溶解后，可能有部分重工药液或者部分已剥离的色阻材料颗粒残留在基板表面，这时可以考虑执行S30、对基板进行冲洗，具体的，将基板运送到上述的冲洗腔室中，利用去离子水等清洗液对基板进行冲洗。经过上述这样的步骤清洗后的基板可以重新投入下一制程进行正常的生产。
另外，本发明中的待重工基板可以是液晶显示面板中的彩膜基板，也可以是COA基板。
对于普通的彩膜基板，若在刚形成色阻材料层之后发现色阻材料层发生不良缺陷，需要去除色阻材料层，可以将该基板放入本实施例的重工装置中，使用本实施例的基板重工方法对基板进行重工，剥离色阻材料层和BM，重工完毕的基板为玻璃基板。
对于普通的彩膜基板，若在刚形成PS之后发现色阻材料层发生不良缺陷，需要去除色阻材料层时，可以将该基板放入本实施例的重工装置中，使用本实施例的基板重工方法对基板进行重工，先剥离PS，然后使用盐酸等腐蚀性的药剂对ITO层进行去除后，再用上述重工方法剥离色阻材料层和BM，重工完毕的基板为玻璃基板。
对于COA基板，其结构为在普通的阵列基板上形成钝化层(例如氮化硅)，并在钝化层上形成色阻材料层，若在刚形成色阻材料层之后发现色阻材料层发生不良缺陷，需要去除色阻材料层，可以将该基板放入本实施例的重工装置中，使用本实施例的基板重工方法对基板进行重工，剥离色阻材料层，重工完毕的基板为普通的阵列基板。此外，在钝化层的下方形成有阵列基板的源极、漏极、源极配线、漏极配线等金属材料，因此当重工药液对钝化层上方的色阻材料层进行剥离时，若钝化层厚度过薄，或者由于部分区域钝化层过薄，容易出现重工药液腐蚀到源极、漏极、源极配线、漏极配线等金属材料的情况，为了避免此种情况的发生，可以适当加厚钝化层的厚度，例如可以使钝化层的厚度由加厚为
本实施例的重工装置包括：反应腔室和设置在反应腔室内部的基板承载组件和喷淋头，待重工基板放置在基板承载组件上，喷淋头设置在基板承载组件上方，喷淋头用于向待重工基板喷淋上述的重工药液，以使待重工基板表面的色阻材料层剥离。由于重工装置向基板喷淋上述的重工药液，将待重工基板表面的色阻材料层剥离，因此基板的重工效果较佳。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
此外，在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“连接”、“相连”、“固定”、“安装”等应做广义理解，例如可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接连接，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定、对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种重工药液，其特征在于，包括如下重量份的组分：
去离子水：20～30份；
四甲基氢氧化铵：3～10份；
二甲基亚砜：30～45份；
N-甲基吡咯烷酮：1～5份；
二甘醇-甲醚：10～20份；
羟胺：1～5份。
2.根据权利要求1所述的重工药液，其特征在于，所述重工药液的组分还包括1～5重量份的消泡剂和/或表面活性剂。
3.根据权利要求1或2所述的重工药液，其特征在于，所述重工药液中的各组分的重量份为：
去离子水：22～26份；
四甲基氢氧化铵：5～10份；
二甲基亚砜：35～41.5份；
N-甲基吡咯烷酮：3～5份；
二甘醇-甲醚：15～20份；
羟胺：1～4份。
4.一种如权利要求1-3任一所述的重工药液的制备方法，其特征在于，包括：
将除去离子水以外的各组分加入到所述去离子水中，得到所述重工药液。
5.根据权利要求4所述的重工药液的制备方法，其特征在于，所述将除去离子水以外的各组分加入到所述去离子水中，得到所述重工药液，具体包括：
在所述去离子水中每加入一种所述组分后，搅拌预设时间之后再加入下一个所述组分。
6.一种重工装置，其特征在于，包括：反应腔室以及设置在所述反应腔室内部的基板承载组件和喷淋头，所述基板承载组件用于放置待重工基板，所述喷淋头设置在所述基板承载组件上方，所述喷淋头用于向所述待重工基板喷淋如权利要求1-3任一所述的重工药液，以使所述待重工基板表面的色阻材料层剥离。
7.根据权利要求6所述的重工装置，其特征在于，所述基板承载组件包括多个并排设置的运送辊，所述多个运送辊的轴线在一个平面上，且所述平面相对于水平面具有夹角。
8.根据权利要求6所述的重工装置，其特征在于，还包括储液罐，所述储液罐中容置有所述重工药液，所述储液罐与所述喷淋头相连通，以向所述喷淋头供应所述重工药液，在所述储液罐上设有用于对所述储液罐内的重工药液进行加热的加热器。
9.根据权利要求8所述的重工装置，其特征在于，还包括切换组件，所述储液罐包括第一储液罐和第二储液罐，所述第一储液罐的出液端和所述第二储液罐的出液端分别与切换组件的两个进液端连接，所述切换组件的出液端与所述喷淋头相连通，所述切换组件用于控制所述第一储液罐的出液端与所述喷淋头连通，或者控制所述第二储液罐的出液端与所述喷淋头连通。
10.根据权利要求6-9任一所述的重工装置，其特征在于，还包括冲洗腔室，所述冲洗腔室用于对在所述反应腔室中重工后的所述待重工基板进行冲洗。
CN201910489290.3A 2019-06-06 2019-06-06 重工药液及其制备方法、重工装置 Pending CN110161812A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910489290.3A CN110161812A (zh) 2019-06-06 2019-06-06 重工药液及其制备方法、重工装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910489290.3A CN110161812A (zh) 2019-06-06 2019-06-06 重工药液及其制备方法、重工装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN110161812A true CN110161812A (zh) 2019-08-23

Family

ID=67627843

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910489290.3A Pending CN110161812A (zh) 2019-06-06 2019-06-06 重工药液及其制备方法、重工装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN110161812A (zh)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1150172A2 (en) * 2000-02-25 2001-10-31 Shipley Company LLC Method of removing antireflective compositions
TW200613543A (en) * 2004-07-28 2006-05-01 Adms Technology Co Ltd Aqueous resist stripper composition
CN1873543A (zh) * 2005-05-12 2006-12-06 东京应化工业株式会社 光致抗蚀剂用剥离液
CN101373343A (zh) * 2007-08-20 2009-02-25 株式会社东进世美肯 用于薄膜晶体管液晶显示器的彩色光阻剂剥离溶液组合物
CN101398639A (zh) * 2007-09-28 2009-04-01 三星电子株式会社 用于剥离的组合物以及剥离方法
CN102449554A (zh) * 2009-03-27 2012-05-09 伊士曼化工公司 用于清除有机物的组合物和方法
CN107817657A (zh) * 2017-10-26 2018-03-20 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 湿法剥离设备及其剥离方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1150172A2 (en) * 2000-02-25 2001-10-31 Shipley Company LLC Method of removing antireflective compositions
TW200613543A (en) * 2004-07-28 2006-05-01 Adms Technology Co Ltd Aqueous resist stripper composition
CN1873543A (zh) * 2005-05-12 2006-12-06 东京应化工业株式会社 光致抗蚀剂用剥离液
CN101373343A (zh) * 2007-08-20 2009-02-25 株式会社东进世美肯 用于薄膜晶体管液晶显示器的彩色光阻剂剥离溶液组合物
CN101398639A (zh) * 2007-09-28 2009-04-01 三星电子株式会社 用于剥离的组合物以及剥离方法
CN102449554A (zh) * 2009-03-27 2012-05-09 伊士曼化工公司 用于清除有机物的组合物和方法
CN107817657A (zh) * 2017-10-26 2018-03-20 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 湿法剥离设备及其剥离方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
杨成德: "《涂料开发与试验》", 28 February 2015, 科学技术文献出版社 *
谢宜敏: "《蚯蚓的利用与养殖》", 30 June 1989, 五洲出版社 *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6210748B1 (en) Method for producing liquid crystal display and method for cleaning substrate
US20200301284A1 (en) Photoresist stripper composition
CN100361026C (zh) 用于制造平板显示器件的方法和设备
CN103184463B (zh) 提高防酸洗液泄漏功能的核燃料棒包壳管的酸洗处理装置
US20120152899A1 (en) Alignment film repair apparatus and method thereof
CN102157370A (zh) 清洗方法及制造电子器件的方法
JP2007222754A (ja) スピン洗浄装置
US8023096B2 (en) Manufacturing method of a liquid crystal display panel, and a liquid crystal dripping device used therefor
CN110161812A (zh) 重工药液及其制备方法、重工装置
JP3523239B2 (ja) ガラス基板の化学加工方法及びガラス基板
KR20080042201A (ko) 평판디스플레이 패널의 결함부위 리페어방법
US7492437B2 (en) Apparatus for inspecting alignment film and method for fabricating liquid crystal display device using the same
CN107168021B (zh) 一种光刻胶用剥离液及其制备方法和应用
KR20030023456A (ko) 수계 레지스트 박리액 관리장치 및 수계 레지스트 박리액관리방법
KR20090015413A (ko) 평판표시장치 제조용 슬릿 노즐의 세정 장치
CN102163543B (zh) 蚀刻设备及其控制方法
KR20080106638A (ko) 유기막 박리제 조성물
KR20060133320A (ko) 배향막 인쇄 마스크용 지그 장치와, 이를 적용한 배향막인쇄 마스크용 세정 장비 및 이를 이용한 마스크 세정 방법
KR100429096B1 (ko) 양면 동시세정이 가능한 매엽식 웨이퍼 세정장치
CN109709705A (zh) 液晶显示面板的制备方法及液晶显示面板
KR101451857B1 (ko) 약액 공급 장치
CN110129146A (zh) 一种液晶显示屏清洗液及清洗方法
JPH10311913A (ja) カラーフィルタの製造装置
CN104570496B (zh) 一种形成有取向膜的基板的清洗方法
CN106292031A (zh) 一种tft‑lcd制造工艺中的双面刻蚀方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20190823