CN110003996B - 一种浸泡液及其制备方法和使用方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 37
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 238000002791 soaking Methods 0.000 claims abstract description 84
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 63
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 42
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 38
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000002888 zwitterionic surfactant Substances 0.000 claims abstract description 28
- BAERPNBPLZWCES-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-1-phosphonoethyl)phosphonic acid Chemical compound OCC(P(O)(O)=O)P(O)(O)=O BAERPNBPLZWCES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 claims abstract description 21
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 21
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 113
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 73
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 claims description 28
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 17
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 14
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims description 11
- -1 alkyl diphenyl ether Chemical compound 0.000 claims description 10
- MRUAUOIMASANKQ-UHFFFAOYSA-N cocamidopropyl betaine Chemical group CCCCCCCCCCCC(=O)NCCC[N+](C)(C)CC([O-])=O MRUAUOIMASANKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229940073507 cocamidopropyl betaine Drugs 0.000 claims description 9
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 9
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 8
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 8
- 238000005303 weighing Methods 0.000 claims description 8
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Natural products C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 12
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 abstract description 5
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 6
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 2
- 239000010865 sewage Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 238000011001 backwashing Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000005202 decontamination Methods 0.000 description 1
- 230000003588 decontaminative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
- 238000003911 water pollution Methods 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/08—Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D1/00—Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
- C11D1/88—Ampholytes; Electroneutral compounds
- C11D1/94—Mixtures with anionic, cationic or non-ionic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/20—Organic compounds containing oxygen
- C11D3/2075—Carboxylic acids-salts thereof
- C11D3/2086—Hydroxy carboxylic acids-salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/26—Organic compounds containing nitrogen
- C11D3/33—Amino carboxylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/34—Organic compounds containing sulfur
- C11D3/3454—Organic compounds containing sulfur containing sulfone groups, e.g. vinyl sulfones
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/36—Organic compounds containing phosphorus
- C11D3/361—Phosphonates, phosphinates or phosphonites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D1/00—Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
- C11D1/02—Anionic compounds
- C11D1/12—Sulfonic acids or sulfuric acid esters; Salts thereof
- C11D1/22—Sulfonic acids or sulfuric acid esters; Salts thereof derived from aromatic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D1/00—Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
- C11D1/66—Non-ionic compounds
- C11D1/72—Ethers of polyoxyalkylene glycols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D1/00—Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
- C11D1/88—Ampholytes; Electroneutral compounds
- C11D1/90—Betaines
-
- C11D2111/18—
Abstract
本发明公开了一种浸泡液，包括按重量百分含量计的如下组分：氨基酸7‑10％，柠檬酸8‑10％，羟基乙叉二膦酸3‑5％，非离子表面活性剂2‑3％，两性离子表面活性剂0.5‑1％，阴离子表面活性剂0.5‑1％，二甲基亚砜2‑3％，余量的水。本发明还公开了所述浸泡液的制备方法和使用方法。本发明的浸泡液具有清洗效果好、良率高、低成本、环保、不含无机物、不含重金属的特点。
Description
技术领域
本发明涉及一种浸泡液，具体涉及一种浸泡液及其制备方法和使用方法。
背景技术
我国具有丰富的稀土资源，工业铈资源的储量高达1800万吨左右，而氧化铈抛光材料因具备切削能力强、抛光时间短、抛光精度高、操作环境清洁等优点，被应用于许多方面，如对镜头、光纤、光学元件、硅片、ITO玻璃、手机玻璃、航空玻璃、集成电路基板等的抛光，已成为化学机械抛光的重要材料之一。
现有技术中的光学玻璃材质大都是采用二氧化硅材质，经切割成各种形状，然后进行表面抛光工艺，抛光工艺采用的氧化铈(稀土)兑水使用后，粘性特别强，粘附的磨粉无法清洗干净，如何清理是很棘手的问题。现有技术中清除粉状清洗剂的方法有如下几种：1、使用铁***兑水浸泡，清洗效果不理想；2、用洁厕灵(盐酸)进行浸泡，效果稍好，磨粉有所软化、松动，但最少需要浸泡5分钟，处理效率慢，另外，最大的缺点是污水不能得到有效处理。3、采用强碱性的光学清洗剂进行处理，需要反复清洗，增加了返洗率，这样对玻璃划伤几率增大，良率低，生产成本高。
发明内容
为了克服现有技术的不足，本发明的目的之一在于提供一种浸泡液，具有清洗效果好、良率高、低成本、环保、不含无机物、不含重金属的特点。
本发明的目的之二在于提供一种浸泡液的制备方法，具有制备工艺简单可靠、操作方便、所需求设备简单的特点。
本发明的目的之三在于提供一种浸泡液的使用方法。
本发明的目的之一采用如下技术方案实现：
一种浸泡液，其特征在于，包括按重量百分含量计的如下组分：
氨基酸7-10％，柠檬酸8-10％，羟基乙叉二膦酸(HEDP)3-5％，非离子表面活性剂2-3％，两性离子表面活性剂0.5-1％，阴离子表面活性剂0.5-1％，二甲基亚砜2-3％，余量的水。
进一步地，所述浸泡液包括按重量百分含量计的如下组分：氨基酸10％，柠檬酸10％，羟基乙叉二膦酸5％，非离子表面活性剂3％，两性离子表面活性剂1％，阴离子表面活性剂1％，二甲基亚砜3％，余量的水。
进一步地，所述非离子表面活性剂为AEO-3表面活性剂和巴斯夫异构醇XL90，其中，AEO-3表面活性剂的添加量为浸泡液总重量的1％，巴斯夫异构醇XL90的添加量为浸泡液总重量的2％。
进一步地，所述两性离子表面活性剂为椰油酰胺丙基甜菜碱。
进一步地，所述阴离子表面活性剂为烷基二苯醚二磺酸盐，具体为美国陶氏DOWFAX8390。
本发明的目的之二采用如下技术方案实现：
一种浸泡液的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
备料步骤：按照配方配比分别称取各原料，备用；
搅拌步骤：将配方量的水加入容器中，然后将配方量的氨基酸、柠檬酸分别加入容器中进行第一次搅拌，搅拌均匀后，再将配方量的羟基乙叉二膦酸加入容器中进行第二次搅拌，搅拌均匀后，得到第一混合溶液；最后将配方量的非离子表面活性剂、两性离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、二甲基亚砜分别加入容器中进行第二次搅拌，搅拌均匀后，得到浸泡液。
进一步地，搅拌步骤中，第一次搅拌的搅拌时间为8-10分钟。
进一步地，搅拌步骤中，第二次搅拌的搅拌时间为1-2分钟。
进一步地，搅拌步骤中，第三次搅拌的搅拌时间为1-3分钟。
本发明的目的之三采用如下技术方案实现：
一种浸泡液的使用方法，其特征在于，包括以下步骤：将浸泡液兑水18-20倍，得到浸泡稀释液；在常温条件下，将抛光后的光学玻璃片浸泡在浸泡稀释液中，浸泡50-60秒后，将光学玻璃片取出，用清水冲洗一次，再进行超声波工艺清洗，即完成整个过程。
相比现有技术，本发明的有益效果在于：
1、本发明的浸泡液包括氨基酸、柠檬酸、羟基乙叉二膦酸，三种算都是有机酸，对人体、设备都无毒，而且在水污处理上好处理，三酸复合对稀土起到软化作用，三者之间缺一不可，具有协同增效作用，另外它们在二甲基亚砜的强溶解性及强渗透性的作用下，能够把稀土剥离。椰油酰胺丙基甜菜碱具有增稠效果，配伍其它表面活剂充分润湿、渗透、剥离作用，能够在润湿过程中把稀土的粘附性降低。综上，本发明的浸泡液具有清洗效果好、良率高、低成本、环保、不含无机物、不含重金属的特点。
2、本发明的制备方法所采用浸泡设备非常简单，不需加温，只要体积大小能盛下玻璃支架就好，具有清洗效果好、良率高、低成本、环保、不含无机物、不含重金属的特点。
具体实施方式
下面，结合具体实施方式，对本发明做进一步描述，需要说明的是，在不相冲突的前提下，以下描述的各实施例之间或各技术特征之间可以任意组合形成新的实施例。本实施例中所采用到的材料均可从市场购得。
一种浸泡液，包括按重量百分含量计的如下组分：
氨基酸7-10％，柠檬酸8-10％，羟基乙叉二膦酸(HEDP)3-5％，非离子表面活性剂2-3％，两性离子表面活性剂0.5-1％，阴离子表面活性剂0.5-1％，二甲基亚砜2-3％，余量的水。
作为优选的实施方式，所述浸泡液包括按重量百分含量计的如下组分：氨基酸10％，柠檬酸10％，羟基乙叉二膦酸5％，非离子表面活性剂3％，两性离子表面活性剂1％，阴离子表面活性剂1％，二甲基亚砜3％，余量的水。
作为优选的实施方式，所述非离子表面活性剂为AEO-3表面活性剂和巴斯夫异构醇XL90中的一种或两种。
作为优选的实施方式，AEO-3表面活性剂的添加量为浸泡液总重量的1％，巴斯夫异构醇XL90的添加量为浸泡液总重量的2％。
作为优选的实施方式，所述两性离子表面活性剂为椰油酰胺丙基甜菜碱。
作为优选的实施方式，所述阴离子表面活性剂为烷基二苯醚二磺酸盐，具体为美国陶氏DOWFAX8390。
巴斯夫异构醇XL90具有很高的去污能力、分散能力、乳化能力，在以上功能配合下对设备完全剥离或剥离稀土后氧化物痕迹有相当强的变化作用，分散作用，对后工艺有很好清洗作用。
美国陶氏DOWFAX8390具有良好的稳定性、溶解性，降低凝胶，具有起低泡、耐酸、耐碱的作用，容易漂洗。本发明的浸泡液经复配后，环保要求达标，可经污水站处理，不含无机物、不含铅、镉等多种重金属元素。
一种浸泡液的制备方法，包括以下步骤：
备料步骤：按照配方配比分别称取各原料，备用；
搅拌步骤：将配方量的水加入容器中，然后将配方量的氨基酸、柠檬酸分别加入容器中进行第一次搅拌，搅拌均匀后，再将配方量的羟基乙叉二膦酸加入容器中进行第二次搅拌，搅拌均匀后，得到第一混合溶液；最后将配方量的非离子表面活性剂、两性离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、二甲基亚砜分别加入容器中进行第二次搅拌，搅拌均匀后，得到浸泡液。
作为优选的实施方式，搅拌步骤中，第一次搅拌的搅拌时间为8-10分钟。
作为优选的实施方式，搅拌步骤中，第二次搅拌的搅拌时间为1-2分钟。
作为优选的实施方式，搅拌步骤中，第三次搅拌的搅拌时间为1-3分钟。
一种浸泡液的使用方法，包括以下步骤：将浸泡液兑水18-20倍，得到浸泡稀释液；在常温条件下，将抛光后的光学玻璃片浸泡在浸泡稀释液中，浸泡50-60秒后，将光学玻璃片取出，用清水冲洗一次，再进行超声波工艺清洗，即完成整个过程。
以下是本发明具体的实施例，在下述实施例中所采用的原材料、设备等除特殊限定外均可以通过购买方式获得。
实施例1：
一种浸泡液，包括按重量百分含量计的如下组分：
氨基酸10％，柠檬酸10％，羟基乙叉二膦酸(HEDP)5％，非离子表面活性剂3％，两性离子表面活性剂1％，阴离子表面活性剂1％，二甲基亚砜3％，余量的水。
所述非离子表面活性剂为AEO-3表面活性剂和巴斯夫异构醇XL90，其中，AEO-3表面活性剂的添加量为浸泡液总重量的1％，巴斯夫异构醇XL90的添加量为浸泡液总重量的2％。
所述两性离子表面活性剂为椰油酰胺丙基甜菜碱。
所述阴离子表面活性剂为烷基二苯醚二磺酸盐，具体为美国陶氏DOWFAX8390。
一种浸泡液的制备方法，包括以下步骤：
备料步骤：按照配方配比分别称取各原料，备用；
搅拌步骤：将配方量的水加入容器中，然后将配方量的氨基酸、柠檬酸分别加入容器中进行第一次搅拌，搅拌均匀后，再将配方量的羟基乙叉二膦酸加入容器中进行第二次搅拌，搅拌均匀后，得到第一混合溶液；最后将配方量的非离子表面活性剂、两性离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、二甲基亚砜分别加入容器中进行第二次搅拌，搅拌均匀后，得到浸泡液。其中，第一次搅拌的搅拌时间为10分钟。第二次搅拌的搅拌时间为2分钟。第三次搅拌的搅拌时间为3分钟。
实施例2：
一种浸泡液，包括按重量百分含量计的如下组分：
氨基酸7％，柠檬酸8％，羟基乙叉二膦酸3％，非离子表面活性剂2％，两性离子表面活性剂0.5％，阴离子表面活性剂0.5％，二甲基亚砜2％，余量的水。
所述非离子表面活性剂为AEO-3表面活性剂和巴斯夫异构醇XL90，其中，AEO-3表面活性剂的添加量为浸泡液总重量的1％，巴斯夫异构醇XL90的添加量为浸泡液总重量的1％。
所述两性离子表面活性剂为椰油酰胺丙基甜菜碱。
所述阴离子表面活性剂为烷基二苯醚二磺酸盐，具体为美国陶氏DOWFAX8390。
一种浸泡液的制备方法，包括以下步骤：
备料步骤：按照配方配比分别称取各原料，备用；
搅拌步骤：将配方量的水加入容器中，然后将配方量的氨基酸、柠檬酸分别加入容器中进行第一次搅拌，搅拌均匀后，再将配方量的羟基乙叉二膦酸加入容器中进行第二次搅拌，搅拌均匀后，得到第一混合溶液；最后将配方量的非离子表面活性剂、两性离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、二甲基亚砜分别加入容器中进行第二次搅拌，搅拌均匀后，得到浸泡液。其中，第一次搅拌的搅拌时间为10分钟。第二次搅拌的搅拌时间为2分钟。第三次搅拌的搅拌时间为3分钟。
实施例3：
一种浸泡液，包括按重量百分含量计的如下组分：
氨基酸8％，柠檬酸9％，羟基乙叉二膦酸4％，非离子表面活性剂2.5％，两性离子表面活性剂0.8％，阴离子表面活性剂0.8％，二甲基亚砜2.5％，余量的水。
所述非离子表面活性剂为AEO-3表面活性剂和巴斯夫异构醇XL90，其中，AEO-3表面活性剂的添加量为浸泡液总重量的1％，巴斯夫异构醇XL90的添加量为浸泡液总重量的1.5％。
所述两性离子表面活性剂为椰油酰胺丙基甜菜碱。
所述阴离子表面活性剂为烷基二苯醚二磺酸盐，具体为美国陶氏DOWFAX8390。
一种浸泡液的制备方法，包括以下步骤：
备料步骤：按照配方配比分别称取各原料，备用；
搅拌步骤：将配方量的水加入容器中，然后将配方量的氨基酸、柠檬酸分别加入容器中进行第一次搅拌，搅拌均匀后，再将配方量的羟基乙叉二膦酸加入容器中进行第二次搅拌，搅拌均匀后，得到第一混合溶液；最后将配方量的非离子表面活性剂、两性离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、二甲基亚砜分别加入容器中进行第二次搅拌，搅拌均匀后，得到浸泡液。其中，第一次搅拌的搅拌时间为10分钟。第二次搅拌的搅拌时间为2分钟。第三次搅拌的搅拌时间为3分钟。
实施例4：
一种浸泡液，包括按重量百分含量计的如下组分：
氨基酸9％，柠檬酸10％，羟基乙叉二膦酸5％，非离子表面活性剂2.5％，两性离子表面活性剂1％，阴离子表面活性剂1％，二甲基亚砜3％，余量的水。
所述非离子表面活性剂为AEO-3表面活性剂和巴斯夫异构醇XL90，其中，AEO-3表面活性剂的添加量为浸泡液总重量的1％，巴斯夫异构醇XL90的添加量为浸泡液总重量的1.5％。
所述两性离子表面活性剂为椰油酰胺丙基甜菜碱。
所述阴离子表面活性剂为烷基二苯醚二磺酸盐，具体为美国陶氏DOWFAX8390。
一种浸泡液的制备方法，包括以下步骤：
备料步骤：按照配方配比分别称取各原料，备用；
搅拌步骤：将配方量的水加入容器中，然后将配方量的氨基酸、柠檬酸分别加入容器中进行第一次搅拌，搅拌均匀后，再将配方量的羟基乙叉二膦酸加入容器中进行第二次搅拌，搅拌均匀后，得到第一混合溶液；最后将配方量的非离子表面活性剂、两性离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、二甲基亚砜分别加入容器中进行第二次搅拌，搅拌均匀后，得到浸泡液。其中，第一次搅拌的搅拌时间为10分钟。第二次搅拌的搅拌时间为2分钟。第三次搅拌的搅拌时间为3分钟。
实施例5：
一种浸泡液，包括按重量百分含量计的如下组分：
氨基酸10％，柠檬酸9％，羟基乙叉二膦酸4％，非离子表面活性剂2.5％，两性离子表面活性剂0.5％，阴离子表面活性剂0.5％，二甲基亚砜2％，余量的水。
所述非离子表面活性剂为AEO-3表面活性剂和巴斯夫异构醇XL90，其中，AEO-3表面活性剂的添加量为浸泡液总重量的1％，巴斯夫异构醇XL90的添加量为浸泡液总重量的1.5％。
所述两性离子表面活性剂为椰油酰胺丙基甜菜碱。
所述阴离子表面活性剂为烷基二苯醚二磺酸盐，具体为美国陶氏DOWFAX8390。
一种浸泡液的制备方法，包括以下步骤：
备料步骤：按照配方配比分别称取各原料，备用；
搅拌步骤：将配方量的水加入容器中，然后将配方量的氨基酸、柠檬酸分别加入容器中进行第一次搅拌，搅拌均匀后，再将配方量的羟基乙叉二膦酸加入容器中进行第二次搅拌，搅拌均匀后，得到第一混合溶液；最后将配方量的非离子表面活性剂、两性离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、二甲基亚砜分别加入容器中进行第二次搅拌，搅拌均匀后，得到浸泡液。其中，第一次搅拌的搅拌时间为10分钟。第二次搅拌的搅拌时间为2分钟。第三次搅拌的搅拌时间为3分钟。
性能检测：
清洗方法1：将实施例1所制得的将浸泡液分别兑水20倍，得到浸泡稀释液；在常温条件下，将抛光后的光学玻璃片分别浸泡在浸泡稀释液中，浸泡60秒后，将光学玻璃片取出，用清水冲洗一次，再进行超声波工艺清洗，即完成整个过程。
清洗方法2：将实施例2所制得的将浸泡液分别兑水20倍，得到浸泡稀释液；在常温条件下，将抛光后的光学玻璃片分别浸泡在浸泡稀释液中，浸泡60秒后，将光学玻璃片取出，用清水冲洗一次，再进行超声波工艺清洗，即完成整个过程。
清洗方法3：将实施例3所制得的将浸泡液分别兑水20倍，得到浸泡稀释液；在常温条件下，将抛光后的光学玻璃片分别浸泡在浸泡稀释液中，浸泡60秒后，将光学玻璃片取出，用清水冲洗一次，再进行超声波工艺清洗，即完成整个过程。
清洗方法4：将实施例4所制得的将浸泡液分别兑水20倍，得到浸泡稀释液；在常温条件下，将抛光后的光学玻璃片分别浸泡在浸泡稀释液中，浸泡60秒后，将光学玻璃片取出，用清水冲洗一次，再进行超声波工艺清洗，即完成整个过程。
清洗方法5：将实施例5所制得的将浸泡液分别兑水20倍，得到浸泡稀释液；在常温条件下，将抛光后的光学玻璃片分别浸泡在浸泡稀释液中，浸泡60秒后，将光学玻璃片取出，用清水冲洗一次，再进行超声波工艺清洗，即完成整个过程。
分别将200块经过抛光处理后的光学玻璃片分别按照上述方法进行清洗，检测产品的良率，结果：良品率均为96％以上。
上述实施方式仅为本发明的优选实施方式，不能以此来限定本发明保护的范围，本领域的技术人员在本发明的基础上所做的任何非实质性的变化及替换均属于本发明所要求保护的范围。
Claims (7)
1.一种浸泡液，其特征在于，包括按重量百分含量计的如下组分：
氨基酸7-10％，柠檬酸8-10％，羟基乙叉二膦酸3-5％，非离子表面活性剂3％，两性离子表面活性剂0.5-1％，阴离子表面活性剂0.5-1％，二甲基亚砜2-3％，余量的水；
所述非离子表面活性剂为AEO-3表面活性剂和巴斯夫异构醇XL90，其中，AEO-3表面活性剂的添加量为浸泡液总重量的1％，巴斯夫异构醇XL90的添加量为浸泡液总重量的2％；
所述两性离子表面活性剂为椰油酰胺丙基甜菜碱；
所述阴离子表面活性剂为烷基二苯醚二磺酸盐；
所述浸泡液用于处理抛光后的光学玻璃片。
2.如权利要求1所述的浸泡液，其特征在于，包括按重量百分含量计的如下组分：氨基酸10％，柠檬酸10％，羟基乙叉二膦酸5％，非离子表面活性剂3％，两性离子表面活性剂1％，阴离子表面活性剂1％，二甲基亚砜3％，余量的水。
3.一种如权利要求1-2任意一项所述的浸泡液的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
备料步骤：按照配方配比分别称取各原料，备用；
搅拌步骤：将配方量的水加入容器中，然后将配方量的氨基酸、柠檬酸分别加入容器中进行第一次搅拌，搅拌均匀后，再将配方量的羟基乙叉二膦酸加入容器中进行第二次搅拌，搅拌均匀后，得到第一混合溶液；最后将配方量的非离子表面活性剂、两性离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、二甲基亚砜分别加入容器中进行第二次搅拌，搅拌均匀后，得到浸泡液。
4.如权利要求3所述的浸泡液的制备方法，其特征在于，搅拌步骤中，第一次搅拌的搅拌时间为8-10分钟。
5.如权利要求3所述的浸泡液的制备方法，其特征在于，搅拌步骤中，第二次搅拌的搅拌时间为1-2分钟。
6.如权利要求3所述的浸泡液的制备方法，其特征在于，搅拌步骤中，第三次搅拌的搅拌时间为1-3分钟。
7.一种如权利要求1-2任意一项所述的浸泡液的使用方法，其特征在于，包括以下步骤：将浸泡液兑水18-20倍，得到浸泡稀释液；在常温条件下，将抛光后的光学玻璃片浸泡在浸泡稀释液中，浸泡50-60秒后，将光学玻璃片取出，用清水冲洗一次，再进行超声波工艺清洗，即完成整个过程。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201910424770.1A CN110003996B (zh) | 2019-05-21 | 2019-05-21 | 一种浸泡液及其制备方法和使用方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201910424770.1A CN110003996B (zh) | 2019-05-21 | 2019-05-21 | 一种浸泡液及其制备方法和使用方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN110003996A CN110003996A (zh) | 2019-07-12 |
| CN110003996B true CN110003996B (zh) | 2021-03-23 |
Family
ID=67177555
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201910424770.1A Active CN110003996B (zh) | 2019-05-21 | 2019-05-21 | 一种浸泡液及其制备方法和使用方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN110003996B (zh) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111154560B (zh) * | 2020-01-08 | 2021-07-16 | 维达力实业(深圳)有限公司 | 玻璃清洗剂、玻璃清洗剂的制备方法及应用 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101412950A (zh) * | 2007-10-19 | 2009-04-22 | 安集微电子（上海）有限公司 | 一种等离子刻蚀残留物清洗液 |
| US8404626B2 (en) * | 2007-12-21 | 2013-03-26 | Lam Research Corporation | Post-deposition cleaning methods and formulations for substrates with cap layers |
| US8361237B2 (en) * | 2008-12-17 | 2013-01-29 | Air Products And Chemicals, Inc. | Wet clean compositions for CoWP and porous dielectrics |
| US20160122696A1 (en) * | 2013-05-17 | 2016-05-05 | Advanced Technology Materials, Inc. | Compositions and methods for removing ceria particles from a surface |
| CN104614954A (zh) * | 2015-01-09 | 2015-05-13 | 苏州瑞红电子化学品有限公司 | 一种去除光刻胶的水系剥离液组合物 |
-
2019
- 2019-05-21 CN CN201910424770.1A patent/CN110003996B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN110003996A (zh) | 2019-07-12 |
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| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |