CN109343315A - 显影机的显影液碱液浓度控制***及方法 - Google Patents

显影机的显影液碱液浓度控制***及方法 Download PDF

Info

Publication number
CN109343315A
CN109343315A CN201811437612.1A CN201811437612A CN109343315A CN 109343315 A CN109343315 A CN 109343315A CN 201811437612 A CN201811437612 A CN 201811437612A CN 109343315 A CN109343315 A CN 109343315A
Authority
CN
China
Prior art keywords
developer solution
concentration
lye
storage tank
developing machine
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201811437612.1A
Other languages
English (en)
Inventor
韦智强
邓强
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority to CN201811437612.1A priority Critical patent/CN109343315A/zh
Publication of CN109343315A publication Critical patent/CN109343315A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322—Aqueous alkaline compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

本发明提供一种显影机的显影液碱液浓度控制***及方法。该显影机的显影液碱液浓度控制***包括显影液存储罐、与所述显影液存储罐连接的浓度测量模块及液体补给模块以及与所述浓度测量模块及液体补给模块均连接的控制模块，在显影机处于空闲状态时，当显影液存储罐中的显影液的碱液浓度下降至小于一预设的浓度阈值时，所述控制模块控制液体补给模块在一预设的第一时间内提供显影原液给显影液存储罐；当显影液存储罐中的显影液的碱液浓度上升至等于一预设的浓度上限阈值时，控制液体补给模块在一预设的第二时间内提供稀释液给显影液存储罐，缩小显影机在空闲状态时碱液浓度波动区间，降低显影机宕机频率，提升产能。

Description

显影机的显影液碱液浓度控制***及方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显影机的显影液碱液浓度控制***及方法。
背景技术
薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)是目前液晶显示装置(Liquid CrystalDisplay，LCD)和有源矩阵驱动式有机电致发光显示装置(ActiveMatrix Organic Light-Emitting Diode，AMOLED)中的主要驱动元件，直接关系平板显示装置的显示性能。
现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶显示面板及背光模组(backlight module)。液晶显示面板的工作原理是在薄膜晶体管阵列基板(ThinFilm Transistor Array Substrate，TFT Array Substrate)与彩色滤光片(ColorFilter，CF)基板之间灌入液晶分子，并在两片基板上分别施加像素电压和公共电压，通过像素电压和公共电压之间形成的电场控制液晶分子的旋转方向，以将背光模组的光线透射出来产生画面。
在液晶显示面板制作过程中经常需要进行显影工艺，显影机中的显影液对基板进行显影后通常会回收循环使用。现有的显影液通常为四甲基氢氧化铵(TMAH)水溶液，目前的显影液浓度控制***通过采样泵抽取显影机的显影液存储罐中的显影液，经过脱泡装置脱泡后分别输送到吸光度计和TMAH浓度计进行浓度测量后，在输送回显影液存储罐。但是目前的显影液浓度控制***存在一些问题：
1、显影机从空闲(idle)状态进入工作状态时，TMAH浓度下降；
原因包括1.1、显影液对基板进行显影后会携带不同数量程度的光阻，将不同光阻浓度的显影液回收，会使显影液存储罐中的显影液浓度发生较大变化(光阻增大，TMAH浓度下降)；
1.2、显影机在空闲状态时没有显影液回收至显影液存储罐中，此时补给给显影液存储罐的25％TMAH溶液或去离子水(DIW)很少；
1.3、显影机在工作状态时且基板进行流片时，覆盖于基板上的TMAH与光阻混合液体回收到显影液存储罐中，即使给显影液存储罐补给25％TMAH溶液也无法减少TMAH浓度下降的速度。
2、显影机从工作状态进入从空闲状态时，TMAH浓度上升；原因为显影机在工作状态时，会给显影液存储罐补给25％TMAH溶液以稳定平衡TMAH浓度，基板停止流片时平衡打破，所补给的25％TMAH溶液导致TMAH浓度快速上升。
发明内容
本发明的目的在于提供一种显影机的显影液碱液浓度控制***，可以缩小显影机在空闲状态时碱液浓度波动区间，降低显影机宕机频率，提升产能。
本发明的目的还在于提供一种显影机的显影液碱液浓度控制方法，可以缩小显影机在空闲状态时碱液浓度波动区间，降低显影机宕机频率，提升产能。
为实现上述目的，本发明提供了一种显影机的显影液碱液浓度控制***，包括：显影液存储罐、与所述显影液存储罐连接的浓度测量模块及液体补给模块以及与所述浓度测量模块及液体补给模块均连接的控制模块；
所述浓度测量模块用于测量显影液存储罐中的显影液的碱液浓度；
所述控制模块用于在显影机处于空闲状态时，当碱液浓度下降至小于一预设的浓度阈值时，控制液体补给模块在一预设的第一时间内提供显影原液给显影液存储罐，当碱液浓度上升至等于一预设的浓度上限阈值时，控制液体补给模块在一预设的第二时间内提供稀释液给显影液存储罐。
所述控制模块在显影液存储罐中的显影液的碱液浓度在一预设的第三时间内均大于或等于一预设的浓度阈值时，判断显影机处于空闲状态。
所述预设的浓度阈值为2.38％；所述显影原液为25％TMAH溶液；所述碱液为TMAH；所述稀释液为去离子水。
所述浓度测量模块包括与显影液存储罐连接的吸光度计及浓度计；
所述吸光度计用于测量显影液中的光阻浓度；
所述浓度计用于测量显影液中的光阻与碳酸根离子的整体浓度以及碱液浓度。
所述浓度计包括与显影液存储罐连接的感应器以及与所述感应器连接的浓度计本体；所述感应器包括沿竖直方向依次设置的温度感应单元、超声波感应单元及导电率感应单元。
本发明还提供一种显影机的显影液碱液浓度控制方法，包括如下步骤：
步骤S1、提供显影机的显影液碱液浓度控制***；该显影机的显影液碱液浓度控制***包括：显影液存储罐、与所述显影液存储罐连接的浓度测量模块及液体补给模块以及与所述浓度测量模块及液体补给模块均连接的控制模块；
步骤S2、所述浓度测量模块测量显影液存储罐中的显影液的碱液浓度；所述控制模块在显影机处于空闲状态时，当碱液浓度下降至小于一预设的浓度阈值时，控制液体补给模块在一预设的第一时间内提供显影原液给显影液存储罐，当碱液浓度上升至等于一预设的浓度上限阈值时，控制液体补给模块在一预设的第二时间内提供稀释液给显影液存储罐。
所述步骤S2中，所述控制模块在显影液存储罐中的显影液的碱液浓度在一预设的第三时间内均大于或等于一预设的浓度阈值时，判断显影机处于空闲状态。
所述预设的浓度阈值为2.38％；所述显影原液为25％TMAH溶液；所述碱液为TMAH；所述稀释液为去离子水。
所述浓度测量模块包括与显影液存储罐连接的吸光度计及浓度计；
所述步骤S2中，所述吸光度计测量显影液中的光阻浓度；所述浓度计测量显影液中的光阻与碳酸根离子的整体浓度以及碱液浓度。
所述浓度计包括与显影液存储罐连接的感应器以及与所述感应器连接的浓度计本体；所述感应器包括沿竖直方向依次设置的温度感应单元、超声波感应单元及导电率感应单元。
本发明的有益效果：本发明的显影机的显影液碱液浓度控制***包括显影液存储罐、与所述显影液存储罐连接的浓度测量模块及液体补给模块以及与所述浓度测量模块及液体补给模块均连接的控制模块，在显影机处于空闲状态时，当显影液存储罐中的显影液的碱液浓度下降至小于一预设的浓度阈值时，所述控制模块控制液体补给模块在一预设的第一时间内提供显影原液给显影液存储罐，防止显影机从空闲状态进入工作状态时TMAH浓度下降；在显影机处于空闲状态时，当显影液存储罐中的显影液的碱液浓度上升至等于一预设的浓度上限阈值时，控制液体补给模块在一预设的第二时间内提供稀释液给显影液存储罐，防止显影机从工作状态进入空闲状态时TMAH浓度上升，缩小显影机在空闲状态时碱液浓度波动区间，降低显影机宕机频率，提升产能。本发明的显影机的显影液碱液浓度控制方法，可以缩小显影机在空闲状态时碱液浓度波动区间，降低显影机宕机频率，提升产能。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图中，
图1为本发明的显影机的显影液碱液浓度控制***的示意图；
图2为本发明的显影机的显影液碱液浓度控制方法的流程图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图1，本发明提供一种显影机的显影液碱液浓度控制***，包括：显影液存储罐10、与所述显影液存储罐10连接的浓度测量模块20及液体补给模块30以及与所述浓度测量模块20及液体补给模块30均连接的控制模块40；
所述浓度测量模块20用于测量显影液存储罐10中的显影液的碱液浓度；
所述控制模块40用于在显影机处于空闲状态时，当碱液浓度下降至小于一预设的浓度阈值时，控制液体补给模块30在一预设的第一时间内提供显影原液给显影液存储罐10，当碱液浓度上升至等于一预设的浓度上限阈值时，控制液体补给模块30在一预设的第二时间内提供稀释液给显影液存储罐10。
需要说明的是，在显影机处于空闲状态时，当显影液存储罐10中的显影液的碱液浓度下降至小于一预设的浓度阈值时，所述控制模块40控制液体补给模块30在一预设的第一时间内提供显影原液给显影液存储罐10，即显影机从空闲状态进入工作状态时之前，就提供了显影原液给显影液存储罐10，防止显影机从空闲状态进入工作状态时TMAH浓度下降；在显影机处于空闲状态时，当显影液存储罐10中的显影液的碱液浓度上升至等于一预设的浓度上限阈值时，控制液体补给模块30在一预设的第二时间内提供稀释液给显影液存储罐10，即显影机从工作状态进入空闲状态时，就提供了稀释液给显影液存储罐10，防止显影机从工作状态进入空闲状态时TMAH浓度上升。
具体的，显影机的工作状态为基板投入显影机进行流片，显影机对基板喷淋显影液进行显影。显影液对基板进行显影后会携带不同数量程度的光阻，接着回收至显影液存储罐10中循环使用。
具体的，所述显影液存储罐10中的显影液经过浓度测量模块20测量后又流入至显影液存储罐10。
具体的，所述控制模块40在显影液存储罐10中的显影液的碱液浓度在一预设的第三时间内均大于或等于一预设的浓度阈值时，判断显影机处于空闲状态。
进一步的，所述预设的浓度阈值为2.38％。
具体的，所述显影原液为25％TMAH溶液(即溶液包括25％的TMAH和75％的水)；所述碱液为TMAH；所述稀释液为去离子水。
具体的，所述控制模块40为PLC(可编程逻辑控制器)。
具体的，所述预设的第一时间、预设的第二时间及预设的第三时间均可以根据实际的碱液浓度需要来设定。例如预设的第一时间为3分钟，预设的第二时间及预设的第三时间为1秒。
具体的，所述浓度测量模块20包括与显影液存储罐10连接的吸光度计21及浓度计22；
所述吸光度计21用于测量显影液中的光阻浓度；
所述浓度计22用于测量显影液中的光阻与碳酸根离子的整体浓度以及碱液浓度。通过吸光度计21与浓度计22相配合可以分别得到碱液浓度、光阻浓度及碳酸根离子浓度(由于碱液不断吸收空气的二氧化碳造成碱液中的碳酸根离子浓度不断升高，以及光阻和碱液反应后也会产生一部分碳酸根离子)。
具体的，所述浓度计22包括与显影液存储罐10连接的感应器221以及与所述感应器221连接的浓度计本体222；所述感应器221包括沿竖直方向依次设置的温度感应单元2211、超声波感应单元2212及导电率感应单元2213。
由于不同浓度的显影液反射超声波的速度不同以及不同浓度的显影液的导电率不同，所述浓度计本体222根据超声波感应单元2212中的显影液反射超声波的速度以及导电率感应单元2213中的显影液导电率感应单元算得到光阻与碳酸根离子的整体浓度以及碱液浓度。此外，将温度感应单元2211、超声波感应单元2212及导电率感应单元2213沿竖直方向依次设置可以使显影液从下往上流动，以排出显影液的内部气体，避免气体黏附在超声波感应单元2212上，影响浓度测量结果。
具体的，所述浓度测量模块20还包括与显影液存储罐10、吸光度计21及浓度计22均连接的脱泡器23；所述脱泡器23用于去除显影液中的气泡，以提高浓度测量结果的准确性。
请参阅图2，基于上述显影液碱液浓度控制***，本发明还提供一种显影机的显影液碱液浓度控制方法，包括如下步骤：
步骤S1、提供显影机的显影液碱液浓度控制***；该显影机的显影液碱液浓度控制***包括：显影液存储罐10、与所述显影液存储罐10连接的浓度测量模块20及液体补给模块30以及与所述浓度测量模块20及液体补给模块30均连接的控制模块40；
步骤S2、所述浓度测量模块20测量显影液存储罐10中的显影液的碱液浓度；所述控制模块40在显影机处于空闲状态时，当碱液浓度下降至小于一预设的浓度阈值时，控制液体补给模块30在一预设的第一时间内提供显影原液给显影液存储罐10，当碱液浓度上升至等于一预设的浓度上限阈值时，控制液体补给模块30在一预设的第二时间内提供稀释液给显影液存储罐10。
需要说明的是，在显影机处于空闲状态时，当显影液存储罐10中的显影液的碱液浓度下降至小于一预设的浓度阈值时，所述控制模块40控制液体补给模块30在一预设的第一时间内提供显影原液给显影液存储罐10，即显影机从空闲状态进入工作状态时之前，就提供了显影原液给显影液存储罐10，防止显影机从空闲状态进入工作状态时TMAH浓度下降；在显影机处于空闲状态时，当显影液存储罐10中的显影液的碱液浓度上升至等于一预设的浓度上限阈值时，控制液体补给模块30在一预设的第二时间内提供稀释液给显影液存储罐10，即显影机从工作状态进入空闲状态时，就提供了稀释液给显影液存储罐10，防止显影机从工作状态进入空闲状态时TMAH浓度上升，缩小显影机在空闲状态时碱液浓度波动区间，降低显影机宕机频率，提升产能。
具体的，显影机的工作状态为基板投入显影机进行流片，显影机对基板喷淋显影液进行显影。显影液对基板进行显影后会携带不同数量程度的光阻，接着回收至显影液存储罐10中循环使用。
具体的，所述显影液存储罐10中的显影液经过浓度测量模块20测量后又流入至显影液存储罐10。
具体的，所述步骤S2中，所述控制模块40在显影液存储罐10中的显影液的碱液浓度在一预设的第三时间内均大于或等于一预设的浓度阈值时，判断显影机处于空闲状态。
进一步的，所述预设的浓度阈值为2.38％。
具体的，所述显影原液为25％TMAH溶液；所述碱液为TMAH；所述稀释液为去离子水。
具体的，所述控制模块40为PLC。
具体的，所述预设的第一时间、预设的第二时间及预设的第三时间均可以根据实际的碱液浓度需要来设定。例如预设的第一时间为3分钟，预设的第二时间及预设的第三时间为1秒。
具体的，所述浓度测量模块20包括与显影液存储罐10连接的吸光度计21及浓度计22；
所述步骤S2中，所述吸光度计21测量显影液中的光阻浓度；所述浓度计22测量显影液中的光阻与碳酸根离子的整体浓度以及碱液浓度。通过吸光度计21与浓度计22相配合可以分别得到碱液浓度、光阻浓度及碳酸根离子浓度(由于碱液不断吸收空气的二氧化碳造成碱液中的碳酸根离子浓度不断升高，以及光阻和碱液反应后也会产生一部分碳酸根离子)。
具体的，所述浓度计22包括与显影液存储罐10连接的感应器221以及与所述感应器221连接的浓度计本体222；所述感应器221包括沿竖直方向依次设置的温度感应单元2211、超声波感应单元2212及导电率感应单元2213。
由于不同浓度的显影液反射超声波的速度不同以及不同浓度的显影液的导电率不同，所述浓度计本体222根据超声波感应单元2212中的显影液反射超声波的速度以及导电率感应单元2213中的显影液导电率感应单元算得到光阻与碳酸根离子的整体浓度以及碱液浓度。此外，将温度感应单元2211、超声波感应单元2212及导电率感应单元2213沿竖直方向依次设置可以使显影液从下往上流动，以排出显影液的内部气体，避免气体黏附在超声波感应单元2212上，影响浓度测量结果。
具体的，所述浓度测量模块20还包括与显影液存储罐10、吸光度计21及浓度计22均连接的脱泡器23；所述脱泡器23用于去除显影液中的气泡，以提高浓度测量结果的准确性。
综上所述，本发明的显影机的显影液碱液浓度控制***包括显影液存储罐、与所述显影液存储罐连接的浓度测量模块及液体补给模块以及与所述浓度测量模块及液体补给模块均连接的控制模块，在显影机处于空闲状态时，当显影液存储罐中的显影液的碱液浓度下降至小于一预设的浓度阈值时，所述控制模块控制液体补给模块在一预设的第一时间内提供显影原液给显影液存储罐，防止显影机从空闲状态进入工作状态时TMAH浓度下降；在显影机处于空闲状态时，当显影液存储罐中的显影液的碱液浓度上升至等于一预设的浓度上限阈值时，控制液体补给模块在一预设的第二时间内提供稀释液给显影液存储罐，防止显影机从工作状态进入空闲状态时TMAH浓度上升，缩小显影机在空闲状态时碱液浓度波动区间，降低显影机宕机频率，提升产能。本发明的显影机的显影液碱液浓度控制方法，可以缩小显影机在空闲状态时碱液浓度波动区间，降低显影机宕机频率，提升产能。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种显影机的显影液碱液浓度控制***，其特征在于，包括：显影液存储罐(10)、与所述显影液存储罐(10)连接的浓度测量模块(20)及液体补给模块(30)以及与所述浓度测量模块(20)及液体补给模块(30)均连接的控制模块(40)；
所述浓度测量模块(20)用于测量显影液存储罐(10)中的显影液的碱液浓度；
所述控制模块(40)用于在显影机处于空闲状态时，当碱液浓度下降至小于一预设的浓度阈值时，控制液体补给模块(30)在一预设的第一时间内提供显影原液给显影液存储罐(10)，当碱液浓度上升至等于一预设的浓度上限阈值时，控制液体补给模块(30)在一预设的第二时间内提供稀释液给显影液存储罐(10)。
2.如权利要求1所述的显影机的显影液碱液浓度控制***，其特征在于，所述控制模块(40)在显影液存储罐(10)中的显影液的碱液浓度在一预设的第三时间内均大于或等于一预设的浓度阈值时，判断显影机处于空闲状态。
3.如权利要求1所述的显影机的显影液碱液浓度控制***，其特征在于，所述预设的浓度阈值为2.38％；所述显影原液为25％TMAH溶液；所述碱液为TMAH；所述稀释液为去离子水。
4.如权利要求1所述的显影机的显影液碱液浓度控制***，其特征在于，所述浓度测量模块(20)包括与显影液存储罐(10)连接的吸光度计(21)及浓度计(22)；
所述吸光度计(21)用于测量显影液中的光阻浓度；
所述浓度计(22)用于测量显影液中的光阻与碳酸根离子的整体浓度以及碱液浓度。
5.如权利要求4所述的显影机的显影液碱液浓度控制***，其特征在于，所述浓度计(22)包括与显影液存储罐(10)连接的感应器(221)以及与所述感应器(221)连接的浓度计本体(222)；所述感应器(221)包括沿竖直方向依次设置的温度感应单元(2211)、超声波感应单元(2212)及导电率感应单元(2213)。
6.一种显影机的显影液碱液浓度控制方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤S1、提供显影机的显影液碱液浓度控制***；该显影机的显影液碱液浓度控制***包括：显影液存储罐(10)、与所述显影液存储罐(10)连接的浓度测量模块(20)及液体补给模块(30)以及与所述浓度测量模块(20)及液体补给模块(30)均连接的控制模块(40)；
步骤S2、所述浓度测量模块(20)测量显影液存储罐(10)中的显影液的碱液浓度；所述控制模块(40)在显影机处于空闲状态时，当碱液浓度下降至小于一预设的浓度阈值时，控制液体补给模块(30)在一预设的第一时间内提供显影原液给显影液存储罐(10)，当碱液浓度上升至等于一预设的浓度上限阈值时，控制液体补给模块(30)在一预设的第二时间内提供稀释液给显影液存储罐(10)。
7.如权利要求6所述的显影机的显影液碱液浓度控制方法，其特征在于，所述步骤S2中，所述控制模块(40)在显影液存储罐(10)中的显影液的碱液浓度在一预设的第三时间内均大于或等于一预设的浓度阈值时，判断显影机处于空闲状态。
8.如权利要求6所述的显影机的显影液碱液浓度控制方法，其特征在于，所述预设的浓度阈值为2.38％；所述显影原液为25％TMAH溶液；所述碱液为TMAH；所述稀释液为去离子水。
9.如权利要求6所述的显影机的显影液碱液浓度控制方法，其特征在于，所述浓度测量模块(20)包括与显影液存储罐(10)连接的吸光度计(21)及浓度计(22)；
所述步骤S2中，所述吸光度计(21)测量显影液中的光阻浓度；所述浓度计(22)测量显影液中的光阻与碳酸根离子的整体浓度以及碱液浓度。
10.如权利要求9所述的显影机的显影液碱液浓度控制方法，其特征在于，所述浓度计(22)包括与显影液存储罐(10)连接的感应器(221)以及与所述感应器(221)连接的浓度计本体(222)；所述感应器(221)包括沿竖直方向依次设置的温度感应单元(2211)、超声波感应单元(2212)及导电率感应单元(2213)。
CN201811437612.1A 2018-11-28 2018-11-28 显影机的显影液碱液浓度控制***及方法 Pending CN109343315A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811437612.1A CN109343315A (zh) 2018-11-28 2018-11-28 显影机的显影液碱液浓度控制***及方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811437612.1A CN109343315A (zh) 2018-11-28 2018-11-28 显影机的显影液碱液浓度控制***及方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN109343315A true CN109343315A (zh) 2019-02-15

Family

ID=65318387

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201811437612.1A Pending CN109343315A (zh) 2018-11-28 2018-11-28 显影机的显影液碱液浓度控制***及方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN109343315A (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110083021A (zh) * 2019-04-08 2019-08-02 深圳市华星光电技术有限公司 一种基板显影方法和基板显影装置
CN110231725A (zh) * 2019-05-20 2019-09-13 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种微影玻璃薄化的方法及其控制***

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101667040A (zh) * 2008-09-02 2010-03-10 浩硕科技股份有限公司 蚀刻液浓度控制方法
CN106200281A (zh) * 2016-09-09 2016-12-07 武汉华星光电技术有限公司 一种图像显影过程中显影液浓度调配方法
CN106371296A (zh) * 2015-07-22 2017-02-01 株式会社平间理化研究所 显影液成分浓度测定方法及装置、显影液管理方法及装置
CN106596840A (zh) * 2016-12-15 2017-04-26 深圳市华星光电技术有限公司 显影液碱液浓度测量方法及调节方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101667040A (zh) * 2008-09-02 2010-03-10 浩硕科技股份有限公司 蚀刻液浓度控制方法
CN106371296A (zh) * 2015-07-22 2017-02-01 株式会社平间理化研究所 显影液成分浓度测定方法及装置、显影液管理方法及装置
CN106200281A (zh) * 2016-09-09 2016-12-07 武汉华星光电技术有限公司 一种图像显影过程中显影液浓度调配方法
CN106596840A (zh) * 2016-12-15 2017-04-26 深圳市华星光电技术有限公司 显影液碱液浓度测量方法及调节方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110083021A (zh) * 2019-04-08 2019-08-02 深圳市华星光电技术有限公司 一种基板显影方法和基板显影装置
CN110231725A (zh) * 2019-05-20 2019-09-13 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种微影玻璃薄化的方法及其控制***
CN110231725B (zh) * 2019-05-20 2022-03-08 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种微影玻璃薄化的方法及其控制***

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109343315A (zh) 显影机的显影液碱液浓度控制***及方法
US7308913B2 (en) Liquid filling method, liquid filling apparatus, and discharge apparatus
CN101092957B (zh) 处理液供给装置
CN109436804B (zh) 一种显示面板的搬运方法和搬运***
US20070223916A1 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
KR20180066889A (ko) 탈산소 장치 및 기판 처리 장치
US20170243768A1 (en) Etching method of glass substrate and wet etching apparatus thereof
CN102172582A (zh) 流量式精准自动补液装置
CN104849968B (zh) 一种显影机及显影方法
JPH1076153A (ja) 液体自動供給装置及びその異常検出装置
CN201959946U (zh) 光刻胶喷嘴清洁装置
JP2003295204A (ja) 複数の液晶滴下器を利用した液晶滴下方法
CN107526193B (zh) 光阻浓度的控制装置及控制方法
KR20080006689A (ko) 에칭액 조합 공급 시스템
KR102201724B1 (ko) 기포제거장치
CN209997482U (zh) 一种量子点膜的供胶***
CN107230651B (zh) 用于湿式制程的整合式药液槽
KR20080006682A (ko) 전극현상액 조합 공급 시스템
KR20080006688A (ko) 박막액 조합 공급 시스템
WO2019119594A1 (zh) 显影设备及其显影液供应***
KR100823842B1 (ko) 혼합 케미컬의 공급장치
US20050274696A1 (en) Single-acid compensating system
US20050183819A1 (en) Etching system using a deionized water adding device
KR100536172B1 (ko) 습식 세정 장치
KR101048820B1 (ko) 기판 제조장치용 약액 저장조

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20190215