CN108857856A - Cmp固定环清洗方法 - Google Patents

Cmp固定环清洗方法 Download PDF

Info

Publication number
CN108857856A
CN108857856A CN201810814415.0A CN201810814415A CN108857856A CN 108857856 A CN108857856 A CN 108857856A CN 201810814415 A CN201810814415 A CN 201810814415A CN 108857856 A CN108857856 A CN 108857856A
Authority
CN
China
Prior art keywords
fixed ring
cmp
greasy dirt
water
cleaning method
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201810814415.0A
Other languages
English (en)
Inventor
姚力军
潘杰
王学泽
李力平
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ningbo Jiangfeng Electronic Material Co Ltd
Original Assignee
Ningbo Jiangfeng Electronic Material Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ningbo Jiangfeng Electronic Material Co Ltd filed Critical Ningbo Jiangfeng Electronic Material Co Ltd
Priority to CN201810814415.0A priority Critical patent/CN108857856A/zh
Publication of CN108857856A publication Critical patent/CN108857856A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/34—Accessories

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)

Abstract

一种CMP固定环清洗方法，属于清洗方法领域。该CMP固定环清洗方法包括以下步骤：将CMP固定环投入具有油污清洗剂的水中清洗，随后用水漂洗；其中，所述油污清洗剂选自于氨基酸型两性表面活性剂、甜菜碱型两性表面活性剂中的至少一种。本发明提供的CMP固定环清洗方法可以有效的去除CMP固定环表面的油脂和杂质，避免使用CMP固定环研磨晶圆时造成划痕、油污影响质量。

Description

CMP固定环清洗方法
技术领域
本发明涉及清洗方法领域，具体而言，涉及一种CMP固定环清洗方法。
背景技术
化学机械研磨(Chemica Mechanical Polishing，CMP)是半导体器件制造中使用的重要工艺。化学机械研磨就是把晶圆放在旋转的研磨垫上，并施加一定的压力后用化学研磨液来进行化学和机械研磨以实现晶圆全局平坦化的工艺方法。在CMP作业过程中需要使用固定环(retaining ring)来固定硅片以便于进行研磨作业，这就要求CMP固定环的表面具有很高的洁净度，当CMP固定环的表面具有划伤、毛刺、油污时会对在研磨过程中对晶圆造成损伤，因此在作业前需要对固定环的表面进行清洁处理，目前现有的CMP固定环清洗方法是使用水进行清洗，这并不能很好的保证CMP固定环表面的洁净程度，导致晶圆质量不稳定。
因此，需要提供一种新的CMP固定环的清洗方法以便于提供所需的固定环洁净程度。
发明内容
本发明的目的在于提供一种CMP固定环清洗方法，其能够有效的去除CMP固定环表面的油脂和杂质，避免使用CMP固定环研磨晶圆时造成划痕、油污影响质量。
本发明的实施例是这样实现的：
一种CMP固定环清洗方法，其包括以下步骤：将CMP固定环投入具有油污清洗剂的水中清洗，随后用水漂洗；
其中，油污清洗剂选自于氨基酸型两性表面活性剂、甜菜碱型两性表面活性剂中的至少一种。
在本发明较佳的实施例中，上述氨基酸型两性表面活性剂选自于N-十二烷基丙氨酸、十二烷基氨基丙酸钠和N-酰基氨基酸钠组成的组合中的一种。
在本发明较佳的实施例中，上述甜菜碱型两性表面活性剂选自于α-烷基甜菜碱、椰油酰胺丙基甜菜碱、十二烷基磺基甜菜碱组成的组合中的一种。
在本发明较佳的实施例中，上述清洗的时间为4.5-5.5min。
在本发明较佳的实施例中，上述清洗的水温为58.5-61.5℃；优选的，清洗的水温为59.5-60.5℃。
在本发明较佳的实施例中，上述漂洗的时间为3-6min。
在本发明较佳的实施例中，上述漂洗的水温为40-60.5℃；优选的，漂洗的水温为55-60.5℃。
在本发明较佳的实施例中，上述具有油污清洗剂的水中的油污清洗剂的质量百分比为0.1％-6％；优选的，具有油污清洗剂的水中的油污清洗剂的质量百分比为0.5-3％。
在本发明较佳的实施例中，上述将CMP固定环投入以200-700r/min旋转的具有油污清洗剂的水中进行清洗；优选的，将CMP固定环投入以300-600r/min旋转的具有油污清洗剂的水中进行清洗。
在本发明较佳的实施例中，上述将CMP固定环投入以50-500r/min旋转的水中进行漂洗；优选的，将CMP固定环投入以100-200r/min旋转的水中进行漂洗。
本发明实施例的有益效果是：本发明实施例提供的CMP固定环清洗方法包括以下步骤：将CMP固定环投入具有油污清洗剂的水中清洗，随后用水漂洗；其中，油污清洗剂选自于氨基酸型两性表面活性剂、甜菜碱型两性表面活性剂中的至少一种。本发明提供的CMP固定环清洗方法可以有效的去除CMP固定环表面的油脂和杂质，避免使用CMP固定环固定晶圆时造成划痕、油污影响质量。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。实施例中未注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市售购买获得的常规产品。
下面对本发明实施例提供的降低炼钢时铁料消耗的方法进行具体说明。
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法，其包括以下步骤：将CMP固定环投入具有油污清洗剂的水中清洗，随后用水漂洗；
其中，油污清洗剂选自于氨基酸型两性表面活性剂、甜菜碱型两性表面活性剂中的至少一种。优选的，氨基酸型两性表面活性剂选自于N-十二烷基丙氨酸、十二烷基氨基丙酸钠和N-酰基氨基酸钠组成的组合中的一种；更优选的，甜菜碱型两性表面活性剂选自于α-烷基甜菜碱、椰油酰胺丙基甜菜碱、十二烷基磺基甜菜碱组成的组合中的一种；进一步优选的，具有油污清洗剂的水中的油污清洗剂的质量百分比为0.1％-6％；更进一步优选的，具有油污清洗剂的水中的油污清洗剂的质量百分比为0.5-3％；再进一步优选的，水为去离子水。
本发明实施例提供的CMP固定环清洗方法通过将需要清洗的CMP固定环投入到具有油污清洗剂的水中进行清洗，且该油污清洗剂选自于氨基酸型两性表面活性剂、甜菜碱型两性表面活性剂中的至少一种，采用无毒无害、性质温和且去油污性能优异的两性表面活性剂能够有效的去除CMP固定环表面的油污，从而提高CMP固定环的清洗效果，避免CMP固定环表面的油污对晶圆造成损伤，且能够避免清洗过程中油污清洗剂残留于CMP固定环表面以影响晶圆研磨作业。
清洗的时间为4.5-5.5min；优选的，清洗的水温为58.5-61.5℃；更优选的，清洗的水温为59.5-60.5℃。选用合适的清洗时间和清洗温度能够在保证在较短的时间内对CMP固定环表面进行有效的清洗，控制清洗时间能够保证CMP固定环的清洗效率以便于进行CMP作业，同时控制清洗水温能够避免对固定环造成损害的同时有效的去除其表面的油污以及研磨产生的颗粒和结块，避免对后续的晶圆研磨作业造成影响。
漂洗的时间为3-6min；优选的，漂洗的水温为40-60.5℃；更优选的，漂洗的水温为55-60.5℃。选用合适的漂洗时间和漂洗温度能够在保证快速高效的清洗CMP固定环的表面，避免油污、颗粒、结块等杂质以及水中的油污清洗剂残留在CMP固定环的表面，以获得清洁的CMP固定环。
将CMP固定环投入以200-700r/min旋转的具有油污清洗剂的水中进行清洗；优选的，将CMP固定环投入以300-600r/min旋转的具有油污清洗剂的水中进行清洗。将CMP固定环投入到旋转的水流中进行清洗，能够有效的提高清洗效率和清洗效果，相比普通的清水冲洗，使用旋转的水流对CMP固定环表面进行清洗具有更加的清洗效果，而且能够实现对CMP固定环表面的全面清洗，从而获得最佳的清洗效果。
将CMP固定环投入以50-500r/min旋转的水中进行漂洗；优选的，将CMP固定环投入以100-200r/min旋转的水中进行漂洗。采用旋转的水流对CMP固定环的表面进行漂洗，能够快速全面的对CMP固定环表面残留的油污清洗剂进行清洗，避免在CMP固定环表面产生残留。
以下结合具体实施例对本发明的特征和性能作进一步的详细描述。
实施例1
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法，其包括以下步骤：
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的60℃的去离子水中清洗5min，随后使用60℃的去离子水漂洗5min后取出烘干；其中，具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为2％的椰油酰胺丙基甜菜碱。
实施例2
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法，其包括以下步骤：
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的58.5℃的去离子水中清洗5.5min，随后使用55℃的去离子水漂洗4min后取出烘干；其中，具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为3％的N-酰基氨基酸钠。
实施例3
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法，其包括以下步骤：
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的60.5℃的去离子水中清洗4.5min，随后使用40℃的去离子水漂洗6min后取出烘干；其中，具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为1％的N-十二烷基丙氨酸。
实施例4
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法，其包括以下步骤：
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的59℃的去离子水中清洗5min，随后使用48℃的去离子水漂洗3.5min后取出烘干；其中，具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为1.5％的十二烷基氨基丙酸钠。
实施例5
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法，其包括以下步骤：
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的58.5℃的去离子水中清洗5.2min，随后使用52℃的去离子水漂洗4.5min后取出烘干；其中，具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为2.5％的α-烷基甜菜碱。
实施例6
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法，其包括以下步骤：
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的61℃的去离子水中清洗4.8min，随后使用60℃的去离子水漂洗5min后取出烘干；其中，具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为0.8％的十二烷基磺基甜菜碱。
实施例7
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法，其包括以下步骤：
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的60.5℃的去离子水中清洗5min，随后使用58℃的去离子水漂洗5min后取出烘干；其中，具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为1％的十二烷基氨基丙酸钠和1％的十二烷基磺基甜菜碱。
实施例8
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法，其包括以下步骤：
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的59℃的去离子水中清洗5.2min，随后使用55℃的去离子水漂洗4.5min后取出烘干；其中，具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为0.75％的N-十二烷基丙氨酸和0.5％的N-酰基氨基酸钠。
实施例9
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法，其包括以下步骤：
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的60℃的去离子水中清洗4.5min，随后使用60℃的去离子水漂洗5.5min后取出烘干；其中，具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为0.5％的椰油酰胺丙基甜菜碱和0.5％的N-酰基氨基酸钠。
实施例10
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法，其包括以下步骤：
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的60℃的去离子水中清洗7.5min，随后使用60℃的去离子水漂洗7.5min后取出烘干；其中，具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为0.1％的N-酰基氨基酸钠和0.5％的α-烷基甜菜碱。
实施例11
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法，其包括以下步骤：
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的58.5℃的去离子水中清洗4.5min，随后使用40℃的去离子水漂洗4.5min后取出烘干；其中，具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为0.75％的N-十二烷基丙氨酸和0.5％的十二烷基磺基甜菜碱。
实施例12
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法，其包括以下步骤：
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的61.5℃的去离子水中清洗6min，随后使用60.5℃的去离子水漂洗6min后取出烘干；其中，具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为0.5％的十二烷基氨基丙酸钠、0.5％的α-烷基甜菜碱和1％的椰油酰胺丙基甜菜碱。
实施例13
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法，其包括以下步骤：
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的55℃的去离子水中清洗5min，随后使用55℃的去离子水漂洗5.5min后取出烘干；其中，具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为0.75％的十二烷基氨基丙酸钠和0.5％、0.75％的十二烷基磺基甜菜碱和0.5％的α-烷基甜菜碱。
实施例14
本发明实施例提供了一种CMP固定环清洗方法，其包括以下步骤：
将CMP固定环投入具有油污清洗剂的50℃的去离子水中清洗5min，随后使用60℃的去离子水漂洗4.5min后取出烘干；其中，具有油污清洗剂的去离子水中含有质量百分比为0.15％的十二烷基氨基丙酸钠和0.5％的椰油酰胺丙基甜菜碱。
对上述实施例1、实施例2、...、实施例14清洗后的CMP固定环进行检测，清洁度均达到SPC1级。
综上所述，本发明提供的CMP固定环清洗方法可以有效的去除CMP固定环表面的油脂和杂质，避免使用CMP固定环固定晶圆时造成划痕、油污影响质量。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种CMP固定环清洗方法，其特征在于，其包括以下步骤：将CMP固定环投入具有油污清洗剂的水中清洗，随后用水漂洗；
其中，所述油污清洗剂选自于氨基酸型两性表面活性剂、甜菜碱型两性表面活性剂中的至少一种。
2.根据权利要求1所述的CMP固定环清洗方法，其特征在于，所述氨基酸型两性表面活性剂选自于N-十二烷基丙氨酸、十二烷基氨基丙酸钠和N-酰基氨基酸钠组成的组合中的一种。
3.根据权利要求1所述的CMP固定环清洗方法，其特征在于，所述甜菜碱型两性表面活性剂选自于α-烷基甜菜碱、椰油酰胺丙基甜菜碱、十二烷基磺基甜菜碱组成的组合中的一种。
4.根据权利要求1所述的CMP固定环清洗方法，其特征在于，所述清洗的时间为4.5-5.5min。
5.根据权利要求4所述的CMP固定环清洗方法，其特征在于，所述清洗的水温为58.5-61.5℃；优选的，所述清洗的水温为59.5-60.5℃。
6.根据权利要求1所述的CMP固定环清洗方法，其特征在于，所述漂洗的时间为3-6min。
7.根据权利要求6所述的CMP固定环清洗方法，其特征在于，所述漂洗的水温为40-60.5℃；优选的，所述漂洗的水温为55-60.5℃。
8.根据权利要求1所述的CMP固定环清洗方法，其特征在于，具有油污清洗剂的水中的油污清洗剂的质量百分比为0.1％-6％；优选的，具有油污清洗剂的水中的油污清洗剂的质量百分比为0.5-3％。
9.根据权利要求1所述的CMP固定环清洗方法，其特征在于，将所述CMP固定环投入以200-700r/min旋转的具有油污清洗剂的水中进行清洗；优选的，将所述CMP固定环投入以300-600r/min旋转的具有油污清洗剂的水中进行清洗。
10.根据权利要求1所述的CMP固定环清洗方法，其特征在于，将所述CMP固定环投入以50-500r/min旋转的水中进行漂洗；优选的，将所述CMP固定环投入以100-200r/min旋转的水中进行漂洗。
CN201810814415.0A 2018-07-23 2018-07-23 Cmp固定环清洗方法 Pending CN108857856A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810814415.0A CN108857856A (zh) 2018-07-23 2018-07-23 Cmp固定环清洗方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810814415.0A CN108857856A (zh) 2018-07-23 2018-07-23 Cmp固定环清洗方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN108857856A true CN108857856A (zh) 2018-11-23

Family

ID=64304382

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810814415.0A Pending CN108857856A (zh) 2018-07-23 2018-07-23 Cmp固定环清洗方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN108857856A (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112495916A (zh) * 2020-11-04 2021-03-16 上海江丰平芯电子科技有限公司 一种化学机械抛光保持环的清洗方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007016110A (ja) * 2005-07-06 2007-01-25 Adeka Corp 化学機械的研磨用洗浄剤組成物および該洗浄剤組成物を用いる洗浄方法
CN102296003A (zh) * 2011-05-12 2011-12-28 石家庄威纳邦日化有限公司 一种节水型洗涤剂
CN106047505A (zh) * 2016-05-30 2016-10-26 江苏雪豹日化有限公司 一种天然配方多效清洗组合物及其应用

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007016110A (ja) * 2005-07-06 2007-01-25 Adeka Corp 化学機械的研磨用洗浄剤組成物および該洗浄剤組成物を用いる洗浄方法
CN102296003A (zh) * 2011-05-12 2011-12-28 石家庄威纳邦日化有限公司 一种节水型洗涤剂
CN106047505A (zh) * 2016-05-30 2016-10-26 江苏雪豹日化有限公司 一种天然配方多效清洗组合物及其应用

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
孙杰: "《表面活性剂的基础和应用》", 31 July 1992, 大连理工大学出版社 *
宗景瑞: "《家电产品的开发与设计》", 31 August 1993, 北京理工大学出版社 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112495916A (zh) * 2020-11-04 2021-03-16 上海江丰平芯电子科技有限公司 一种化学机械抛光保持环的清洗方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109277357B (zh) 适用于表面附着物为陶瓷部品的清洗方法
CN105437050A (zh) 一种金相研磨抛光工艺
CN104762622B (zh) 一种铜镍合金管材表面光亮化的处理方法
CN105817991A (zh) 化学机械研磨方法
CN107747113A (zh) 一种有色金属工件的表面处理方法
CN106929867A (zh) 一种用于金属基板抛光后的清洗液及其使用方法
CN110449407A (zh) 一种半导体铝合金零部件超高洁净清洗工艺
CN110976414A (zh) 一种半导体铝合金零部件超高洁净清洗工艺
CN108857856A (zh) Cmp固定环清洗方法
CN102087954A (zh) 晶圆清洗方法
US20100018029A1 (en) Rinsing Wafers Using Composition-Tunable Rinse Water in Chemical Mechanical Polish
CN113373453B (zh) 一种用于硬质合金数控刀片涂层前的清洗方法
JP2010077342A (ja) 水溶性洗浄剤組成物
CN110802052A (zh) 一种蓝宝石衬底粗糙表面碳化硼的去除方法
JP2009531512A (ja) Ｃｍｐ後洗浄プロセスのための防腐剤を含む洗浄溶液
CN112760657B (zh) 一种清洗顽固灰垢的除灰剂及其制备方法
CN105543937B (zh) 一种不锈钢炊具电解钝化液及其钝化处理工艺
CN105762062B (zh) 一种砷化镓半导体基片湿法刻蚀工艺
CN101226872A (zh) 一种多晶刻蚀腔室中硅材质零件表面的清洗方法
CN105506536B (zh) 一种碳钢炒锅耐蚀工艺
CN106053478A (zh) 一种轴承酸洗的方法
CN101226873A (zh) 一种多晶刻蚀腔室中电极表面的清洗方法
CN106881635A (zh) 五金件抛光工艺
CN113290427A (zh) 一种高纯镍蒸发料的处理方法
CN108004557A (zh) 一种金属铜防锈处理工艺

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20181123