CN108441814A - 掩膜装置及其制作方法、蒸镀*** - Google Patents

掩膜装置及其制作方法、蒸镀*** Download PDF

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Abstract

本发明提供一种掩膜装置及其制作方法、蒸镀***,该掩膜装置包括框架、条状对位板和条状支撑板,在条状对位板中设置有镂空部,且条状对位板固定在框架上;条状支撑板与条状对位板相互交叉,并且在条状支撑板的与框架相对的表面上设置有多个焊点。本发明提供的掩膜装置及其制作方法、蒸镀***的技术方案,可以避免条状对位板材料的浪费及给后续的对位工作带来困难。

Description

掩膜装置及其制作方法、蒸镀***
技术领域
本发明涉及掩膜板制造领域,具体地,涉及一种掩膜装置及其制作方法、蒸镀***。
背景技术
目前,制备高质量OLED屏的一种核心技术是采用高精密OLED掩膜板在玻璃基板上蒸镀R、G、B三原色的有机材料。蒸镀工艺使用的掩膜板的质量直接影响到OLED屏的质量,因此,掩膜板的结构和制作方法都很重要。
现有的掩膜板包括框架、条状对位板和条状支撑板,其中,条状支撑板焊接在框架上,用于支撑条状掩膜板;条状对位板焊接在框架上,且与条状支撑板相互交叉,用于与玻璃基板进行对位。现有的掩膜板在实际应用中不可避免地存在以下问题,即:
在条状对位板与条状支撑板的交叉处,条状对位板会遮挡条状支撑板的部分焊点,当需要对焊点进行修复时,需要先撕除条状对位板,导致条状对位板材料的浪费。另外,重新焊接条状对位板会导致条状对位板的对位基准改变,从而给后续的对位工作带来困难。
发明内容
本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一,提出了一种掩膜装置及其制作方法、蒸镀***,其可以避免条状对位板材料的浪费及给后续的对位工作带来困难。
为实现本发明的目的而提供一种掩膜装置,包括框架、条状对位板和条状支撑板,在所述条状对位板中设置有镂空部,且所述条状对位板固定在所述框架上;
所述条状支撑板与所述条状对位板相互交叉,并且在所述条状支撑板的与所述框架相对的表面上设置有多个焊点,所述条状支撑板对应所述镂空部的区域内设置有多个所述焊点。
可选的,多个所述焊点通过所述镂空部与所述框架焊接固定。
可选的,所述条状支撑板的端部自所述条状对位板背离所述框架的一侧经由所述镂空部延伸至所述条状对位板的所述框架所在一侧;所述焊点均设置在所述端部。
可选的,所述条状支撑板的端部自所述条状对位板的所述框架所在一侧经由所述镂空部延伸至所述条状对位板的背离所述框架的一侧;所述焊点均设置在所述端部。
可选的,所述条状支撑板叠置在所述条状对位板背离所述框架的一侧。
可选的,所述条状支撑板叠置在所述条状对位板朝向所述框架的一侧。
可选的,所述镂空部包括沿所述条状对位板的厚度方向设置的通孔。
可选的,所述镂空部包括设置于所述条状对位板上的凹槽,所述凹槽的开口朝向垂直于所述条状对位板的延伸方向,且朝向所述条状支撑板的所述端部。
可选的,所述条状支撑板为一个或者多个,且多个所述条状支撑板相互平行,并间隔排布。
可选的,多个所述焊点在垂直于所述条状支撑板的长度方向上排成至少一排,同一排中的多个所述焊点沿平行于所述条状支撑板的长度方向间隔排布。
可选的,在所述条状对位板中设置有定位孔。
可选的,所述条状对位板的数量为两个,且相互平行;所述掩膜装置还包括多个条状遮挡板,多个所述条状遮挡板均位于两个所述条状对位板之间,且与所述条状对位板相互平行,并且多个所述条状遮挡板间隔排布。
可选的,所述掩膜装置还包括多个条状掩膜板,且在每相邻的两个条状遮挡板之间设置一个所述条状掩膜板;并且,在每个所述条状掩膜板上设置有开口。
作为另一个技术方案,本发明还提供一种蒸镀***,用于薄膜的蒸镀,包括本发明提供的上述掩膜装置。
作为另一个技术方案,本发明还提供一种掩膜装置的制作方法,包括:
提供框架;
提供条状对位板,且在所述条状对位板中形成镂空部;
提供条状支撑板,且使所述条状支撑板与所述条状对位板相互交叉,并且在所述条状支撑板的与所述框架相对的表面上形成有多个焊点,所述条状支撑板对应所述镂空部的区域内形成有多个所述焊点。
本发明具有以下有益效果:
本发明提供的掩膜装置及其制作方法、蒸镀***的技术方案中,在条状对位板中设置有镂空部。借助该镂空部,可以使条状支撑板上的所有焊点均暴露出来,而不会被条状对位板遮挡。当需要对焊点进行修复时,无需撕除条状对位板,从而可以避免条状对位板材料的浪费,同时可以避免条状对位板的对位基准发生改变,从而避免给后续的对位工作带来困难。
附图说明
图1为现有的掩膜装置的结构图;
图2为本发明第一实施例提供的掩膜装置的结构图;
图3A为本发明第二实施例提供的掩膜装置的一种结构图;
图3B为本发明第二实施例提供的掩膜装置的另一种结构图;
图4为本发明第三实施例提供的掩膜装置的结构图;
图5A为本发明第四实施例提供的掩膜装置的一种结构图;
图5B为本发明第四实施例提供的掩膜装置的另一种结构图;
图6为本发明第五实施例提供的掩膜装置的结构图。
具体实施方式
为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案,下面结合附图来对本发明提供的掩膜装置及其制作方法进行详细描述。
请参阅图1,现有的掩膜装置包括框架11、条状对位板13和条状支撑板12,其中,条状支撑板12先被焊接在框架11上。条状对位板13后被焊接在框架11上。并且,条状对位板13与条状支撑板12相互交叉,并通过多个焊点121焊接在框架11上。条状支撑板12用于支撑含有有效蒸镀开口的条状掩膜板(图中未示出)。并且,在条状对位板13上设置有定位孔131,用于与玻璃基板(图中未示出)上的定位标记进行对位。需要说明的是,图1中示出的条状对位板13上的焊点132以及条状支撑板12上的焊点121均与框架11相接触。
但是,在条状对位板13与条状支撑板12的交叉处,条状对位板13会遮挡条状支撑板12的部分焊点121。在经过一段时间之后,焊点121可能会损坏,此时需要对焊点121进行修复。在修复焊点121时,需要先撕除条状对位板13,导致条状对位板材料的浪费。另外,重新焊接条状对位板13会导致条状对位板13的对位基准改变,从而给后续的对位工作带来困难。
为了解决上述问题,如图2所示,本发明第一实施例提供了一种掩膜装置,其包括框架21、条状对位板23和条状支撑板22,其中,条状对位板23中设置有镂空部232,且该条状对位板23固定在框架21上。条状支撑板22与条状对位板23相互交叉,并且在条状支撑板23的与框架21相对的表面上设置有多个焊点221。
借助上述镂空部232,可以使条状支撑板22的所有焊点221均暴露出来,而不会被条状对位板23遮挡,当需要对焊点221进行修复时,无需撕除条状对位板23,从而可以避免条状对位板材料的浪费,同时可以避免条状对位板23的对位基准发生改变,从而避免给后续的对位工作带来困难。
可选的,其中至少部分焊点221通过镂空部232与框架21焊接固定。
具体地,在本实施例中,条状支撑板22的端部22a自条状对位板23背离框架21的一侧经由镂空部232延伸至条状对位板23的框架21所在一侧,所有焊点221均设置在该端部22a。该条状支撑板22的端部22a为自条状支撑板22的中间区域延伸至两端的部分,换句话说,条状支撑板22包括中间区域和位于该中间区域两侧的两个边缘区域,其中,中间区域位于条状对位板23背离框架21的一侧;而两个边缘区域位于条状对位板23的框架所在一侧。并且,所有焊点221均设置在边缘区域中。
在本实施例中,条状对位板23为两个,两个条状对位板23相互平行。在这种情况下,条状支撑板22的两个端部22a分别自两个条状对位板23背离框架21的一侧经由镂空部232延伸至两个条状对位板23的框架21所在一侧。该条状支撑板22的两个端部22a为自条状支撑板22的中间区域延伸至两端的部分,换句话说,条状支撑板22包括中间区域和位于该中间区域两侧的两个边缘区域,其中,中间区域位于条状对位板23背离框架21的一侧;而两个边缘区域分别位于两个条状对位板23的框架所在一侧。
通过使条状支撑板22的端部22a自条状对位板23背离框架21的一侧经由镂空部232延伸至条状对位板23的框架21所在一侧,条状支撑板22能够将条状对位板23压合到框架21表面,在使用掩膜装置时,可以增强条状对位板23的稳定性,从而可以使对位基准更稳定,进而可以提高蒸镀稳定性。
在本实施例中,镂空部232包括沿条状对位板23的厚度方向设置的通孔。
在本实施例中,多个焊点221在垂直于条状支撑板22的延伸方向上排成至少一排,同一排中的多个焊点221沿平行于条状支撑板22的延伸方向间隔排布。当然,在实际应用中,多个焊点221也可以采用任意方式排列。
在本实施例中,条状对位板23采用焊接的方式固定在框架上。
在本实施例中,在条状对位板23中设置有定位孔231。当将玻璃基板置于掩膜装置上时,将定位孔231与玻璃基板上的对位标识进行对中,从而完成掩膜装置与玻璃基板的对位。
请参阅图3A,本发明第二实施例提供的掩膜装置,其与上述第一实施例提供的掩膜装置基本相同,除了镂空部的结构不同。
具体地,在本实施例中,镂空部232’包括设置于条状对位板23上的凹槽,该凹槽的开口朝向垂直于条状对位板23的延伸方向,且朝向条状支撑板22的端部22a。凹槽结构同样可以将所有焊点221均暴露出来。
需要说明的是,在本实施例中,条状对位板23先被焊接在框架11上;条状支撑板22后被焊接在框架11上。即,条状支撑板22位于条状对位板23之上。但是,本发明并不局限于此,在实际应用中,如图3B所示,也可以条状支撑板22先被焊接在框架11上;条状对位板23后被焊接在框架11上。即,条状对位板23位于条状支撑板22之上。上述凹槽结构同样可以将所有焊点221均暴露出来。
请参阅图4,本发明第三实施例提供的掩膜装置,其与上述第一实施例提供的掩膜装置基本相同,除了条状支撑板22的设置方式不同。
具体地,在本实施例中,条状支撑板22的端部22a自条状对位板23的框架21所在一侧经由镂空部232延伸至条状对位板23的背离框架21的一侧,所有焊点221均设置在该端部22a。换句话说,本实施例中的条状支撑板22的端部22a穿过镂空部232的方向与上述第一实施例中的条状支撑板22的端部22a穿过镂空部232的方向相反,即,条状支撑板22的中间区域位于条状对位板23的框架21所在一侧,而条状支撑板22的边缘区域位于条状对位板23的背离框架21的一侧。至少部分焊点221可以贯通镂空部232,并保证所有焊点221均暴露出来。
通过使条状支撑板22的端部22a自条状对位板23的框架21所在一侧经由镂空部232延伸至条状对位板23的背离框架21的一侧,条状支撑板22能够将条状对位板23压合到框架21表面,在使用掩膜装置时,可以增强条状对位板23的稳定性,从而可以使对位基准更稳定,进而可以提高蒸镀稳定性。
请参阅图5A,本发明第四实施例提供的掩膜装置,其与上述第一实施例提供的掩膜装置基本相同,除了条状支撑板22的设置方式不同。
具体地,在本实施例中,条状支撑板22叠置在条状对位板23上,且多个焊点221通过镂空部232与框架21焊接固定。也就是说,条状支撑板22的中间区域和边缘区域均位于条状对位板23的背离框架21的一侧。部分焊点221可以贯通镂空部232,与框架21相接触。
需要说明的是,在本实施例中,条状支撑板22叠置在条状对位板23上。但是,本发明并不局限于此,在实际应用中,如图5B所示,条状对位板23叠置在条状支撑板22上。这同样可以将所有焊点221均暴露出来。
请参阅图6,本发明第五实施例提供的掩膜装置,其结构在上述各个实施例的基础上有所改进。具体地,掩膜装置包括框架31、条状对位板33和条状支撑板32,其中,框架31为矩形环体。条状对位板33中设置有镂空部332,且该条状对位板33固定在框架31上。在实际应用中,条状对位板33可以采用焊接的方式固定在框架31上。
条状支撑板32与条状对位板33相互交叉,并且在条状支撑板32的与框架31相对的表面上设置有多个焊点321,多个焊点321通过镂空部332与框架31焊接固定。在本实施例中,条状支撑板32的端部32a自条状对位板33的框架31所在一侧经由镂空部332延伸至条状对位板33的背离框架31的一侧,以使多个焊点321均与框架31相接触,即,条状支撑板32采用上述第三实施例的方式进行设置。当然,条状支撑板32还可以采用上述其他实施例的方式进行设置。
在本实施例中,条状支撑板32为多个,且多个条状支撑板32相互平行,并间隔排布,从而能够起到更稳固地支撑作用。
在本实施例中,掩膜装置还包括多个条状掩膜板34,每个条状掩膜板34上设有开口341。在进行沉积工艺时,沉积材料通过开口341沉积在玻璃基板上,最终在玻璃基板上形成图形。
在本实施例中,条状对位板为33为两个,且相互平行;并且,掩膜装置还包括多个条状遮挡板35,多个条状遮挡板35均位于两个条状对位板34之间,且与条状对位板34相互平行,并且多个条状遮挡板35间隔排布。在每相邻的两个条状遮挡板35之间设置一个条状掩膜板34,从而使多个条状掩膜板34上的开口341呈矩阵排布。
综上所述,本发明上述各个实施例提供的掩膜装置,其在条状对位板中设置有镂空部。借助该镂空部,可以使条状支撑板上的所有焊点均暴露出来,而不会被条状对位板遮挡。当需要对焊点进行修复时,无需撕除条状对位板,从而可以避免条状对位板材料的浪费,同时可以避免条状对位板的对位基准发生改变,从而避免给后续的对位工作带来困难。
作为另一个技术方案,本发明实施例还提供一种蒸镀***,用于薄膜的蒸镀,例如有机薄膜的蒸镀。该蒸镀***包括本发明上述各个实施例提供的掩膜装置。
作为另一个技术方案,本发明还提供一种掩膜装置的制作方法,其包括:
提供框架;
提供条状对位板,且在该条状对位板中形成镂空部;
提供条状支撑板,且使该条状支撑板与条状对位板相互交叉,并且在条状支撑板的与框架相对的表面上形成有多个焊点,条状支撑板对应镂空部的区域内形成有多个焊点。
在现有技术中,掩膜装置的制作方法是先将条状支撑板焊接在框架上,后将条状对位板焊接在框架上。但是,这在实际应用中会存在这样的问题:如图1所示,在条状对位板13与条状支撑板12的交叉处,条状对位板13会遮挡条状支撑板12的部分焊点121,这使得条状支撑板12的焊接牢固性降低。而且,当需要对焊点121进行修复时,需要先撕除条状对位板13,导致条状对位板材料的浪费。另外,重新焊接条状对位板13会导致条状对位板13的对位基准改变,从而给后续的对位工作带来困难。
为了解决上述问题,如图2所示,本发明提供的掩膜装置的制作方法是预先在条状对位板23中形成镂空部232,并首先将条状对位板23焊接在框架21上。然后再将条状支撑板22焊接在框架21上。
借助该镂空部232,可以使条状支撑板22上的所有焊点221均暴露出来,而不会被条状对位板23遮挡,当需要对焊点进行修复时,无需撕除条状对位板23,从而可以避免条状对位板材料的浪费,同时可以避免条状对位板23的对位基准发生改变,从而避免给后续的对位工作带来困难。
可以理解的是,以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式,然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言,在不脱离本发明的精神和实质的情况下,可以做出各种变型和改进,这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (15)

1.一种掩膜装置,包括框架、条状对位板和条状支撑板,其特征在于,在所述条状对位板中设置有镂空部,且所述条状对位板固定在所述框架上;
所述条状支撑板与所述条状对位板相互交叉,并且在所述条状支撑板的与所述框架相对的表面上设置有多个焊点,所述条状支撑板对应所述镂空部的区域内设置有多个所述焊点。
2.根据权利要求1所述的掩膜装置,其特征在于,多个所述焊点通过所述镂空部与所述框架焊接固定。
3.根据权利要求2所述的掩膜装置,其特征在于,所述条状支撑板的端部自所述条状对位板背离所述框架的一侧经由所述镂空部延伸至所述条状对位板的所述框架所在一侧;所述焊点均设置在所述端部。
4.根据权利要求2所述的掩膜装置,其特征在于,所述条状支撑板的端部自所述条状对位板的所述框架所在一侧经由所述镂空部延伸至所述条状对位板的背离所述框架的一侧;所述焊点均设置在所述端部。
5.根据权利要求2所述的掩膜装置,其特征在于,所述条状支撑板叠置在所述条状对位板背离所述框架的一侧。
6.根据权利要求1所述的掩膜装置,其特征在于,所述条状支撑板叠置在所述条状对位板朝向所述框架的一侧。
7.根据权利要求1-6任意一项所述的掩膜装置,其特征在于,所述镂空部包括沿所述条状对位板的厚度方向设置的通孔。
8.根据权利要求5或6所述的掩膜装置,其特征在于,所述镂空部包括设置于所述条状对位板上的凹槽,所述凹槽的开口朝向垂直于所述条状对位板的延伸方向,且朝向所述条状支撑板的所述端部。
9.根据权利要求1-6任意一项所述的掩膜装置,其特征在于,所述条状支撑板为一个或者多个,且多个所述条状支撑板相互平行,并间隔排布。
10.根据权利要求1-6任意一项所述的掩膜装置,其特征在于,多个所述焊点在垂直于所述条状支撑板的长度方向上排成至少一排,同一排中的多个所述焊点沿平行于所述条状支撑板的长度方向间隔排布。
11.根据权利要求1-6任意一项所述的掩膜装置,其特征在于,在所述条状对位板中设置有定位孔。
12.根据权利要求1-6任意一项所述的掩膜装置,其特征在于,所述条状对位板的数量为两个,且相互平行;所述掩膜装置还包括多个条状遮挡板,多个所述条状遮挡板均位于两个所述条状对位板之间,且与所述条状对位板相互平行,并且多个所述条状遮挡板间隔排布。
13.根据权利要求12所述的掩膜装置,其特征在于,所述掩膜装置还包括多个条状掩膜板,且在每相邻的两个条状遮挡板之间设置一个所述条状掩膜板;并且,在每个所述条状掩膜板上设置有开口。
14.一种蒸镀***,用于薄膜的蒸镀,其特征在于,包括权利要求1-13任意一项所述的掩膜装置。
15.一种掩膜装置的制作方法,其特征在于,包括:
提供框架;
提供条状对位板,且在所述条状对位板中形成镂空部;
提供条状支撑板,且使所述条状支撑板与所述条状对位板相互交叉,并且在所述条状支撑板的与所述框架相对的表面上形成有多个焊点,所述条状支撑板对应所述镂空部的区域内形成有多个所述焊点。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019179239A1 (zh) * 2018-03-22 2019-09-26 京东方科技集团股份有限公司 掩膜装置及其制作方法、蒸镀***
WO2021147624A1 (zh) * 2020-01-22 2021-07-29 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板组件及其制作方法
CN114054925A (zh) * 2021-11-10 2022-02-18 合肥维信诺科技有限公司 一种掩膜板的制作方法

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109778116B (zh) * 2019-03-28 2021-03-02 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜版及其制作方法、掩膜版组件
WO2021092759A1 (zh) * 2019-11-12 2021-05-20 京东方科技集团股份有限公司 掩模板
KR20210101358A (ko) * 2020-02-07 2021-08-19 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체 및 그 제조 방법
JP2021175824A (ja) * 2020-03-13 2021-11-04 大日本印刷株式会社 有機デバイスの製造装置の蒸着室の評価方法、評価方法で用いられる標準マスク装置及び標準基板、標準マスク装置の製造方法、評価方法で評価された蒸着室を備える有機デバイスの製造装置、評価方法で評価された蒸着室において形成された蒸着層を備える有機デバイス、並びに有機デバイスの製造装置の蒸着室のメンテナンス方法
WO2022133994A1 (zh) * 2020-12-25 2022-06-30 京东方科技集团股份有限公司 掩模板遮片和掩模板设备
CN113025956B (zh) * 2021-02-26 2022-12-20 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板组件
CN113403576B (zh) * 2021-06-23 2022-11-29 昆山国显光电有限公司 掩模板结构及掩模板结构的制备方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105839052A (zh) * 2016-06-17 2016-08-10 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板以及掩膜板的组装方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4860909B2 (ja) * 2004-05-25 2012-01-25 キヤノン株式会社 マスク構造体
KR102000718B1 (ko) * 2012-11-15 2019-07-19 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 조립체 및 이의 제조 방법
KR102097706B1 (ko) * 2013-06-19 2020-04-07 삼성디스플레이 주식회사 증착용 마스크 조립체
KR102420460B1 (ko) 2016-01-15 2022-07-14 삼성디스플레이 주식회사 마스크 프레임 조립체, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법
CN106191769B (zh) * 2016-07-22 2018-08-03 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜版、基板、显示面板和显示装置
CN107723659B (zh) 2017-11-28 2019-11-08 信利(惠州)智能显示有限公司 用于蒸镀的掩膜板及制备方法
CN108441814B (zh) * 2018-03-22 2020-03-13 京东方科技集团股份有限公司 掩膜装置及其制作方法、蒸镀***

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105839052A (zh) * 2016-06-17 2016-08-10 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板以及掩膜板的组装方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019179239A1 (zh) * 2018-03-22 2019-09-26 京东方科技集团股份有限公司 掩膜装置及其制作方法、蒸镀***
US11542588B2 (en) 2018-03-22 2023-01-03 Ordos Yuansheng Optoelectronics Co., Ltd. Mask device and manufacturing method thereof, evaporation system
WO2021147624A1 (zh) * 2020-01-22 2021-07-29 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板组件及其制作方法
CN114054925A (zh) * 2021-11-10 2022-02-18 合肥维信诺科技有限公司 一种掩膜板的制作方法

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