CN107509333A - 一种壳体的表面加工方法、壳体及移动终端 - Google Patents

Abstract

本发明实施例提供了一种壳体的表面加工方法、壳体及移动终端，该方法包括：制作具有目标纹理的转印模具，所述目标纹理包括多条柱状的纹路，每条纹路上具有凹凸结构；将所述目标纹理转印至壳体的表面上；在所述壳体的目标纹理上形成反射膜；在所述反射膜上形成遮蔽层。在壳体的背面形成了金属砂粒的效果，随用户的观看角度的发生变化，壳体高光处发生变化，形成了砂粒流动的光影，壳体的正面为光面，兼容金属和板材的质感，提高了壳体的质感。

Description

一种壳体的表面加工方法、壳体及移动终端

技术领域

本发明涉及通信技术领域，尤其涉及一种壳体的表面加工方法、壳体及移动终端。

背景技术

随着科技的发展，诸如手机、平板电脑等移动终端，在人们的工作、学习、日常交流等各方面的使用率也越来越高。而移动终端的电池盖等壳体多使用金属材质，如铝合金，使用喷砂工艺加工，使之具有良好的质感。

移动终端逐渐应用5G技术，由于5G技术的信号是毫米波，其波长很短，来自金属的干扰非常明显。

因此，移动终端的壳体将难以运用金属材质，取而代之的材料多为玻璃或者复合板材。但是，玻璃或者复合板材难以使用喷砂工艺加工，壳体的质感较差。

发明内容

本发明实施例提供一种壳体的表面加工方法、壳体及移动终端，以解决玻璃或者复合板材的壳体质感较差的问题。

第一方面，提供了一种壳体的表面加工方法，包括：

制作具有目标纹理的转印模具，所述目标纹理包括多条柱状的纹路，每条纹路上具有凹凸结构；

将所述目标纹理转印至壳体的表面上；

在所述壳体的目标纹理上形成反射膜；

在所述反射膜上形成遮蔽层。

第二方面，提供了一种壳体，采用所述的壳体的表面加工方法制成。

第三方面，提供了一种移动终端，其特征在于，包括所述的壳体。

这样，本发明实施例中，制作具有目标纹理的转印模具，目标纹理包括多条柱状的纹路，每条纹路上具有凹凸结构，将转印模具中的目标纹理转印至壳体的表面上，在壳体的目标纹理上形成反射膜，在壳体的反射膜上形成遮蔽层，在壳体的背面形成了金属砂粒的效果，随用户的观看角度的发生变化，壳体高光处发生变化，形成了砂粒流动的光影，壳体的正面为光面，兼容金属和板材的质感，提高了壳体的质感。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明一个实施例的一种壳体的表面加工方法的流程图。

图2A是本发明一个实施例的一种目标纹路的结构示意图。

图2B是本发明一个实施例的一种目标纹路的尺寸示意图。

图3是本发明一个实施例的一种反射膜的结构示意图。

图4是本发明一个实施例的另一种壳体的表面加工方法的流程图。

图5A-图5H是本发明一个实施例的一种转印模板的制造示例图。

图6A-图6B是本发明一个实施例的一种目标纹路的电子显微图。

图7是本发明又一个实施例的一种移动终端的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

参照图1，示出了本发明一个实施例的一种壳体的表面加工方法的流程图，具体可以包括如下步骤：

步骤101，制作具有目标纹理的转印模具。

在本发明实施例中，目标纹理可以包括多条柱状的纹路，每条纹路上具有凹凸结构。

如图2A所示，在转印模具的目标纹理200中，具有多条柱状的纹路201，每条纹路201上具有凹凸结构202(即颗粒)。

如图2B所示，纹路201的侧面剖视图形状如波浪，纹路201的高度h为10μm至12μm、横截面宽度I为50μm至70μm，此外，凹凸结构的横截面直径为3μm至6μm。

多条柱状的纹路201可以呈现光影流动感，纹路201上的凹凸结构202的大小与目前经喷砂工艺处理的金属壳体的颗粒大小一致，使得人眼感觉到的粗糙度一致。

步骤102，将所述转印模具中的所述目标纹理转印至壳体的表面上。

在本发明实施例中，壳体为非金属材料，如PET(polyethylene terephthalate，聚对苯二甲酸乙二醇酯)。

在具体实现中，可以通过UV转印工艺，将转印模具中的目标纹理转印至壳体的表面上。

UV转印工艺，又称UV灌注工艺或UV披覆工艺，其利用UV转印胶水与金属不粘的特性，将纹理转移至板材上，从而做出CD纹、竖拉丝、雾面、亮面纹路等效果。

在一种实施方式中，可以将转印模具中的目标纹理通过UV转印胶水转印至壳体的表面。在此实施方式中，可以将UV转印胶水通过丝印的方式印刷到转印模具上，将壳体放到转印模具上，再用胶辗将壳体紧压到转印模具上，将粘合在一起的壳体与转印模具放到关固机中进行固化，将转印好的壳体从转印模具取出。

步骤103，在所述壳体的所述目标纹理上形成反射膜。

在壳体片完成目标纹理的转印后，由于壳体为PET材质、目标纹理为UV转印胶水材质，这两者都是透明的，所以，用户不容易看到目标纹理。

在本发明实施例中，可以在目标纹理上形成反射膜，反射光线使用户可以能明显地看到目标纹理以及目标纹理带来的光泽。

在具体实现中，在真空条件下，加热作为靶材的第一金属和第二金属，形成第一金属气体和第二金属气体。例如，对第一金属和第二金属直接加热或间接加热至60℃-70℃，使之溶解，然后蒸发成为第一金属气体和第二金属气体；或者，直接将第一金属和第二金属从固态升华为气态的第一金属气体和第二金属气体。分别将第一金属气体和第二金属气体沉积在壳体的目标纹理上，形成到达预设层数和预设厚度的反射膜。进一步而言，可以在辉光放电的作用下，获得足够能量的第一金属气体和第二金属气体的原子或分子飞向并沉积在壳体的目标纹理上，沉积一定的层数和厚度，形成金属膜层，使之带有金属质感。

在一个示例中，第一金属为氧化硅(SiO₂)，第二金属为氧化钛(TiO₂)，形成偏蓝相的金属薄膜，蓝光波长为436nm至495nm，高反射膜可以反射该波长范围内的蓝光。在此示例中，如图3所示，反射膜300具有三层结构，其中，第一层和第三层为氧化钛层301、第二层为氧化硅层302。

在此示例中，反射膜300的厚度约为370nm，其中，第一层氧化钛层301的厚度为132.22nm，第二层氧化硅层302的厚度为106.81nm，第三层氧化钛层301的厚度为132.22nm。

当然，上述反射膜只是作为示例。在实施本发明实施例时，可以根据实际情况设置其他反射膜，例如，偏红相的金属膜、偏绿相的金属膜，等等，本发明实施例对此不加以限制。另外，除了上述反射膜外，本领域技术人员还可以根据实际需要采用其它反射膜，本发明实施例对此也不加以限制。

步骤104，在所述壳体的反射膜上形成遮蔽层。

在具体实现中，在壳体的反射膜上印刷遮蔽层，如黑色油墨层，实现盖底。

其中，油墨层的厚度为7um至9um，形成(如烘烤)油墨层的参数包括，温度为75℃至85℃，时间为15min至35min。

这样，本发明实施例中，制作具有目标纹理的转印模具，目标纹理包括多条柱状的纹路，每条纹路上具有凹凸结构；将转印模具中的目标纹理转印至壳体的表面上，在壳体的目标纹理上形成反射膜；在壳体的反射膜上形成遮蔽层，在壳体的背面形成了金属砂粒的效果，随用户的观看角度改变而发生变化；同时壳体的高光处发生变化，形成了砂粒流动的光影；并且壳体的正面为光面，兼容金属和板材的质感，提高了壳体的质感。

参照图4，示出了本发明一个实施例的另一种壳体的表面加工方法的流程图，具体可以包括如下步骤：

步骤401，在基板上形成柱状的光刻胶。

在本发明实施例中，可以以玻璃作为基板(substrate)，在该基板上通过曝光、显影等操作，形成多个柱状的光刻胶。

在本发明的一个实施例中，可以通过如下方式形成柱状的光刻胶：

1、在基板上印刷一层光刻胶。

对于基板501(如图5A所示)，可以先进行清洗和烘干等预处理，去除污染物、颗粒，减少针孔和其他缺陷，并提高光刻胶的粘附性。

在基板501上可以通过辊涂法(利用圆筒滚动的方法转移光刻胶)、丝网印刷法(利用丝网印刷图文部分的网孔渗透、非图文部分的网孔不渗透的原理进行印刷)、旋转涂布法(利用高速旋转时的离心作用，将光刻胶在基板表面均匀展开，多于的光刻胶被甩掉)等方式印刷一层光刻胶(Photo-resist)502(如图5B所示)。

其中，上述光刻胶包括树脂、感光化合物、溶剂等基本部分，具有光化学敏感性，被紫外光、电子束、X射线、电子束等曝光光源照射后，发生光化学反应，溶解度发生变化。

2、在所述光刻胶上设置光罩并进行曝光处理，固化柱状的光刻胶。

如图5C所示，在光刻胶502上设置光罩(Mask)503，将光线(如紫外线等)按照箭头方向照射光罩，对光刻胶502进行曝光处理。

在本发明实施例中，光刻胶为负性光刻胶(Negative Photo-resist)。光刻胶在曝光时，树脂聚合物主链的随机十字链接更为紧密，并且从链下坠物增长，所以聚合物溶解度降低，达到固化的目的。如图5C所示，在光罩503内侧具有条状的阴影5031，条状的阴影5031可透过光线，接触光线的光刻胶502被固化，未接触光线的光刻胶502未被固化。

此外，为了保证在一个槽垄上形成均匀的柱状的光刻胶，可以采用激光灰度曝光的方法来控制曝光处理。

3、去除所述光罩并对所述光刻胶进行显影处理，去除未固化的光刻胶、剩余已固化的柱状的光刻胶。

在本发明实施例中，显影处理(developing)为去除未固化的光刻胶的工艺过程。

如图5D所示，显示处理后，在基板501上，保留柱状的光刻胶502。

具体地，在上述子步骤的曝光处理时，可能会产生驻波现象(standing wave)。因此，在显影时，可以进行曝光后烘烤处理(Post exposure pre development bake，PEB)，可以有效降低驻波现象的影响。

在曝光后烘烤处理，然后进行冷却。冷却后，进入显影腔体，经过显影液(如1％的碳酸氢钠)喷淋或水浴，显影液溶解掉了未固化的光刻胶，同时也会使固化的光刻胶软化，含有过多的水分，并且与基板的附着性变差，降低了后续蚀刻处理的耐蚀性。因此，可以经过一定温度和时间的烘烤，以挥发掉残留的显影液和水分，使光刻胶致密坚固，进一步提高光刻胶与基板表面的附着力和抗化学腐蚀性，减少蚀刻时所出现的钻蚀和针孔现象。

当然，上述形成柱状的光刻胶的方式只是作为示例，在实施本发明实施例时，可以根据实际情况设置其他形成柱状的光刻胶的方式。例如，光刻胶为正性光刻胶(PositivePhoto-resist)，在基板上印刷一层光刻胶，在光刻胶上设置光罩并进行曝光处理，固化柱状的光刻胶之外的光刻胶，去除光罩并对光刻胶进行显影处理，去除已固化的光刻胶、剩余未固化的柱状的光刻胶，等等，本发明实施例对此不加以限制。另外，除了上述形成柱状的光刻胶的方式外，本领域技术人员还可以根据实际需要采用其它形成柱状的光刻胶的方式，本发明实施例对此也不加以限制。

步骤402，对所述基板进行蚀刻处理，去除所述柱状的光刻胶，在所述柱状的光刻胶覆盖的区域之外形成凹槽以及在所述凹槽中形成凹凸结构。

在本发明实施例中，蚀刻处理和去除柱状的光刻胶(etching&stripping)的步骤为：采用蚀刻剂(如氢氟酸)来腐蚀基板，并剥离柱状的光刻胶。

基板上柱状的光刻胶相当于模具，柱状的光刻胶遮挡住的基板区域不会被腐蚀；而柱状的光刻胶未遮挡住的基板区域会被腐蚀掉，形成凹槽。

通过控制蚀刻的时间，可以在凹槽中腐蚀出凹凸结构。如图5E所示，对基板501进行蚀刻处理，去除柱状的光刻胶，在柱状的光刻胶覆盖的区域之外形成凹槽5011以及在凹槽5011中形成凹凸结构5012。

步骤403，在所述基板上形成金属层，所述金属层在所述凹槽中形成柱状的纹路以及在所述柱状的纹路中形成凹凸结构。

在本发明实施例中，可以通过电铸(Electroforming)在基板上形成金属层，如Ni(镍)。如图5F所示，金属层504在基板501的凹槽中形成柱状的纹路5041、柱状的纹路5041中形成凹凸结构5042。

步骤404，去除所述基板并复制所述金属层，形成具有目标纹路的转印模具。

如图5G所示，将基板分离(separating)，剩余金属层504，金属层504具有柱状的纹路5041，柱状的纹路5041中形成凹凸结构5042。

对金属层抛光进行切割(cutting)、抛光(polishing)等处理后，可以采用PET塑料进行复制，获得转印模具。

如图5H所示，转印模具505中具有柱状的纹路5051、柱状的纹路5051中形成凹凸结构5052。

如图6A和图6B所示，在显微的转印模具中，对其进行测量，可以检测出柱状的纹路。

步骤405，将所述转印模具中的所述目标纹理转印至壳体的表面上。

步骤406，在所述壳体的所述目标纹理上形成反射膜。

步骤407，在所述壳体的反射膜上形成油墨层。

步骤408，将所述壳体加工成指定的形状。

在具体实现中，可以根据需要，使用CNC(Computer numerical contro，计算机数字控制机床)等器材将壳体进行切割，加工为指定的形状，如手机后盖。

需要说明的是，对于方法实施例，为了简单描述，故将其都表述为一系列的动作组合，但是本领域技术人员应该知悉，本发明实施例并不受所描述的动作顺序的限制，因为依据本发明实施例，某些步骤可以采用其他顺序或者同时进行。其次，本领域技术人员也应该知悉，说明书中所描述的实施例均属于优选实施例，所涉及的动作并不一定是本发明实施例所必须的。

本发明实施例还提供了一种壳体，采用上述实施例提供的壳体的表面加工方法制成。

图7是本发明另一个实施例的移动终端的结构示意图。具体地，图7中的移动终端700可以为手机、平板电脑、个人数字助理(PersonalDigital Assistant，PDA)、或车载电脑等。

图7中的移动终端700包括射频(RadioFrequency，RF)电路710、存储器720、输入单元730、显示单元740、壳体750、处理器760、音频电路770、WiFi(WirelessFidelity)模块780和电源790。

其中，输入单元730可用于接收用户输入的数字或字符信息，以及产生与移动终端700的用户设置以及功能控制有关的信号输入。具体地，本发明实施例中，该输入单元730可以包括触控面板731。触控面板731，也称为触摸屏，可收集用户在其上或附近的触摸操作(比如用户使用手指、触笔等任何适合的物体或附件在触控面板731上的操作)，并根据预先设定的程式驱动相应的连接装置。可选的，触控面板731可包括触摸检测装置和触摸控制器两个部分。其中，触摸检测装置检测用户的触摸方位，并检测触摸操作带来的信号，将信号传送给触摸控制器；触摸控制器从触摸检测装置上接收触摸信息，并将它转换成触点坐标，再送给该处理器760，并能接收处理器760发来的命令并加以执行。此外，可以采用电阻式、电容式、红外线以及表面声波等多种类型实现触控面板731。除了触控面板731，输入单元730还可以包括其他输入设备732，其他输入设备732可以包括但不限于物理键盘、功能键(比如音量控制按键、开关按键等)、轨迹球、鼠标、操作杆等中的一种或多种。

其中，显示单元740可用于显示由用户输入的信息或提供给用户的信息以及移动终端700的各种菜单界面。显示单元740可包括显示面板741，可选的，可以采用LCD或有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)等形式来配置显示面板741。

应注意，触控面板731可以覆盖显示面板741，形成触摸显示屏，当该触摸显示屏检测到在其上或附近的触摸操作后，传送给处理器760以确定触摸事件的类型，随后处理器760根据触摸事件的类型在触摸显示屏上提供相应的视觉输出。

触摸显示屏包括应用程序界面显示区及常用控件显示区。该应用程序界面显示区及该常用控件显示区的排列方式并不限定，可以为上下排列、左右排列等可以区分两个显示区的排列方式。该应用程序界面显示区可以用于显示应用程序的界面。每一个界面可以包含至少一个应用程序的图标和/或widget桌面控件等界面元素。该应用程序界面显示区也可以为不包含任何内容的空界面。该常用控件显示区用于显示使用率较高的控件，例如，设置按钮、界面编号、滚动条、电话本图标等应用程序图标等。

其中处理器760是移动终端700的控制中心，利用各种接口和线路连接整个手机的各个部分，通过运行或执行存储在第一存储器721内的软件程序和/或模块，以及调用存储在第二存储器722内的数据，执行移动终端700的各种功能和处理数据，从而对移动终端700进行整体监控。可选的，处理器760可包括一个或多个处理单元。

在本发明实施例中，所述壳体750采用上述实施例提供的壳体的表面加工方法制成。

本领域普通技术人员可以意识到，结合本发明实施例中所公开的实施例描述的各示例的单元及算法步骤，能够以电子硬件、或者计算机软件和电子硬件的结合来实现。这些功能究竟以硬件还是软件方式来执行，取决于技术方案的特定应用和设计约束条件。专业技术人员可以对每个特定的应用来使用不同方法来实现所描述的功能，但是这种实现不应认为超出本发明的范围。

所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为描述的方便和简洁，上述描述的***、装置和单元的具体工作过程，可以参考前述方法实施例中的对应过程，在此不再赘述。

在本申请所提供的实施例中，应该理解到，所揭露的装置和方法，可以通过其它的方式实现。例如，以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，例如，所述单元的划分，仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，例如多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个***，或一些特征可以忽略，或不执行。另一点，所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通信连接可以是通过一些接口，装置或单元的间接耦合或通信连接，可以是电性，机械或其它的形式。

所述作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的，作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部单元来实现本实施例方案的目的。

另外，在本发明各个实施例中的各功能单元可以集成在一个处理单元中，也可以是各个单元单独物理存在，也可以两个或两个以上单元集成在一个单元中。

所述功能如果以软件功能单元的形式实现并作为独立的产品销售或使用时，可以存储在一个计算机可读取存储介质中。基于这样的理解，本发明的技术方案本质上或者说对现有技术做出贡献的部分或者该技术方案的部分可以以软件产品的形式体现出来，该计算机软件产品存储在一个存储介质中，包括若干指令用以使得一台计算机设备(可以是个人计算机，服务器，或者网络设备等)执行本发明各个实施例所述方法的全部或部分步骤。而前述的存储介质包括：U盘、移动硬盘、ROM、RAM、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (11)

1.一种壳体的表面加工方法，其特征在于，包括：

制作具有目标纹理的转印模具，所述目标纹理包括多条柱状的纹路，每条纹路上具有凹凸结构；

将所述目标纹理转印至壳体的表面上；

在所述壳体的目标纹理上形成反射膜；

在所述反射膜上形成遮蔽层。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述制作具有目标纹路的转印模具的步骤包括：

在基板上形成柱状的光刻胶；

对所述基板进行蚀刻处理，在所述柱状的光刻胶覆盖的区域之外形成凹槽以及在所述凹槽中形成凹凸结构；

在所述基板上形成金属层，所述金属层在所述凹槽中形成柱状的纹路以及在所述柱状的纹路中形成凹凸结构；

去除所述基板并复制所述金属层，形成具有目标纹路的转印模具。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述在基板上形成柱状的光刻胶的步骤包括：

在基板上印刷光刻胶；

在所述光刻胶上设置光罩并进行曝光处理，固化柱状的光刻胶；

去除所述光罩并对所述光刻胶进行显影处理，获得已固化的柱状的光刻胶。

4.根据权利要求1或2或3所述的方法，其特征在于，所述纹路的高度为10μm至12μm、横截面宽度为50μm至85μm，所述凹凸结构的直径为3μm至6μm。

5.根据权利要求1或2或3所述的方法，其特征在于，所述将所述目标纹理转印至壳体的表面上的步骤包括：

将所述转印模具中的所述目标纹理通过UV转印胶水转印至壳体的表面。

6.根据权利要求1或2或3所述的方法，其特征在于，所述在所述壳体转印的所述目标纹理上形成反射膜的步骤包括：

在真空中，加热作为靶材的第一金属和第二金属，形成第一金属气体和第二金属气体；

分别将所述第一金属气体和所述第二金属气体沉积在所述壳体的所述目标纹理上，形成到达预设层数和预设厚度的反射膜。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述第一金属为氧化硅，所述第二金属为氧化钛；

所述反射膜具有三层结构，其中，第一层和第三层为所述氧化钛层、第二层为所述氧化硅层。

8.根据权利要求1或2或3所述的方法，其特征在于，在温度为75℃至85℃下印刷15min至35min，形成厚度为7um至9um的遮蔽层。

9.根据权利要求1或2或3所述的方法，其特征在于，还包括：

将所述壳体加工成指定的形状。

10.一种壳体，其特征在于，采用如权利要求1至9任一项所述的壳体的表面加工方法制成。

11.一种移动终端，其特征在于，包括权利要求10所述的壳体。