CN107407002A - 取向性电磁钢带的连续电解蚀刻方法及取向性电磁钢带的连续电解蚀刻装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种取向性电磁钢带的连续电解蚀刻方法，其包括：掩模形成步骤，在冷轧为最终板厚的取向性电磁钢带（1）的表面，留出线状的裸露部分而形成蚀刻掩模；中央定位步骤，通过配置于就在电解蚀刻装置（4）之前的位置检测传感器（9）及中央定位装置（8），来进行取向性电磁钢带的中央定位；以及槽形成步骤，在电解蚀刻装置中使取向性电磁钢带与导电辊（43a、43b）接触且浸入电解浴（46）中，并使其与配置在该电解浴中的电极（42）相对，并且实施在该导电辊与该电极之间通电而进行电解蚀刻的电解蚀刻处理，来在该取向性电磁钢带的表面形成线状槽。

Description

取向性电磁钢带的连续电解蚀刻方法及取向性电磁钢带的连 续电解蚀刻装置
技术领域
本发明涉及一种取向性电磁钢带的连续电解蚀刻方法及取向性电磁钢带的连续电解蚀刻装置。
背景技术
以往，公开了以下技术，即：在取向性电磁钢带(以下，也可以简称为“钢带”)的表面上，使用电绝缘油墨来印刷抗蚀剂，然后在印刷了该抗蚀剂的钢带表面上，通过电解蚀刻处理形成蚀刻图案，来改善该钢带的特性(参照专利文献1)。在产业上进行这样的使用电解蚀刻处理来改善钢带特性的技术时，需要一种在产品的蚀刻状态的稳定性上优异的电解蚀刻方法。
在专利文献2中，提出了以下方法，即：为了获得在钢带的宽度方向上均一的槽截面形状，覆盖钢带的两侧部来抑制电解液在钢带宽度方向上的流动，从而在宽度方向上具有均一的蚀刻能力。
专利文献1：日本特公平8-6140号公报
专利文献2：日本特开平10-204698号公报
发明内容
在提高蚀刻状态的稳定性方面，还存在改善的余地。例如，在电极的宽度与钢带的宽度相比过大的情况下，由于从电极中的比钢带向外侧突出的部分流过的电流，钢带边缘部的电解蚀刻量变得比钢带中央部等其他部分的电解蚀刻量大，导致在钢带边缘部处槽变深或变宽等产生无法得到在宽度方向上均一的槽形状的问题。
本发明的目的在于，提供一种能够抑制蚀刻槽形状沿着钢带的宽度方向发生变动的取向性电磁钢带的连续电解蚀刻方法及取向性电磁钢带的连续电解蚀刻装置。
本发明的取向性电磁钢带的连续电解蚀刻方法，包括：掩模形成步骤，在冷轧为最终板厚的取向性电磁钢带的表面，留出线状的裸露部分而形成蚀刻掩模；中央定位步骤，通过配置于就在电解蚀刻装置之前的位置检测传感器及中央定位装置，来进行上述取向性电磁钢带的中央定位；以及槽形成步骤，在上述电解蚀刻装置中使上述取向性电磁钢带与导电辊接触且浸入电解浴中，并使其与配置在该电解浴中的电极相对，并且实施在该导电辊与该电极之间通电而进行电解蚀刻的电解蚀刻处理，来在该取向性电磁钢带的表面形成线状槽。
在上述取向性电磁钢带的连续电解蚀刻方法的上述槽形成步骤中，优选使用其宽度为上述取向性电磁钢带的钢带宽度的±10mm以内的上述电极来实施电解蚀刻处理。
在上述取向性电磁钢带的连续电解蚀刻方法的上述槽形成步骤中，优选使用其宽度方向上的侧面由绝缘材料覆盖的上述电极来实施电解蚀刻处理。
本发明的取向性电磁钢带的连续电解蚀刻装置，包括：掩模形成装置，其在冷轧为最终板厚的取向性电磁钢带的表面，留出线状的裸露部分而形成蚀刻掩模；电解蚀刻装置，其具有电解浴及配置在该电解浴中的电极和导电辊，使上述取向性电磁钢带与该导电辊接触且浸入该电解浴中，并使其与该电极相对，并且实施在该导电辊与该电极之间通电而进行电解蚀刻的电解蚀刻处理，来在该取向性电磁钢带的表面形成线状槽；位置检测传感器，其配置于就在上述电解蚀刻装置之前，用于检测上述取向性电磁钢带在宽度方向上的位置；以及中央定位装置，其配置于就在上述电解蚀刻装置之前，基于上述位置检测传感器的检测结果，来进行上述取向性电磁钢带的中央定位。
根据本发明涉及的取向性电磁钢带的连续电解蚀刻方法及取向性电磁钢带的连续电解蚀刻装置，能够抑制蚀刻槽形状沿着钢带的宽度方向发生变动。
附图说明
图1是实施方式涉及的取向性电磁钢带的连续电解蚀刻装置的概略结构图。
图2是表示蚀刻掩模的一个示例的俯视图。
图3是表示实施方式涉及的取向性电磁钢带的连续电解蚀刻装置的主要部分的图。
图4是实施方式涉及的电解蚀刻装置的截面图。
图5是比较例涉及的电解蚀刻装置的截面图。
符号说明
1 取向性电磁钢带
1a 蚀刻掩模
1b 裸露部分
11 表面
2 抗蚀剂涂布装置
2a 支承辊
2b 凹版辊
2c 橡胶转印辊
3 烘烤装置
4 电解蚀刻装置
41 电解蚀刻槽
42、50 电极
43a 入口侧导电辊
43b 出口侧导电辊
44a 入口侧支承辊
44b 出口侧支承辊
45a 入口侧浸没辊
45b 出口侧浸没辊
46 电解浴
47 电源
48 绝缘材料
5 抗蚀剂去除装置
6 水洗槽
7 漂洗槽
8 中央定位装置
9 位置检测传感器
100 取向性电磁钢带的连续电解蚀刻装置
具体实施方式
以下，参照附图，详细地说明本发明的实施方式涉及的取向性电磁钢带的连续电解蚀刻方法及取向性电磁钢带的连续电解蚀刻装置。另外，本发明并非由下述实施方式所限定。此外，下述实施方式中的结构要素包括本领域技术人员能够容易地想到的结构要素、或者实质上相同的结构要素。
实施方式
参照图1至图5，说明实施方式。本实施方式涉及一种取向性电磁钢带的连续电解蚀刻方法及取向性电磁钢带的连续电解蚀刻装置。本实施方式的取向性电磁钢带的连续电解蚀刻方法，用于例如在冷轧为最终板厚的取向性电磁钢带的表面上选择性地形成蚀刻掩模之后，连续地送入电解槽而实施电解蚀刻处理，从而在取向性电磁钢带的表面形成线状槽。图1是本发明的实施方式涉及的取向性电磁钢带的连续电解蚀刻装置的概略结构图。
如图1所示，本实施方式涉及的取向性电磁钢带的连续电解蚀刻装置(以下，也可以简称为“连续电解蚀刻装置”)100具有：抗蚀剂涂布装置2、烘烤装置3、电解蚀刻装置4、抗蚀剂去除装置5、水洗槽6、漂洗槽7、中央定位装置8、以及位置检测传感器9。此外，由连续电解蚀刻装置100执行的本实施方式的连续电解蚀刻方法，包括掩模形成步骤、中央定位步骤和槽形成步骤。
掩模形成步骤
掩模形成步骤是如下步骤，即：在冷轧为最终板厚的取向性电磁钢带1的表面11，留出线状的裸露部分1b(参照图2)而形成蚀刻掩模1a。连续电解蚀刻装置100具有抗蚀剂涂布装置2及烘烤装置3作为掩模形成装置，通过抗蚀剂涂布装置2及烘烤装置3来执行掩模形成步骤。连续电解蚀刻装置100在冷轧为最终板厚的取向性电磁钢带1的表面11上涂布抗蚀剂并进行烘烤，来选择性地形成蚀刻掩模1a。
中央定位步骤
中央定位步骤是如下步骤，即：通过配置于就在电解蚀刻装置4之前的位置检测传感器9及中央定位装置8来进行取向性电磁钢带1的中央定位。通过该中央定位步骤，能够抑制取向性电磁钢带1与生产线中央(line center)的偏移。由此，能够抑制电解蚀刻处理中的电流密度的偏差，形成形状均一的线状槽。
槽形成步骤
槽形成步骤是如下步骤，即：在电解蚀刻装置4中使取向性电磁钢带1与导电辊43a、43b接触且浸入电解浴46中，并使其与配置在电解浴46中的电极42相对，并且实施在导电辊43a、43b与电极42之间通电而进行电解蚀刻的电解蚀刻处理，来在取向性电磁钢带1的表面11形成线状槽。
导入了线状槽的取向性电磁钢带1由抗蚀剂去除装置5从表面11去除蚀刻掩模1a，并在水洗槽6和漂洗槽7中被清洗。以下，详细地说明本实施方式的取向性电磁钢带的连续电解蚀刻方法及取向性电磁钢带的连续电解蚀刻装置100。
冷轧为最终板厚的取向性电磁钢带1通过运送辊等运送装置，按照抗蚀剂涂布装置2、烘烤装置3、电解蚀刻装置4、抗蚀剂去除装置5、水洗槽6、以及漂洗槽7的顺序被运送。抗蚀剂涂布装置2在取向性电磁钢带1的表面11上涂布抗蚀剂。本实施方式的抗蚀剂涂布装置2通过凹版胶印，在取向性电磁钢带1的表面11留出线状的裸露部分1b而涂布抗蚀剂。
图2表示形成在取向性电磁钢带1的蚀刻掩模的一个示例。在取向性电磁钢带1的表面11，留出线状的裸露部分1b而形成带状的蚀刻掩模1a。裸露部分1b例如相对于取向性电磁钢带1的长度方向(运送方向)以规定的倾斜角θ倾斜。裸露部分1b在运送方向上的宽度为d，蚀刻掩模1a在运送方向上的宽度为L。
返回图1，抗蚀剂涂布装置2具有支承辊2a、凹版辊2b、以及橡胶转印辊2c。橡胶转印辊2c配置在凹版辊2b与支承辊2a之间，与各个辊2a、2b接触。在凹版辊2b形成有与形成在取向性电磁钢带1的蚀刻掩模1a的形状对应的凹部。积存在该凹部的抗蚀剂的油墨通过橡胶转印辊2c被转印到取向性电磁钢带1的表面11。橡胶转印辊2c将取向性电磁钢带1夹持在其与支承辊2a之间，在按压取向性电磁钢带1的同时，将油墨涂布在取向性电磁钢带1。作为抗蚀剂使用的油墨优选为将醇酸树脂、环氧树脂、聚乙烯树脂中的任意树脂作为主要成分的抗蚀油墨。
烘烤装置3对涂布在取向性电磁钢带1的表面11上的抗蚀剂的油墨进行烘干并烤印。由此，能够在取向性电磁钢带1的表面11，留出线状的裸露部分1b而形成蚀刻掩模1a。
如图3所示，位置检测传感器9及中央定位装置8配置于就在电解蚀刻装置4之前。换言之，位置检测传感器9及中央定位装置8配置在电解蚀刻装置4的入口侧且电解蚀刻装置4的附近。中央定位装置8配置在取向性电磁钢带1的运送方向上比位置检测传感器9靠上游侧。位置检测传感器9检测取向性电磁钢带1的宽度方向位置。典型地，位置检测传感器9通过检测取向性电磁钢带1在宽度方向上的两端面(边缘)的位置，来检测取向性电磁钢带1在宽度方向上的中心位置。由位置检测传感器9检测出的宽度方向位置被传送到中央定位装置8。中央定位装置8基于位置检测传感器9的检测结果，来进行取向性电磁钢带1的中央定位。典型地，中央定位装置8基于从位置检测传感器9获得的宽度方向位置，对取向性电磁钢带1在宽度方向上的中心位置进行调节，以抵消与预先规定的生产线中央的偏移。中央定位装置8例如通过使上游侧辊8b的旋转轴线相对于下游侧辊8a的旋转轴线倾斜，来调整取向性电磁钢带1的宽度方向位置。
电解蚀刻装置4具有电解蚀刻槽41、电极42、导电辊43a、43b、支承辊44a、44b、浸没辊45a、45b、电解浴46、以及电源47。电解蚀刻装置4在使导电辊43a、43b与取向性电磁钢带1接触的状态下，通过浸没辊45a、45b来使取向性电磁钢带1的一部分浸入电解浴46中，并在浸没辊45a与浸没辊45b之间使取向性电磁钢带1与电极42相对。电解蚀刻装置4在导电辊43a、43b与电极42之间通电，通过电解蚀刻处理来在取向性电磁钢带1的表面11形成线状槽。
电解浴46贮存在电解蚀刻槽41内。电解浴46例如是NaCl水溶液或KCl水溶液等电解液。电极42配置在电解浴46中。导电辊43a、43b及支承辊44a、44b配置在电解蚀刻槽41内比电解浴46的液面靠上方的位置。入口侧导电辊43a及入口侧支承辊44a配置在电解蚀刻槽41中的入口侧。出口侧导电辊43b及出口侧支承辊44b配置在电解蚀刻槽41中的出口侧。导电辊43a、43b是与取向性电磁钢带1接触的正极。取向性电磁钢带1被夹持在入口侧导电辊43a与入口侧支承辊44a之间，从而维持取向性电磁钢带1与入口侧导电辊43a的接触状态。此外，取向性电磁钢带1被夹持在出口侧导电辊43b与出口侧支承辊44b之间，从而维持取向性电磁钢带1与出口侧导电辊43b的接触状态。
浸没辊45a、45b被浸入电解浴46中，用于使取向性电磁钢带1浸入电解浴46内。在电解蚀刻槽41中，入口侧浸没辊45a配置在入口侧，出口侧浸没辊45b配置在出口侧。取向性电磁钢带1在分别绕挂于入口侧支承辊44a、入口侧浸没辊45a、出口侧浸没辊45b、以及出口侧支承辊44b的状态下，在电解蚀刻槽41内被运送。被运送的取向性电磁钢带1在入口侧支承辊44a与入口侧浸没辊45a之间进入电解浴46内，经过各浸没辊45a、45b的下侧，并在出口侧浸没辊45b与出口侧支承辊44b之间从电解浴46出来。
电极42是与导电辊43a、43b配对的负极。电极42与电源47的负极侧连接，导电辊43a、43b与电源47的正极侧连接。在电解蚀刻装置4中，构成经由电源47、导电辊43a、43b、取向性电磁钢带1、电解浴46、以及电极42的电流电路。电解蚀刻处理中的电流密度优选为1至100A/dm2的范围。若电流密度过低，则无法充分得到蚀刻效果，此外，若电流密度过高，则会损坏蚀刻掩模1a。
如图3所示，平板状的电极42配置在电解浴46中与取向性电磁钢带1的表面11相对的位置。更具体而言，电极42配置在电解浴46中比取向性电极钢带1靠下方的位置，并且与取向性电磁钢带1的表面11的从入口侧浸没辊45a到出口侧浸没辊45b为止的范围相对。
图4表示图3的Ⅳ－Ⅳ截面。电极42配置成生产线中央与宽度方向上的电极42的中心线一致。如图4所示，相对于取向性电磁钢带1的宽度L1，电极42的宽度L2为相同的大小、或者大致相同的大小。由此，能够抑制对取向性电磁钢带1的宽度方向端部1e附近的不需要的电解。电极42的宽度L2优选为取向性电磁钢带1的宽度L1±10mm。在本实施方式中，电极42的宽度L2与取向性电磁钢带1的宽度L1相等。如图5所示的比较例那样，在电极50的宽度L3比取向性电磁钢带1的宽度L1大一定程度以上的情况下，在取向性电磁钢带1的宽度方向端部1e，会对不是电解对象的部分即裸露部分1b以外的部分进行电解蚀刻。此外，在裸露部分1b中，会对在宽度方向上的端部比对中央部过度地进行电解蚀刻。对此，在本实施方式的电解蚀刻装置4中，由于电极42的宽度L2与取向性电磁钢带1的宽度L1同等，所以能够抑制不需要的电解蚀刻处理和宽度方向端部1e处的过度的电解蚀刻处理。
此外，在本实施方式的电解蚀刻装置4中，如图4所示，电极42的宽度方向上的侧面42a由绝缘材料48覆盖。在如图5所示的比较例中，由于电极50的侧面50a与电解浴46接触，所以从取向性电磁钢带1向电极50的侧面50a流过电流。由此，流过取向性电磁钢带1的宽度方向端部1e的电流值(电流密度)变得比流过宽度方向中央部的电流值(电流密度)大，在宽度方向端部处会产生过度的蚀刻。另一方面，在本实施方式的电解蚀刻装置4中，绝缘材料48限制电流从取向性电磁钢带1流向电极42的侧面42a。由此，抑制对取向性电磁钢带1的宽度方向端部1e过度地进行电解蚀刻。另外，在本实施方式中，电极42的背面42b也由绝缘材料48覆盖。由此，抑制电流从取向性电磁钢带1流向电极42的背面42b。
实施例
以下，说明实施例。表1表示实施例1至实施例6的各实施例及比较例的测试条件和结果。在各实施例及比较例中，取向性电磁钢带1是包含3.0mass％的Si的厚度为0.22mm的钢带，最终冷轧后的钢带宽度L1为1,000mm。作为抗蚀剂，使用以环氧树脂为主要成分的抗蚀油墨。烘烤温度为100℃。另外，蚀刻掩模的厚度为3μm。
蚀刻掩模涂布装置2及烘烤装置3在取向性电磁钢带1的表面11形成蚀刻掩模1a后，电解蚀刻装置4对取向性电磁钢带1以直接通电方式进行电解蚀刻处理。电解浴46是NaCl水溶液。线状槽的槽形状的目标值为宽度：150μm、深度：20μm、槽间隔：3mm。
在进行电解蚀刻处理后，取向性电磁钢带1经过抗蚀剂去除装置5、水洗槽6及漂洗槽7，去除表面11的蚀刻掩模1a。线状槽的槽深度是去除蚀刻掩模1a后测量出的。槽深度的测量部位从取向性电磁钢带1在宽度方向上的一端到另一端为止等间隔地设定有10处。基于10处的测量值，计算出槽深度的平均值及偏差。
去除了蚀刻掩模1a的取向性电磁钢带1，在脱碳退火后，实施了最终退火。对这样得到的取向性电磁钢带1测量磁特性(铁损W17/50W/kg)。磁特性的测量部位从取向性电磁钢带1在宽度方向上的一端到另一端为止等间隔地设定有10处。基于10处的测量值，计算出铁损W17/50的平均值及偏差。
在实施例1至6的所有实施例中，由中央定位装置8进行中央定位控制。在各实施例中，不同之处在于，电极42的宽度L2的大小、以及有无覆盖电极42的宽度方向侧面42a的绝缘材料48。如表1所示，在实施例1中，中央定位控制：有，电极42的宽度L2：1,010mm(取向性电磁钢带1的宽度L1+10mm)，绝缘材料48：无。实施例2与实施例1的不同之处在于，电极42的宽度L2为1,000mm。实施例3与实施例1的不同之处在于，电极42的宽度L2为990mm(取向性电磁钢带1的宽度L1－10mm)。实施例4与实施例1的不同之处在于，有绝缘材料48。实施例5与实施例1的不同之处在于，电极42的宽度L2为1,000mm、以及有绝缘材料48。实施例6与实施例1的不同之处在于，电极42的宽度L2为990mm、以及有绝缘材料48。在比较例中，中央定位控制：无，电极42的宽度L2：1,010mm，绝缘材料48：无。
如表1所示，在比较例中，平均槽深度相对于目标值(20μm)偏差了0.14μm。相对于此，在实施例1至实施例6中，槽深度的平均值相对于目标值的偏差量最大为0.04μm。此外，在比较例中，槽深度的分布宽度为±0.5μm，而在各实施例中，被抑制成槽深度的分布宽度最大为±0.09μm。
对于铁损W17/50，在比较例中平均值为0.752W/kg，而在实施例中为0.720至0.731W/kg，情况良好。此外，在比较例中，铁损17/50的偏差为±0.020W/kg，而在实施例中，偏差最大为±0.009W/kg即小于比较例的一半。在各实施例中，实施例5在槽深度的精度及铁损17/50的值方面最优异。也就是说，除了中央定位控制的效果之外，还通过使电极42的宽度L2与取向性电磁钢带1的宽度L1相一致、以及由绝缘材料48覆盖电极42的侧面42a的协同作用，来有效地抑制蚀刻槽形状沿着取向性电磁钢带1的宽度方向发生变动。并且，由此还得到良好的铁损W17/50的值。
表1
如上所述，本实施方式的取向性电磁钢带的连续电解蚀刻方法，包括：掩模形成步骤、中央定位步骤和槽形成步骤。在中央定位步骤中，通过配置于就在电解蚀刻装置4之前的位置检测传感器9及中央定位装置8来进行取向性电磁钢带1的中央定位，从而抑制取向性电磁钢带1的中心线相对于电极42的中心线在宽度方向上偏移。由此，抑制在取向性电磁钢带1的宽度方向上产生电流密度的偏差。因此，本实施方式的取向性电磁钢带的连续电解蚀刻方法能够抑制蚀刻槽形状沿着取向性电磁钢带1的宽度方向发生变动。
本实施方式的取向性电磁钢带的连续电解蚀刻方法能够提供在取向性电磁钢带1的宽度方向上均一的蚀刻槽形状。此外，由于能够削减无助于电解蚀刻处理的电流、或者进行不必要的电解蚀刻处理时浪费的电流，所以能够提高电解效率。此外，能够防止由电解蚀刻装置4内的蛇行所导致的干扰，从而能够降低生产机会的损失或由取向性电磁钢带1的边缘损伤所导致的产量损失。
此外，本实施方式的取向性电磁钢带的连续电解蚀刻方法，在槽形成步骤中，使用宽度L2为与取向性电磁钢带1的宽度L1相比±10mm以内的电极42来实施电解蚀刻处理。由此，能够抑制取向性电磁钢带1的宽度方向端部处的电流密度与中央部处的电流密度不同。因此，能够抑制蚀刻槽形状沿着取向性电磁钢带1的宽度方向发生变动。
此外，本实施方式的取向性电磁钢带的连续电解蚀刻方法，在槽形成步骤中，使用在宽度方向上的侧面42a由绝缘材料48覆盖的电极42来实施电解蚀刻处理。由此，能够限制电流在取向性电磁钢带1与电极42的侧面42a之间流过，从而能够抑制取向性电磁钢带1的宽度方向端部处的电流密度变得比中央部处的电流密度大。因此，能够抑制蚀刻槽形状沿着取向性电磁钢带1的宽度方向发生变动。
本实施方式的取向性电磁钢带的连续电解蚀刻装置100具有：掩模形成装置(抗蚀剂涂布装置2及烘烤装置3)、电解蚀刻装置4、位置检测传感器9和中央定位装置8。基于位置检测传感器9的检测结果，由中央定位装置8进行取向性电磁钢带1的中央定位，从而能够抑制取向性电磁钢带1的中心线相对于电极42的中心线在宽度方向上偏移。由此，能够抑制在取向性电磁钢带1的宽度方向上产生电流密度的偏差。因此，本实施方式的取向性电磁钢带的连续电解蚀刻装置100能够抑制蚀刻槽形状沿着取向性电磁钢带1的宽度方向发生变动。
另外，对取向性电磁钢带1涂布抗蚀剂的抗蚀剂涂布装置2并非由如上所述的装置所限定。抗蚀剂涂布装置2也可以优选利用不使用胶辊的凹版印刷、平版胶印及丝网印刷等方法的任一种。凹版胶印是由于能够容易地以线圈进行连续印刷、能够获得稳定的印刷面、能够容易地控制抗蚀剂厚度等而优选。
上述的各实施方式所公开的内容能够适当地组合来实施。
根据本发明，能够提供可以抑制蚀刻槽形状沿着钢带的宽度方向发生变动的取向性电磁钢带的连续电解蚀刻方法及取向性电磁钢带的连续电解蚀刻装置。

Claims (4)

1.一种取向性电磁钢带的连续电解蚀刻方法，其特征在于，包括：
掩模形成步骤，在冷轧为最终板厚的取向性电磁钢带的表面，留出线状的裸露部分而形成蚀刻掩模；
中央定位步骤，通过配置于就在电解蚀刻装置之前的位置检测传感器及中央定位装置，来进行所述取向性电磁钢带的中央定位；以及
槽形成步骤，在所述电解蚀刻装置中使所述取向性电磁钢带与导电辊接触且浸入电解浴中，并使其与配置在该电解浴中的电极相对，并且实施在该导电辊与该电极之间通电而进行电解蚀刻的电解蚀刻处理，来在该取向性电磁钢带的表面形成线状槽。
2.根据权利要求1所述的取向性电磁钢带的连续电解蚀刻方法，其特征在于：
在所述槽形成步骤中，使用其宽度为所述取向性电磁钢带的钢带宽度的±10mm以内的所述电极来实施电解蚀刻处理。
3.根据权利要求1或2所述的取向性电磁钢带的连续电解蚀刻方法，其特征在于：
在所述槽形成步骤中，使用其宽度方向上的侧面由绝缘材料覆盖的所述电极来实施电解蚀刻处理。
4.一种取向性电磁钢带的连续电解蚀刻装置，其特征在于，包括：
掩模形成装置，其在冷轧为最终板厚的取向性电磁钢带的表面，留出线状的裸露部分而形成蚀刻掩模；
电解蚀刻装置，其具有电解浴及配置在该电解浴中的电极和导电辊，使所述取向性电磁钢带与该导电辊接触且浸入该电解浴中，并使其与该电极相对，并且实施在该导电辊与该电极之间通电而进行电解蚀刻的电解蚀刻处理，来在该取向性电磁钢带的表面形成线状槽；
位置检测传感器，其配置于就在所述电解蚀刻装置之前，用于检测所述取向性电磁钢带在宽度方向上的位置；以及
中央定位装置，其配置于就在所述电解蚀刻装置之前，基于所述位置检测传感器的检测结果，来进行所述取向性电磁钢带的中央定位。
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