CN105683423B - 通过氧化来构建可氧化材料层的方法以及具有所构建的覆层的基板 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及用于构建可氧化材料层的方法。在所述方法中，利用至少一个氧化步骤使设置于基板上的至少一个可氧化材料层经历局部氧化。在所述局部氧化的情况中，对所述可氧化材料层中的至少一个选择区域进行氧化，以使得所述可氧化材料层在所述氧化之后通过在整个层厚上延伸的至少一个氧化区而被细分成相互电绝缘的区域。

Description

通过氧化来构建可氧化材料层的方法以及具有所构建的覆层 的基板
技术领域
本发明涉及一种用于构建可氧化材料层的方法。根据该方法，利用至少一个氧化步骤使设置于基板上的至少一个可氧化材料层经历局部氧化。在该局部氧化的情况下，对所述可氧化材料层中的至少一个选择区域进行氧化，以使得该层在氧化之后通过在整个层厚上延伸的至少一个氧化区而被细分成相互电绝缘的区域。此外，本发明还涉及具有所构建的覆层的基板。所述基板因此具有如下的可氧化材料层：其通过至少一个氧化区而被局部地细分成相互电绝缘的至少两个区域。
背景技术
作为层材料而言，特别是作为太阳能电池的接触材料而言，铝在各种应用中具有许多优点，例如：与p型硅和n型硅都能形成良好的电接触、具备良好的反射特性、具有高的电导率值、以及具有低的材料价格。能够通过气相沉积工艺以相对简单的步骤将铝涂敷到基板(例如，太阳能电池)的整个表面上。这样的工艺例如已经被用在BC太阳能电池(背接触型太阳能电池；back-contact solar cell)中。
相对于最常生产的具有前侧镀层金属和背侧镀层金属的太阳能电池，全部镀层金属被形成于电池背侧上的BC太阳能电池具有重要的效率优点。由于没有前侧触点，所以显然更多的光能够被用来生成电流。23.6％的太阳能电池效率和21.2％的模块效率已经证明了该电池构思的潜能和工业用途(请参见D.D.Smith,P.J.Cousins,A.Masad,“GenerationIII High Efficiency Lower Cost Technology:Transition to Full ScaleManufacturing”,Photovoltaic Specialists Conference(PVSC),38th IEEE,2012)。
在这个应用中，而且在其它应用中，必须构建各金属层以实现例如p型和n型区域的分离。关于BC太阳能电池，迄今为止只有一种构建方法已经证明了它的价值，该构建方法也被披露于专利文献US 7,388,147中。对于这个方法，电镀保护漆(electroplatingprotective varnish)和蚀刻工艺都是必要的。概括地说，首先，制备由三个PVD层(例如铝、钛-钨、铜)制成的层叠体。在PVD铜层上，制备电镀保护漆，以便更多的铜能够以电镀的方式(galvanically)局部生长。在制作了由锡或银制成的保护层之后，除去上述电镀保护漆，并且用于将未电镀区域中的那些PVD层除去的额外蚀刻步骤是必要的。这些镀层金属形成工艺是相对复杂且昂贵的。因为昂贵的生产成本，所以只有少数的商家打算使用BC太阳能电池的电池构思。
在以前已知的其中要将铝层氧化(阳极氧化(anodising)工艺)的应用中，氧化仅浅浅地发生，这样该铝层的仅仅一部分被氧化从而形成氧化铝。铝层仍保留于所形成的氧化铝层下面的这个事实导致了层与层之间很好的贴合。该工艺一般用于使天然氧化物层的厚度增加的目的，以便实现特定的物理特性。一个特性是表面的电绝缘效果，因为这个效果，所以被氧化的铝表面被用作电容器和整流器(current rectifier)中的电介质。
在标准的阳极氧化工艺的情况下，铝层仅仅在它的表面上被氧化，以便使该表面具有耐性。于是，为了产生足够厚的且具有足够耐性的氧化铝层，必须采用相对较长的工艺时间。主要地，该标准的阳极氧化工艺被用来处理飞机构造中的铝部件和用来对家居用品及家具进行最后的表面处理。
专利文献US 4936957 A披露了阳极氧化工艺在硅晶片上的使用。这里，铝层在整个表面上被执行阳极氧化，以便产生该晶片的绝缘层。因而，铝层并非完全地被全部氧化。此外，使用了多步骤工艺，这会造成各种不同的氧化铝层(硬阳极氧化铝/软阳极氧化铝)。
专利文献DE 2540301 A1中披露了在半导体技术领域中的另一种应用。这里，将铝层浅浅地氧化(不是在整个层厚上完全地氧化)，以便改善涂敷在铝层上的第二金属层的贴合。
然而，通过这样的手段，没有实现金属性区域彼此之间的电绝缘。
发明内容
鉴于背景技术的情形，本发明的目的是指出一种用于构建可氧化材料层的快速且经济的方法。
这个目的是通过本发明的具有权利要求1中的特征的方法和本发明的具有权利要求17中的特征的基板而被实现的。本发明的从属权利要求进而代表着有利的发展。
因此，根据本发明，指明了一种用于构建可氧化材料层的方法。通过该方法，利用至少一个氧化步骤使设置于基板上的至少一个可氧化材料层经历局部氧化。在所述局部氧化的情况下，对所述可氧化材料层中的至少一个选择区域进行氧化，以使得所述可氧化材料层在所述氧化之后通过在整个层厚上延伸的至少一个氧化区而被细分成相互电绝缘的区域。
本发明的特征在于，所述可氧化材料层的构建是通过在整个层厚上的局部氧化而被实施的。因此，可以确保所述可氧化材料层在所述氧化之后通过在整个层厚上延伸的至少一个氧化区而被细分成相互电绝缘的区域。
根据本发明，实现了下列效果：与背景技术中所说明的那些方法比较而言，本发明要求保护的方法代表着明显更简单、更快且更经济的用于构建可氧化材料(例如，铝)层的工艺。
能够无需采用昂贵的掩模遮蔽工艺和复杂且危险的激光工艺，这相对于背景技术中已知的方法而言就代表着显著的优势。此外，本发明的方法所要求的化学品是便宜的、批量生产的化学品，由此，又提供了重要的成本优势。此外，对于本发明的方法，可以想到的是在工厂工程(plant engineering)方面的相对简单的技术实施方案。
所述方法的一个优选变型提供了如下特征：所述氧化是电化学氧化、铬化(chromatising)或磷化(phosphatising)。
根据本发明的方法可以特征在于：在最后一个氧化步骤之后而被产生的所述氧化区具有可氧化材料的氧化层或由可氧化材料的氧化层构成。所述氧化层的层厚优选为0.01μm至10μm，特别优选为0.1μm至2μm，更特别为0.3μm至1μm。
能够将所述可氧化材料层氧化成使得所述至少一个氧化区的宽度为100μm以下，优选为10μm至100μm，特别优选为30μm至100μm。
根据本发明，所述可氧化材料层的所述氧化是利用氧化介质和用于计量所述氧化介质的计量装置而被实施的。由此，在所述氧化过程中，所述氧化介质与所述计量装置和所述可氧化材料层这两者都接触。此外，在所述计量装置与所述可氧化材料层之间施加电压，特别地1V至100V的电压，优选地10V至60V的电压，特别优选地12V至30V的电压，借此电压而引起经过所述氧化介质的电荷输运。通过这样做，最终实现了本发明的所述可氧化材料层的所述氧化。
此外，优选的是，所施加的所述电压和由此引起的经过所述氧化介质的所述电荷输运是脉冲式的。
另一个优选变型提供了如下特征：使用了导电液体介质作为所述氧化介质，所述导电液体介质特别是粘性的导电液体介质，优选是氧化酸。作为特别的优选，使用了硫酸、磷酸、草酸或铬酸。
在所述方法的另一个优选变型中，优选被使用的所述计量装置是印模(stamp)，特别是由化学惰性的导电材料制成的印模。因此，作为化学惰性的导电材料，优选使用钛、不锈钢、或铂。作为特别的优选，所述计量装置代表着阴极。
此外，优选的是，所述印模的表面具有网状物(web)，所述网状物特别地由化学惰性的导电材料制成，所述化学惰性的导电材料优选为钛、不锈钢、铂或铝。在所述方法的这个优选变型中，所述印模优选地在所述氧化之前首先被浸入所述氧化介质中，以使得用所述氧化介质将所述网状物润湿。同样，存在着用所述氧化介质将所述可氧化材料润湿的可能。随后，所述印模能够通过将所述网状物润湿的所述氧化介质而与所述可氧化材料层接触。
利用本发明的方法的这个变型，能够以简单的方式实现局部氧化。最终，将只在所述氧化介质与所述可氧化材料层接触的地方实现氧化。因为用所述氧化介质仅仅润湿了所述印模的所述网状物，所以局部地限制了所述氧化的区域。与此相反，如果所述可氧化材料被所述氧化介质在整个表面上润湿，那么因为所述印模的所述网状物与所述可氧化材料的表面之间的间距非常小，且由此这些地方处的经过所述氧化介质的局部电荷输运是优选的，所以同样能够发生局部氧化。最后，在整个层厚上实现所述氧化。根据所计划的结构，使所述网状物保持为窄的网状物，其宽度大约为30μm至100μm。关于所述网状物的几何形状及其表面特性，可以想到各种构造。因此，为了提高所述网状物的稳定性，能够使用朝着末端以圆锥的方式逐渐变细的几何形状。对于润湿得更好的所述表面，能够实现微小尺度的粗加工。
根据最初的试验，利用稳定的弯月面(meniscus)来防止所述介质的流动。为了能够具有低的结构宽度，实现尽可能窄的弯月面是有利的。另一个控制的可能性在于施加非常短、非常高的电压脉冲，这甚至在电解质能够流动之前就会导致所述可氧化材料层的完全氧化。这种手段特别适合于在形态方面要求高的表面(例如，具有纹理的表面)。在这种情况下，因为印模和要被氧化的金属层以导电的方式彼此连接，所以能够通过所述印模和所述要被氧化的金属层之间的电导率的测量来实现所述脉冲的控制。该电流电路被所述氧化介质闭合。一旦测量了电导率，所述可氧化材料的表面就被润湿且所述电压脉冲开始。同样，可以想到是具有数个阳极脉冲的工艺，这些阳极脉冲会影响所述氧化介质中的离子输运以使得能够产生非常窄的开口区域。在如同利用电解抛光(electropolishing)工艺(或在电化学去除的情况下)在所述表面上同等地实施的工艺过程中，具有阳极脉冲和阴极脉冲的脉冲序列可以被用于以特定的方式去除局部氧化区的目的。这样的工艺的优势在于：在各阳极脉冲之前使先前形成的氧化铝分离且能够更容易或以更低电压实施铝的所述氧化。
为了使所述网状物均匀润湿，所述氧化介质在其粘度方面的特定变化是有利的。例如，能够通过交联(crosslinking)材料或水提(water-extracting)材料来增加使所述介质的粘度。
此外，可以直接对所述网状物进行处理以便提高被所述氧化介质润湿的润湿能力。如果没有使用网状物，那么所述印模的构造能够例如通过所产生的疏水区和亲水区而被产生。因此，所述介质将会仅在所述印模的亲水区与所述要被氧化的材料的表面之间形成弯月面，以便所述氧化同样地是局部地发生。
在根据本发明的方法的另一个优选变型中，所述印模的表面具有网状物，所述网状物特别地由化学稳定的不导电的开孔海绵(open-cell sponge)或者毡制成。因此，所述海绵优选地由海绵橡胶、乳胶泡沫(latex foam)或PUR(聚氨酯)泡沫构成。在所述方法的这个变型中，所述印模优选地在所述氧化之前首先被浸入所述氧化介质中，以使得所述网状物吸取所述氧化介质。随后，能够使所述印模与所述可氧化材料层接触。而且，在所述方法的这个优选变型中，可以以简单的方式实现局部氧化。在这种情况下，在该氧化过程中会产生所述网状物与所述要被氧化的材料的表面之间的机械接触。利用所述海绵或毡的吸附能力而防止所述氧化介质的可能的流动，结果，同样能够使非常窄的区域氧化。
在根据本发明的方法的另一个优选的实施例变型中，所述印模的表面具有网状物，所述网状物作为对所述氧化介质有耐性的密封部(seal)。优选地，这些网状物由三元乙丙橡胶(ethylene-propylene-diene rubber)构成。在所述方法的这个变型中，所述氧化介质在所述氧化之前首先被涂敷到所述可氧化材料层上。随后，使所述印模与所述可氧化材料层接触，以使得对所述氧化介质有耐性的所述密封部从所述可氧化材料层的不要被氧化的区域中取代所述氧化介质。
此外，根据本发明的所述方法的如下实施例变型是优选的：其中，所述印模的表面具有网状物，所述网状物作为对所述氧化介质有耐性的密封部。优选地，这些网状物由三元乙丙橡胶构成。在所述方法的这个变型中，在所述氧化之前首先使所述印模与所述可氧化材料层接触。随后，通过设置于所述印模内的通道将所述氧化介质涂敷到所述可氧化材料层的要被氧化的区域上。
在所述方法的前述两个变型中，通过保护所述可氧化材料的不要被氧化的区域以使这些区域不被所述氧化介质润湿而且以电气的方式来实现所述氧化的位置。在这种情况下，一方面，能够通过所述网状物的宽度来调节所述氧化区的宽度，另一方面，能够通过所述印模的接触压力和所述密封材料的弹性来调节所述氧化区的宽度。取决于所述网状物的宽度，通过所述网状物而引入所述氧化介质也是可能的，结果，能够更好地控制所述润湿。所述密封材料除了具有耐化学性以外，还以非常好的电气绝缘性能著称。于是，能够利用两个同时起作用的机制(对所述氧化介质的取代和对所述表面的保护以不受到所需要的电流的影响)或利用不利于对被所述印模覆盖的区域的氧化的电场情形来防止所述氧化过程。
在根据本发明的方法的另一个优选变型中，所述计量装置是导电喷嘴，所述氧化介质能够通过所述导电喷嘴的喷嘴头而连续冒出。在所述方法的这个变型中，在所述氧化过程中所述导电喷嘴在所述可氧化材料层的表面上被引导到各处。因此，针被电连接至所述可氧化材料的表面，以使得所述可氧化材料的局部氧化是可能的。优选地，所述喷嘴具有间隙或由间隙构成，特别地，该间隙的长度是μm级和/或宽度是μm级。
根据本发明的方法的另一个优选变型提供了如下特征：在最后一个氧化步骤之后，以电镀(galvanically)或化学的方式用至少一种其它的金属覆盖所述可氧化材料层中的至少两个相互电绝缘的区域；或者在最后一个氧化步骤之后，至少部分地使所述可氧化材料层中的所述至少一个氧化区分离。
在根据本发明的方法的另一个优选变型中，在最后一个氧化步骤之后，以电镀或化学的方式用至少一种其它的金属涂敷所述可氧化材料层中的至少两个相互电绝缘的区域，且随后至少部分地使所述可氧化材料层中的所述至少一个氧化区分离。
根据本发明的方法的另一个优选变型提供了如下特征：在所述至少一个氧化步骤中的两个氧化步骤之间，以电镀或化学的方式用至少一种其它的金属涂敷所述可氧化材料层中的非氧化区。这里，优选的是，在最后一个氧化步骤之后，至少部分地使所述可氧化材料层中的至少一个氧化区分离。
如果所述可氧化材料涉及铝或铝合金(例如，AlSi)，且如果以电镀或化学的方式用锡或锌覆盖所述可氧化材料层中的至少两个相互绝缘的区域，那么优选地使用锡酸盐溶液或锌酸盐溶液实现这个覆层。在浸锌工艺(zincate process)的过程中，发生铝和锌的交换反应，结果，在铝表面上形成锌层，并且该锌层充当其它金属的进一步电镀沉积的晶种层。
所述方法的特征可以在于，它是从由瞬时印刷法、凸版印刷法、凹版印刷法、平版印刷法和孔版印刷法组成的群组中选出的，优选地它是从由喷墨法、分配法(dispensingmethod)和丝网印刷法组成的群组中选出的。
所述方法能够是丝网印刷法，优选地所述计量装置包括刮片(doctor blade)或由刮片构成，并且在所述方法中特别优选地使用了导电丝网。特别地，在所述丝网与所述可氧化材料层之间施加1V至100V、优选地10V至60V、特别优选地12V至30V的电压，借此电压来引起流过所述氧化介质的电流。
本发明还包括具有所构建的覆层的基板，该基板具有可氧化材料层，所述可氧化材料层通过至少一个氧化区而局部地被细分成至少两个相互电绝缘的区域。
因此，所述可氧化材料优选地是金属、半金属或合金，特别是从由铝、钽、铌、钛、钨、锆、硅及这些材料的合金组成的群组中选出来的，其优选为铝合金，特别优选为AlSi。
在本发明的基板的优选实施例中，所述基板用于太阳能电池，优选地用于背接触型太阳能电池。
此外，优选的是，所述可氧化材料层的层厚为0.01μm至10μm，优选为0.1μm至2μm，特别优选为0.3μm至1μm。
另一个优选实施例提供了如下特征：所述至少一个氧化区的宽度在朝着所述基板的方向上减小。因此，该宽度的减小依赖于层厚且也依赖于所设定的工艺参数，并且该宽度的减小高达20％。
在本发明的基板的另一个优选实施例中，所述可氧化材料层通过曲折状氧化区而被细分成两个相互电绝缘的区域。
此外，优选的是，所述可氧化材料层中的所述至少两个相互电绝缘的区域被至少一种其它的金属以电镀或化学的方式覆盖，所述至少一种其它的金属特别是从由锡、锌、镍、铜、银组成的群组中选出的。
在本发明的基板的另一个优选实施例中，所述基板是通过本发明的方法或本发明的方法的上述各变型中的一个变型而产生的。
本发明的基板可以特征在于，所述氧化区具有可氧化材料的氧化层或由可氧化材料的氧化层构成。优选地，所述氧化层的层厚为0.01μm至10μm，特别优选为0.1μm至2μm，进一步优选为0.3μm至1μm。特别地，所述基板是单片基板(monolithic substrate)。
所述至少一个氧化区的宽度能够为100μm以下，优选为10μm至100μm，特别优选为30μm至100μm。
附图说明
在不将本发明限制于这里所示的特定实施例的情况下，将参照随后的附图以及示例更详细地说明本发明。
图1示出了将铝层在电气上划分成两个区域的曲折状氧化铝层的示意图。
图2a示出了根据本发明方法的一个变型，其中使用了具有由化学惰性的导电材料制成的网状物的印模。这里，示出了在氧化过程之前(图2a中的1.)和在氧化过程中(图2a中的2.)的印模和基板的横截面。在图2b中，示出了根据本发明方法的另一个变型，其中使用了具有由化学稳定的不导电的海绵或毡制成的网状物的印模。这里，示出了在氧化过程之前(图2b中的1.)和在氧化过程中(图2b中的2.)的印模和基板的横截面。
图3a示出了根据本发明方法的一个变型，其中使用了具有作为对氧化介质有耐性的密封部的网状物的印模并且在氧化之前首先在可氧化材料层上涂敷氧化介质。这里，示出了在氧化过程之前(图3a中的1.)和在氧化过程中(图3a中的2.)的印模和基板的横截面。在图3b中，示出了根据本发明方法的另一个变型，其中使用了具有作为对氧化介质有耐性的密封部的网状物的印模并且在通过设置于印模内的通道而在可氧化材料层的要被氧化的区域上涂敷氧化介质。这里，示出了在氧化过程之前(图3b中的1.)和在氧化过程中(图3b中的2.)的印模和基板的横截面。在图3c中，示出了根据本发明方法的又一个变型，其中使用了导电喷嘴，氧化介质能够通过该导电喷嘴的喷嘴头而连续地冒出。这里，示出了在氧化过程中的喷嘴和基板的横截面。
图4示出了硅晶片上的铝层的切片截面的扫描电子显微照片，该铝层通过电化学氧化而被完全地彻底氧化。这里，很容易看到以阳极的方式产生的氧化铝层的典型气孔结构。
图5示出了完全氧化之后的基板。氧化区(在切片截面上而被观察)在表面处的宽度明显大于在与基板的界面处的宽度。因此，氧化区的宽度在朝着基板的方向上减小。该宽度的减小高达20％。
图6同样示出了完全氧化之后的、然而随后已经使氧化区分离的基板。这里能够清晰地看到，仍然位于铝层上的氧化铝保留着粘合状态。
图7示出了根据本发明方法的一个变型，其中该方法是丝网印刷法。图示了利用导电丝网的电气接触而进行的电化学处理。此外，在这个实施例中，计量装置(刮片)能够以电气的方式接触。
图8示出了根据本发明方法的另一个变型，其中该方法是丝网印刷法。图示了利用计量装置(刮片)的电气接触而进行的电化学处理。在这个实施例中，在使用导电丝网的情况下，丝网也能够以电气的方式接触。
具体实施方式
本发明的优选应用是构建用于接触式太阳能电池的金属层。这里，铝因为它有利的光学特性和电学特性而成为除了钛以外的令人们最感兴趣的材料。同样，以电解的方式而被产生的氧化铝层具有对太阳能电池工艺有利的性能，例如透明性和绝缘能力。此外，因为太阳能电池的结构，所以在具体改变这些特性时存在着简单的可能性。
在一个应用示例中，通过PVD(物理气相沉积)在太阳能电池上沉积0.5μm厚的铝层，该太阳能电池具有在硅晶片的两侧的整个表面上的n++pp+掺杂结构。随后，在太阳能电池的集光用n++侧上，涂敷硫酸以作为氧化介质。其后，在某个确定的压力下将由EPDM材料构成的所构建的印模压入为了与手指和采集器总线接触而设置的区域中。通过施加20V的电压，能够在几秒钟内使并非为了金属化而设置的区域完全氧化。随后，通过对边缘施加压缩空气流，能够除去由上述过程而获得的光学透明的氧化铝。在随后的浸锌工艺中，能够使太阳能电池的n++侧和p+侧都为随后的用镍、铜和银执行的电镀做好准备。
在另一个应用示例中，通过PVD在背接触型太阳能电池的所构建的n+扩散区域和p+扩散区域上的整个表面上沉积1μm厚的铝层。这里，该任务存在于p-掺杂区域和n-掺杂区域的电气分离中。
在与这个应用示例有关的第一个试验中，借助于不锈钢印模(参看图2)、利用硫酸在几秒钟内使设置成曲折状的p+区域和n+区域(参看图1)彼此电气分离(铝区域与铝区域之间的测量电阻是60kOhm)。随后，为了后续的利用镍、铜和锡而进行的电镀增厚(galvanicthickening)，利用浸锌工艺来制备这两个区域。
在与这个应用示例有关的第二个试验中，p+区域和n+区域以间断线的形式在太阳能电池上设置着。这些间断线往往通过布线电极而被连接，并且非常细且相应地在工厂工程方面很难接触。在第一步中，与应用示例1比较而言，具有与手指的外形对应的EPDM材料结构的印模在被硫酸润湿之后被压入到铝层中。通过施加电压，首先该1μm厚的铝层中只有上面的大约300nm被氧化。然后，尽管晶片完全浸入，但是选择性地只在被所述印模保护的区域上实现了后续的浸锌工艺。因为电流供应和电流分布受到了仍然未反应的铝层的帮助，所以镍、铜和银的电镀沉积在所有的指状结构的整个表面上是可能的。随后，能够在不必使用掩模的前提下使剩余的铝层完全氧化。因此，接触部的银层能够保护指状区域不被氧化。在第二个氧化步骤中，实现n+区域和p+区域的分离。

Claims (61)

1.一种用于构建可氧化材料层的方法，在所述方法中，利用至少一个氧化步骤使设置于基板上的至少一个可氧化材料层经历局部氧化，在所述局部氧化的情况下，对所述可氧化材料层中的至少一个选择区域进行氧化以使得所述可氧化材料层在最后一个氧化步骤之后通过在整个层厚上延伸的至少一个氧化区而被细分成相互电绝缘的区域，
其特征在于，所述可氧化材料层的所述氧化是利用氧化介质和用于计量所述氧化介质的计量装置而被实施的，在所述氧化过程中所述氧化介质既与所述计量装置接触又与所述可氧化材料层接触，并且所述计量装置与所述可氧化材料层之间被施加1V至100V的电压，凭借所述电压而引起流过所述氧化介质的电流。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述最后一个氧化步骤之后而被产生的所述氧化区具有可氧化材料的氧化层或由可氧化材料的氧化层构成，所述氧化层的层厚为0.01μm至10μm。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述氧化层的层厚为0.1μm至2μm。
4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述氧化层的层厚为0.3μm至1μm 。
5.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，将所述可氧化材料层氧化成使得所述至少一个氧化区的宽度为100μm以下。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，将所述可氧化材料层氧化成使得所述至少一个氧化区的宽度为10μm至100μm。
7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，将所述可氧化材料层氧化成使得所述至少一个氧化区的宽度为30μm至100μm。
8.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所施加的所述电压和由此引起的流过所述氧化介质的所述电流是脉冲式的。
9.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述氧化介质是导电液体介质。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述氧化介质是粘性的导电液体介质。
11.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述氧化介质是氧化酸。
12.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述氧化介质是硫酸、磷酸、草酸或铬酸。
13.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，将印模用作所述计量装置。
14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，所述印模是由化学惰性的导电材料制成的印模。
15.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，所述化学惰性的导电材料为钛、不锈钢或铂。
16.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，所述计量装置代表着阴极。
17.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，所述印模的表面具有网状物。
18.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，所述网状物由化学惰性的导电材料制成。
19.根据权利要求18所述的方法，其特征在于，所述化学惰性的导电材料为钛、不锈钢或铂。
20.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，所述印模在所述氧化之前首先被浸入所述氧化介质中，以使得所述网状物被所述氧化介质润湿且随后所述印模通过将所述网状物润湿的所述氧化介质而与所述可氧化材料层接触。
21.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，所述网状物由化学稳定的不导电的开孔海绵或者毡制成。
22.根据权利要求21所述的方法，其特征在于，所述海绵由海绵橡胶、乳胶泡沫或PUR泡沫构成。
23.根据权利要求21所述的方法，其特征在于，所述印模在所述氧化之前首先被浸入所述氧化介质中，以使得所述网状物吸取所述氧化介质且随后使所述印模与所述可氧化材料层接触。
24.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，所述网状物作为对所述氧化介质有耐性的密封部，所述氧化介质在所述氧化之前首先被涂敷到所述可氧化材料层上，随后使所述印模与所述可氧化材料层接触，由此，对所述氧化介质有耐性的所述密封部从所述可氧化材料层的不要被氧化的区域中取代所述氧化介质。
25.根据权利要求24所述的方法，其特征在于，所述网状物由三元乙丙橡胶构成。
26.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，所述网状物作为对所述氧化介质有耐性的密封部，在所述氧化之前首先使所述印模与所述可氧化材料层接触，且随后通过设置于所述印模内的通道将所述氧化介质涂敷到所述可氧化材料层的要被氧化的区域上。
27.根据权利要求26所述的方法，其特征在于，所述网状物由三元乙丙橡胶构成。
28.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述计量装置是导电喷嘴，所述氧化介质能够通过所述导电喷嘴的喷嘴头而连续冒出，在所述氧化过程中所述导电喷嘴在所述可氧化材料层的表面上被引导到各处。
29.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在所述最后一个氧化步骤之后，以电镀或化学的方式用至少一种其它的金属涂敷所述可氧化材料层中的至少两个相互电绝缘的区域，或至少部分地使所述可氧化材料层中的所述至少一个氧化区分离。
30.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在所述最后一个氧化步骤之后，以电镀或化学的方式用至少一种其它的金属涂敷所述可氧化材料层中的至少两个相互电绝缘的区域，且随后至少部分地使所述可氧化材料层中的所述至少一个氧化区分离。
31.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在所述至少一个氧化步骤中的两个氧化步骤之间，以电镀或化学的方式用至少一种其它的金属涂敷所述可氧化材料层中的非氧化区。
32.根据权利要求31所述的方法，其特征在于，在所述最后一个氧化步骤之后，至少部分地使所述可氧化材料层中的所述至少一个氧化区分离。
33.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述方法是从由瞬时印刷法、凸版印刷法、凹版印刷法、平版印刷法和孔版印刷法组成的群组中选出的。
34.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述方法是从由分配法和丝网印刷法组成的群组中选出的。
35.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述方法是丝网印刷法。
36.根据权利要求35所述的方法，其特征在于，所述计量装置包括刮片或由刮片构成。
37.根据权利要求35所述的方法，其特征在于，在所述方法中使用了导电丝网。
38.根据权利要求37所述的方法，其特征在于，在所述丝网与所述可氧化材料层之间施加1V至100V，凭借所述电压而引起流过所述氧化介质的电流。
39.根据权利要求38所述的方法，其特征在于，在所述丝网与所述可氧化材料层之间施加10V至60V的电压。
40.根据权利要求38所述的方法，其特征在于，在所述丝网与所述可氧化材料层之间施加12V至30V的电压。
41.一种具有所构建的覆层的基板，所述基板具有可氧化材料层，所述可氧化材料层通过至少一个氧化区而被局部地细分成至少两个相互电绝缘的区域，其特征在于，所述基板是按照权利要求1至33中任一项所述的方法而被制造的。
42.根据权利要求41所述的基板，其特征在于，所述可氧化材料是金属、半金属或合金。
43.根据权利要求42所述的基板，其特征在于，所述可氧化材料是从由铝、钽、铌、钛、钨、锆、硅及这些材料的合金组成的群组中选出的。
44.根据权利要求42所述的基板，其特征在于，所述可氧化材料是铝合金。
45.根据权利要求42所述的基板，其特征在于，所述可氧化材料是AlSi。
46.根据权利要求41或42所述的基板，其特征在于，所述基板用于太阳能电池。
47.根据权利要求46所述的基板，其特征在于，所述基板用于背接触型太阳能电池。
48.根据权利要求41或42所述的基板，其特征在于，所述可氧化材料层的层厚为0.01μm至10μm。
49.根据权利要求48所述的基板，其特征在于，所述可氧化材料层的层厚为0.1μm至2μm。
50.根据权利要求48所述的基板，其特征在于，所述可氧化材料层的层厚为0.3μm至1μm。
51.根据权利要求41或42所述的基板，其特征在于，所述至少一个氧化区的宽度在朝着所述基板的方向上减小。
52.根据权利要求41或42所述的基板，其特征在于，所述可氧化材料层通过曲折状氧化区而被细分成两个相互电绝缘的区域。
53.根据权利要求41或42所述的基板，其特征在于，所述可氧化材料层中的所述至少两个相互电绝缘的区域被至少一种其它的金属以电镀或化学的方式涂敷。
54.根据权利要求53所述的基板，其特征在于，所述至少一种其它的金属是从由锡、锌、镍、铜、银组成的群组中选出的。
55.根据权利要求41或42所述的基板，其特征在于，所述氧化区具有可氧化材料的氧化层或由可氧化材料的氧化层构成。
56.根据权利要求55所述的基板，其特征在于，所述氧化层的层厚为0.01μm至10μm。
57.根据权利要求55所述的基板，其特征在于，所述氧化层的层厚为0.1μm至2μm。
58.根据权利要求55所述的基板，其特征在于，所述氧化层的层厚为0.3μm至1μm。
59.根据权利要求41或42所述的基板，其特征在于，所述至少一个氧化区的宽度为100μm以下。
60.根据权利要求59所述的基板，其特征在于，所述至少一个氧化区的宽度为10μm至100μm。
61.根据权利要求59所述的基板，其特征在于，所述至少一个氧化区的宽度为30μm至100μm。
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