CN105630233B - 触控显示装置及其制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开了一种触控显示装置及其制作方法，所述触控显示装置包括：显示基板、第一触控电极层、第二触控电极层、上偏光片以及盖板，其中，显示基板包括相对设置的阵列基板和彩色滤光基板以及夹置于阵列基板与彩色滤光基板之间的液晶层；第一触控电极层位于彩色滤光基板远离阵列基板的第二表面，第一触控电极层包括多条沿第一方向延伸的第一电极；上偏光片位于第一触控电极层上方，盖板位于上偏光片上方，盖板具有上表面和与上表面相对的下表面；第二触控电极层位于盖板的面对上偏光片的下表面，第二触控电极层包括多条沿第二方向延伸的第二电极。本发明的触控显示装置及其制作方法制作简单，并能够提升产品的良率。

Description

触控显示装置及其制作方法

技术领域

本发明涉及触控显示技术领域，特别涉及一种触控显示装置及其制作方法。

背景技术

现有的触控显示装置的触控技术主要有外挂式、单玻璃触控式(One GlassSolution，OGS)、内嵌式(In cell)和外嵌式(On cell)等技术。外挂式的触控显示装置由于触摸屏与显示面板是相互独立设置，产品厚度较大，不能满足一些掌上设备和便携式设备的超薄要求，已经被逐渐淘汰。OGS的触控显示装置是将触控感测层与保护玻璃整合在一起再通过光学胶贴合在显示面板上，具有触控灵敏度高等优点，是目前的主流触控技术之一，主要的缺点是强度不好易碎。In Cell的触控显示装置是将触控感测层集成到显示面板的彩色滤光基板内侧，但In Cell的触控显示装置因结构、制程均比较复杂而导致其生产良率较低。On Cell的触控显示装置是将触控感测层设置在显示面板的彩色滤光基板外侧，也是目前的主流触控技术之一。

图1是现有的一种On Cell的触控显示装置的局部剖面结构示意图。如图1所示，触控显示装置10包括阵列基板11，彩色滤光基板12及夹置于阵列基板11和彩色滤光基板12之间的液晶层14。触控感测层13设置在彩色滤光基板12远离阵列基板11一侧的表面，包括第一触控电极层13a和设于第一触控电极层13a上的第二触控电极层13b。制作第一触控电极层13a和第二触控电极层13b时均需要镀膜操作，目前镀膜所用材料通常为氧化铟锡(Indium Tin Oxides，ITO)等透明导电材料，在镀完第一层膜后，需要蚀刻清洗形成第一触控电极层13a，清洗完成后再在第一层膜表面镀第二层膜，并对第二层膜进行蚀刻清洗以形成第二触控电极层13b，并且在此过程中需要至少4道光照，成本较高；如果是多层触控感测层13则需要进行多次镀膜。并且上述触控显示装置需要对相叠加的两层膜进行蚀刻清洗，如此会增加触控感测层13线路断裂的风险，因此良率很低。如果一层触控感测层13走线断裂，则会造成整个显示装置不良。另外如果蚀刻清洗不干净也会影响触控感测功能，同样会使产品不良，从而造成成本增加。

发明内容

本发明提供一种触控显示装置及其制作方法，制作简单，并能够提升产品的良率，极大地降低成本。

所述技术方案如下：

本发明实施例提供了一种触控显示装置，其包括：显示基板、第一触控电极层、第二触控电极层、上偏光片以及盖板，其中，所述显示基板包括相对设置的阵列基板和彩色滤光基板以及夹置于所述阵列基板与所述彩色滤光基板之间的液晶层，所述彩色滤光基板位于所述阵列基板上方，所述彩色滤光基板具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面，所述第一表面面对所述阵列基板，所述第二表面远离所述阵列基板；所述第一触控电极层位于所述彩色滤光基板远离所述阵列基板的第二表面，所述第一触控电极层包括多条沿第一方向延伸的第一电极；所述上偏光片位于所述第一触控电极层上方，所述盖板位于所述上偏光片上方，所述盖板具有上表面和与所述上表面相对的下表面，所述上表面远离所述上偏光片，所述下表面面对所述上偏光片；所述第二触控电极层位于所述盖板的面对所述上偏光片的下表面，所述第二触控电极层包括多条沿第二方向延伸的第二电极。

在本发明的一个实施例中，沿第一方向延伸的第一电极和沿第二方向延伸的第二电极互相交叉形成网格结构。

在本发明的一个实施例中，所述第一电极和所述第二电极采用ITO、IZO、金属材料、金属氧化物、奈米银、奈米铜、聚乙撑二氧噻吩、奈米碳管、导电高分子材料或石墨烯材料制成。

在本发明的一个实施例中，所述触控显示装置还包括设置于所述第一触控电极层上的第一绝缘层，所述第一绝缘层覆盖住所述第一触控电极层的第一电极。

在本发明的一个实施例中，所述触控显示装置还包括设置于所述第二触控电极层上的第二绝缘层，所述第二绝缘层覆盖住所述第二触控电极层的第二电极。

在本发明的一个实施例中，所述盖板设置有第二电极的下表面与所述上偏光片之间、所述上偏光片与所述彩色滤光基板设置有第一电极的第二表面之间通过光学胶进行对位贴合或直接进行对位压合。

在本发明的一个实施例中，所述触控显示装置还包括柔性电路板和与所述柔性电路板相连的触控芯片，所述柔性电路板包括两部分，分别绑定在所述盖板和所述彩色滤光基板上，所述第一电极通过引线连接到所述盖板上的柔性电路板的绑定端，所述盖板上的柔性电路板的绑定端还与所述触控芯片相连，所述第二电极通过引线连接到所述彩色滤光基板上的柔性电路板的绑定端，所述彩色滤光基板上的柔性电路板的绑定端还与所述触控芯片相连。

本发明实施例提供了一种触控显示装置的制作方法，其包括：提供显示基板，所述显示基板包括相对设置的阵列基板和彩色滤光基板以及夹设于所述阵列基板和所述彩色滤光基板之间的液晶层；所述彩色滤光基板位于所述阵列基板上方，所述彩色滤光基板具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面，所述第一表面面对所述阵列基板，所述第二表面远离所述阵列基板；在所述显示基板的彩色滤光基板的第二表面形成第一触控电极层的第一电极；以及在盖板的面对上偏光片的下表面形成第二触控电极层的第二电极，将所述上偏光片设置于所述第一触控电极层上方，将所述盖板设置于所述上偏光片上方。

进一步地，在所述显示基板的彩色滤光基板的第二表面形成第一触控电极层的第一电极包括：

先在所述彩色滤光基板的第二表面溅射薄膜层；再在所述薄膜层上涂布光刻胶以将薄膜层覆盖住，然后对所述光刻胶进行曝光以暴露出部分薄膜层；再对所述光刻胶显影并硬化；再蚀刻暴露出的部分薄膜层，形成薄膜层的电极图形；去除所述光刻胶，形成所述第一电极；或

将制作所述第一电极的材料加在一张有细孔的网布上，材料穿过细孔印到网布下面的所述彩色滤光基板的第二表面，以形成所述第一电极；或

将制作所述第一电极的材料放在所述彩色滤光基板的第二表面，在压力作用下使材料形状发生变化，从而在所述彩色滤光基板的第二表面形成所述第一电极；或

将鼓面上所形成的第一电极图形转移到彩色滤光基板的第二表面上而形成所述第一电极；或

将第一电极图形涂到彩色滤光基板的第二表面而形成所述第一电极。

进一步地，还包括：将所述盖板设置有所述第二电极的下表面与所述上偏光片之间、所述上偏光片与所述彩色滤光基板设置有所述第一电极的第二表面之间通过光学胶进行对位贴合或直接进行对位压合。

本发明实施例提供的技术方案带来的有益效果是：

通过将第一触控电极层设置于彩色滤光基板远离阵列基板的第二表面，并且第一触控电极层包括多条沿第一方向延伸的第一电极，将第二触控电极层设置于盖板的面对上偏光片的下表面，第二触控电极层包括多条沿第二方向延伸的第二电极。由于将第一电极和第二电极分别制作在彩色滤光基板和盖板上，第一电极和第二电极两者分开制作后，感应与驱动的耦合面积加大，触控性能更好，并且简化了镀膜方式，制作工序简单，同时也会大幅度降低镀膜、蚀刻所带来的电极断裂的风险，生产良率更高，并能够极大地降低成本。

上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。

附图说明

图1A是现有的一种触控显示装置的局部剖面结构示意图；

图2A是本发明第一实施例提供的触控显示装置的局部剖面结构示意图；

图2B是图2A的触控显示装置的第一电极的示意图；

图2C是图2A的触控显示装置的第二电极的示意图；

图2D是图2A的触控显示装置的第一电极和第二电极的关系示意图；

图3是本发明第二实施例提供的触控显示装置的结构示意图；

图4是本发明第三实施例提供的触控显示装置的制作方法的流程图。

具体实施方式

为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的触控显示装置及其制作方法其具体实施方式、结构、特征及功效，详细说明如后。

有关本发明的前述及其他技术内容、特点及功效，在以下配合参考图式的较佳实施例详细说明中将可清楚的呈现。通过具体实施方式的说明，当可对本发明为达成预定目的所采取的技术手段及功效得以更加深入且具体的了解，然而所附图式仅是提供参考与说明之用，并非用来对本发明加以限制。

第一实施例

图2A是本发明第一实施例提供的触控显示装置的局部结构示意图。图2B是图2A的触控显示装置的第一电极的示意图。图2C是图2A的触控显示装置的第二电极的示意图。图2D是图2A的触控显示装置的第一电极和第二电极的关系示意图。所述触控显示装置制作简单，并能够提升产品的良率，极大地降低成本，请参考图2A-2D，本实施例的触控显示装置100是On Cell型的触控式液晶显示装置(Liquid Crystal Display，LCD)，但并不以此为限，例如也可以是触控式主动矩阵有机发光二极管(Active Matrix Organic LightEmitting Diode，AMOLED)显示装置。本实施例的触控显示装置包括：显示基板110、第一触控电极层120、第二触控电极层130、上偏光片140以及盖板150。

显示基板110，例如是包括相对设置的阵列基板111和彩色滤光基板113以及夹置于阵列基板111与彩色滤光基板113之间的液晶层112，阵列基板111上设置有数据线、扫描线、薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)阵列和透明保护层等本领域技术人员较为熟知的结构，在此不再赘述。

彩色滤光基板113位于阵列基板111上方，彩色滤光基板113具有第一表面132和与第一表面132相对的第二表面134，第一表面132面对阵列基板111，第二表面134远离阵列基板111。

第一触控电极层120位于彩色滤光基板113远离阵列基板111的第二表面134。第一触控电极层120包括多条沿第一方向(例如横向)延伸的第一电极121，第一电极121呈条状，按第一方向平行排列，每一横条为一个第一电极121(如图2B所示)。第一电极121例如是采用ITO、氧化铟锌(IZO)、金属材料、金属氧化物、奈米银(silver nano wire)、奈米铜、聚乙撑二氧噻吩(PEDOT)、奈米碳管、导电高分子材料或石墨烯等材料制成。在实际制造中，可以在彩色滤光基板113上使用溅镀工艺形成第一薄膜层，再对第一薄膜层进行蚀刻处理，形成多个第一电极121。优选地，触控显示装置还包括设置于第一触控电极层120上的第一绝缘层122，第一绝缘层122覆盖住第一触控电极层120的第一电极121，第一绝缘层122对第一触控电极层120起到保护作用，优选地，第一绝缘层122可以采用有机光阻等材料制成。需要说明的是，在其它实施例中，第一电极121也可以是沿竖向(例如第二方向)延伸，并且每一竖条为一个第一电极121。

上偏光片140位于第一触控电极层120上方，优选地，上偏光片140位于第一绝缘层122上方。盖板150位于上偏光片140上方，盖板150具有上表面151和与上表面151相对的下表面153，上表面151远离上偏光片140，下表面153面对上偏光片140。

第二触控电极层130位于盖板150的面对上偏光片140的下表面153。第二触控电极层130包括多条沿第二方向(例如竖向)延伸的第二电极131，第二电极131呈条状，按第二方向平行排列，每一竖条为一个第二电极131(如图2C所示)。第二电极131例如是采用ITO、氧化铟锌(IZO)、金属材料、金属氧化物、奈米银(silver nano wire)、奈米铜、聚乙撑二氧噻吩(PEDOT)、奈米碳管、导电高分子材料或石墨烯等材料制成，沿第一方向延伸的第一电极121和沿第二方向延伸的第二电极131互相交叉形成网格结构，即第一电极121和第二电极131位于不同层上，且第一电极121和第二电极131互相交叉，例如可以互相垂直(如图2D所示)。第一电极121和第二电极131可以为感应电极或驱动电极，相应的，第一电极121和第二电极131也可以为驱动电极或感应电极，即第一电极121和第二电极131是驱动电极和感应电极中的相异者，也就是说，若第一电极121为感应电极，则第二电极131就为驱动电极，反之，若第一电极121为驱动电极，则第二电极131就为感应电极。在实际制造中，可以在盖板150上使用溅镀工艺形成第二薄膜层，再对第二薄膜层进行蚀刻处理，形成多个第二电极131。优选地，触控显示装置还包括设置于第二触控电极层130上的第二绝缘层132，第二绝缘层132覆盖住第二触控电极层130的第二电极131，第二绝缘层132对第二触控电极层130起到保护作用，优选地，第二绝缘层132也可以采用有机光阻等材料制成。需要说明的是，在其它实施例中，第二电极131也可以是沿横向(例如第一方向)延伸，并且每一横条为一个第二电极131。

本发明实施例中的第一电极和第二电极两者分开制作后，感应与驱动的耦合面积加大，触控性能更好，并且简化了镀膜方式，制作工序简单，同时也会大幅度降低镀膜、蚀刻所带来的电极断裂的风险，生产良率更高，并能够极大地降低成本。例如若本发明实施例中的第一电极出现问题，但第二电极制作时没有问题，则只需要重新制作第二电极即可使整个触控显示装置功能正常，综合以上可知本发明实施例的显示装置的良率要比现有的触控显示装置好很多，因现有的两层触控电极层都镀在彩色滤光基板上，只要一层触控电极层出现问题则整个触控显示装置功能就会失效。

优选地，盖板150设置有第二电极131的下表面153与上偏光片140之间、上偏光片140与彩色滤光基板113设置有第一电极121的第二表面134之间可以通过光学胶进行对位贴合或直接进行对位压合。

综上所述，本实施例提供的触控显示装置，通过将第一触控电极层设置于彩色滤光基板远离阵列基板的第二表面，并且第一触控电极层包括多条沿第一方向延伸的第一电极，将第二触控电极层设置于盖板的面对上偏光片的下表面，第二触控电极层包括多条沿第二方向延伸的第二电极。由于将第一电极和第二电极分别制作在彩色滤光基板和盖板上，第一电极和第二电极两者分开制作后，感应与驱动的耦合面积加大，触控性能更好，并且简化了镀膜方式，制作工序简单，同时也会大幅度降低镀膜、蚀刻所带来的电极断裂的风险，生产良率更高，并能够极大地降低成本。

第二实施例

图3是本发明第二实施例提供的触控显示装置的结构示意图。本实施例与图2的不同之处在于：所述触控显示装置还包括柔性电路板160和与柔性电路板160相连的触控芯片170。

其中，柔性电路板160包括两部分，分别绑定在盖板150和彩色滤光基板113上，第一电极121通过引线连接到盖板150上的柔性电路板160的绑定端，盖板150上的柔性电路板160的绑定端还与触控芯片170相连。第二电极131通过引线连接到彩色滤光基板113上的柔性电路板160的绑定端，彩色滤光基板113上的柔性电路板160的绑定端还与触控芯片170相连。触控芯片170用于控制和采集第一电极121和第二电极131上传输的触控信号。

综上所述，本实施例提供的触控显示装置，还通过将柔性电路板160分为分别绑定在盖板150和彩色滤光基板113上的两部分，第一电极121通过引线连接到盖板150上的柔性电路板160的绑定端，盖板150上的柔性电路板160的绑定端还与触控芯片170相连。第二电极131通过引线连接到彩色滤光基板113上的柔性电路板160的绑定端，彩色滤光基板113上的柔性电路板160的绑定端还与触控芯片170相连，从而便于触控芯片对第一电极121和第二电极131上传输的信号进行控制。

以下为本发明的方法实施例，在方法实施例中未详尽描述的细节，可以参考上述对应的装置实施例。

第三实施例

图4是本发明第三实施例提供的如图2A的触控显示装置的制作方法的流程图。请参考图4，本实施例的触控显示装置的制作方法，包括以下步骤401-405。

步骤401，制作显示基板110。本实施例中，显示基板110包括相对设置的阵列基板111和彩色滤光基板113以及夹设于阵列基板111和彩色滤光基板113之间的液晶层112，但并不以此为限。阵列基板111的制作步骤包括数据线、扫描线、薄膜晶体管(Thin FilmTransistor，TFT)阵列和透明保护层等结构的制作步骤，在此不再赘述。

彩色滤光基板113设置在阵列基板111上方，本实施例中，彩色滤光基板113设置在液晶层112上。彩色滤光基板113具有面对阵列基板111的第一表面132以及远离阵列基板111的且与第一表面132相对的第二表面134。

步骤403，在显示基板110的彩色滤光基板113的第二表面134形成第一触控电极层120的第一电极121。具体的，本步骤形成第一触控电极层120的第一电极121还可包括：先在彩色滤光基板113的第二表面134溅射薄膜层。再在薄膜层上涂布光刻胶以将薄膜层覆盖住，然后对光刻胶进行曝光以暴露出部分薄膜层，即在光刻胶上光刻电极图形，以暴露出需要蚀刻的薄膜层。再对光刻胶显影并硬化。再蚀刻暴露出的部分薄膜层，形成薄膜层的电极图形。去除光刻胶，形成第一电极121。其中，第一电极121呈条状，按第一方向(例如横向)平行排列，每一横条为一个第一电极121。第一电极121例如是ITO、氧化铟锌(IZO)、金属材料、金属氧化物、奈米银(silver nano wire)、奈米铜、聚乙撑二氧噻吩(PEDOT)、奈米碳管、导电高分子材料或石墨烯等材料制成。优选地，本步骤还可包括：在第一触控电极层120的第一电极121上覆盖第一绝缘层122，第一绝缘层122对第一触控电极层120起到保护作用。具体地，可以通过显影、烘烤等方式将第一绝缘层覆盖在第一电极121上。优选地，第一绝缘层122可以采用有机光阻等材料制成。需要说明的是，在其它实施例中，第一电极121也可以是沿竖向(例如第二方向)延伸，并且每一竖条为一个第一电极121。需要说明的是，本步骤形成第一触控电极层120的第一电极121并不限定为上述方法，在其它实施例中，还可以采用网版印刷(screen printing)、压印、转印、涂布等技术制作第一电极121。网版印刷是将制作第一电极121的材料加在一张有细孔的网布上，材料穿过细孔印到网布下面的彩色滤光基板113的第二表面134上，以形成第一电极121，不需要印刷的部位则布满乳剂使材料无法穿透。压印是将制作第一电极121的材料放在彩色滤光基板113的第二表面134，在压力作用下使材料形状发生变化，从而在彩色滤光基板113的第二表面134形成第一电极121。转印是将鼓面上所形成的第一电极121图形转移到彩色滤光基板113的第二表面134上而形成第一电极121。涂布是将第一电极121图形涂到彩色滤光基板113的第二表面134而形成第一电极121。

步骤405，在盖板150的面对上偏光片140的下表面153形成第二触控电极层130的第二电极131，将上偏光片140设置于第一触控电极层上方，将盖板150设置于上偏光片140上方。具体的，本步骤形成第二触控电极层130的第二电极131还可包括：先在盖板150的下表面153溅射薄膜层。再在薄膜层上涂布光刻胶以将薄膜层覆盖住，然后对光刻胶进行曝光以暴露出部分薄膜层，即在光刻胶上光刻电极图形，以暴露出需要蚀刻的薄膜层。再对光刻胶显影并硬化。再蚀刻暴露出的部分薄膜层，形成薄膜层的电极图形。去除光刻胶，形成第二电极131。需要说明的是，本步骤形成第二触控电极层130的第二电极131并不限定为上述方法，在其它实施例中，还可以采用网版印刷(screen printing)、压印、转印、涂布等技术制作第二电极131。网版印刷是将制作第二电极131的材料加在一张有细孔的网布上，材料穿过细孔印到网布下面的盖板150下表面上，以形成第二电极131，不需要印刷的部位则布满乳剂使材料无法穿透。压印是将制作第二电极131的材料放在盖板150的下表面，在压力作用下使材料形状发生变化，从而在盖板150下表面形成第二电极131。转印是将鼓面上所形成的第二电极131图形转移到盖板150下表面上而形成第二电极131。涂布是将第二电极131图形涂到盖板150的下表面153而形成第二电极131。

本发明实施例中，因第一电极121和第二电极131分别制作在彩色滤光基板113和盖板150上，因此不会出现线路断裂的问题，并且制作第一电极121和第二电极131时需要分别蚀刻一次，只需要两道光照即可完成蚀刻，操作也比较简单。其中，第二电极131呈条状，按第二方向(例如竖向)平行排列，每一竖条为一个第二电极131。第二电极131例如是ITO、氧化铟锌(IZO)、金属材料、金属氧化物、奈米银(silver nano wire)、奈米铜、聚乙撑二氧噻吩(PEDOT)、奈米碳管、导电高分子材料或石墨烯等材料制成，沿第一方向延伸的第一电极121和沿第二方向延伸的第二电极131互相交叉形成网格结构，即第一电极121和第二电极131位于不同层上，且第一电极121和第二电极131互相交叉，例如可以互相垂直。第一电极121和第二电极131可以为感应电极或驱动电极，相应的，第一电极121和第二电极131也可以为驱动电极或感应电极，即第一电极121和第二电极131是驱动电极和感应电极中的相异者，也就是说，若第一电极121为感应电极，则第二电极131就为驱动电极，反之，若第一电极121为驱动电极，则第二电极131就为感应电极。优选地，本步骤还可包括：在第二触控电极层130的第二电极131上覆盖第二绝缘层132，第二绝缘层132对第二触控电极层130起到保护作用，具体地，可以通过显影、烘烤等方式将第二绝缘层覆盖在第二电极131上。优选地，第二绝缘层132可以采用有机光阻等材料制成。需要说明的是，在其它实施例中，第二电极131也可以是沿横向(例如第一方向)延伸，并且每一横条为一个第二电极131。

其中，步骤403和步骤405可进行顺序互换或同时进行。

优选地，该方法，还包括：将盖板150设置有第二电极131的下表面153与上偏光片140之间、上偏光片140与彩色滤光基板113设置有第一电极121的第二表面134之间通过光学胶进行对位贴合(也可称为采用全贴合方法进行对位贴合)或直接进行对位压合(也可称为采用框贴合方法直接进行对位压合)。具体地，全贴合时可以通过光学胶将盖板150设置有第二电极131的下表面153与上偏光片140之间、上偏光片140与彩色滤光基板113设置有第一电极121的第二表面134之间进行对位贴合。具体地，框贴合时可以采用压合设备将盖板150设置有第二电极131的下表面153、上偏光片140、与彩色滤光基板113设置有第一电极121的第二表面134之间进行对位压合，而彩色滤光基板113、上偏光片140与盖板150的外周采用框胶进行粘贴。

优选地，该方法，还包括：将柔性电路板160的两部分分别通过热压等方式绑定在盖板150和彩色滤光基板113上，将第一电极121通过引线连接到盖板150上的柔性电路板160的绑定端，盖板150上的柔性电路板160的绑定端还与触控芯片170相连。将第二电极131通过引线连接到彩色滤光基板113上的柔性电路板160的绑定端，彩色滤光基板113上的柔性电路板160的绑定端还与触控芯片170相连。触控芯片170用于控制和采集第一电极121和第二电极131上传输的触控信号。

综上所述，本发明实施例提供的液晶显示装置信号传输方法，通过将第一触控电极层设置于彩色滤光基板远离阵列基板的第二表面，并且第一触控电极层包括多条沿第一方向延伸的第一电极，将第二触控电极层设置于盖板的面对上偏光片的下表面，第二触控电极层包括多条沿第二方向延伸的第二电极。由于将第一电极和第二电极分别制作在彩色滤光基板和盖板上，第一电极和第二电极两者分开制作后，感应与驱动的耦合面积加大，触控性能更好，并且简化了镀膜方式，制作工序简单，同时也会大幅度降低镀膜、蚀刻所带来的电极断裂的风险，生产良率更高，并能够极大地降低成本。

还通过将柔性电路板160分为分别绑定在盖板150和彩色滤光基板113上的两部分，第一电极121通过引线连接到盖板150上的柔性电路板160的绑定端，盖板150上的柔性电路板160的绑定端还与触控芯片170相连。第二电极131通过引线连接到彩色滤光基板113上的柔性电路板160的绑定端，彩色滤光基板113上的柔性电路板160的绑定端还与触控芯片170相连，从而便于触控芯片对第一电极121和第二电极131上传输的信号进行控制。

以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容做出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (7)

1.一种触控显示装置，其特征在于，其包括：显示基板、第一触控电极层、第二触控电极层、上偏光片以及盖板，其中，

所述显示基板包括相对设置的阵列基板和彩色滤光基板以及夹置于所述阵列基板与所述彩色滤光基板之间的液晶层，所述彩色滤光基板位于所述阵列基板上方，所述彩色滤光基板具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面，所述第一表面面对所述阵列基板，所述第二表面远离所述阵列基板；

所述第一触控电极层位于所述彩色滤光基板远离所述阵列基板的第二表面，所述第一触控电极层包括多条沿第一方向延伸的第一电极；

所述上偏光片位于所述第一触控电极层上方，所述盖板位于所述上偏光片上方，所述盖板具有上表面和与所述上表面相对的下表面，所述上表面远离所述上偏光片，所述下表面面对所述上偏光片；

所述第二触控电极层位于所述盖板的面对所述上偏光片的下表面，所述第二触控电极层包括多条沿第二方向延伸的第二电极；

其中，所述触控显示装置还包括设置于所述第一触控电极层上的第一绝缘层，所述第一绝缘层覆盖住所述第一触控电极层的第一电极，所述触控显示装置还包括设置于所述第二触控电极层上的第二绝缘层，所述第二绝缘层覆盖住所述第二触控电极层的第二电极；

所述触控显示装置还包括柔性电路板和与所述柔性电路板相连的触控芯片，所述柔性电路板包括两部分，分别绑定在所述盖板和所述彩色滤光基板上，所述第一电极通过引线连接到所述盖板上的柔性电路板的绑定端，所述盖板上的柔性电路板的绑定端还与所述触控芯片相连，所述第二电极通过引线连接到所述彩色滤光基板上的柔性电路板的绑定端，所述彩色滤光基板上的柔性电路板的绑定端还与所述触控芯片相连。

2.根据权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，所述沿第一方向延伸的第一电极和沿第二方向延伸的第二电极互相交叉形成网格结构。

3.根据权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，所述第一电极和所述第二电极采用金属材料、金属氧化物、奈米银、奈米铜、聚乙撑二氧噻吩、奈米碳管、导电高分子材料或石墨烯材料制成。

4.根据权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，所述盖板设置有所述第二电极的下表面与所述上偏光片之间、所述上偏光片与所述彩色滤光基板设置有所述第一电极的第二表面之间通过光学胶进行对位贴合或直接进行对位压合。

5.一种触控显示装置的制作方法，其特征在于，其包括：

提供显示基板，所述显示基板包括相对设置的阵列基板和彩色滤光基板以及夹设于所述阵列基板和所述彩色滤光基板之间的液晶层；所述彩色滤光基板位于所述阵列基板上方，所述彩色滤光基板具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面，所述第一表面面对所述阵列基板，所述第二表面远离所述阵列基板；

在所述显示基板的彩色滤光基板的第二表面形成第一触控电极层的第一电极，在所述第一触控电极层的第一电极上覆盖第一绝缘层；以及

在盖板的面对上偏光片的下表面形成第二触控电极层的第二电极，在所述第二触控电极层的第二电极上覆盖第二绝缘层，将所述上偏光片设置于所述第一触控电极层上方，将所述盖板设置于所述上偏光片上方；

提供柔性电路板，所述柔性电路板包括两部分，将所述柔性电路板的两部分分别绑定在所述盖板和所述彩色滤光基板上，将所述第一电极通过引线连接到所述盖板上的柔性电路板的绑定端，将所述第二电极通过引线连接到所述彩色滤光基板上的柔性电路板的绑定端；

提供触控芯片，将所述盖板上的柔性电路板的绑定端与所述触控芯片相连，将所述彩色滤光基板上的柔性电路板的绑定端与所述触控芯片相连。

6.根据权利要求5所述的触控显示装置的制作方法，其特征在于，在所述显示基板的彩色滤光基板的第二表面形成第一触控电极层的第一电极包括：

先在所述彩色滤光基板的第二表面溅射薄膜层；再在所述薄膜层上涂布光刻胶以将薄膜层覆盖住，然后对所述光刻胶进行曝光以暴露出部分薄膜层；再对所述光刻胶显影并硬化；再蚀刻暴露出的部分薄膜层，形成薄膜层的电极图形；去除所述光刻胶，形成所述第一电极；或

将制作第一电极的材料加在一张有细孔的网布上，材料穿过细孔印到网布下面的彩色滤光基板的第二表面，以形成所述第一电极；或

将制作第一电极的材料放在彩色滤光基板的第二表面，在压力作用下使材料形状发生变化，从而在彩色滤光基板的第二表面形成所述第一电极；或

将鼓面上所形成的第一电极图形转移到彩色滤光基板的第二表面上而形成所述第一电极；或

将第一电极图形涂到彩色滤光基板的第二表面而形成所述第一电极。

7.根据权利要求5所述的触控显示装置的制作方法，其特征在于，还包括：

将所述盖板设置有所述第二电极的下表面与所述上偏光片之间、所述上偏光片与所述彩色滤光基板设置有所述第一电极的第二表面之间通过光学胶进行对位贴合或直接进行对位压合。