CN105621883A - 一种液晶基板玻璃及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种液晶基板玻璃及其制备方法，以质量分数计，所述液晶基板玻璃包括：SiO₂：54～70％；Al₂O₃：13～18％；B₂O₃：9～12％；MgO：0.5～2％；CaO：6～10％；SrO：1.05～3％；BaO：0.2～1％；K₂O：0.01～0.5％；Na₂O：0.016～0.059％；ZnO：0.002～2％；SnO₂：0.16～0.3％；Zr0₂：0.02～0.05％；Fe₂O₃：0.001～0.01％。本发明通过研究液晶基板玻璃的成分，调整其组成，使析晶温度区间下降，消除玻璃滞留层，可以改善成型区析晶的产生。

Description

一种液晶基板玻璃及其制备方法

技术领域

本发明属于液晶基板玻璃技术领域，具体涉及一种液晶基板玻璃及其制备方法。

背景技术

LCD玻璃基板(GlassSubstrate)指的是液晶显示器用玻璃基板，一块液晶面板需要两片玻璃基板，其中一片使用在彩色滤光片中，一片使用在透明电极上面。

在制备TFT-LCD面板时，需要在玻璃基板的一个表面制作各种膜、电路和图形，首先要通过溅射、化学气相沉淀(CVD)等技术在基板玻璃表面形成透明导电膜、绝缘膜、半导体(多晶硅、无定型硅等)膜及金属膜，然后通过光蚀刻技术形成各种电路和图形。在膜沉积和光蚀刻阶段，玻璃基板要经受各种热处理和化学作用，其中半导体膜的形成过程要经受500～600℃高温处理。一般地，用作TFT型液晶显示基板的玻璃应满足如下性质要求：

玻璃中基本不含碱金属氧化物，在高温处理过程中，碱金属离子会扩散到半导体膜层，损害半导体膜的性能。

由于基板玻璃需经大量试剂清洗和蚀刻，为避免玻璃中成分的析出，玻璃必须具有高的化学稳定性，特别是具有强的耐酸、碱性能。

玻璃具有与多晶硅和无定形硅材料相匹配的膨胀系数，其最佳值为(25～40)×10^-7/℃，二者之间的差异一般不应超过20％。

玻璃具有较低的密度，特别是对于大尺寸平板显示器，希望尽量减轻玻璃基板的重量。

对于大尺寸LCD玻璃基板，厚度在0.7mm或0.5mm时基板面积达到1㎡～2㎡，或更大的尺寸。为防止玻璃薄板在运输、加工过程中由于重力原因造成玻璃下垂变形以及破碎等，必须提高玻璃基板的抗弯强度，使基板玻璃受外力或自身重力时不发生形变或发生较小的形变。

此外，为了适应液晶显示器不断向大尺寸、高清晰度、高亮度等方向发展，对TFT-LCD液晶基板玻璃提出更多的优秀性能。

由于LCD的显示采用“背透式”照射方式，背光源发光的利用率受到液晶材料角度、滤色板等有机染料影响，背光源的发光利用率不高，亮度显著不如CRT、PDP和OLED等显示技术，因此，提高光源利用率以达到提升亮度一直是液晶显示器致力发展的方向。所以，提高液晶基板玻璃的透光率能够更好的发挥其作用。目前主流基板玻璃透光率达到90％，并且透光率越高越好。

除了上述性质要求外，在外观质量方面，基板玻璃应具有足够高的均匀度、平整度和无宏观缺陷。从玻璃熔制和成型的角度来讲，玻璃还应具有易熔性，不仅能保证生产出高质量，尽量少缺陷的玻璃原片，还应使玻璃熔制温度不宜过高，过高的熔制温度将给玻璃基板生产者带来困难。

目前生产液晶玻璃基板的几种成熟方法中，以溢流成型法最为优秀。因为采用溢流成型法生产的基板玻璃无需后工序的表面研磨和抛光。

从上述LCD玻璃基板的要求可以看出，LCD基板对玻璃物理、化学和工艺的要求非常高。因此，为了满足上述必须满足的玻璃物理性质要求，普遍的TFT-LCD液晶基板玻璃采用RO-SiO₂Al₂O₃B₂O₃***的无碱硼铝硅酸盐玻璃。

TFT-LCD液晶基板玻璃生产的另一个难题来自于无欠点要求。所谓的玻璃欠点指气泡、玻璃结、铂金粒和结石等。液晶显示器的分辨率越高，对于玻璃板内在缺陷要求越严格。背光源发出的光线必须过一个个格栅形成的像素进而形成影像。玻璃中存在的任何不透光或阻碍光线通过的欠点都会影响图像的完美，对欠点尺寸大小的容忍度根据像素面积来定，一般欠点面积的最高允许极限为单个像素面积的25％，例如：一个具有100um像素尺寸的显示器可以允许有50um尺寸欠点。

在溢流成型法的生产工艺里，非常关键的是对气泡的消除。从历史上看，消除玻璃内的气泡普遍是使用砷这样的变价金属氧化物。由于氧化砷独特的低温吸氧和高温放氧特性，在玻璃澄清过程中较好的帮助玻璃液排出气泡。然而，氧化砷本身属于剧毒化学品，其作业过程对操作人员来讲是高危险作业。近些年，氧化砷作为澄清剂带来的环境和健康方面的问题越来越受到国际上的重视，因此，本领域一直在为制造低砷或无砷玻璃而努力，另外，在制造过程中，玻璃析晶缺陷一直是困扰生产及质量的关键技术。

发明内容

本发明的目的在于提供一种液晶基板玻璃及其制备方法，以克服上述现有技术存在的缺陷，本发明通过研究液晶基板玻璃的成分，调整其组成，使析晶温度区间下降，消除玻璃滞留层，可以改善成型区析晶的产生。

为达到上述目的，本发明采用如下技术方案：

一种液晶基板玻璃，以质量分数计，所述液晶基板玻璃包括：

SiO₂：54～70％；Al₂O₃：13～18％；B₂O₃：9～12％；MgO：0.5～2％；CaO：6～10％；SrO：1.05～3％；BaO：0.2～1％；K₂O：0.01～0.5％；Na₂O：0.016～0.059％；ZnO：0.002～2％；SnO₂：0.16～0.3％；Zr0₂：0.02～0.05％；Fe₂O₃：0.001～0.01％。

进一步地，SiO₂由石英粉引入，且石英粉粒径≤0.020mm，纯度＞99％。

进一步地，B₂O₃由硼酐引入，且硼酐纯度≥99.50％。

进一步地，B₂O₃由硼酐引入，Al₂O₃由氧化铝粉引入，CaO由碳酸钙引入，MgO由碳酸镁引入，SrO由硝酸锶引入，BaO由硝酸钡引入，ZnO由氧化锌引入，SnO₂由氧化锡引入，K₂O由钾长石引入，且氧化铝粉、碳酸钙、碳酸镁、硝酸锶、硝酸钡、氧化锌、氧化锡及钾长石的纯度＞99％。

进一步地，所述液晶基板玻璃的密度为2.33～2.5g/cm³；析晶温度为1137～1220℃；应变点温度为665.4～676.1℃；在30～380℃的热膨胀系数为(34.8～36.8)×10^-7/℃；在500～600nm波长中，光透过率大于92％。

进一步地，所述液晶基板玻璃的气泡含量每千克个数＜0.1个，气泡尺寸为＜0.1mm。

一种液晶基板玻璃的制备方法，包括以下步骤：

(1)称取玻璃原料：石英粉、氧化铝粉、硼酐、碳酸镁、碳酸钙、硝酸锶、硝酸钡、氧化锌、钾长石及氧化锡，使液晶基板玻璃包括如下组分，以质量分数计：SiO₂：54～70％；Al₂O₃：13～18％；B₂O₃：9～12％；MgO：0.5～2％；CaO：6～10％；SrO：1.05～3％；BaO：0.2～1％；K₂O：0.01～0.5％；Na₂O：0.016～0.059％；ZnO：0.002～2％；SnO₂：0.16～0.3％；Zr0₂：0.02～0.05％；Fe₂O₃：0.001～0.01％；

(2)取氧化锡以及氧化锌+部分石英粉的混合物按1:9的质量比预混，然后与剩余的玻璃原料一起加入混料***，混合充分后将混合料收入料罐；

(3)将收入料罐的混合料加入池炉，按照溢流下拉法制造液晶基板玻璃。

进一步地，池炉温度为1500～1650℃。

进一步地，制得的液晶基板玻璃中气泡含量每千克个数＜0.1个，气泡尺寸为＜0.1mm；

制得的液晶基板玻璃密度为2.33～2.5g/cm³；析晶温度为1137～1220℃；应变点温度为665.4～676.1℃；在30～380℃的热膨胀系数为(34.8～36.8)×10^-7/℃；在500～600nm波长中，光透过率大于92％。

与现有技术相比，本发明具有以下有益的技术效果：

本发明的液晶基板玻璃，引入了K₂O和Na₂O；加入K₂O和Na₂O时，玻璃的结构发生变化，通过K₂O和Na₂O提供的游离氧，降低玻璃软化点温度，同时在保证MgO在一定比例下，通过调整CaO、SrO、BaO比例起到降低玻璃析晶温度，所得到的液晶基板玻璃密度为2.33～2.5g/cm³；析晶温度为1137～1220℃；应变点温度为665.4～676.1℃；在30～380℃的热膨胀系数为(34.8～36.8)×10^-7/℃；在500～600nm波长中，光透过率大于92％，组成适合生产面积在1.4㎡以上的液晶基板玻璃，通过池炉熔解和铂金管道的澄清，产品玻璃的气泡含量每千克个数＜0.1个，气泡尺寸为＜0.1mm。

本发明方法通过研究液晶基板玻璃的成分，调整其组成，使析晶温度区间下降，消除玻璃滞留层，可以改善成型区析晶的产生，所得到的液晶基板玻璃密度为2.33～2.5g/cm³；析晶温度为1137～1220℃；应变点温度为665.4～676.1℃；在30～380℃的热膨胀系数为(34.8～36.8)×10^-7/℃；在500～600nm波长中，光透过率大于92％，组成适合生产面积在1.4㎡以上的液晶基板玻璃，通过池炉熔解和铂金管道的澄清，产品玻璃的气泡含量每千克个数＜0.1个，气泡尺寸为＜0.1mm。

附图说明

图1本发明实验所用高温热台显微镜工作示意图。

其中，1、冷却水；2、蓝宝石片；3、铂金坩埚；4、高温显微镜；5、玻璃样品。

具体实施方式

下面对本发明的实施方式做进一步详细描述：

一种液晶基板玻璃，其特征在于，以质量分数计，所述液晶基板玻璃中氧化物包括：SiO₂：54～70％；Al₂O₃：13～18％；B₂O₃：9～12％；MgO：0.5～2％；CaO：6～10％；SrO：1.05～3％；BaO：0.2～1％；K₂O：0.01～0.5％；Na₂O：0.016～0.059％；ZnO：0.002～2％；SnO₂：0.16～0.3％；Zr0₂：0.02～0.05％；Fe₂O₃：0.001～0.01％。

SiO₂和Na₂O均由石英粉引入，且石英粉粒径≤0.020mm，纯度＞99％；B₂O₃由硼酐引入，且硼酐纯度＞99.50％；B₂O₃由硼酐引入，Al₂O₃由氧化铝粉引入，CaO由碳酸钙引入，MgO由碳酸镁引入，SrO由硝酸锶引入，BaO由硝酸钡引入，ZnO由氧化锌引入，SnO₂由氧化锡引入，K₂O由钾长石引入，且氧化铝粉、碳酸钙、碳酸镁、硝酸锶、硝酸钡、氧化锌、氧化锡及钾长石的纯度＞99％。

一种液晶基板玻璃的制备方法，包括以下步骤：

(1)称取玻璃原料：石英粉、氧化铝粉、硼酐、碳酸钙、硝酸锶、硝酸钡、氧化锌、钾长石及氧化锡，使液晶基板玻璃中氧化物包括如下组成，以质量分数计：SiO₂：54～70％；Al₂O₃：13～18％；B₂O₃：9～12％；MgO：0.5～2％；CaO：6～10％；SrO：1.05～3％；BaO：0.2～1％；K₂O：0.01～0.5％；Na₂O：0.016～0.059％；ZnO：0.002～2％；SnO₂：0.16～0.3％；Zr0₂：0.02～0.05％；Fe₂O₃：0.001～0.01％；

(2)取氧化锌+部分石英粉形成混合物，然后将氧化锡和混合物按1:9的质量比预混20分钟，然后与剩余的玻璃原料一起加入混料***，充分混合25分钟后将混合料收入料罐；

(3)将收入料罐的混合料加入温度为1500～1650℃的池炉，按照溢流下拉法制造液晶基板玻璃。

制得的液晶基板玻璃的密度为2.33～2.5g/cm³；弹性模量大于70GPa；析晶温度为1137～1220℃；抗弯强度大于110MPa；应变点温度为665.4～676.1℃；在30～380℃的热膨胀系数为(34.8～36.8)×10^-7/℃；在500～600nm波长中，光透过率大于92％，气泡含量每千克个数＜0.1个，气泡尺寸为＜0.1mm。

作为液晶显示器的透明玻璃基板，使用的是硼铝硅酸盐玻璃。玻璃成分中添加了多种RO二价碱金属盐以促进玻璃网络的形成；同时，引入微量碱金属，当加入K₂O和Na₂O后硼的结构发生变化，通过K₂O和Na₂O提供的游离氧，由硼氧三角体[BO₃]转变为硼氧四面体[BO₄]，使硼的结构从层状结构向架状结构转变，为B₂O₃和SiO₂形成均匀一致的玻璃创造条件。

由于大量使用的SiO₂是难熔材料(SiO₂熔点1710℃)，而B₂O₃是很好的促熔剂和很好的网络补充体，在玻璃成分中添加了B₂O₃作为促熔剂以降低玻璃制造温度。适当量的B₂O₃可以加快SiO₂的熔解，可以将硅酸盐的形成反应变到更低的温度区域，同时由于最低共熔物的形成，表面张力或粘度的降低，使配合料组分强烈被侵润，从而改善了均化作用。由于促熔剂的加入，不但加快了配料的熔解速度，降低了熔制温度，同时也增加了玻璃澄清阶段所需的距离和时间，加快石英粉的熔解成了澄清好坏的关键所在。

最初的熔制混合物只是提前让SiO₂和B₂O₃熔解在一起，所以SiO₂的原料石英粉必须满足液晶基板玻璃生产的需要，为了促进熔解，石英粉应具有≤0.020mm的粒径，纯度＞99％；硼酐(B₂O₃)在熔解过程中经历熔解与再凝固，所以对粒径没有更多的要求，但杂质含量必须＜0.05％，以防止引入玻璃中的有害物质。SiO₂含量控制在54～70％，B₂O₃的含量控制在9～12％。

氧化铝的含量为13～18％，高含量的Al₂O₃有助于玻璃应变点、抗弯强度的改进，但过高则使玻璃容易析晶。

RO(R为Mg、Ca、Sr、Ba、Zn)是玻璃网络调节物。使用的品种众多，引入RO的原料和量如下：

引入CaO的原料是碳酸钙。Ca对玻璃结构起集聚作用。CaO可调节降低高温粘度和显著改善玻璃的熔融性能而不降低玻璃的应变点，过多的CaO则会降低玻璃耐化学性。玻璃成分中，CaO的含量控制在6～10％。

引入MgO的原料是碳酸镁。MgO能降低结晶倾向和结晶速度，提高玻璃的化学稳定性和机械强度。但其含量不应过多，否则会造成玻璃容易析晶和膨胀系数过高。玻璃成分中，MgO的含量控制在0.5～2％。

SrO和BaO均具有增加玻璃耐化学稳定性和提高玻璃抗析晶的作用。但是大量的SrO和BaO会造成玻璃密度和膨胀系数增高。SrO和BaO都是具有特别改进玻璃耐化学性的组分。引入SrO的原料是硝酸锶，玻璃中SrO含量控制在1.05～3％；引入BaO的原料是硝酸钡，玻璃中BaO含量控制在0.2～1％。

ZnO可以降低玻璃高温粘度，增加玻璃的耐化学性，降低玻璃的热膨胀系数。但含量过多时ZnO降低了玻璃的应变点。本发明中ZnO的引入材料为氧化锌，玻璃中ZnO含量控制0.002～2％。

SnO₂是变价氧化物，在本玻璃组成中作为促熔剂和澄清剂加入。但是过多的SnO₂容易使玻璃析出不希望出现的结石，因此，SnO₂由氧化锡引入，玻璃中的SnO₂含量控制0.16～0.3％。

其它的氧化物作为原料中不可避免引入成分，因此对玻璃中微量氧化物也有必要进行控制。按质量百分比表示：Zr0₂：0.02～0.05％；Fe₂O₃：0.001～0.01％。

玻璃原料可以有效的促进玻璃原料熔解和澄清，进而替代氧化砷澄清剂。

适合生产面积在1.4㎡以上的液晶基板玻璃，通过池炉熔解和铂金管道的澄清，产品玻璃的气泡含量每千克个数＜0.1个，气泡尺寸为＜0.1mm。

对于TFT-LCD基板玻璃生产工艺来说，目前普遍采用的成形方法是溢流下拉法，而对于溢流成形法来说，最严格的要求是玻璃的液相线温度TL(LiquidusTemperature)和玻璃的高温粘度，因为溢流下拉法拉制玻璃薄板时玻璃液的出料量低，玻璃液的流动比较缓慢，不能像浮法玻璃制造过程那样快速的冷却并成形，所以在TFT-LCD基板玻璃薄板的拉引成形粘度10⁴～10^11.5dPa·s范围内，玻璃液与耐火材料以及铂金通道的长时间接触下不能有任何的析晶，因此在设计基板玻璃的化学组成时，应尽量考虑降低玻璃的析晶上限温度，减小玻璃的析晶温度范围，也就是说让玻璃的液相线温度尽可能地低于玻璃液的成形温度，而玻璃的析晶温度上限要尽量低于玻璃的液相线温度，这样就可以避免在TFT-LCD基板玻璃在溢流槽溢流成形过程中产生析晶，尤其是避免玻璃熔体在溢流下拉过程中玻璃引板冷却时发生析晶。

玻璃的液相线温度就是熔融玻璃和初晶相之间平衡共存的最高温度，玻璃的液相线温度主要取决于玻璃的化学组成，是以玻璃部分析晶样品中析出晶体熔融消失的方法来测定的。

玻璃的液相线温度在目前的实验技术条件下是很难评估，一般用玻璃的最高析晶温度作为玻璃的液相线温度，而与最高析晶温度在特征温度-粘度曲线上相对应的粘度，即认为是玻璃的液相线温度相对应的粘度，以此来评估玻璃是否符合溢流下拉法成形的要求。

常用的玻璃的析晶性能的测试方法是梯度炉法，但是梯度炉法的实验周期很长，实验过程复杂烦琐，首先要将玻璃样品在梯温炉中保温24小时，然后在高温下快速取出，在空气中急速冷却，待玻璃样品冷却后再将玻璃样品先切割成薄片，然后经过粗磨、细磨后再精抛光，然后在200倍光学显微镜下观察玻璃是否析晶以及玻璃的析晶程度，梯度炉法测试玻璃的析晶温度的温度区间范围很宽，而且对于玻璃的析晶温度不能做出准确的判断。

本发明所用的玻璃析晶性能的测试方法是高温显微镜法，采用高温显微镜法(HotStageMicroscopy)可以直接观察玻璃的析晶晶体形貌并能准确测试出玻璃的析晶温度。实验测试玻璃析晶温度的测温仪器是英国LinkamTHMSG600冷热台，冷热台的温度是通过一套测控温***来调节控制的，用于调节测温***中测试台的温度，如图1所示为高温热台显微镜工作示意图。

高温显微镜法测试玻璃的析晶温度的原理是首先选择不含任何玻璃缺陷(如气泡、结石和条纹等)且表面经过研磨精抛光的玻璃样品5洗净、烘干后装入铂金坩埚3中并置于高温热台的微型炉内的蓝宝石片2上，蓝宝石片2之下为测试热台温度的热电偶；然后设定温度程序，将微型炉升温至1450℃使玻璃样品5熔化，并保温半小时以排除玻璃表面的气泡，然后再将玻璃样品5缓慢冷却到接近室温，因为玻璃样品5受到热源的加热作用，通过玻璃的热导过程，玻璃样品5的底部温度较玻璃样品与空气接触的上表面温度更高，正是由于玻璃样品的这种上下表面温差，使得玻璃在热导过程中即形成玻璃内部的温度梯度，然后通过利用冷却水1来降低与玻璃上表面接触的空气的温度以降低玻璃的上表面温度，这样就保证了通过高温显微镜4来观察玻璃上表面的析晶层；再次加热使得玻璃中的晶核形成和长大，当温度上升到接近玻璃的液相线温度时，就可以看到玻璃中的晶体开始熔融变少，每次升温5℃，并保温5分钟，直到所有的析晶晶体熔解，最后的温度即为玻璃的析晶上限温度，即玻璃的液相线温度，利用高温热台显微镜能准确测量出玻璃样品的析晶温度，对于每一种玻璃样品采用多次测量求平均值。

下面结合实施例对本发明做进一步详细描述：

实施例1

(1)称取玻璃原料：石英粉、氧化铝粉、硼酐、碳酸钙、硝酸锶、硝酸钡、氧化锌、钾长石及氧化锡；

(2)取氧化锡以及氧化锌+部分石英粉的混合物按1:9的质量比预混20分钟，然后与剩余的玻璃原料一起加入混料***，充分混合25分钟后将混合料收入料罐；

(3)将收入料罐的混合料加入温度为1500℃的池炉，按照溢流下拉法制造液晶基板玻璃。

实施例2

(1)称取玻璃原料：石英粉、氧化铝粉、硼酐、碳酸钙、硝酸锶、硝酸钡、氧化锌、钾长石及氧化锡；

(2)取氧化锡以及氧化锌+部分石英粉的混合物按1:9的质量比预混20分钟，然后与剩余的玻璃原料一起加入混料***，充分混合25分钟后将混合料收入料罐；

(3)将收入料罐的混合料加入温度为1650℃的池炉，按照溢流下拉法制造液晶基板玻璃。

实施例3

(1)称取玻璃原料：石英粉、氧化铝粉、硼酐、碳酸钙、硝酸锶、硝酸钡、氧化锌、钾长石及氧化锡；

(2)取氧化锡以及氧化锌+部分石英粉的混合物按1:9的质量比预混20分钟，然后与剩余的玻璃原料一起加入混料***，充分混合25分钟后将混合料收入料罐；

(3)将收入料罐的混合料加入温度为1600℃的池炉，按照溢流下拉法制造液晶基板玻璃。

实施例4

(1)称取玻璃原料：石英粉、氧化铝粉、硼酐、碳酸钙、硝酸锶、硝酸钡、氧化锌、钾长石及氧化锡；

(2)取氧化锡以及氧化锌+部分石英粉的混合物按1:9的质量比预混20分钟，然后与剩余的玻璃原料一起加入混料***，充分混合25分钟后将混合料收入料罐；

(3)将收入料罐的混合料加入温度为1570℃的池炉，按照溢流下拉法制造液晶基板玻璃。

实施例5

(1)称取玻璃原料：石英粉、氧化铝粉、硼酐、碳酸钙、硝酸锶、硝酸钡、氧化锌、钾长石及氧化锡；

(2)取氧化锡以及氧化锌+部分石英粉的混合物按1:9的质量比预混20分钟，然后与剩余的玻璃原料一起加入混料***，充分混合25分钟后将混合料收入料罐；

(3)将收入料罐的混合料加入温度为1620℃的池炉，按照溢流下拉法制造液晶基板玻璃。

实施例6

(1)称取玻璃原料：石英粉、氧化铝粉、硼酐、碳酸钙、硝酸锶、硝酸钡、氧化锌、钾长石及氧化锡；

(2)取氧化锡以及氧化锌+部分石英粉的混合物按1:9的质量比预混20分钟，然后与剩余的玻璃原料一起加入混料***，充分混合25分钟后将混合料收入料罐；

(3)将收入料罐的混合料加入温度为1630℃的池炉，按照溢流下拉法制造液晶基板玻璃。

实施例7

(1)称取玻璃原料：石英粉、氧化铝粉、硼酐、碳酸钙、硝酸锶、硝酸钡、氧化锌、钾长石及氧化锡；

(2)取氧化锡以及氧化锌+部分石英粉的混合物按1:9的质量比预混20分钟，然后与剩余的玻璃原料一起加入混料***，充分混合25分钟后将混合料收入料罐；

(3)将收入料罐的混合料加入温度为1590℃的池炉，按照溢流下拉法制造液晶基板玻璃。

实施例8

(1)称取玻璃原料：石英粉、氧化铝粉、硼酐、碳酸钙、硝酸锶、硝酸钡、氧化锌、钾长石及氧化锡；

(2)取氧化锡以及氧化锌+部分石英粉的混合物按1:9的质量比预混20分钟，然后与剩余的玻璃原料一起加入混料***，充分混合25分钟后将混合料收入料罐；

(3)将收入料罐的混合料加入温度为1610℃的池炉，按照溢流下拉法制造液晶基板玻璃。

实施例1～实施例8制得的液晶玻璃基板分别为1#～8#，1#～4#如表1所示，5#～8#如表2所示：

表1实施例1～4制备的液晶基板玻璃样品

表2实施例5～8制备的液晶基板玻璃样品

Claims (9)

1.一种液晶基板玻璃，其特征在于，以质量分数计，所述液晶基板玻璃包括：

SiO₂：54～70％；Al₂O₃：13～18％；B₂O₃：9～12％；MgO：0.5～2％；CaO：6～10％；SrO：1.05～3％；BaO：0.2～1％；K₂O：0.01～0.5％；Na₂O：0.016～0.059％；ZnO：0.002～2％；SnO₂：0.16～0.3％；Zr0₂：0.02～0.05％；Fe₂O₃：0.001～0.01％。

2.根据权利要求1所述的一种液晶基板玻璃，其特征在于，SiO₂由石英粉引入，且石英粉粒径≤0.020mm，纯度＞99％。

3.根据权利要求1所述的一种液晶基板玻璃，其特征在于，B₂O₃由硼酐引入，且硼酐纯度≥99.50％。

4.根据权利要求1所述的一种液晶基板玻璃，其特征在于，B₂O₃由硼酐引入，Al₂O₃由氧化铝粉引入，CaO由碳酸钙引入，MgO由碳酸镁引入，SrO由硝酸锶引入，BaO由硝酸钡引入，ZnO由氧化锌引入，SnO₂由氧化锡引入，K₂O由钾长石引入，且氧化铝粉、碳酸钙、碳酸镁、硝酸锶、硝酸钡、氧化锌、氧化锡及钾长石的纯度＞99％。

5.根据权利要求1所述的一种液晶基板玻璃，其特征在于，所述液晶基板玻璃的密度为2.33～2.5g/cm³；析晶温度为1137～1220℃；应变点温度为665.4～676.1℃；在30～380℃的热膨胀系数为(34.8～36.8)×10^-7/℃；在500～600nm波长中，光透过率大于92％。

6.根据权利要求1所述的一种液晶基板玻璃，其特征在于，所述液晶基板玻璃的气泡含量每千克个数＜0.1个，气泡尺寸为＜0.1mm。

7.一种液晶基板玻璃的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)称取玻璃原料：石英粉、氧化铝粉、硼酐、碳酸镁、碳酸钙、硝酸锶、硝酸钡、氧化锌、钾长石及氧化锡，使液晶基板玻璃包括如下组分，以质量分数计：SiO₂：54～70％；Al₂O₃：13～18％；B₂O₃：9～12％；MgO：0.5～2％；CaO：6～10％；SrO：1.05～3％；BaO：0.2～1％；K₂O：0.01～0.5％；Na₂O：0.016～0.059％；ZnO：0.002～2％；SnO₂：0.16～0.3％；Zr0₂：0.02～0.05％；Fe₂O₃：0.001～0.01％；

(2)取氧化锡以及氧化锌+部分石英粉的混合物按1:9的质量比预混，然后与剩余的玻璃原料一起加入混料***，混合充分后将混合料收入料罐；

(3)将收入料罐的混合料加入池炉，按照溢流下拉法制造液晶基板玻璃。

8.根据权利要求7所述的一种液晶基板玻璃的制备方法，其特征在于，池炉温度为1500～1650℃。

9.根据权利要求7所述的一种液晶基板玻璃的制备方法，其特征在于，制得的液晶基板玻璃中气泡含量每千克个数＜0.1个，气泡尺寸为＜0.1mm；

制得的液晶基板玻璃密度为2.33～2.5g/cm³；析晶温度为1137～1220℃；应变点温度为665.4～676.1℃；在30～380℃的热膨胀系数为(34.8～36.8)×10^-7/℃；在500～600nm波长中，光透过率大于92％。