CN105307858A - 转印膜及使用了该转印膜的转印成型品 - Google Patents
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Abstract
本发明提供具有消光层的印刷适应性及低温加工性、能够对被转印体赋予消光外观、环境负荷小的转印膜及使用了该转印膜的转印成型品。进而,提供通过脱模层的膜厚调整而能够控制注塑成型品的表面的光泽度的转印膜及使用了该转印膜的转印成型品。转印膜(11)在基材膜(1)的一个面上至少依次具有消光层(2)、脱模层(3A)、硬涂层(4)及粘接层(7),使消光层(2)为由双组分固化型聚氨酯树脂形成且含有第1消光剂的层,使脱模层(3A)为以丙烯酸聚氨酯树脂为主成分的层,丙烯酸聚氨酯树脂是至少由丙烯酸多元醇酯树脂、含有羟基及碳数为10以上且30以下的长链烷基的丙烯酸树脂、以及异氰酸酯化合物的交联反应而生成的。
Description
技术领域
本发明涉及对成型品的表面赋予消光外观的转印膜及使用了该转印膜的转印成型品,特别是涉及具有未从基材膜上剥离的消光层和形成在该消光层的面上的脱模层的转印膜、及使用了该转印膜的转印成型品。
背景技术
一直以来,主要是在对塑料成型物实施装饰时,有时代替涂饰等直接的装饰方法而利用使用了转印膜的热转印法来实施装饰。对该转印膜的多数要求具有以塑料成型物的表面保护为目的的硬涂功能。认为其原因是,作为塑料成型物等被转印体,例如多使用以聚碳酸酯树脂为代表的柔软树脂。如此,在用于对被转印体的表面实施装饰的转印膜上,多设置有硬涂层等表面保护层。
上述转印膜一般来说是依次层叠在基材膜的一个面上形成有脱模层的脱模膜和在脱模层的面上按顺序形成有硬涂层/装饰层/粘接层的转印层而成的构成。另外,上述转印膜例如如下制作。首先,在基材膜的一个面上形成脱模层来制作脱模膜。接着,在该脱模层的面上依次层叠硬涂层、装饰层、粘接层等转印层,从而制作能够进行所希望的装饰的转印膜。
这里,对脱模层要求其具有在对塑料成型物等被转印体进行热转印时、用于将转印层(特别是硬涂层)从脱模膜上剥离而转印到被转印体上的良好的剥离性。另外,对硬涂层要求其具有耐损伤性或耐化学试剂性等表面性能。另外,期待对装饰层赋予符合要求的设计性。另外,对粘接层要求其具有对被转印体的牢固粘接性。
进而,对于在基材膜上以第一层形成的脱模层,不仅要求其具有自转印层(特别是硬涂层)剥离时的良好剥离性,还要求其具有如下性能:在形成硬涂层时的涂布液涂覆时不发生硬涂层用涂布液的涂膜凹陷(再涂性)、具有可耐受转印时的热量的耐热性、与基材膜或基底的密合强、进而可以追随被转印体的立体形状(拉伸性)等。
作为使用具备上述各层的转印膜将转印层热转印至被转印体上的方法,例如可举出与注塑成型同时进行转印的方法(模内成型法)或利用热轧辊的热压进行转印的方法、或者利用真空或压缩空气或加热机转印至被转印体上的方法(真空压缩空气成型法)等。
另外,上述脱模膜在起到作为转印层的支撑构件的作用的同时,还发挥作为控制被转印体表面外观的构件的作用。这是因为,在转印后、转印层的接触于脱模膜的面变成被转印体的最表面。因此,例如当想要对被转印体的表面赋予消光外观时,为了对脱模膜的脱模层表面赋予微细的凹凸,有时在脱模层中添加有机粒子或无机粒子作为消光剂。如此,在转印时,添加了消光剂的脱模层本身以与脱模膜为一体的状态,仅将转印层转印,将脱模层表面的微细凹凸图案转印至转印层的最表面。其结果,可以对被转印体赋予消光外观。
专利文献1中,作为能够对被转印体(转印成型品)表面赋予消光外观的转印膜,记载了具有消光脱模膜和转印层的转印膜。专利文献1所记载的消光脱模膜具有基材膜和形成在该基材膜的面上的不会自基材膜上剥离的消光层。另外,转印层具有形成于消光脱模膜的消光层面上的硬涂层和粘接层。通过制成这种构成的转印膜,对被转印体的表面赋予了消光外观。其中,这里“消光脱模膜”是指具备添加有消光剂的脱模层的脱模膜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2000-108594号公报
发明内容
发明要解决的技术问题
然而,形成于上述基材膜的面上的消光层例如以氨基醇酸系树脂、尿素-三聚氰胺系树脂或它们的混合物等热固化性树脂作为主成分。因此,在转印膜的制造工序中需要所谓的烧结工序。具体地说,该烧结工序中例如需要在180~200℃的烘箱中进行30秒~1分钟左右的加热。因此,基材膜需要在该加热条件下能够耐受,薄的基材或不耐热的基材多不适于基材膜。
另外,热固化性树脂具有将印刷工序中产生的热吸收等而使固化反应进行的性质。因此,例如在使用含热固化性树脂的涂布液(油墨)进行凹版印刷时,由于油墨易残留于印刷版的凸部(非成像线部)中,因而会发生印刷版模糊等印刷故障,具有均匀涂覆变难的问题。
进而,上述三聚氰胺树脂具有在制造工序中产生有害的甲醛、该甲醛大量残留在三聚氰胺固化物及油墨干燥装置内的问题。另外,根据国际肿瘤研究机构的报告,该甲醛在确认对人有致癌性的梯队1中被列举出来,而且其是致病住宅症候群的原因物质这也成为问题。
本发明想要解决这种问题,其目的在于提供具有消光层的印刷适应性及低温加工性、能够对被转印体(主要是塑料成型品)赋予消光外观、环境负荷(人的负荷)小的转印膜、及使用了该转印膜的转印成型品。
进而,其目的在于提供通过在所述消光层的面上形成脱模层、通过调整该脱模层的膜厚而能够控制被转印体的表面光泽度的转印膜、及使用了该转印膜的转印成型品。
用于解决技术问题的方法
本发明的一个方式为一种转印膜,其为在基材膜的一个面上至少依次具有消光层、脱模层、硬涂层及粘接层的转印膜,其特征在于,使所述消光层为由双组分固化型聚氨酯树脂形成且含有第1消光剂的层,使所述脱模层为以丙烯酸聚氨酯树脂为主成分的层,所述丙烯酸聚氨酯树脂是至少由丙烯酸多元醇酯树脂、含有羟基及碳数为10以上且30以下的长链烷基的丙烯酸树脂、以及异氰酸酯化合物的交联反应而生成的。
另外,上述转印膜中,还可在所述消光层和所述脱模层的至少任一层中进一步含有含羟基的纤维素衍生物。
另外,上述转印膜中,还可在所述脱模层中进一步含有含羟基的丙烯酸有机硅树脂。
另外,上述转印膜中,还可在所述脱模层中进一步含有第2消光剂。
另外,上述转印膜中,还可使所述第1消光剂和所述第2消光剂为同一消光剂。
另外,本发明的另一方式为一种转印成型品,其特征在于,其是使用上述转印膜制造而成的。
发明效果
根据本发明一个方式的转印膜,由于消光层由双组分固化型聚氨酯树脂形成,因此可以提高凹版印刷时的印刷适应性,并且在室温~50℃左右的低温下固化反应即结束,可以制作对基材膜的热负荷小的消光层。进而,由于消光层含有第1消光剂,因此还可以对被转印体的表面赋予消光外观。
另外,由于脱模层由具有碳数为10以上且30以下的长链烷基的丙烯酸聚氨酯树脂形成,因此可以提高凹版印刷时的印刷适应性,并且脱模层在热转印时呈现优异的脱模性,且可以抑制涂布在脱模层上的硬涂层用涂布液的涂膜凹陷现象,可以形成均匀的硬涂层。进而,还可以获得消光层与脱模层之间的密合性。
另外,由于脱模层形成在消光层的面上,因此通过调整该脱模层的膜厚,可以容易地控制被转印体的表面光泽度。
另外,本发明一个方式的转印膜由于不含有三聚氰胺树脂,因此还可以减少环境负荷(人的负荷)。
另外,上述转印膜中,通过在消光层和脱模层的至少任一层中进一步含有含羟基的纤维素衍生物,可以提高耐热性,因而即便是使用在与注塑成型同时进行转印的方法(模内成型)时,也可抑制热皱褶或者粘附现象等不良情况。
另外,上述转印膜中,通过在脱模层中进一步含有含羟基的丙烯酸有机硅树脂,可以赋予对热转印的高速化也能够充分应对的优异脱模性。
另外,在上述转印膜中,通过在脱模层中进一步含有第2消光剂,还可以对被转印体的表面进一步赋予消光外观。另外,该脱模层由于形成在消光层的面上,因此通过调整该脱模层的消光剂含量及膜厚,可以容易地控制被转印体的表面光泽度。进而,由于可以抑制因脱模层的膜厚变动对被转印体的表面光泽度的影响,因而可以生产光泽度不均少的转印膜。
另外,上述转印膜中,通过使第1消光剂和第2消光剂为同一消光剂,可以抑制转印膜的制造成本增加。
附图说明
图1是本发明第1实施方式的转印膜的截面概略图。
图2是使用第1实施方式的转印膜制造的转印成型品的截面概略图。
图3是本发明第2实施方式的转印膜的截面概略图。
图4是使用第2实施方式的转印膜制造的转印成型品的截面概略图。
具体实施方式
以下一边参照附图一边详细地说明本发明的第1实施方式及第2实施方式。其中,各图中发挥相同或类似功能的构成要素带有相同的参照符号并省略重复的说明。另外,本发明的实施方式中,所添加的各粒子的平均粒径是利用激光衍射法测定的粒径。
(第1实施方式)
图1是本发明第1实施方式的转印膜的截面概略图。另外,图2是使用第1实施方式的转印膜制造的转印成型品的截面概略图。
如图1所示,本实施方式的转印膜11A是依次具备基材膜1、消光层2、脱模层3A、硬涂层4、底涂层5、装饰(印刷)层6、粘接层7的层叠体。这里,通常装饰(印刷)层6(以下也仅记载为“装饰层6”)多为多个层的情况,还可施加压花加工或加入珠光颜料等具有光学效应的装饰材料。以下,对本实施方式的转印膜11A所具备的上述各层进行说明。
(基材膜1)
作为基材膜1,例如可使用聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚萘二甲酸乙二醇酯膜、聚丙烯膜、聚乙烯膜、三乙酰基纤维素膜、聚碳酸酯膜、尼龙膜、玻璃纸膜、丙烯酸膜、聚氯乙烯膜等基材。能够使用的膜厚优选是25μm以上且250μm以下的范围内,特别是在为38μm以上且150μm以下的范围内时,在成本或膜成型性的平衡方面也有利,因此更优选。
(消光层2)
消光层2是在表面形成有微细凹凸的层,是添加了消光剂(第1消光剂)的层。添加于消光层2中的消光剂可以使用各种无机粒子或有机粒子,对于其材料等并无特别限定。
消光剂中使用的粒子的平均粒径优选为0.01μm以上且50μm以下的范围内、更优选为1μm以上且30μm以下的范围内。消光剂中使用的粒子的平均粒径小于0.01μm时,有时转印成型品表面的消光外观的赋予变得不充分,超过50μm时,有时成为各印刷工序中产生气泡的要因。另外,消光层2的平均厚度考虑到所用消光剂的平均粒径,为2μm以上且15μm以下的范围内时则可以期待显示出消光效果,因此优选。
消光剂优选在用于形成消光层2的涂布液(以下也仅记载为“消光层用涂布液”)中以相对于成为构成消光层2的涂膜主成分的树脂材料为0.5重量%以上且20重量%以下的范围内来含有,更优选以1重量%以上且10重量%以下的范围内来含有。当消光剂的量超过20重量%时,消光层用涂布液中消光剂易于沉降或凝集,有可能对印刷适应性造成不良影响。另外,当消光剂的量小于0.5重量%时,有时消光外观的赋予变得不充分。
成为构成消光层2的涂膜主成分的树脂材料由于需要与基材膜1的密合性或耐热性及与后述脱模层3A的密合性,因此优选含有双组分固化型丙烯酸聚氨酯树脂、双组分固化型聚酯聚氨酯树脂、或它们的混合物(以下将这些树脂也仅记载为“双组分固化型聚氨酯树脂”)。为这种双组分固化型聚氨酯树脂时,由于在室温~50℃程度的低温下固化反应即结束,因此可以减少形成消光层2时对基材膜1的热负荷。
另外,消光层2为了提高耐热性,还可以含有含羟基的纤维素衍生物。如此提高耐热性的理由在于,当将转印层转印至被转印体时,有时热量会极度地施加。作为含羟基的纤维素衍生物,例如可举出硝基纤维素、醋酸丁酸纤维素、醋酸丙酸纤维素等。作为纤维素衍生物的配合量,相对于成为构成消光层2的涂膜主成分的树脂材料(例如丙烯酸多元醇酯树脂),优选为20重量%以上且100重量%以下的范围内。为该范围内时,可以对消光层2赋予充分的耐热性。
另外,消光层2作为脱模剂还可含有具有碳数为10以上且30以下的长链烷基及羟基的丙烯酸树脂、或者含羟基的丙烯酸有机硅树脂。
(脱模层3A)
脱模层3A是以含有碳数为10以上且30以下的长链烷基的丙烯酸聚氨酯树脂为主成分的层,该丙烯酸聚氨酯树脂是至少由丙烯酸多元醇酯树脂、含有羟基及碳数为10以上且30以下的长链烷基的丙烯酸树脂、以及异氰酸酯化合物的交联反应而生成的树脂。通过使用具有处于这种碳数范围的长链烷基的丙烯酸聚氨酯树脂,在热转印时呈现优异的脱模性,且不会引起涂布在该脱模层3A上的硬涂层用涂布液的涂膜凹陷现象,可以形成均匀的硬涂层4。其中,当碳数小于10时,有时热转印时的脱模性不充分、在被转印体的表面上产生转印不均而变成品质缺陷。另外,当碳数超过30时,有时在硬涂层用涂布液的涂布时发生涂膜凹陷、未能形成均匀的硬涂层4。
形成脱模层3A的丙烯酸聚氨酯树脂例如可以由含有丙烯酸多元醇酯树脂和具有长链烷基的烷基异氰酸酯的油墨组合物(脱模层用涂布液)、或者含有具有长链烷基及羟基的丙烯酸树脂和异氰酸酯化合物的油墨组合物来获得。
另外,脱模层3A如上所述需要具有脱模性、拉伸性、耐热性等性能,根据被转印体的形状或转印时的加工条件有时需要上述性能的微调。例如,通过在上述含有具有长链烷基及羟基的丙烯酸树脂和异氰酸酯化合物的油墨组合物中配合丙烯酸多元醇酯树脂或丙烯酸聚氨酯树脂,可以谋求油墨组合物的调节来形成脱模层3A。通过如此地进行油墨组合物的调节,可以调节脱模层3A的脱模性或拉伸性、耐热性等性能。另外,具有长链烷基及羟基的丙烯酸树脂的配合量相对于丙烯酸多元醇酯树脂优选为2重量%以上且30重量%以下的范围内,但并无特别限定。
本实施方式中的脱模层3A以至少含有丙烯酸多元醇酯树脂、具有羟基及碳数为10以上且30以下的长链烷基的丙烯酸树脂以及异氰酸酯化合物的油墨组合物的固化物、即丙烯酸聚氨酯树脂为主成分。为了使该油墨组合物固化,不需要如三聚氰胺树脂那样经过高温下的烧结工序(180~200℃)、通过在室温~50℃左右的温度下进行老化,固化反应即结束。如此,根据本实施方式,可以以低温固化形成脱模层3A。因此,在利用三聚氰胺树脂形成脱模层时的固化条件下会因皱褶或热收缩、结晶化等而发生不良情况、因而以往无法使用的无拉伸PET膜、氯乙烯膜或PET-G膜等不耐热但伸长率高、成型物追随性优异的基材膜等也能够使用。
其中,上述丙烯酸多元醇酯树脂是具有多个羟基的丙烯酸树脂,可通过将具有羟基的(甲基)丙烯酸单体进行(共)聚合来获得。也可以使没有羟基的(甲基)丙烯酸酯单体、苯乙烯单体、醋酸乙烯酯单体等发生共聚。
作为具有羟基的(甲基)丙烯酸单体,例如有(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羟基己酯等。另外,作为具有长链烷基的丙烯酸单体,例如可举出(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十五烷基酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、(甲基)丙烯酸十七烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、(甲基)丙烯酸十九烷基酯、(甲基)丙烯酸二十烷基酯、(甲基)丙烯酸二十一烷基酯、(甲基)丙烯酸三十烷基酯等。具有长链烷基及羟基的丙烯酸树脂可通过具有长链烷基的丙烯酸单体与具有羟基的(甲基)丙烯酸单体的共聚来获得。
另外,异氰酸酯化合物是指甲苯二异氰酸酯(TDI)、二苯基甲烷二异氰酸酯(MDI)、二甲苯二异氰酸酯(XDI)、六亚甲基二异氰酸酯(HDI)、异佛尔酮二异氰酸酯(IPDI)及它们的预聚物等。
脱模层3A以提高模内成型中使用转印膜11A时的耐热性为目的,可以与消光层2同样地配合含有羟基的纤维素衍生物。作为该含有羟基的纤维素衍生物,例如可举出硝基纤维素、醋酸丁酸纤维素、醋酸丙酸纤维素等。作为该纤维素衍生物的配合量,相对于成为构成脱模层3A的涂膜主成分的树脂材料(例如丙烯酸多元醇酯树脂)优选为20重量%以上且100重量%以下的范围内。为该范围内,可以对脱模层3A赋予充分的耐热性。
另外,在层叠分子中含有氨基甲酸酯键等极性高的官能团的硬涂层4时或者进行剥离时的高速化时,要求脱模层3A的剥离更轻。此时,通过配合含有羟基的丙烯酸有机硅树脂,可以在不降低再涂性的情况下减轻剥离。作为此时含有羟基的丙烯酸有机硅树脂的配合量,相对于成为构成脱模层3A的涂膜主成分的树脂材料(例如丙烯酸多元醇酯树脂),只要为0.5重量%以上且15重量%以下的范围内则适当,由此可以提高脱模层3A的脱模性。
脱模层3A的厚度并无特别限定限定,最佳的是0.1μm以上且5μm以下的范围内。通过改变该脱模层3A的厚度,可以调整覆盖在转印成型品(被转印体)的最表面上的转印层10的光泽度。当增厚脱模层3A的厚度时,可以提高转印成型品表面的光泽度,而减薄脱模层3A的厚度时,可以降低该光泽度。
(硬涂层4)
硬涂层4优选由在用于转印之前的转印膜中为无粘附状态(仅通过将溶剂成分蒸发、发粘即消失的状态)、而在转印于被转印体之后通过照射紫外线或电子束等活性能量射线可发生交联的树脂来形成。作为转印后照射活性能量射线发生交联的理由在于,如果使用具备预先经交联状态的硬涂层4的转印膜实施转印加工,当转印膜要追随被转印体的表面而拉伸时,硬涂层4中易于产生裂纹,成为外观不良的原因。在用于转印之前的转印膜中,作为用于使硬涂层4为无粘附状态的方法,主要有以下的3个方法。第1方法是作为构成硬涂层4的树脂使用高分子型丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯的方法。第2方法是作为构成硬涂层4的树脂、除了液态或半液态的活性能量线固化型树脂之外还含有异氰酸酯/多元醇树脂或环氧树脂/胺类等的交联反应物并使其适度地固化的方法。第3方法是作为构成硬涂层4的树脂使用活性能量线固化型树脂、在不损害对被转印体的形状追随性的范围内适量地照射活性能量线以使活性能量线固化型树脂变成半固化状态的方法。本实施方式中,可以使用任一个方法。
另外,为第1方法时,除了高分子型的丙烯酸酯(丙烯酸树脂)之外,为了加强表面硬度,还可以在该丙烯酸树脂中添加纳米二氧化硅粒子。纳米二氧化硅粒子的添加量相对于上述丙烯酸树脂最佳的为10重量%以上且小于40重量%的范围内。其添加量小于10重量%时,有时缺乏提高表面硬度的效果。而其添加量为40重量%以上时,有时固化涂膜变得过脆、耐磨耗性恶化。
添加于硬涂层4中的纳米二氧化硅粒子为了维持硬涂层4的透明性,优选使用粒径为10nm以上且小于100nm的范围内者。另外,上述纳米二氧化硅粒子优选是利用含有丙烯酰基/甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂等进行了表面处理的纳米二氧化硅粒子,也可以仅是未处理的纳米二氧化硅粒子。
另外,一般来说,活性能量线固化型树脂具有缺乏耐磨耗性的倾向。因此,为了加强耐磨耗性,还可以在活性能量线固化型树脂中作为润滑剂少量地添加聚四氟乙烯粉末或聚乙烯蜡、金属皂等。
另外,该硬涂层4的厚度并无特别限定,考虑到表面硬度的显现与固化收缩或成本等的平衡时,优选为2μm以上且10μm以下的范围内。
(底涂层5)
底涂层5是用于确保硬涂层4与装饰层6的密合的层,可以使用聚酯多元醇树脂或丙烯酸多元醇酯树脂等多元醇树脂、及/或由含羟基的氯乙烯-醋酸乙烯酯树脂等含羟基的树脂和异氰酸酯化合物构成的树脂。另外,底涂层5的厚度并无特别限定,最佳的是0.5μm以上且10μm以下的范围内。
(装饰层6)
装饰层6是用于对被转印体赋予设计性的层。作为装饰层6形成印刷层时,可以使用作为着色剂含有适当颜色的颜料或染料的着色油墨、利用胶版印刷法、凹版印刷法、丝网印刷法、喷墨法等周知的印刷法来形成。另外,作为其他可采用的装饰技术,可以应用珠光或荧光、镜子、回射、磁力印刷等特殊印刷、利用热或紫外线形成凹凸结构(各种透镜效果或全息图)的压花加工、通过对铝或银、铬、氧化钛、硫化锌等进行真空蒸镀或溅射进行形成的薄膜形成技术等。
(粘接层7)
作为粘接层7,可以使用公知的热密封性粘接剂或粘合剂。作为粘接层7,例如可举出醋酸乙烯酯树脂、乙烯醋酸乙烯酯共聚树脂、氯乙烯-醋酸乙烯酯树脂、丙烯酸树脂、缩丁醛树脂、环氧树脂、聚酯树脂、聚氨酯树脂、丙烯酸系粘合剂、橡胶系粘合剂、有机硅系粘合剂、氨基甲酸酯系粘合剂等。粘接层7的厚度并无特别限定,最佳的是0.5μm以上且10μm以下的范围内。
(效果)
本实施方式的转印膜11A由于消光层2由双组分固化型聚氨酯树脂形成,因此可以提高凹版印刷时的印刷适应性,并且在室温~50℃程度的低温下固化反应即结束,可以制作对基材膜1的热负荷小的消光层2。进而,由于消光层2含有第1消光剂,因此还可以对转印成型品的表面赋予消光外观。
另外,由于脱模层3A由具有碳数为10以上且30以下的长链烷基的丙烯酸聚氨酯树脂形成,因此可以提高凹版印刷时的印刷适应性,并且脱模层3A在热转印时呈现优异的脱模性,且可以抑制涂布在脱模层3A上的硬涂层用涂布液的涂膜凹陷现象,可以形成均匀的硬涂层4。进而,还可获得消光层2与脱模层3A之间的密合性。
另外,由于脱模层3A形成在消光层2的面上,因此通过调整脱模层3A的膜厚,可以容易地控制转印成型品的表面光泽度。
另外,本实施方式的转印膜11A由于不含有三聚氰胺树脂,因此还可减少环境负荷(人的负荷)。
另外,本实施方式的转印膜11A在消光层2和脱模层3A的至少任一层中含有含羟基的纤维素衍生物。因此,为转印膜11A时,由于耐热性提高,因此即便是在注塑成型的同时进行转印的模内转印、即要求高温下的耐热性的模内转印时,也可抑制热皱褶或粘附现象等不良情况。
另外,本实施方式的转印膜11A的脱模层3A含有含羟基的丙烯酸有机硅树脂。因此为转印膜11A时,可以呈现出对热转印的高速化也可充分应对的优异的脱模性。
(实施例1)
以下根据各实施例详细地说明第1实施方式的发明。此外,本发明并非仅限于以下的实施例。
<实施例1-1>
将厚度为50μm的双轴拉伸聚酯膜(三菱树脂公司制:G440E50)作为基材膜,在其一个面上使用凹版印刷法涂布下述组成的消光层用涂布液,使得在120℃下干燥了10秒之后的膜厚达到4.3μm,形成消光层。
(消光层用涂布液的组成)
·丙烯酸多元醇酯树脂(东荣化成公司制:LC#6560):
100重量份
·二氧化硅填料(EVONIKDEGUSSA公司制:粒径为6μm):
5重量份
·聚丙烯腈填料(东洋纺公司制:粒径为7μm):5重量份
·异氰酸酯化合物(日本Polyurethane公司制:CORONATEHL):
10重量份
在上述消光层上使用微凹版印刷法涂布下述组成的脱模层用涂布液,使得干燥后的膜厚达到5.2μm,形成脱模层,之后在50℃下老化5天,制作消光脱模膜。
(脱模层用涂布液的组成)
·丙烯酸多元醇酯树脂(东荣化成公司制:LC#6560):
100重量份
·丙烯酸树脂:5重量份
(是丙烯酸6-羟基己酯与甲基丙烯酸硬脂酯的共聚物,具有羟基和长链烷基(碳数为18))
·异氰酸酯化合物(日本Polyurethane公司制:CORONATEL):
20重量份
接着,在上述消光脱模膜的脱模层上使用微凹版印刷法涂布下述组成的硬涂层用涂布液,使得干燥后的膜厚达到5.0μm,形成硬涂层。
(硬涂层用涂布液的组成)
·紫外线固化树脂:100重量份
(DIC公司制:RC29-117、加有紫外线聚合引发剂、固体成分为30%)
·二氧化硅:20重量份
(日产化学公司制:粒径为10~20nm、MEK分散液、固体成分为30%)
接着,在上述硬涂层上使用凹版印刷法涂布作为底涂层用涂布液的丙烯酸多元醇/异氰酸酯系油墨(东洋油墨公司制:V425Anchor),使得干燥后的膜厚达到1μm,形成底涂层。在其上使用凹版印刷法涂布作为装饰层用涂布液的黑色油墨(东洋油墨公司制:V428UR92黑),使得干燥后的膜厚达到3μm,形成装饰层。进而,在其上使用凹版印刷法涂布粘接层用涂布液(东洋油墨公司制:K539HP粘接清漆),使得干燥后的膜厚达到1μm,形成粘接层。如此,制作实施例1-1的转印膜。
将如上制作的转印膜安装在注塑成型机的金属模具内部,对聚碳酸酯ABS合金树脂(日本A&LINC公司制:TechnoaceT-105)进行注塑成型。冷却后开放注塑成型用金属模具,将构成该转印膜的消光脱模膜从转印成型品上剥离后,对转印成型品表面使用高压汞灯照射累积光量为1000mJ/cm2的紫外线,使硬涂层发生交联固化。由此,获得具有高表面强度的转印成型品。
<实施例1-2>
除了使用下述组成的脱模层用涂布液以外,与实施例1-1同样地制作消光脱模膜。
(脱模层用涂布液的组成)
·丙烯酸多元醇酯树脂(东荣化成公司制:LC#6560):
100重量份
·硝基纤维素(H1/4):10重量份
·丙烯酸树脂:5重量份
(是丙烯酸6-羟基己酯与甲基丙烯酸硬脂酯的共聚物,具有羟基和长链烷基(碳数为18))
·异氰酸酯化合物(日本Polyurethane公司制:CORONATEL):
20重量份
接着,在上述消光脱模膜的脱模层上与实施例1-1同样地层叠硬涂层、底涂层、装饰层、粘接层,制作实施例1-2的转印膜。将该转印膜安装在注塑成型机的金属模具内部,与实施例1-1同样地进行注塑成型及对转印成型品表面的紫外线照射,获得具有高表面强度的转印成型品。
<实施例1-3>
除了使用下述组成的脱模层用涂布液以外,与实施例1-1同样地制作消光脱模膜。
(脱模层用涂布液的组成)
·丙烯酸多元醇酯树脂(东荣化成公司制:LC#6560):
100重量份
·硝基纤维素(H1/4):10重量份
·丙烯酸树脂:5重量份
(是丙烯酸6-羟基己酯与甲基丙烯酸硬脂酯的共聚物,具有羟基和长链烷基(碳数为18))
·有机硅改性丙烯酸树脂(日油公司制:FS730):5重量份
·异氰酸酯化合物(日本Polyurethane公司制:CORONATEL):
20重量份
接着,在上述消光脱模膜的脱模层上与实施例1-1同样地层叠硬涂层、底涂层、装饰层、粘接层,制作实施例1-3的转印膜。将该转印膜安装在注塑成型机的金属模具内部,与实施例1-1同样地进行注塑成型及对转印成型品表面的紫外线照射,获得具有高表面强度的转印成型品。
<实施例1-4>
使用与实施例1-1相同的基材膜,在其一个面上与实施例1-1同样地形成消光层。之后,使用微凹版印刷法涂布与实施例1-3相同组成的脱模层用涂布液,使得干燥后的膜厚达到2.2μm,形成脱模层。之后,在50℃下老化5天,制作消光脱模膜。
接着,在上述消光脱模膜的脱模层上与实施例1-1同样地层叠硬涂层、底涂层、装饰层、粘接层,制作实施例1-4的转印膜。将该转印膜安装在注塑成型机的金属模具内部,与实施例1-1同样地进行注塑成型及对转印成型品表面的紫外线照射,获得具有高表面强度的注塑成型品。
<实施例1-5>
使用与实施例1-1相同的基材膜,在其一个面上与实施例1-1同样地形成消光层。之后,使用微凹版印刷法涂布与实施例1-2相同组成的脱模层用涂布液,使得干燥后的膜厚达到0.8μm,形成脱模层。之后,在50℃下老化5天,制作消光脱模膜。
接着,在上述消光脱模膜的脱模层上与实施例1-1同样地层叠硬涂层、底涂层、装饰层、粘接层,制作实施例1-5的转印膜。将该转印膜安装在注塑成型机的金属模具内部,与实施例1-1同样地进行注塑成型及对转印成型品表面的紫外线照射,获得具有高表面强度的注塑成型品。
<比较例1-1>
将厚度为50μm的双轴拉伸聚酯膜(三菱树脂公司制:G440E50)作为基材膜,在其一个面上使用棒涂机涂布作为消光层用涂布液的丙烯酸/三聚氰胺系油墨(东洋油墨公司制:HP216mattecoatN清漆),使得干燥后的膜厚达到4.3μm。之后,在180度下进行烧结,形成消光层。
接着,在上述消光层的面上与实施例1-1同样地形成脱模层。
<比较例1-2>
使用与实施例1-1相同的基材膜,在其一个面上与实施例1-1同样地形成消光层。之后,使用棒涂机涂布作为脱模层用涂布液的丙烯酸/三聚氰胺系油墨(东洋油墨公司制:HP216glosscoatN清漆),使得干燥后的膜厚达到0.5μm。之后,在180度下进行烧结,形成脱模层,制作消光脱模膜。
接着,在上述消光脱模膜的脱模层上与实施例1-1同样地形成硬涂层。
<评价及方法>
对于实施例1-1~1-5中分别制作的转印膜,通过目视评价消光层、脱模层、硬涂层的成膜性及各个转印膜对成型品的转印性。将没有外观异常的情况(实用上没有问题的水平)作为“○”、将不可均匀涂布的情况或有外观异常的情况(实用上有问题)作为“×”。进而,对于使用了实施例1-1、1-4及1-5中制作的转印膜的成型品,对光泽度(60°)也进行了测定。将结果示于表1。另外,将未实施层形成的情况、未实施转印的情况、未测定光泽度的情况作为“-”。这里“未能均匀涂布的情况”是指为了进行成膜虽然尝试了涂布本身、但未能均匀地涂布的情况。另外,“未实施层形成的情况”是指由于在成为基底的层中产生的不良情况(皱褶等)的影响而无法实施应该要层叠在成为基底的层上的层形成的情况。
表1
<比较结果>
实施例1-1~1-5中获得的转印膜的消光层、脱模层、硬涂层的形成均良好地形成。另外,对使用了各个转印膜的成型品的转印也获得了良好的结果。
另一方面,比较例1-1中在基材膜上进行了消光层的形成,但由于在消光层的形成时所实施的180℃下的烧结,发生了皱褶或热收缩等不良情况,未能均匀地涂布脱模层。因此,未能形成之后的硬涂层、装饰层、粘接层,达不到转印膜的制作。另外,比较例1-2也同样地进行了在基材膜上的消光层及脱模层的形成,但由于在脱模层形成时实施的180℃下的烧结,发生了皱褶或热收缩等不良情况,未能均匀地涂布硬涂层,未能形成之后的装饰层、粘接层,达不到转印膜的制作。
另外,使用实施例1-1、1-4及1-5中获得的转印膜进行注塑成型获得的成型品的光泽度(60°)确认到与脱模层的膜厚之间有相关性。认为其原因在于,根据所层叠的脱模层的膜厚,消光层表面的凹凸被埋入的程度发生了变化。
(第2实施方式)
图3是本发明第2实施方式的转印膜的截面概略图。另外,图4是使用第2实施方式的转印膜制造的转印成型品的截面概略图。
如图3所示,本实施方式的转印膜11B是依次具备基材膜1、消光层2、脱模层3B、硬涂层4、底涂层5、装饰层6、粘接层7的层叠体。
这里,第2实施方式的转印膜11B与第1实施方式的转印膜11A相比,仅脱模层3B不同,其他的层(即基材膜1、消光层2、硬涂层4、底涂层5、装饰层6、粘接层7)均相同。更详细地说,转印膜11B所具备的脱模层3B在含有消光剂(第2消光剂)的方面与转印膜11A所具备的脱模层3A是不同的。因此,本实施方式中,关于第1实施方式中说明过的基材膜1、消光层2、硬涂层4、底涂层5、装饰层6、粘接层7的说明省略,仅对脱模层3B进行说明。
(脱模层3B)
脱模层3B是在其表面形成微细的凹凸且具有脱模性的层。该脱模层3B含有消光剂(第2消光剂),该消光剂与消光层2的情况同样地并无特别限定,可以使用各种的无机粒子或有机粒子。以下,也将含有该消光剂的脱模层3B方便地记载为“消光脱模层3B”。即,该消光脱模层3B除了含有消光剂以外,与第1实施方式中说明过的脱模层3A相同。
消光脱模层3B所含的消光剂的平均粒径优选为0.01μm以上且50μm以下的范围内、更优选为1μm以上且30μm以下的范围内。消光剂的平均粒径小于0.01μm时,有时转印成型品表面的消光外观的赋予变得不充分;超过50μm时,有时成为各印刷工序中气泡产生的要因。消光脱模层3B的厚度并无特别限定,可以考虑所用消光剂的平均粒径和转印后的被转印体的表面光泽度来决定。通过改变该消光脱模层3B的厚度,可以调整被转印体的表面光泽度。具体地说,当增厚消光脱模层3B的厚度时,可以将被转印体的表面光泽度调高,相反当减薄消光脱模层3B的厚度时,可以将被转印体的表面光泽度调低。
消光剂的添加量并无特别限定,在用于形成消光脱模层3B的涂布液(以下也仅记载为“消光脱模层用涂布液”)中相对于构成消光脱模层3B的涂膜主成分的树脂材料,优选为大于0.0重量%且5.0重量%以下的范围内、更优选为0.2重量%以上且2.0重量%以下的范围内。为这种范围内的添加量时,与仅消光层2的表面光泽度相比,可以在稍高的区域内调整表面光泽度、可以容易地增加消光外观的光泽度变化。
然而,仅为消光层2时,有随着光泽度提高、进行注塑成型获得的转印成型品表面的非映像性变差的倾向。这是由于在调整光泽度时,为了降低消光层2的消光剂比率、消光脱模膜9表面的凹凸数量减少。如此,即便是获得了作为光泽度的目标值,但非映像性恶化,无法均匀地赋予转印成型品表面的消光外观,因此在实用上不优选。另一方面,如本实施方式所示,当在消光层2上进一步层叠有消光脱模层3B时,可以在不减少消光层2表面的凹凸数的情况下调整光泽度。因此,能够对转印成型品表面赋予均匀的消光外观,就非映像性而言,也可获得良好的结果。如此,如果是在不降低消光层2的消光剂比率的情况下调整消光层2表面的凹凸高度的本实施方式的构成,与仅消光层2的情况相比,能够以均匀的消光外观赋予稍高区域的表面光泽度。
另外,消光脱模层3B中对于上述消光剂以外的材料等、即形成消光脱模层3B的树脂材料等而言,由于与形成第1实施方式中说明过的脱模层3A的树脂材料等相同,因此这里省略其说明。
另外,消光脱模层3B所含的消光剂(第2消光剂)与消光层2所含的消光剂(第1消光剂)可以是相同的消光剂、也可以是不同的消光剂。
(效果)
本实施方式的转印膜11B由于消光层2由双组分固化型聚氨酯树脂形成,因此可以提高凹版印刷时的印刷适应性,并且在室温~50℃左右的低温下固化反应即结束,可以制作对基材膜1的热负荷小的消光层2。进而,由于消光层2含有第1消光剂,因此还可对转印成型品的表面赋予消光外观。
另外,由于消光脱模层3B由具有碳数为10以上且30以下的长链烷基的丙烯酸聚氨酯树脂形成,因此可以提高凹版印刷时的印刷适应性,并且消光脱模层3B在热转印时呈现优异的脱模性,且可以抑制涂布在消光脱模层3B上的硬涂层用涂布液的涂膜凹陷现象,可以形成均匀的硬涂层4。进而,还可获得消光层2与消光脱模层3B之间的密合性。
另外,由于消光脱模层3B形成在消光层2的面上,因此通过调整消光脱模层3B的消光剂含量及膜厚,可以容易地控制被转印体(转印成型品)的表面光泽度。进而,由于可以抑制因消光脱模层3B的膜厚变动造成的对被转印体表面光泽度的影响,因此可以生产光泽度不均少的转印膜11B。
另外,本实施方式的转印膜11B由于不含三聚氰胺树脂,因此可以减少环境负荷(人的负荷)。
另外,本实施方式的转印膜11B在消光层2和消光脱模层3B的至少任一层中含有含羟基的纤维素衍生物。因此,为转印膜11B时,由于耐热性提高,因而即便是在与注塑成型同时进行转印的模内转印、即要求高温下的耐热性的模内转印时,也可抑制热皱褶或者粘附现象等不良情况。
另外,本实施方式的转印膜11B的脱模层3B含有含羟基的丙烯酸有机硅树脂。因此,为转印膜11B时,可以呈现出对热转印的高速化也可充分应对的优异的脱模性。
(实施例2)
以下根据各实施例详细地说明第2实施方式的发明。此外,本发明并非仅限于以下的实施例。
<实施例2-1>
将厚度为50μm的双轴拉伸聚酯膜(三菱树脂公司制:G440E50)作为基材膜,在其一个面上使用凹版印刷法涂布下述组成的消光层用涂布液,使得在100℃下干燥了10秒之后的膜厚达到4.5μm,形成消光层。
(消光层用涂布液的组成)
·丙烯酸多元醇酯树脂(东荣化成公司制:LC#6560):
100重量份
·二氧化硅填料(EVONIKDEGUSSA公司制:粒径为6μm):
5重量份
·聚丙烯腈填料(东洋纺公司制:粒径为7μm):5重量份
·异氰酸酯化合物(日本Polyurethane公司制:CORONATEHL):
10重量份
在上述消光层上使用微凹版印刷法涂布下述组成的消光脱模层用涂布液,使得干燥后的膜厚达到2.5μm,形成消光脱模层,之后在50℃下老化5天,制作消光脱模膜。
(消光脱模层用涂布液的组成)
·丙烯酸多元醇酯树脂(东荣化成公司制:LC#6560):
100重量份
·二氧化硅填料(EVONIKDEGUSSA公司制:粒径为6μm):
1重量份
·丙烯酸树脂:5重量份
(是丙烯酸6-羟基己酯与甲基丙烯酸硬脂酯的共聚物,具有羟基和长链烷基(碳数为18))
·异氰酸酯化合物(日本Polyurethane公司制:CORONATEL):
20重量份
接着,在上述消光脱模膜的消光脱模层上使用微凹版印刷法涂布下述组成的硬涂层用涂布液,使得干燥后的膜厚达到5.0μm,形成硬涂层。
(硬涂层用涂布液的组成)
·紫外线固化树脂:100重量份
(DIC公司制:RC29-117、添加有紫外线聚合引发剂、固体成分为30%)
·二氧化硅:20重量份
(日产化学公司制:粒径为10~20nm、MEK分散液、固体成分为30%)
接着,在上述硬涂层上使用凹版印刷法涂布作为底涂层用涂布液的丙烯酸多元醇/异氰酸酯系油墨(东洋油墨公司制:V425Anchor),使得干燥后的膜厚达到1μm,形成底涂层。在其上使用凹版印刷法涂布作为装饰层用涂布液的黑色油墨(东洋油墨公司制:V428UR92黑),使得干燥后的膜厚达到3μm,形成装饰层。进而,在其上使用凹版印刷法涂布粘接层用涂布液(东洋油墨公司制:K539HP粘接清漆),使得干燥后的膜厚达到1μm,形成粘接层。如此,制作实施例2-1的转印膜。
将如上制作的转印膜安装在注塑成型机的金属模具内部,对聚碳酸酯ABS合金树脂(日本A&LINC公司制:TechnoaceT-105)进行注塑成型。冷却后开放注塑成型用金属模具,将构成该转印膜的消光脱模膜从成型品上剥离后,对转印成型品表面使用高压汞灯照射累积光量为1000mJ/cm2的紫外线,使硬涂层发生交联固化。由此,获得具有高表面强度的转印成型品。
<实施例2-2>
除了使用下述组成的消光脱模层用涂布液以外,与实施例2-1同样地制作消光脱模膜。
(消光脱模层用涂布液的组成)
·丙烯酸多元醇酯树脂(东荣化成公司制:LC#6560):
100重量份
·二氧化硅填料(EVONIKDEGUSSA公司制:粒径为6μm):
1重量份
·硝基纤维素(H1/4):20重量份
·丙烯酸树脂:5重量份
(是丙烯酸6-羟基己酯与甲基丙烯酸硬脂酯的共聚物,具有羟基和长链烷基(碳数为18))
·异氰酸酯化合物(日本Polyurethane公司制:CORONATEL):
20重量份
接着,在上述消光脱模膜的脱模层上与实施例2-1同样地层叠硬涂层、底涂层、装饰层、粘接层,制作实施例2-2的转印膜。将该转印膜安装在注塑成型机的金属模具内部,与实施例2-1同样地进行注塑成型及对转印成型品表面的紫外线照射,获得具有高表面强度的转印成型品。
<实施例2-3>
除了使用下述组成的消光脱模层用涂布液以外,与实施例2-1同样地制作消光脱模膜。
(消光脱模层用涂布液的组成)
·丙烯酸多元醇酯树脂(东荣化成公司制:LC#6560):
100重量份
·二氧化硅填料(EVONIKDEGUSSA公司制:粒径为6μm):
1重量份
·硝基纤维素(H1/4):20重量份
·丙烯酸树脂:5重量份
(是丙烯酸6-羟基己酯与甲基丙烯酸硬脂酯的共聚物,具有羟基和长链烷基(碳数为18))
·有机硅改性丙烯酸树脂(日油公司制:FS730):5重量份
·异氰酸酯化合物(日本Polyurethane公司制:CORONATEL):
20重量份
接着,在上述消光脱模膜的消光脱模层上与实施例2-1同样地层叠硬涂层、底涂层、装饰层、粘接层,制作实施例2-3的转印膜。将该转印膜安装在注塑成型机的金属模具内部,与实施例2-1同样地进行注塑成型及对转印成型品表面的紫外线照射,获得具有高表面强度的转印成型品。
<实施例2-4>
使用与实施例2-1相同的基材膜,在其一个面上与实施例2-1同样地形成消光层。之后,使用微凹版印刷法涂布与实施例2-1相同组成的消光脱模层用涂布液,使得干燥后的膜厚达到1.9μm,形成消光脱模层。之后,在50℃下老化5天,制作消光脱模膜。
接着,在上述消光脱模膜的消光脱模层上与实施例2-1同样地层叠硬涂层、底涂层、装饰层、粘接层,制作实施例2-4的转印膜。将该转印膜安装在注塑成型机的金属模具内部,与实施例2-1同样地进行注塑成型及对转印成型品表面的紫外线照射,获得具有高表面强度的转印成型品。
<实施例2-5>
使用与实施例2-1相同的基材膜,在其一个面上与实施例2-1同样地形成消光层。之后,使用微凹版印刷法涂布下述组成的消光脱模层用涂布液,使得干燥后的膜厚达到2.5μm,形成消光脱模层。之后,在50℃下老化5天,制作消光脱模膜。
(消光脱模层用涂布液的组成)
·丙烯酸多元醇酯树脂(东荣化成公司制:LC#6560):
100重量份
·二氧化硅填料(EVONIKDEGUSSA公司制:粒径为6μm):
3重量份
·丙烯酸树脂:5重量份
(是丙烯酸6-羟基己酯与甲基丙烯酸硬脂酯的共聚物,具有羟基和长链烷基(碳数为18))
·异氰酸酯化合物(日本Polyurethane公司制:CORONATEL):
20重量份
接着,在上述消光脱模膜的消光脱模层上与实施例2-1同样地层叠硬涂层、底涂层、装饰层、粘接层,制作实施例2-5的转印膜。将该转印膜安装在注塑成型机的金属模具内部,与实施例2-1同样地进行注塑成型及对转印成型品表面的紫外线照射,获得具有高表面强度的转印成型品。
<比较例2-1>
使用与实施例2-1相同的基材膜,在一个面上使用棒涂机涂布作为消光层用涂布液的丙烯酸/三聚氰胺系油墨(东洋油墨公司制:HP216mattecoatN清漆),使得干燥后的膜厚达到4.3μm。之后,在180℃下进行烧结,形成消光层。
接着,在上述消光层面上与实施例2-1同样地尝试形成消光脱模层。但是,由于在形成消光层时所实施的180℃下的烧结,在基材膜产生了皱褶或热收缩等不良情况,未能均匀地涂布消光脱模层。因此,未能形成之后的硬涂层、底涂层、装饰层、粘接层,未达成转印膜的制作。
<比较例2-2>
使用与实施例2-1相同的基材膜,在一个面上与实施例2-1同样地形成消光层。之后,使用棒涂机涂布作为消光层用涂布液的丙烯酸/三聚氰胺系油墨(东洋油墨公司制:HP200glosscoatN清漆及HP216mattecoatN清漆的混合油墨),使得干燥后的膜厚达到0.5μm。之后,在180℃下进行烧结,形成消光脱模层,制作消光脱模膜。
接着,在上述消光脱模膜的消光脱模层上与实施例2-1同样地尝试形成硬涂层。但是,由于在形成消光脱模层时所实施的180℃下的烧结,在基材膜上产生了皱褶或热收缩等不良情况,未能均匀地涂布硬涂层。因此,未能形成之后的底涂层、装饰层、粘接层,未达成转印膜的制作。
<比较例2-3>
使用与实施例2-1相同的基材膜,在一个面上使用微凹版印刷法涂布下述组成的消光层用涂布液,使得100℃下干燥10秒后的膜厚达到6.5μm,形成消光层,之后在50℃下老化5天,制作消光脱模膜。
(消光层用涂布液的组成)
·丙烯酸多元醇酯树脂(东荣化成公司制:LC#6560):
100重量份
·二氧化硅填料(EVONIKDEGUSSA公司制:粒径为6μm):
4重量份
·硝基纤维素(H1/4):10重量份
·丙烯酸树脂:5重量份
(是丙烯酸6-羟基己酯与甲基丙烯酸硬脂酯的共聚物,具有羟基和长链烷基(碳数为18))
·有机硅改性丙烯酸树脂(日油公司制:FS730):5重量份
·异氰酸酯化合物(日本Polyurethane公司制:CORONATEL):
20重量份
接着,在上述消光脱模膜的消光层上与实施例2-1同样地层叠硬涂层、底涂层、装饰层、粘接层,制作比较例2-3的转印膜。将该转印膜安装在注塑成型机的金属模具内部,与实施例2-1同样地进行注塑成型及对转印成型品表面的紫外线照射,获得具有高表面强度的转印成型品。
<比较例2-4>
使用与实施例2-1相同的基材膜,在一个面上与实施例2-1同样地形成消光层。另外,使用凹版印刷法涂布下述组成的有光泽脱模层用涂布液,使得干燥后的膜厚达到2.2μm,形成有光泽脱模层,之后,在50℃下老化5天,制作有光泽脱模膜。
(有光泽脱模层用涂布液的组成)
·丙烯酸多元醇酯树脂(东荣化成公司制:LC#6560):
100重量份
·丙烯酸树脂:5重量份
(是丙烯酸6-羟基己酯与甲基丙烯酸硬脂酯的共聚物,具有羟基和长链烷基(碳数为18))
·异氰酸酯化合物(日本Polyurethane公司制:CORONATEL):
20重量份
接着,在上述有光泽脱模膜的有光泽脱模层上与实施例2-1同样地层叠硬涂层、底涂层、装饰层、粘接层,制作比较例2-4的转印膜。将该转印膜安装在注塑成型机的金属模具内部,与实施例2-1同样地进行注塑成型及对转印成型品表面的紫外线照射,获得具有高表面强度的转印成型品。
<比较例2-5>
使用与实施例2-1相同的基材膜,在一个面上与实施例2-1同样地形成消光层。另外,使用凹版印刷法涂布与比较例2-4相同组成的有光泽脱模层用涂布液,使得干燥后的膜厚达到1.9μm,形成有光泽脱模层,之后,在50℃下老化5天,制作有光泽脱模膜。
接着,在上述有光泽脱模膜的有光泽脱模层上与比较例2-4同样地层叠硬涂层、底涂层、装饰层、粘接层,制作比较例2-5的转印膜。将该转印膜安装在注塑成型机的金属模具内部,与实施例2-1同样地进行注塑成型及对转印成型品表面的紫外线照射,获得具有高表面强度的转印成型品。
<评价及方法>
对于实施例2-1~2-5及比较例2-1~2-3中制作的转印膜,通过目视评价消光层、脱模层、硬涂层的成膜性及各个转印膜对转印成型品的转印性。将没有外观异常的情况(实用上没有问题的水平)作为“○”、将未能均匀涂布的情况或有外观异常的情况(实用上有问题)作为“×”。进而,对于使用了实施例2-1、2-4、2-5及比较例2-3中制作的转印膜的转印成型品,对转印成型品表面的光泽度(60°)及非映像性进行了评价。非映像性的评价通过目视进行,将样品放置在荧光灯的约2m正下方时,将未能确认到荧光灯轮廓的情况(实用上没有问题的水平)作为“○”、将可确认到的情况(实用上有问题)作为“×”。将评价的结果示于表2。此外,将未实施层形成的情况、未实施转印的情况、未测定光泽度的情况、未进行关于非映像性的评价的情况作为“-”。另外,与上述实施例1的情况同样,“未能均匀涂布的情况”是指为了进行成膜虽然尝试了涂布本身、但未能均匀地涂布的情况。另外,“未实施层形成的情况”是指由于在成为基底的层中产生的不良情况(皱褶等)的影响而无法实施应该要层叠在成为基底的层上的层形成的情况。
表2
对于实施例2-1、2-4及比较例2-4、2-5中制作的转印膜而言,测定使用各个转印膜制作的转印成型品的光泽度(60°),评价消光脱模层或有光泽脱模层的膜厚变化时的光泽度变动的情况。具体地说,将消光脱模层之间(实施例2-1、2-4)及有光泽脱模层之间(比较例2-4、2-5)的脱模层膜厚变动设为Δd、将光泽度变动设为ΔGr,在实施例与比较例之间计算脱模层的膜厚变化对光泽度变动造成影响的大小(ΔGr/Δd)并进行比较。将评价结果示于表3。
表3
<比较结果>
如表2所示,实施例2-1~2-5及比较例2-3中获得的转印膜均良好地形成了消光层、消光脱模层、硬涂层。另外,使用各转印膜转印至转印成型品表面时,转印性也良好。
另一方面,比较例2-1中虽然能够在基材膜上形成消光层,但由于在消光层的形成时所实施的180℃下的烧结,在基材膜上发生了皱褶或热收缩等不良情况,未能均匀地涂布消光脱模层。因此,未能形成之后的硬涂层、装饰层、粘接层,未达成转印膜的制作。另外,比较例2-2中,虽然能够在基材膜上形成消光层及消光脱模层,但由于在消光脱模层的形成时所实施的180℃下的烧结,在基材膜上发生了皱褶或热收缩等不良情况,未能均匀地涂布硬涂层。因此,未能形成之后的装饰层、粘接层,未达成转印膜的制作。
另外,如实施例2-1、2-4、2-5的结果所示,确认了进行注塑成型获得的成型品的光泽度(60°)与消光脱模层的膜厚及消光脱模层所含的二氧化硅填料的量之间有相关性。认为其原因在于,根据所层叠的消光脱模层的膜厚及消光脱模层所含的二氧化硅填料的量,层叠在消光层上的消光脱模层表面的凹凸状态发生了变化。另外,关于转印成型品表面的非映像性,也获得了良好的结果。
另一方面,使用比较例2-3中获得的转印膜时,进行注塑成型虽获得了转印成型品,但就转印成型品的表面的非映像性而言,未获得良好的结果。这是由于,通过调整消光层的填料量,减少了消光层表面的凹凸数量,从而调整了光泽度。实际上,尽管示出了与实施例2-1相同的表面光泽度的值,但还是非映像性差的结果,认为消光脱模膜的表面的凹凸数的差异对消光外观的精加工造成了影响。
另外,如表3所示,关于实施例2-1、2-4及比较例2-4、2-5中获得的转印成型品而言,评价了形成于消光层上的消光脱模层或有光泽脱模层的膜厚变化对光泽度变动造成影响的大小(ΔGr/Δd)。其结果确认了,使用具备消光脱模层的本实施例的转印膜时,因膜厚变动对光泽度的影响减小一半左右,能够赋予更为均匀的消光外观。
产业上的可利用性
通过本发明一个方式获得的转印膜可以用于家电产品、住宅设备、办公设备、汽车构件等中使用的面板构件等的表面保护兼装饰。
符号说明
1基材膜、2消光层、3A脱模层、3B(消光)脱模层、4硬涂层、5底涂层、6装饰(印刷)层、7粘接层、8成型树脂、9(消光)脱模膜、10转印层、11A、11B转印膜。
Claims (6)
1.一种转印膜,其为在基材膜的一个面上至少依次具有消光层、脱模层、硬涂层及粘接层的转印膜,其特征在于,
使所述消光层为由双组分固化型聚氨酯树脂形成且含有第1消光剂的层,
使所述脱模层为以丙烯酸聚氨酯树脂为主成分的层,
所述丙烯酸聚氨酯树脂是至少由丙烯酸多元醇酯树脂、含有羟基及碳数为10以上且30以下的长链烷基的丙烯酸树脂、以及异氰酸酯化合物的交联反应而生成的。
2.根据权利要求1所述的转印膜,其特征在于,在所述消光层和所述脱模层的至少任一层中进一步含有含羟基的纤维素衍生物。
3.根据权利要求1或2所述的转印膜,其特征在于,在所述脱模层中进一步含有含羟基的丙烯酸有机硅树脂。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的转印膜,其特征在于,所述脱模层中进一步含有第2消光剂。
5.根据权利要求4所述的转印膜,其特征在于,所述第1消光剂和所述第2消光剂为同一消光剂。
6.一种转印成型品,其特征在于,其是使用权利要求1~5中任一项所述的转印膜制造而成的。
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