CN105024018B - 一种柔性显示器及其制作方法 - Google Patents

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本发明公开一种柔性显示器及其制作方法，其中，制作方法包括步骤：A、对载体基板中间区域进行表面处理，使得载体基板中间区域呈疏水性；B、在载体基板表面均匀涂覆聚合物溶液，然后加热使之交联固化，形成聚合物薄膜；C、对聚合物薄膜四周进行表面处理，增加聚合物薄膜与载体基板的粘接性；D、在聚合物薄膜上依次形成阻隔层、TFT阵列层、OLED层及封装层，然后沿切割线将柔性显示器从载体基板上剥离下来。通过本发明即保证了在制作柔性显示器时具有较好的粘接性，又保证了在制作完成后，容易从载体基板上将显示器件剥离下来，同时本发明无需使用到粘接剂，简化了器件制备工艺，提升了柔性基板耐温性能，适合于制作高分辨率柔性显示器。

Description

一种柔性显示器及其制作方法
技术领域
本发明涉及柔性显示装置领域，尤其涉及一种柔性显示器及其制作方法。
背景技术
柔性显示器是近年来国内外各高校和研究结构的研究热点，也是各大厂商争相布局的重点。各种先进制作工艺和技术不断进步，使得柔性显示器不仅屏幕尺寸不断增大，而且显示质量也不断提高，三星、LG等大厂纷纷推出柔性AMOLED（有源矩阵有机发光二极体面板）显示样机。与普通显示器相比，柔性显示器具有诸多优点：重量轻、体积小、薄型化，携带方便；耐高低温、耐冲击、抗震能力更强，能适应的工作环境更广；可卷曲，外形更具有艺术设计的美感；采用印刷工艺的卷带式生产工艺，成本更加低廉；功耗低，更节能；有机材料更加绿色环保。柔性显示器是用柔性衬底材料作为器件承载基板，并要求电极层、TFT矩阵、显示器件以及封装层均有一定的弯曲半径才能实现柔性化。
目前，柔性显示产品的生产工艺主要分为两类：第一类是采用R2R（roll to roll）生产工艺，即通过印刷的方式直接在柔性基板上制备显示器件，但是由于受到印刷技术和显示墨水材料的限制，制备出的显示器件达不到高精度显示的要求，且良品率低、可靠性差；第二类是采用S2S（sheet to sheet）生产工艺，结合柔性基板先贴附后剥离的方法，先将柔性基板贴附在硬质载体基板上制备显示器件，制备完显示器件之后再剥离硬质基板，取出柔性显示器件，这种工艺不影响显示器件的制作精度，且制作设备和工艺与制作传统的TFT-LCD相仿，不必做太大的调整，因此短期内更接近于量产应用。
采用S2S生产工艺结合贴附剥离的方法制作柔性显示器是目前比较普遍的做法，但是这种方法需要额外用到粘接剂，且对粘接剂性能、贴附及剥离工艺要求苛刻，整个制作过程中粘接剂必须将基板和载体粘接牢固，均匀平整贴附无气泡，剥离方法对器件性能无影响且剥离后粘接剂无残留。更重要的是柔性衬底基板必须耐酸碱、有机溶剂（所有TFT工程用到的溶剂），可见光透过率高，并能耐受TFT高温工艺，其他机械性和稳定性均有较高的要求。
但现有的S2S生产工艺难以做到在保证载体基板与聚合物薄膜之间具有较好的粘接性的情况下，还能容易将聚合物薄膜剥离下来，且粘接剂无残留。
因此，现有技术还有待于改进和发展。
发明内容
鉴于上述现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种柔性显示器及其制作方法，旨在解决现有的柔性显示器制作工艺难以保证载体基板与聚合物薄膜之间既能具有较好的粘接性又方便剥离的问题。
本发明的技术方案如下：
一种柔性显示器的制作方法，其中，包括步骤：
A、对载体基板中间区域进行表面处理，使得载体基板中间区域呈疏水性；
B、在载体基板表面均匀涂覆聚合物溶液，然后加热使之交联固化，形成聚合物薄膜；
C、对聚合物薄膜四周进行表面处理，增加聚合物薄膜四周与载体基板的粘接性；
D、在聚合物薄膜上依次形成阻隔层、TFT阵列层、OLED层及封装层，然后沿切割线将柔性显示器从载体基板上切割并剥离下来。
所述的柔性显示器的制作方法，其中，所述步骤A中，对载体基板中间区域的表面处理的步骤具体包括：
先对载体基板的四周进行掩膜处理，然后采用含氟气体低温等离子体轰击载体基板的中间区域。
所述的柔性显示器的制作方法，其中，所述步骤A中，对载体基板中间区域的表面处理的步骤具体包括：
先对载体基板的四周进行掩膜处理，然后采用大气低温等离子体轰击载体基板的中间区域，再在载体基板的中间区域添加憎水剂。
所述的柔性显示器的制作方法，其中，所述憎水剂为二甲基硅油。
所述的柔性显示器的制作方法，其中，所述步骤C中，对聚合物薄膜四周进行表面处理的步骤具体包括：
先对聚合物薄膜的中间区域进行掩膜处理，再对聚合物薄膜四周进行紫外曝光处理，使聚合物薄膜四周的交联反应完全。
所述的柔性显示器的制作方法，其中，所述步骤C中，对聚合物薄膜四周进行表面处理的步骤具体包括：
先对聚合物薄膜的中间区域进行掩膜处理，再对聚合物薄膜四周进行脉冲微波加热处理，使聚合物薄膜四周高温氧化，提高聚合物薄膜与载体基板的粘接性。
所述的柔性显示器的制作方法，其中，所述步骤C中，阻隔层为有机材料/无机材料形成的交替结构，或者无机材料/无机材料形成的交替结构。
所述的柔性显示器的制作方法，其中，所述有机材料/无机材料交替结构为parylene/SiNx/parylene/SiNx。
所述的柔性显示器的制作方法，其中，所述无机材料/无机材料交替结构为SiNx/SiO2/SiNx。
一种柔性显示器，其中，采用如上所述的制作方法制成。
有益效果：本发明通过采用掩膜的方式，结合对载体基板的表面处理，从而使载体基板的中间区域呈疏水性，并且对形成的聚合物薄膜四周进行表面处理，使聚合物薄膜四周与载体基板粘接牢固，而聚合物薄膜中间区域则粘接性差，即保证了在制作柔性显示器时具有较好的粘接性，又保证了在制作完成后，容易从载体基板上将显示器件剥离下来，同时本发明无需使用到粘接剂，简化了器件制备工艺，提升了柔性基板耐温性能，适合于制作高分辨率柔性显示器。
附图说明
图1为本发明一种柔性显示器的制作方法较佳实施例的流程图。
图2为本发明的制作方法中对载体基板进行表面处理的流程示意图。
图3为本发明的制作方法中在载体基板上制作聚合物薄膜的流程示意图。
图4为本发明的制作方法中对聚合物薄膜进行表面处理的流程示意图。
图5为本发明的制作方法中在聚合物薄膜上形成阻隔层及封装层时的结构示意图。
图6为图5中的阻隔层的结构示意图。
图7为本发明的制作方法中将显示器件切割及剥离时的结构示意图。
图8为本发明的制作方法最后制得的顶部发光的柔性显示器的结构示意图。
图9为本发明的制作方法最后制得的底部发光的柔性显示器的结构示意图。
具体实施方式
本发明提供一种柔性显示器及其制作方法，为使本发明的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下对本发明进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
请参阅图1，图1为本发明一种柔性显示器的制作方法较佳实施例的流程图，如图所示，其包括步骤：
S1、对载体基板中间区域进行表面处理，使得载体基板中间区域呈疏水性；
S2、在载体基板表面均匀涂覆聚合物溶液，然后加热使之交联固化，形成聚合物薄膜；
S3、对聚合物薄膜四周进行表面处理，增加聚合物薄膜四周与载体基板的粘接性；
S4、在聚合物薄膜上依次形成阻隔层、TFT阵列层、OLED层及封装层，然后沿切割线将柔性显示器从载体基板上切割并剥离下来。
在本发明实施例中，通过对载体基板中间区域进行表面处理，使得载体基板中间区域呈疏水性，进而方便将聚合物薄膜与载体基板剥离，另外又对聚合物薄膜四周进行表面处理，增加聚合物薄膜四周与载体基板的粘接性，这样又保证了制作过程中，显示器件均匀平整无气泡，所以本发明实施例的制作工艺兼顾了粘接性及易剥离性，同时又无需使用到传统的粘接剂，所以简化了制作工艺，提升了柔性基板耐温性能。
本发明实施例中的聚合物容易优选为PI溶液，PI材料其本身具有较高的玻璃化转变温度（Tg）、较高的材料分解温度（Td），配合TFT高温工程，可制作性能优良的TFT阵列，实现高分辨率柔性AMOLED显示。
作为本发明更优选的实施例，在所述步骤S1中，对载体基板中间区域的表面处理步骤具体包括：
如图2所示，先对载体基板100的四周进行掩膜处理（MASK1），然后采用含氟气体低温等离子体轰击载体基板100的中间区域，轰击时间控制在15~45min，例如30min，从而在载体基板100表面的中间区域形成疏水表面110。其中的掩膜处理是指对选定的区域进行遮盖处理，从而使后续的处理过程只能影响选定的区域以外的区域，在本实施例是指载体基板100上掩膜处理区域之外的中间区域。
本实施例中，载体基板100优选为显示级电子玻璃，在电子玻璃表面，其亲水性能来自表面的碱金属离子、羟基、二氧化硅的水解倾向和微小裂缝，而含氟气体低温等离子体中含有大量的活性粒子，在轰击玻璃表面时，可打开玻璃表面的各种基团的化学键，从而形成溅射作用，除去玻璃表面的碱金属离子、羟基和二氧化硅等亲水基团、从而达到使载体基板100的中间区域呈疏水性的目的，这样聚合物薄膜与疏水表面的粘接性较差，有利于器件从载体基板100上剥离下来。
作为本发明更优选的实施例，在所述步骤S1中，对载体基板中间区域的表面处理步骤包括：
先对载体基板100的四周进行掩膜处理（MASK1），然后采用大气低温等离子体轰击载体基板100的中间区域，轰击时间控制在15~45min，例如30min，再在载体基板100的中间区域添加憎水剂，从而在载体基板100表面的中间区域形成疏水表面110。所述憎水剂为二甲基硅油。
在本实施例中，利用大气低温等离子体轰击载体基板100表面后，还添加憎水剂，从而使玻璃表面发生反应，生成憎水膜，以形成疏水表面。其中的憎水剂优选为二甲基硅油，在等离子体的作用下，二甲基硅油化学键断裂生成甲基和另一个大分子自由基，二者可以在置换羟基的前提下与电子玻璃的表面发生反应，生成一层致密的憎水膜，增强电子玻璃中间区域的疏水性。
在对载体基板100的中间区域进行表面处理之后，如图3所示，然后在整面载体基板100表面均匀涂覆聚合物溶液，例如PI溶液，然后送入到高温烘箱中，进行高温加热处理，使聚合物溶液发生交联固化，形成聚合物薄膜200即柔性衬底，聚合物溶液的涂覆方式可以是旋涂法(Spin)、刮涂法（slit）或者喷墨印刷（inkjet printing）等方法，并控制聚合物溶液涂覆的厚度、均匀性和表面粗糙度等特性参数。另外，可在高温烘箱中通入氮气，避免在高温下聚合物溶液与载体基板100发生界面反应影响聚合物薄膜200的性能。
上述两个实施例是针对载体基板100的表面处理，使得聚合物薄膜200与载体基板100中间区域的粘接性较差，为了防止聚合物薄膜200与载体基板100四周粘接不牢固，下面提供对聚合物薄膜表面处理的实施例，以增强聚合物薄膜四周与载体基板的粘接性，防止后续工艺过程中聚合物薄膜卷曲、剥落等现象。
作为本发明更优选的实施例，所述步骤S3中，对聚合物薄膜四周进行表面处理的步骤具体包括：
如图4所示，先对聚合物薄膜200的中间区域进行掩膜处理（MASK2），再对聚合物薄膜200四周进行紫外曝光处理，使聚合物薄膜200四周的交联反应完全。本实施例是对聚合物薄膜200四周进行紫外曝光处理，曝光时间控制在10~30min，例如20min，从而使聚合物薄膜200四周的交联反应完全，有机高分子重新排列，使聚合物薄膜形成聚合物胶210，进一步提升聚合物薄膜200的固化程度，增强聚合物薄膜200与载体基板100的粘接性，使得粘接更均匀平整、无气泡。
作为本发明更优选的实施例，所述步骤S3中，对聚合物薄膜四周进行表面处理的步骤具体包括：
先对聚合物薄膜200的中间区域进行掩膜处理（MASK2），再对聚合物薄膜200四周进行脉冲微波加热处理，使聚合物薄膜200四周高温氧化，温度条件控制在250~450℃，处理时间控制在1~3小时，例如300℃温度条件下处理2小时，以提高聚合物薄膜200与载体基板100的粘接性。本实施例是利用脉冲微波加热的形式，将聚合物薄膜200四周进行高温氧化处理，从而使聚合物薄膜200四周与载体基板100界面发生反应，增强键合能，提高聚合物薄膜200与载体基板100的粘接性。
由于聚合物薄膜200的水氧透过率高，对OLED器件的性能稳定性及使用寿命有严重影响，所以在聚合物薄膜200上需形成阻隔层300，如图5所示，以防止水氧透过，对器件进行保护，作为本发明更优选的实施例，所述阻隔层300为有机材料/无机材料形成的交替结构，或者无机材料/无机材料形成的交替结构。较佳的，所述有机材料/无机材料交替结构为parylene/SiNx/parylene/SiNx；进一步，如图6所示，所述无机材料/无机材料交替结构为SiNx（310）/SiO2（320）/SiNx（310）。然后在阻隔层300上制作用于驱动柔性显示器件的TFT阵列，例如Oxide-TFT，根据TFT工艺温度的不同，需要选用耐温性能不同的柔性衬底材料。然后蒸镀各层有机材料和电极材料，制作OLED显示器件，由TFT阵列层与OLED层组成AMOLED层400，最后制作封装层500，起到保护柔性显示器免受水汽、氧气、灰尘及应力的影响。
在上述器件制作完成后，如图7所示，可沿切割线将柔性显示器切割并剥离下来，其中，较佳的，切割线为聚合物薄膜对应载体基板疏水性区域的中间区域与四周区域的分界线。由于载体基板100与聚合物薄膜200的中间区域的粘接性较差，所以采用机械方式可方便的将器件和载体分离，同时由于无需使用到粘接剂，简化了制作工艺，也不用考虑到粘接剂的残留问题，还提升了柔性基板耐温性能。
另外，选择透光度不同的PI溶液，还可制作成如图8所示的顶发射（顶部发光）的柔性显示器或如图9所示的底发射（底部发光）的柔性显示器，具体可根据需要选择制作不同类型的柔性显示器。
基于上述方法，本发明还提供一种柔性显示器，其采用所述的制作方法制成。
综上所述，本发明通过采用掩膜的方式，结合对载体基板的表面处理，从而使载体基板的中间区域呈疏水性，并且对形成的聚合物薄膜四周进行表面处理，使聚合物薄膜四周与载体基板粘接牢固，而聚合物薄膜中间区域则粘接性差，即保证了在制作柔性显示器时具有较好的粘接性，又保证了在制作完成后，容易从载体基板上将显示器件剥离下来，同时本发明无需使用到粘接剂，简化了器件制备工艺，提升了柔性基板耐温性能，适合于制作高分辨率柔性显示器。
应当理解的是，本发明的应用不限于上述的举例，对本领域普通技术人员来说，可以根据上述说明加以改进或变换，所有这些改进和变换都应属于本发明所附权利要求的保护范围。

Claims (6)

1.一种柔性显示器的制作方法，其特征在于，包括步骤：
A、对载体基板中间区域进行表面处理，使得载体基板中间区域呈疏水性；对载体基板中间区域的表面处理的步骤具体包括：先对载体基板的四周进行掩膜处理，然后采用大气低温等离子体轰击载体基板的中间区域，再在载体基板的中间区域添加憎水剂；
B、在载体基板表面均匀涂覆聚合物溶液，然后加热使之交联固化，形成聚合物薄膜；
C、对聚合物薄膜四周进行表面处理，增加聚合物薄膜四周与载体基板的粘接性；
D、在聚合物薄膜上依次形成阻隔层、TFT阵列层、OLED层及封装层，然后沿切割线将柔性显示器从载体基板上切割并剥离下来；所述阻隔层为有机材料/无机材料形成的交替结构，或者无机材料/无机材料形成的交替结构；
所述步骤C中，对聚合物薄膜四周进行表面处理的步骤具体包括：
先对聚合物薄膜的中间区域进行掩膜处理，再对聚合物薄膜四周进行紫外曝光处理或脉冲微波加热处理，使聚合物薄膜四周的交联反应完全；
切割线为聚合物薄膜对应载体基板疏水性区域的中间区域与四周区域的分界线。
2.根据权利要求1所述的柔性显示器的制作方法，其特征在于，所述步骤A中，对载体基板中间区域的表面处理的步骤具体包括：
先对载体基板的四周进行掩膜处理，然后采用含氟气体低温等离子体轰击载体基板的中间区域。
3.根据权利要求1所述的柔性显示器的制作方法，其特征在于，所述憎水剂为二甲基硅油。
4.根据权利要求1所述的柔性显示器的制作方法，其特征在于，所述有机材料/无机材料交替结构为parylene/SiNx/parylene/SiNx。
5.根据权利要求1所述的柔性显示器的制作方法，其特征在于，所述无机材料/无机材料交替结构为SiNx/SiO2/SiNx。
6.一种柔性显示器，其特征在于，采用如权利要求1至5任一项所述的制作方法制成。
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