CN107768414B - 柔性基底及其制作方法、柔性显示基板及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种柔性基底及其制作方法、柔性显示基板及其制作方法，涉及显示技术领域，为解决现有技术中难以将柔性基底中的有机薄膜与载板分离，导致的影响工艺良率的问题。所述柔性基底包括：第一有机薄膜；位于所述第一有机薄膜上的无机薄膜；设置在所述无机薄膜的边缘的阻挡结构；位于所述阻挡结构限定的区域内的第二有机薄膜，所述第二有机薄膜在所述第一有机薄膜上的正投影位于所述第一有机薄膜的内部。本发明提供的柔性基底用于制备柔性显示基板。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种柔性基底及其制作方法、柔性显示基板及其制作方法。
背景技术
现有的柔性显示基板的制作方法一般包括如下步骤：提供一载板，在该载板上制作有机薄膜，以形成柔性基底，然后在柔性基底上形成显示器件，再将有机薄膜和显示器件与载板分离，并在有机薄膜远离显示器件的表面贴附保护膜，从而完成柔性显示基板的制作。
而在实际制备柔性显示基板时，为了提高柔性显示基板的信赖性和工艺稳定性，在制作柔性基底时，一般会在载板上制作双层的有机薄膜，即在载板上形成第一有机薄膜、无机薄膜、第二有机薄膜的层叠结构，但由于用于形成第二有机薄膜的材料为液体材料，该液体材料容易在无机薄膜的边缘发生流动，使得形成的第二有机薄膜的边缘超出第一有机薄膜，导致在采用激光剥离技术将第一有机薄膜以及无机薄膜、第二有机薄膜和显示器件与载板分离时，在边缘区域会发生第二有机薄膜与载板难以分离的问题，影响后续的工艺良率。
发明内容
本发明的目的在于提供一种柔性基底及其制作方法、柔性显示基板及其制作方法，用于解决现有技术中难以将柔性基底中的有机薄膜与载板分离，导致的影响工艺良率的问题。
为了实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
本发明的第一方面提供一种柔性基底，包括：
第一有机薄膜；
位于所述第一有机薄膜上的无机薄膜；
设置在所述无机薄膜的边缘的阻挡结构；
位于所述阻挡结构限定的区域内的第二有机薄膜，所述第二有机薄膜在所述第一有机薄膜上的正投影位于所述第一有机薄膜的内部。
进一步地，所述阻挡结构在所述第一有机薄膜上的正投影位于所述第一有机薄膜的内部。
进一步地，所述阻挡结构的厚度大于或等于所述第二有机薄膜的边缘的厚度。
进一步地，所述阻挡结构采用有机感光树脂。
基于上述柔性基底的技术方案，本发明的第二方面提供一种柔性显示基板，包括上述柔性基底，所述柔性显示基板还包括位于所述柔性基底上的显示器件。
进一步地，所述显示器件包括：位于所述第二有机薄膜上的薄膜晶体管阵列层、发光元件和薄膜封装层。
基于上述柔性基底的技术方案，本发明的第三方面提供一种柔性基底的制作方法，包括：
提供一载板；
在所述载板上形成第一有机薄膜；
在所述第一有机薄膜上形成无机薄膜；
在所述无机薄膜的边缘形成阻挡结构；
在所述阻挡结构限定的区域内形成第二有机薄膜，所述第二有机薄膜在所述第一有机薄膜上的正投影位于所述第一有机薄膜的内部。
进一步地，所述在所述无机薄膜的边缘形成阻挡结构包括：
利用有机材料，在所述无机薄膜上形成阻挡薄膜；
对所述阻挡薄膜进行构图，形成位于所述无机薄膜的边缘的所述阻挡结构，所述阻挡结构在所述第一有机薄膜上的正投影位于所述第一有机薄膜的内部。
进一步地，所述在所述阻挡结构限定的区域内形成第二有机薄膜包括：在所述阻挡结构限定的区域内，形成边缘的厚度小于或等于所述阻挡结构的厚度的第二有机薄膜。
基于上述柔性基底的制作方法的技术方案，本发明的第四方面提供一种柔性显示基板的制备方法，包括上述柔性基底的制作方法，所述柔性显示基板的制备方法还包括：
在所述柔性基底上形成显示器件；
采用激光剥离技术，将所述载板与所述第一有机薄膜分离；
在所述第一有机薄膜远离所述无机薄膜的表面贴附保护膜。
本发明提供的技术方案中，在无机薄膜的边缘设置了阻挡结构，该阻挡结构能够在无机薄膜上限定出一定的区域，使得形成在该限定的区域内的第二有机薄膜不会超出第一有机薄膜，即满足第二有机薄膜在第一有机薄膜上的正投影位于第一有机薄膜的内部，这样在利用激光剥离技术进行剥离操作时，只需采用固定能量的激光将第一有机薄膜与载板分离，即可实现第二有机薄膜自动与载板分离，避免了出现上述分离困难的问题，保证了后续工艺的良率和稳定性。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：
图1为现有技术中柔性基底的结构示意图；
图2为图1中A部分的放大示意图；
图3为本发明实施例提供的柔性基底的结构示意图；
图4为图3中B部分的放大示意图。
附图标记：
1-载板， 2-第一有机薄膜，
3-无机薄膜， 4-第二有机薄膜，
5-阻挡结构。
具体实施方式
为了进一步说明本发明实施例提供的柔性基底及其制作方法、柔性显示基板及其制作方法，下面结合说明书附图进行详细描述。
如背景技术所述，现有技术中在制作柔性基底时，一般会在载板1上依次叠加形成第一有机薄膜2、无机薄膜3和第二有机薄膜4，如图1所示；而在形成第二有机薄膜4时，由于采用的材料为液体材料，该液体材料容易在无机薄膜3的边缘发生流动，使得形成的第二有机薄膜4的边缘超出第一有机薄膜2，覆盖到位于第一有机薄膜2的周边区域的无机薄膜3上，如图2所示；对于这种结构的柔性基底，在利用激光剥离技术将形成的第一有机薄膜2以及无机薄膜3、第二有机薄膜4和显示器件与载板1分离时，由于第二有机薄膜4的边缘与载板1之间存在无机薄膜3，使得采用激光进行激光扫描时，位于第一有机薄膜2的周边区域的无机薄膜3会吸收一部分激光能量，使得在第一有机薄膜2与载板1能够分离时，第二有机薄膜4与载板1无法分离，导致出现分离困难的问题。
现有技术中为了解决上述分离困难的问题，一般会采用具有大能量的激光进行激光扫描，或采用具有较低能量的激光进行反复扫描，直至完成分离操作，但是这种解决方式不仅使得剥离工艺变的繁琐，还对后续的工艺良率产生影响。
为了更好的解决上述分离困难的问题，本发明的发明人经研究发现，可以通过控制第二有机薄膜4的形成区域，来避免第二有机薄膜4的边缘超出第一有机薄膜2，从而解决上述难以将柔性基底中的有机薄膜与载板1分离，导致的影响工艺良率的问题。
具体地，请参阅图3和图4，本发明实施例提供一种柔性基底，该柔性基底包括：
第一有机薄膜2；
位于第一有机薄膜2上的无机薄膜3；
设置在无机薄膜3的边缘的阻挡结构5；
位于阻挡结构5限定的区域内的第二有机薄膜4，第二有机薄膜4在第一有机薄膜2上的正投影位于第一有机薄膜2的内部。
在制作上述柔性基底时，可具体包括如下过程：提供一载板1，在载板1上形成第一有机薄膜2，然后在第一有机薄膜2上形成用于阻挡水和氧气的无机薄膜3，再在无机薄膜3的边缘形成阻挡结构5，使得阻挡结构5能够在无机薄膜3上限定出一定的区域，接着在由阻挡结构5限定的区域内形成第二有机薄膜4，使得第二有机薄膜4在第一有机薄膜2上的正投影位于第一有机薄膜2的内部。值得注意的是，上述第一有机薄膜2和第二有机薄膜4均可选为柔性薄膜。
根据上述柔性基底的具体结构和制作过程可知，本发明实施例提供的柔性基底中，在无机薄膜3的边缘设置了阻挡结构5，该阻挡结构5能够在无机薄膜3上限定出一定的区域，使得形成在该限定的区域内的第二有机薄膜4不会超出第一有机薄膜2，即满足第二有机薄膜4在第一有机薄膜2上的正投影位于第一有机薄膜2的内部，这样在利用激光剥离技术进行剥离操作时，只需采用激光扫描第一有机薄膜2所在区域，将第一有机薄膜2与载板1分离，即可实现第二有机薄膜4自动与载板1分离，避免了出现上述分离困难的问题，保证了后续工艺的良率和稳定性。
为了进一步保证剥离工艺的顺利进行，优选的，设置阻挡结构5在第一有机薄膜2上的正投影位于第一有机薄膜2的内部，由于这种设置方式使得阻挡结构5也不会超出第一有机薄膜2的边缘，从而避免了阻挡结构5对剥离工艺产生影响。
另外，阻挡结构5的厚度可根据实际需要设置，只要满足能够限制第二有机薄膜4的边缘不超过第一有机薄膜2的覆盖区域即可。例如：可设置阻挡结构5的厚度在1um-3um之间。将阻挡结构5的厚度设置在1um-3um之间，能够使得阻挡结构5的厚度大于或等于第二有机薄膜的边缘的厚度，从而更好的保证了采用液体材料形成第二有机薄膜4时，液体材料不会流动到阻挡结构5限定区域之外的区域，使得后续剥离工艺能够顺利进行。
值得注意的是，上述阻挡结构5所能够采用的材料多种多样，优选的，采用有机感光树脂等有机材料制作阻挡结构5，由于此有机材料在具有较低能量的激光的扫描下即可实现与载板1的分离，因此，采用有机感光树脂等有机材料制作阻挡结构5时，即使阻挡结构5在第一有机薄膜2上的正投影位于第一有机薄膜2的周边，也不会对后续的剥离工艺产生太大的影响。
本发明实施例还提供了一种柔性显示基板，包括上述柔性基底，柔性显示基板还包括位于柔性基底上的显示器件。
具体地，柔性显示基板包括上述柔性基底和形成在柔性基底上的显示器件，由于上述柔性基底中包括的阻挡结构5能够将第二有机薄膜4在第一有机薄膜2上的正投影限定在第一有机薄膜2内，因此，在第二有机薄膜4上形成显示器件后，在进行剥离工艺时，第二有机薄膜4不会对剥离过程产生影响，保证了剥离工艺的顺利进行以及后续工艺的良率。
需要说明的是，上述形成在第二有机薄膜4上的显示器件可包括：薄膜晶体管阵列层、发光元件和薄膜封装层，此外本发明实施例所提供的柔性显示基板可选为OLED显示基板或QLED显示基板。
本发明实施例还提供了一种柔性基底的制作方法，包括如下步骤：
提供一载板1；具体地，所提供的载板1可选为玻璃载板，但不仅限于此。
在载板1上形成第一有机薄膜2；具体地，采用有机材料，例如聚酰亚胺在载板1上形成第一有机薄膜2，第一有机薄膜2的厚度可在5um-30um之间。
在第一有机薄膜2上形成无机薄膜3；具体地，采用氮化硅(SiN)或氧化硅(SiO)在第一有机薄膜2上形成能够阻隔水和氧气的无机薄膜3。
在无机薄膜3的边缘形成阻挡结构5；具体地，可利用有机材料，例如：有机感光树脂等在无机薄膜3的边缘形成阻挡结构5，并使得该阻挡结构5能够在无机薄膜3上限定出一区域。
在阻挡结构5限定的区域内形成第二有机薄膜4，第二有机薄膜4在第一有机薄膜2上的正投影位于第一有机薄膜2的内部。具体地，采用有机材料，例如聚酰亚胺在阻挡结构5限定的区域内形成面积小于第一有机薄膜2面积的第二有机薄膜4，并满足该第二有机薄膜4在第一有机薄膜2上的正投影位于第一有机薄膜2的内部。
本发明实施例提供的柔性基底的制作方法中，在无机薄膜3的边缘形成了阻挡结构5，并使得该阻挡结构5能够在无机薄膜3上限定出一定的区域，然后在由阻挡层限定的区域内形成第二有机薄膜4，满足第二有机薄膜4在第一有机薄膜2上的正投影位于第一有机薄膜2的内部，这样在利用激光剥离技术进行剥离操作时，只需采用激光扫描第一有机薄膜2所在区域，将第一有机薄膜2与载板1分离，即可实现第二有机薄膜4自动与载板1分离，避免了出现上述分离困难的问题，保证了后续工艺的良率和稳定性。
上述在无机薄膜3的边缘形成阻挡结构5的步骤具体包括：
利用有机材料，在无机薄膜3上形成阻挡薄膜；
具体地，利用有机材料采用涂覆工艺在无机薄膜3上形成阻挡薄膜。
对阻挡薄膜进行构图，形成位于无机薄膜3的边缘的阻挡结构5，阻挡结构5在第一有机薄膜2上的正投影位于第一有机薄膜2的内部。
具体地，利用掩膜板对阻挡薄膜进行曝光、再对曝光后的阻挡薄膜进行显影，形成位于无机薄膜3的边缘的阻挡结构5，该阻挡结构5的位置可具体限定为：阻挡结构5在第一有机薄膜2上的正投影位于第一有机薄膜2的内部。
上述在阻挡结构5限定的区域内形成第二有机薄膜4的步骤具体包括：在阻挡结构5限定的区域内，形成边缘的厚度小于或等于阻挡结构5厚度的第二有机薄膜4层。
更详细地说，采用液体有机材料在阻挡结构5限定的区域内形成第二有机薄膜4时，可形成边缘厚度小于或等于阻挡结构5厚度的第二有机薄膜4，以避免液体有机材料会流出阻挡层限定的区域，而导致第二有机薄膜4超出第一有机薄膜2的边缘的问题。
本发明实施例还提供了一种柔性显示基板的制备方法，包括上述柔性基底的制作方法，所述柔性显示基板的制备方法还包括：
在柔性基底上形成显示器件，所述显示器件包括：薄膜晶体管阵列层、发光元件和薄膜封装层。
采用激光剥离技术，将载板1与第一有机薄膜2分离；具体地，由于第二有机薄膜4在第一有机薄膜2上的正投影位于第一有机薄膜2内，因此，利用激光对形成有显示器件的柔性基底进行激光扫描时，只需采用激光扫描第一有机薄膜2所在区域，将第一有机薄膜2与载板1分离，即可实现第二有机薄膜4自动与载板1分离，避免了出现上述分离困难的问题，保证了后续工艺的良率和稳定性。
在第一有机薄膜2层远离无机薄膜3的表面贴附保护膜。具体地，在完成剥离工艺后，在第一有机薄膜2层上贴附保护膜，完成柔性显示基板的制备。
本发明实施例提供的柔性显示基板的制备方法中，在无机薄膜3的边缘形成了阻挡结构5，并使得该阻挡结构5能够在无机薄膜3上限定出一定的区域，然后在由阻挡层限定的区域内形成第二有机薄膜4，满足第二有机薄膜4在第一有机薄膜2上的正投影位于第一有机薄膜2的内部，这样在利用激光剥离技术进行后续剥离操作时，只需采用激光扫描第一有机薄膜2所在区域，将第一有机薄膜2与载板1分离，即可实现第二有机薄膜4自动与载板1分离，避免了出现上述分离困难的问题，保证了后续工艺的良率和稳定性。
为了更好的说明柔性显示基板的制作过程，下面给出一制作柔性显示基板的具体实施例。
提供一玻璃载板；
在玻璃载板上涂布第一有机材料，对第一有机材料进行固化，形成厚度在5um-30um之间的第一有机薄膜2；
利用SiN或SiO，在第一有机薄膜2上形成能够阻隔水和氧气的无机薄膜3；
利用有机感光树脂材料在无机薄膜3上形成阻挡薄膜，对阻挡薄膜进行构图，形成位于无机薄膜3边缘的阻挡结构5，该阻挡结构5为回字形结构，能够在无机薄膜3层的中心部分限定出一区域，而且该阻挡结构5在第一有机薄膜2上的正投影位于第一有机薄膜2的内部；
采用液态的无机材料，在由阻挡结构5限定的区域中形成第二有机薄膜4，该第二有机薄膜4的边缘的厚度小于或等于阻挡结构5的厚度，且第二有机薄膜4在第一有机薄膜2上的正投影位于第一有机薄膜2的内部；
在第二有机薄膜4上依次叠加形成无机层、平坦化层、薄膜晶体管阵列层、发光元件和薄膜封装层，其中薄膜封装层为包括无机层和有机层交替堆叠的结构。
采用激光剥离技术将玻璃载板与第一有机薄膜2分离，在第一有机薄膜2上贴附保护膜，从而完成柔性显示基板的制作。
除非另外定义，本发明使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (6)
1.一种柔性显示基板，其特征在于，包括柔性基底，所述柔性显示基板还包括位于所述柔性基底上的显示器件；
所述柔性基底包括：
第一有机薄膜；
位于所述第一有机薄膜上的无机薄膜；
设置于所述无机薄膜背向所述第一有机薄膜的表面的阻挡结构，所述阻挡结构位于所述无机薄膜的边缘，所述阻挡结构背向所述无机薄膜的表面的高度，低于所述显示器件中发光元件背向所述无机薄膜的表面的高度；
位于所述阻挡结构限定的区域内的第二有机薄膜，所述第二有机薄膜在所述第一有机薄膜上的正投影位于所述第一有机薄膜的内部；
所述阻挡结构采用有机感光树脂。
2.根据权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，所述阻挡结构在所述第一有机薄膜上的正投影位于所述第一有机薄膜的内部。
3.根据权利要求1或2所述的柔性显示基板，其特征在于，所述阻挡结构的厚度大于或等于所述第二有机薄膜的边缘的厚度。
4.根据权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，所述显示器件包括：位于所述第二有机薄膜上的薄膜晶体管阵列层、发光元件和薄膜封装层。
5.一种柔性显示基板的制备方法，其特征在于，包括柔性基底的制作方法，所述柔性基底的制作方法包括：
提供一载板；
在所述载板上形成第一有机薄膜；
在所述第一有机薄膜上形成无机薄膜；
在所述无机薄膜背向所述第一有机薄膜的表面，在所述无机薄膜的边缘形成阻挡结构；
在所述阻挡结构限定的区域内形成第二有机薄膜，所述第二有机薄膜在所述第一有机薄膜上的正投影位于所述第一有机薄膜的内部；
所述在所述无机薄膜的边缘形成阻挡结构包括：
利用有机材料，在所述无机薄膜上形成阻挡薄膜；
对所述阻挡薄膜进行构图，形成位于所述无机薄膜的边缘的所述阻挡结构，所述阻挡结构在所述第一有机薄膜上的正投影位于所述第一有机薄膜的内部；
所述柔性显示基板的制备方法还包括：
在所述柔性基底上形成显示器件，所述阻挡结构背向所述无机薄膜的表面的高度，低于所述显示器件中发光元件背向所述无机薄膜的表面的高度；
采用激光剥离技术，将所述载板与所述第一有机薄膜分离；
在所述第一有机薄膜远离所述无机薄膜的表面贴附保护膜。
6.根据权利要求5所述的柔性显示基板的制备方法，其特征在于，所述在所述阻挡结构限定的区域内形成第二有机薄膜包括：在所述阻挡结构限定的区域内，形成边缘的厚度小于或等于所述阻挡结构的厚度的第二有机薄膜。
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