CN104916570A - 基板处理装置以及基板处理方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供基板处理装置及方法，成为处理对象的基板的种类无论怎样，都确实检测出从喷嘴喷出处理液的情况。上表面处理液喷嘴在旋转卡盘所保持的基板上方的处理位置与比处理杯靠外侧的待机位置之间往复移动。在移动到处理位置的上表面处理液喷嘴喷出处理液之前由照相机对包含上表面处理液喷嘴的前端的拍摄区域拍摄而获取喷出基准图像。之后，将由照相机连续对拍摄区域拍摄而获取的多个监视对象图像与喷出基准图像之间按顺序进行比较，判定从上表面处理液喷嘴喷出处理液的情况。每当对成为新的处理对象的基板进行处理时都获取喷出基准图像，因此能够将监视对象图像及喷出基准图像的作为背景而映入的基板表面的影响排除，确实检测出处理液的喷出。

Description

基板处理装置以及基板处理方法
技术领域
本发明涉及一种从喷嘴喷出处理液而对半导体晶片或者液晶显示装置用玻璃基板等薄板状的精密电子基板(下面仅称为“基板”)进行规定的处理的基板处理装置以及基板处理方法。
背景技术
以往以来，在半导体器件等的制造工序中，对基板供给纯水、光致抗蚀液、蚀刻液等各种处理液来进行清洗处理或者抗蚀剂涂敷处理等基板处理。作为使用这些处理液进行液体处理的装置，广泛使用着一边使基板以水平姿势旋转一边从喷嘴对该基板的表面喷出处理液的基板处理装置。
在这样的基板处理装置中，根据流量计的输出或者泵的动作确认来进行是否从喷嘴喷出处理液的确认，而作为更可靠地判定喷出的有无的方法，例如在专利文献1中提出了设置CCD照相机等拍摄装置来直接监视从喷嘴喷出处理液的情况的提案。
专利文献1：JP特开平11-329936号公报。
但是，在通过拍摄装置直接监视从喷嘴喷出处理液的状况的情况下，根据成为处理对象的基板的种类的不同，拍摄时的背景也不同。即，一般在基板的表面形成抗蚀膜或绝缘膜等各种膜而形成图案。而根据这样的膜的种类或所形成的图案的不同，基板表面的反射率也有很大不同，其结果是，根据成为处理对象的基板的种类的不同，拍摄时的背景也不同。另外，即使是形成了相同种类的膜，例如在使用氢氟酸进行蚀刻处理时，在处理时间流逝的同时，也进行着膜的腐蚀，存在基板表面的反射率也在变化的情况。因此，产生了如下这样的问题：基于在表面形成的膜的种类、所形成的图案、处理内容等各种因素，由拍摄装置拍摄的图像的噪声变大，不能准确地检测出从喷嘴喷出处理液的情况。
另外，在专利文献1所公开的技术中，由于利用拍摄装置来监视从喷嘴喷出处理液的情况，因此，例如在从喷嘴发生滴洒现象这样的情况下能够检测到该情况，但是喷嘴自身即使发生了位置偏离，也不能检测到该情况。一般在基板处理装置中，喷出处理液的喷嘴利用旋转式的臂部等能够在待机位置与处理位置之间移动，在规定的时刻移动到预先示教的处理位置而进行处理液的喷出处理。
但是，由于维护保养时的调整失误或者历时变化等，存在喷嘴移动到从所示教的处理位置偏离的位置而喷出处理液的情况。存在如下问题：在产生这样的喷嘴的位置偏离的情况下，不能得到原本期待的处理结果。
发明内容
本发明是鉴于上述问题而提出的，其第一个目的在于提供一种基板处理装置以及基板处理方法，成为处理对象的基板的种类无论怎样，都能够确实的检测出从喷嘴喷出处理液的情况。
另外，本发明的第二个目的在于提供一种基板处理装置以及基板处理方法，能够检测出喷嘴的位置偏离。
为解决上述问题，技术方案1的发明是一种基板处理装置，其特征在于，具有：基板保持部，其用于保持基板；杯部，其将所述基板保持部的周围包围；喷嘴，其用于喷出处理液；驱动部，其使所述喷嘴在所述基板保持部所保持的基板的上方的处理位置与比所述杯部更靠外侧的待机位置之间进行移动；拍摄部，其对包含所述处理位置处的所述喷嘴的前端的拍摄区域进行拍摄；判定部，其将在移动到所述处理位置的所述喷嘴喷出处理液之前由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的第一基准图像与之后对所述拍摄区域进行拍摄而获取的监视对象图像进行比较，来判定从所述喷嘴喷出处理液的情况；所述拍摄部每当在所述基板保持部保持着成为新的处理对象的基板并且所述喷嘴移动到所述处理位置时获取第一基准图像。
另外，技术方案2的发明，是如技术方案1所述的基板处理装置，其特征在于，还具有存储部，该存储部用于存储判定区域，该判定区域是在由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的图像之中的包含从所述喷嘴的前端起至所述基板保持部所保持的基板为止的一部分的区域，若第一基准图像以及监视对象图像的在所述判定区域的差分为规定的阈值以上，所述判定部就判定从所述喷嘴正在喷出处理液。
另外，技术方案3的发明，是如技术方案2所述的基板处理装置，其特征在于，所述拍摄部从所述基板保持部保持着成为新的处理对象的基板并且所述喷嘴从所述待机位置向着所述处理位置开始移动的时刻起，以规定间隔连续对所述拍摄区域进行拍摄，若由所述拍摄部对所述拍摄区域进行连续拍摄而获取的连续的图像的差分为一定值以下，所述判定部就判定所述喷嘴停止了移动。
另外，技术方案4的发明，是如技术方案3所述的基板处理装置，其特征在于，所述判定部将由所述拍摄部连续获取的图像之中的在判定所述喷嘴停止了移动的时刻的图像作为第一基准图像。
另外，技术方案5的发明，是如技术方案4所述的基板处理装置，其特征在于，所述判定部将在判定所述喷嘴停止移动之后由所述拍摄部连续获取的多个监视对象图像与第一基准图像按顺序进行比较，来判定从所述喷嘴喷出处理液的情况。
另外，技术方案6的发明，是如技术方案5所述的基板处理装置，其特征在于，所述判定部以所述判定区域的面积进行归一化，来进行第一基准图像与监视对象图像的比较。
另外，技术方案7的发明，是如技术方案6所述的基板处理装置，其特征在于，若通过第一基准图像与规定数量的监视对象图像之间的差分来求得的移动平均值为规定的阈值以上，所述判定部就判定从所述喷嘴正在喷出处理液。
另外，技术方案8的发明，是如技术方案4至技术方案7中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述判定部将在所述喷嘴准确地位于所述处理位置时由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的第二基准图像与第一基准图像进行比较，来判定所述喷嘴在所述处理位置处的位置异常。
另外，技术方案9的发明，是如技术方案8所述的基板处理装置，其特征在于，若第二基准图像以及第一基准图像中的所述喷嘴的坐标的差为规定的阈值以上，所述判定部就判定所述喷嘴的位置异常。
另外，技术方案10的发明，是如技术方案8所述的基板处理装置，其特征在于，所述判定部根据第二基准图像与第一基准图像的比较结果，来使第一基准图像以及监视对象图像中的所述判定区域的位置移动。
另外，技术方案11的发明，是一种基板处理方法，其特征在于，具有：保持工序，将成为新的处理对象的基板保持在基板保持部上；喷嘴移动工序，在成为新的处理对象的基板被保持在所述基板保持部上之后，使用于喷出处理液的喷嘴从比包围所述基板保持部的周围的杯部更靠外侧的待机位置向着所述基板保持部所保持的基板的上方的处理位置移动；拍摄工序，通过拍摄部对包含所述处理位置处的所述喷嘴的前端的拍摄区域进行拍摄；喷出判定工序，将在移动到所述处理位置的所述喷嘴喷出处理液之前由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的第一基准图像与之后对所述拍摄区域进行拍摄而获取的监视对象图像进行比较，来判定从所述喷嘴喷出处理液的情况；在所述拍摄工序中，每当在所述基板保持部保持着成为新的处理对象的基板并且所述喷嘴移动到所述处理位置时获取第一基准图像。
另外，技术方案12的发明，是如技术方案11所述的基板处理方法，其特征在于，还具有预先设定判定区域的工序，所述判定区域是在由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的图像之中的包含从所述喷嘴的前端起至所述基板保持部所保持的基板为止的一部分的区域，在所述喷出判定工序中，若第一基准图像以及监视对象图像的在所述判定区域的差分为规定的阈值以上，就判定从所述喷嘴正在喷出处理液。
另外，技术方案13的发明，是如技术方案12所述的基板处理方法，其特征在于，在所述拍摄工序中，从所述基板保持部保持着成为新的处理对象的基板并且所述喷嘴从所述待机位置向着所述处理位置开始移动的时刻起，以规定间隔连续对所述拍摄区域进行拍摄，还具有停止判定工序，在该停止判定工序中，若由所述拍摄部对所述拍摄区域进行连续拍摄而获取的连续的图像的差分为一定值以下，就判定所述喷嘴停止了移动。
另外，技术方案14的发明，是如技术方案13所述的基板处理方法，其特征在于，将由所述拍摄部连续获取的图像之中的在判定所述喷嘴停止了移动的时刻的图像作为第一基准图像。
另外，技术方案15的发明，是如技术方案14所述的基板处理方法，其特征在于，在所述喷出判定工序中，将在判定所述喷嘴停止了移动之后由所述拍摄部连续获取的多个监视对象图像与第一基准图像按顺序进行比较，来判定从所述喷嘴喷出处理液的情况。
另外，技术方案16的发明，是如技术方案15所述的基板处理方法，其特征在于，在所述喷出判定工序中，以所述判定区域的面积进行归一化，来进行第一基准图像与监视对象图像的比较。
另外，技术方案17的发明，是如技术方案16所述的基板处理方法，其特征在于，在所述喷出判定工序中，若第一基准图像与规定数量的监视对象图像之间的差分的移动平均值为规定的阈值以上，就判定从所述喷嘴正在喷出处理液。
另外，技术方案18的发明，是如技术方案14至技术方案17中任一项所述的基板处理方法，其特征在于，还具有位置判定工序，在该位置判定工序中，将在所述喷嘴准确地位于所述处理位置时由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的第二基准图像与第一基准图像进行比较，来判定所述喷嘴在所述处理位置处的位置异常。
另外，技术方案19的发明，是如技术方案18所述的基板处理方法，其特征在于，在所述位置判定工序中，若第二基准图像以及第一基准图像中的所述喷嘴的坐标的差为规定的阈值以上，就判定所述喷嘴的位置异常。
另外，技术方案20的发明，是如技术方案18所述的基板处理方法，其特征在于，在所述喷出判定工序中，根据第二基准图像与第一基准图像的比较结果来使第一基准图像以及监视对象图像中的所述判定区域的位置移动。
另外，技术方案21的发明，是一种基板处理装置，其特征在于，具有：基板保持部，其用于保持基板；杯部，其将所述基板保持部的周围包围；喷嘴，其用于喷出处理液；驱动部，其使所述喷嘴在所述基板保持部所保持的基板的上方的处理位置与比所述杯部更靠外侧的待机位置之间进行移动；拍摄部，其对包含所述处理位置处的所述喷嘴的前端的拍摄区域进行拍摄；设定部，其确定在所述喷嘴准确地位于所述处理位置时由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的位置基准图像中的所述喷嘴的坐标，将包含所述喷嘴的前端的矩形区域设定为参照图案；判定部，其将所述基板保持部保持着成为处理对象的基板并且所述喷嘴移动到所述处理位置时由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的图像中的与所述参照图案对应的一部分区域的图像与所述位置基准图像中的所述参照图案进行比较，来判定所述喷嘴在所述处理位置处的位置异常。
另外，技术方案22的发明，是如技术方案21所述的基板处理装置，其特征在于，所述设定部根据差分图像来确定所述喷嘴的坐标，该差分图像是在准确地位于所述处理位置的所述喷嘴向着规定方向移动了规定量时由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的参照图像与所述位置基准图像之间的差分。
另外，技术方案23的发明，是如技术方案22所述的基板处理装置，其特征在于，所述设定部根据所述差分图像中的灰度值曲线来确定所述喷嘴的宽度方向上的两端以及前端的坐标。
另外，技术方案24的发明，是如技术方案21至技术方案23中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述设定部根据所述喷嘴的喷出宽度以及所述喷嘴的前端与所述基板保持部所保持的基板之间的距离设定喷出判定区域，该喷出判定区域包含所述位置基准图像中的从所述喷嘴的前端喷出的处理液到达所述基板保持部所保持的基板为止的液柱部分，所述判定部将在移动到所述处理位置的所述喷嘴喷出处理液之前由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的喷出基准图像中的所述喷出判定区域与之后对所述拍摄区域进行拍摄而获取的监视对象图像中的所述喷出判定区域进行比较，来判定从所述喷嘴喷出处理液的情况。
另外，技术方案25的发明，是如技术方案24所述的基板处理装置，其特征在于，所述设定部将最大值与最小值之间的中间的值设定为阈值，该最大值是指在从所述喷嘴未喷出处理液时由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的图像与所述位置基准图像之间的在所述喷出判定区域的差分的最大值，该最小值是指在从所述喷嘴正在喷出处理液时由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的图像与所述位置基准图像之间的在所述喷出判定区域的差分的最小值，所述判定部将所述监视对象图像与所述喷出基准图像之间的在所述喷出判定区域的差分和所述阈值进行比较，来判定从所述喷嘴喷出处理液的情况。
另外，技术方案26的发明，是一种基板处理方法，其特征在于，具有：图案设定工序，确定在用于喷出处理液的喷嘴准确地位于应被保持在基板保持部上的基板的上方的处理位置时由拍摄部对包含该处理位置处的喷嘴的前端的拍摄区域进行拍摄而获取的位置基准图像中的所述喷嘴的坐标，将包含所述喷嘴的前端的矩形区域设定为参照图案；位置判定工序，将在所述基板保持部保持着成为处理对象的基板并且所述喷嘴从比包围着所述基板保持部的周围的杯部更靠外侧的待机位置移动到所述处理位置时由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的图像中的与所述参照图案对应的一部分区域的图像与所述位置基准图像中的所述参照图案进行比较，来判定所述喷嘴在所述处理位置处的位置异常。
另外，技术方案27的发明，是如技术方案26所述的基板处理方法，其特征在于，在所述图案设定工序中，根据差分图像来确定所述喷嘴的坐标，该差分图像是在准确地位于所述处理位置的所述喷嘴向着规定方向移动了规定量时由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的参照图像与所述位置基准图像之间的差分。
另外，技术方案28的发明，是如技术方案27所述的基板处理方法，其特征在于，在所述图案设定工序中，根据所述差分图像中的灰度值曲线来确定所述喷嘴的宽度方向上的两端以及前端的坐标。
另外，技术方案29的发明，是如技术方案26至技术方案28任一项所述的基板处理方法，其特征在于，还具有：区域设定工序，根据所述喷嘴的喷出宽度以及所述喷嘴的前端与所述基板保持部所保持的基板之间的距离设定喷出判定区域，该喷出判定区域包含所述位置基准图像中的从所述喷嘴的前端喷出的处理液到达所述基板保持部所保持的基板为止的液柱部分；喷出判定工序，将在移动到所述处理位置的所述喷嘴喷出处理液之前由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的喷出基准图像中的所述喷出判定区域与之后对所述拍摄区域进行拍摄而获取的监视对象图像中的所述喷出判定区域进行比较，来判定从所述喷嘴喷出处理液的情况。
另外，技术方案30的发明，是如技术方案29所述的基板处理方法，其特征在于，还具有阈值设定工序，在该阈值设定工序中，将最大值与最小值之间的中间的值设定为阈值，该最大值是指在从所述喷嘴未喷出处理液时由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的图像与所述位置基准图像之间的所述喷出判定区域的差分的最大值，该最小值是指在从所述喷嘴正在喷出处理液时由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的图像与所述位置基准图像之间的所述喷出判定区域的差分的最小值，在所述喷出判定工序中，将所述监视对象图像与所述喷出基准图像之间的在所述喷出判定区域的差分和所述阈值进行比较，来判定从所述喷嘴喷出处理液的情况。
另外，技术方案31的发明，是如技术方案30所述的基板处理方法，其特征在于，还具有：保存工序，将在从所述喷嘴未喷出处理液时以及正在喷出处理液时由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的在所述阈值设定工序中使用的图像进行保存；验证工序，使用通过所述保存工序而保存的图像，对在所述区域设定工序中设定的所述喷出判定区域以及在所述阈值设定工序中设定的所述阈值进行验证。
另外，技术方案32的发明，是一种基板处理装置，其特征在于，具有：腔室，其用于容置基板；基板保持部，其用于在所述腔室内保持基板；杯部，其将所述基板保持部的周围包围；喷嘴，其用于喷出处理液；驱动部，其使所述喷嘴在所述基板保持部所保持的基板的上方的处理位置与比所述杯部更靠外侧的待机位置之间进行移动；拍摄部，其用于对判定区域进行拍摄，该判定区域是在从所述处理位置的所述喷嘴正在喷出处理液时该处理液映入并且在从所述喷嘴停止喷出处理液时所述基板保持部所保持的基板的表面映入的区域；判定部，其根据所述拍摄部对所述判定区域进行拍摄而获取的判定图像，来判定从所述喷嘴喷出处理液的情况；所述判定部在所述判定图像中所包含的像素的亮度值的散布度比规定的阈值小时判定从所述喷嘴正在喷出处理液，在所述散布度比所述阈值大时判定从所述喷嘴未喷出处理液。
另外，技术方案33的发明，是如技术方案32所述的基板处理装置，其特征在于，所述散布度是标准偏差。
另外，技术方案34的发明，是如技术方案32所述的基板处理装置，其特征在于，所述拍摄部对所述判定区域进行连续拍摄而获取多个判定图像，所述判定部在所述多个判定图像之中的规定数量的判定图像中持续的出现所述散布度比所述阈值小的情况时，判定从所述喷嘴正在喷出处理液。
另外，技术方案35的发明，是如技术方案32至技术方案34中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，在从所述喷嘴停止喷出处理液时由所述基板保持部所保持的基板的表面反射并且由所述拍摄部拍摄的所述腔室内的部位上形成图案。
另外，技术方案36的发明，是如技术方案35所述的基板处理装置，其特征在于，所述图案是两种不同颜色相间的方格图案。
另外，技术方案37的发明，是如技术方案35所述的基板处理装置，其特征在于，所述图案是格子图案。
另外，技术方案38的发明，是如技术方案35所述的基板处理装置，其特征在于，所述图案是条纹图案。
另外，技术方案39的发明，是一种基板处理方法，其特征在于，具有：保持工序，将成为新的处理对象的基板搬入腔室内并且保持在基板保持部上；喷嘴移动工序，在将成为新的处理对象的基板保持在所述基板保持部上之后，使用于喷出处理液的喷嘴从比包围所述基板保持部的周围的杯部更靠外侧的待机位置向着所述基板保持部所保持的基板的上方的处理位置移动；拍摄工序，对判定区域进行拍摄，该判定区域是在从所述处理位置的所述喷嘴正在喷出处理液时该处理液映入并且在从所述喷嘴停止喷出处理液时所述基板保持部所保持的基板的表面映入的区域；判定工序，根据在所述拍摄工序中对所述判定区域进行拍摄而获取的判定图像，来判定从所述喷嘴喷出处理液的情况；在所述判定工序中，在所述判定图像中所包含的像素的亮度值的散布度比规定的阈值小时判定从所述喷嘴正在喷出处理液，在所述散布度比所述阈值大时判定从所述喷嘴未喷出处理液。
另外，技术方案40的发明，是如技术方案39所述的基板处理方法，其特征在于，所述散布度是标准偏差。
另外，技术方案41的发明，是如技术方案39或者技术方案40所述的基板处理方法，其特征在于，在所述拍摄工序中，对所述判定区域进行连续拍摄而获取多个判定图像，在所述判定工序中，在所述多个判定图像之中的规定数量的判定图像中持续的出现所述散布度比所述阈值小的情况时，判定从所述喷嘴正在喷出处理液。
根据技术方案1至技术方案10的发明，由于是将在移动到处理位置的喷嘴喷出处理液之前由拍摄部对拍摄区域进行拍摄而获取的第一基准图像与之后对拍摄区域进行拍摄而获取的监视对象图像之间进行比较，来判定从喷嘴喷出处理液的情况，每当基板保持部将成为新的处理对象的基板保持着并且喷嘴移动到处理位置时就获取第一基准图像，因此第一基准图像以及监视对象图像双方都包含有相同的基板的表面作为背景，基板表面的反射率的影响被排除，成为处理对象的基板的种类无论怎样，都能够确实地检测出从喷嘴喷出处理液的情况。
特别是根据技术方案2的发明，由于设定包含从喷嘴的前端起至基板保持部所保持的基板为止的一部分的判定区域，因此将在基板表面反射的像的影响等排除，能够进行第一基准图像与监视对象图像之间的比较。
特别是根据技术方案3的发明，由于若由拍摄部对拍摄区域进行连续拍摄而获取的连续的图像的差分为一定值以下，就判定喷嘴停止了移动，因此能够自动判定喷嘴的移动停止。
特别是根据技术方案6的发明，由于以判定区域的面积进行归一化，来进行第一基准图像与监视对象图像之间的比较，因此判定区域的大小无论怎样，都能够使阈值为一定。
特别是根据技术方案7的发明，由于若通过你第一基准图像与规定数量的监视对象图像之间的差分来求得的移动平均值为规定的阈值以上，就判定从喷嘴正在喷出处理液，因此能够缓和拍摄时的噪声的影响。
特别是根据技术方案8的发明，由于将在喷嘴准确地位于处理位置时由拍摄部对拍摄区域进行拍摄而获取的第二基准图像与第一基准图像之间进行比较，来判定喷嘴在处理位置处的位置异常，因此除了处理液的喷出，也能够判定喷嘴的位置异常。
特别是根据技术方案10的发明，由于根据第二基准图像与第一基准图像的比较结果来使第一基准图像以及监视对象图像中的判定区域的位置移动，因此即使是喷嘴的停止位置与适当的处理位置偏离若干，也能够准确地设定判定区域。
根据技术方案11至技术方案20的发明，由于是将在移动到处理位置的喷嘴喷出处理液之前由拍摄部对拍摄区域进行拍摄而获取的第一基准图像与之后对拍摄区域进行拍摄而获取的监视对象图像进行比较，来判定从喷嘴喷出处理液的情况，每当基板保持部将成为新的处理对象的基板保持着并且喷嘴移动到处理位置时就获取第一基准图像，因此第一基准图像以及监视对象图像双方都包含有相同的基板的表面作为背景，基板表面的反射率的影响被排除，成为处理对象的基板的种类无论怎样，都能够确实的检测出从喷嘴喷出处理液的情况。
特别是根据技术方案12的发明，由于预先设定包含从喷嘴的前端起至基板保持部所保持的基板为止的一部分的判定区域，因此将在基板表面反射的像的影响等排除，能够进行第一基准图像与监视对象图像之间的比较。
特别是根据技术方案13的发明，由于若由拍摄部对拍摄区域进行连续拍摄而获取的连续的图像的差分为一定值以下，就判定喷嘴停止了移动，因此能够自动判定喷嘴的移动停止。
特别是根据技术方案16的发明，由于以判定区域的面积进行归一化，来进行第一基准图像与监视对象图像之间的比较，因此判定区域的大小无论怎样，都能够使阈值为一定。
特别是根据技术方案17的发明，由于若第一基准图像与规定数量的监视对象图像之间的差分的移动平均值为规定的阈值以上，就判定从喷嘴正在喷出处理液，因此能够缓和拍摄时的噪声的影响。
特别是根据技术方案18的发明，由于将在喷嘴准确地位于处理位置时由拍摄部对拍摄区域进行拍摄而获取的第二基准图像与第一基准图像之间进行比较，来判定喷嘴在处理位置处的位置异常，因此除了处理液的喷出，也能够判定喷嘴的位置异常。
特别是根据技术方案20的发明，由于根据第二基准图像与第一基准图像的比较结果来使第一基准图像以及监视对象图像中的判定区域的位置移动，因此即使是喷嘴的停止位置与适当的处理位置偏离若干，也能够准确地设定判定区域。
根据技术方案21至技术方案25的发明，由于确定在喷嘴准确地位于处理位置时所获取的位置基准图像中的喷嘴的坐标，将包含喷嘴的前端的矩形区域设定为参照图案，将基板保持部保持着成为处理对象的基板并且喷嘴移动到处理位置时获取的图像中的与参照图案对应的一部分区域的图像与位置基准图像中的参照图案进行比较，来判定喷嘴在处理位置处的位置异常，因此能够检测出喷嘴的位置偏离。
特别是根据技术方案24的发明，由于设定喷出判定区域，该喷出判定区域包含位置基准图像中的从喷嘴的前端喷出的处理液到达基板保持部所保持的基板为止的液柱部分，将移动到处理位置的喷嘴喷出处理液之前获取的喷出基准图像中的喷出判定区域与之后获取的监视对象图像中的喷出判定区域进行比较，来判定从喷嘴喷出处理液的情况，因此除了喷嘴的位置偏离之外，还能够判定处理液有无喷出。
根据技术方案26至技术方案31的发明，由于确定在用于喷出处理液的喷嘴准确地位于应被保持在基板保持部上的基板的上方的处理位置时获取的位置基准图像中的喷嘴的坐标，将包含喷嘴的前端的矩形区域设定为参照图案，将在基板保持部保持着成为处理对象的基板并且喷嘴移动到处理位置时获取的图像中的与所述参照图案对应的一部分区域的图像与位置基准图像中的参照图案进行比较，来判定喷嘴在处理位置处的位置异常，因此能够检测出喷嘴的位置偏离。
特别是根据技术方案29的发明，由于设定喷出判定区域，该喷出判定区域包含位置基准图像中的从喷嘴的前端喷出的处理液到达基板保持部所保持的基板为止的液柱部分，将在移动到处理位置的喷嘴喷出处理液之前获取的喷出基准图像中的喷出判定区域与之后获取的监视对象图像中的喷出判定区域进行比较，来判定从喷嘴喷出处理液的情况，因此除了喷嘴的位置偏离之外，也能够判定处理液有无喷出。
特别是根据技术方案31的发明，由于将在阈值设定中使用的在从喷嘴未喷出处理液时以及正在喷出处理液时获取的图像进行保存，使用该图像对喷出判定区域以及阈值进行验证，因此实际上没有从喷嘴向基板喷出处理液，就能够验证喷出判定区域以及阈值的妥当性。
根据技术方案32至技术方案38的发明，由于在对判定区域进行拍摄而获取的判定图像中所包含的像素的亮度值的散布度比规定的阈值小时就判定从喷嘴正在喷出处理液，在散布度比阈值大时就判定从喷嘴未喷出处理液，因此仅利用判定图像就能够进行判定，能够确实地检测出从喷嘴喷出处理液的情况。
特别是根据技术方案34的发明，由于在连续拍摄而获取的多个判定图像之中的规定数量的判定图像中持续的出现散布度比阈值小的情况时，判定从喷嘴正在喷出处理液，因此能够稳定且确实地检测出从喷嘴喷出处理液的情况。
特别是根据技术方案35至技术方案38的发明，由于在停止喷出处理液时由基板保持部所保持的基板的表面反射并且由拍摄部拍摄的腔室内的部位上形成图案，因此在处理液未喷出时的判定图像的散布度显著变大，能够防止误判定。
根据技术方案39至技术方案41的发明，由于在对判定区域进行拍摄而获取的判定图像中所包含的像素的亮度值的散布度比规定的阈值小时，判定从喷嘴正在喷出处理液，在散布度比阈值大时，判定从喷嘴未喷出处理液，因此仅利用判定图像就能够进行判定，能够确实地检测出从喷嘴喷出处理液的情况。
特别是根据技术方案41的发明，由于连续拍摄而获取的多个判定图像之中的规定数量的判定图像中持续的出现散布度比阈值小的情况时，判定从喷嘴正在喷出处理液，因此能够稳定且确实的检测出从喷嘴喷出处理液的情况。
附图说明
图1是示出本发明的基板处理装置的整体结构的图。
图2是清洗处理单元的俯视图。
图3是清洗处理单元的纵向剖视图。
图4是示出照相机与上表面处理液喷嘴的位置关系的图。
图5是照相机以及控制部的框图。
图6是示出设定判定用参数的顺序的流程图。
图7是示出判定部所进行的判定处理的顺序的流程图。
图8是示出照相机对包含处理位置处的上表面处理液喷嘴的前端的拍摄区域进行拍摄而得到的图像的一个例子的图。
图9是示出拍摄区域内的上表面处理液喷嘴的移动的图。
图10A、图10B是示出喷出基准图像以及监视对象图像的图。
图11是示出差分的总和与阈值的比较的图。
图12是示意性地示出处理液喷出判定的算法的一个例子的图。
图13是示意性地示出处理液喷出判定的算法的另一个例子的图。
图14是示出第二实施方式的设定判定用参数的顺序的流程图。
图15A～图15C是示出确定上表面处理液喷嘴的坐标用的图像处理的图。
图16是示出确定上表面处理液喷嘴的宽度方向上的两端的坐标用的灰度值曲线的例子的图。
图17是示出确定上表面处理液喷嘴的前端的坐标用的灰度值曲线的例子的图。
图18是用于说明喷出判定的阈值设定明的图。
图19是示出照相机对包含处理位置处的上表面处理液喷嘴的前端的拍摄区域进行拍摄而得到的图像的一个例子的图。
图20是示出拍摄区域内的上表面处理液喷嘴的移动的图。
图21是示出未从上表面处理液喷嘴喷出处理液时的喷出判定用图像的图。
图22是示出从上表面处理液喷嘴正在喷出处理液时的喷出判定用图像的图。
图23是示出未喷出处理液时的判定用图像的像素的亮度值的一个例子的图。
图24是示出正在喷出处理液时的判定用图像的像素的亮度值的一个例子的图。
图25是示出在腔室内形成的图案的一个例子的图。
图26是示出在腔室内形成的图案的一个例子的图。
图27是示出在腔室内形成的图案的一个例子的图。
其中，附图标记说明如下：
1  清洗处理单元
9  控制部
10  腔室
20  旋转卡盘
30、60、65  上表面处理液喷嘴
33、63、68  喷嘴基座
40  处理杯
70  照相机
71  照明部
91  判定部
92  存储部
93  设定部
100  基板处理装置
PA  拍摄区域
RP  参照图案
SP  喷出判定区域
TH  阈值
W  基板
具体实施方式
下面参照附图对本发明的实施方式进行详细说明。
〈第一实施方式〉
图1是示出本发明的基板处理装置100的整体结构的图。该基板处理装置100是将半导体用途的基板W一张一张处理的单张式处理装置，使用药液以及纯水对圆形的硅的基板W进行清洗处理之后，进行干燥处理。作为药液，作为典型使用着SC1液(氨水、双氧水、水的混合液)、SC2液(盐酸、双氧水、水的混合液)、DHF液(稀氢氟酸)等。在本说明书中，将药液和纯水总称为“处理液”。另外，不仅是清洗处理，成膜处理用的光致抗蚀液等涂敷液、将不要的膜除去用的药液、蚀刻用的药液等也包含在本发明的“处理液”中。
基板处理装置100具有分度器102、多个清洗处理单元1以及主搬运机械手103。分度器102具有如下功能：将从装置外接受的未处理的基板W搬入到装置内，并且将完成了清洗处理的处理完的基板W向装置外搬出。分度器102具有装载多个搬运器的装载部和移送机械手(都省略了图示)。作为搬运器，可采用将基板W容置在密闭空间中的公知的FOUP(front openingunified pod：前开式统一标准箱)、SMIF(Standard Mechanical Inter Face：标准机械界面)盒或者将容置基板W暴露在外部大气中的OC(open cassette：开放式盒子)。移送机械手在该搬运器与主搬运机械手103之间移送基板W。
在基板处理装置100中配置有12个清洗处理单元1。详细的配置结构是，层叠有3个清洗处理单元1的塔状物以围绕在主搬运机械手103的周围的方式配置4个。换而言之，围绕着主搬运机械手103而配置的4个清洗处理单元1被层叠3层，图1中示出了其中的1层。另外，基板处理装置100上所装载的清洗处理单元1的个数并不限定为12，例如也可以是8个或4个。
主搬运机械手103在层叠了清洗处理单元1的4个塔状物的中央设置。主搬运机械手103将从分度器102接受的未处理的基板W搬入到各清洗处理单元1中，并且从各清洗处理单元1将处理完的基板W搬出并送交到分度器102。
接着，针对清洗处理单元1进行说明。下面针对在基板处理装置100中装载的12个清洗处理单元1中的1个进行说明，而其它的清洗处理单元1也全部相同。图2是清洗处理单元1的俯视图。另外，图3是清洗处理单元1的纵向剖视图。另外，图2示出旋转卡盘20上未保持有基板W的状态，图3示出旋转卡盘20上保持有基板W的状态。
清洗处理单元1在腔室10内作为主要的构件具有：将基板W以水平姿势(法线沿着铅垂方向的姿势)保持的旋转卡盘20；对旋转卡盘20所保持的基板W的上表面供给处理液用的三个上表面处理液喷嘴30、60、65；将旋转卡盘20的周围包围的处理杯40；对旋转卡盘20的上方空间进行拍摄的照相机70。另外，在腔室10内的处理杯40的周围设置有将腔室10的内侧空间上下分隔开的间隔板15。
腔室10具有沿着铅垂方向的侧壁11、将由侧壁11包围的空间的上侧堵塞住的顶棚壁12以及将由侧壁11包围的空间的下侧堵塞住的底板壁13。由侧壁11、顶棚壁12以及底板壁13包围住的空间成为基板W的处理空间。另外，在腔室10的侧壁11的一部分上，设置有主搬运机械手103将基板W搬入搬出腔室10用的搬运出入口以及开闭该搬运出入口的闸门(都省略了图示)。
在腔室10的顶棚壁12上安装有风机过滤器单元(FFU)14，该风机过滤器单元(FFU)14用于将设置基板处理装置100的洁净室内的空气进一步净化，并供给到腔室10内的处理空间中。风机过滤器单元14具有获取洁净室内的空气并送出到腔室10内用的送风机以及过滤器(例如HEPA过滤器)，在腔室10内的处理空间中形成清洁空气的下降流。为了使从风机过滤器单元14供给的清洁空气均匀分散，也可以在顶棚壁12的正下方配置贯穿设置有多个吹出孔的穿孔板。
旋转卡盘20具有圆板形状的旋转基座21，该旋转基座21以水平姿势固定在沿着铅垂方向延伸的旋转轴24的上端上。在旋转基座21的下方设置有使旋转轴24旋转的旋转电机22。旋转电机22经由旋转轴24使旋转基座21在水平面内旋转。另外，设置有筒状的罩构件23，该罩构件23将旋转电机22及旋转轴24的周围包围着。
圆板形状的旋转基座21的外径比在旋转卡盘20上保持的圆形的基板W的直径略大。所以，旋转基座21具有与应保持的基板W的下表面整个面相对的保持面21a。
在旋转基座21的保持面21a的周边部竖立设置有多个(本实施方式中为4根)卡盘销26。多个卡盘销26是沿着与圆形的基板W的外周圆对应的圆周隔开均等的间隔(若像本实施方式这样是4个卡盘销26，则是以90°间隔)而配置的。多个卡盘销26由在旋转基座21内容置的省略图示的链杆机构联动驱动的。旋转卡盘20通过使多个卡盘销26的每一个与基板W的外周端相抵接而将基板W保持着，从而能够将该基板W在旋转基座21的上方以接近于保持面21a的水平姿势保持着(参照图3)，并且能够使多个卡盘销26的每一个从基板W的外周端离开而解除保持。
覆盖旋转电机22的罩构件23的下端被固定在腔室10的底板壁13上，上端则到达旋转基座21的正下方。在罩构件23的上端部设置有凸缘状构件25，该凸缘状构件25从罩构件23向外方几乎水平的伸出，并且进一步向下方弯曲并延伸。在旋转卡盘20利用多个卡盘销26的保持而将基板W保持的状态下，旋转电机22使旋转轴24旋转，从而能够使基板W以旋转轴CX为中心进行旋转，该旋转轴CX是沿着通过基板W的中心的铅垂方向的旋转轴。另外，旋转电机22的驱动由控制部9控制。
上表面处理液喷嘴30在喷嘴臂部32的前端安装有喷出头31而构成。喷嘴臂部32的基端侧固定并连结在喷嘴基座33上。喷嘴基座33通过省略图示的电机而能够以沿着铅垂方向的轴为中心转动。通过喷嘴基座33进行转动，如图2中的箭头AR34所示，上表面处理液喷嘴30在旋转卡盘20的上方的处理位置与比处理杯40更靠外侧的待机位置之间沿着水平方向呈圆弧状移动。多种处理液(至少包含纯水)被供给到上表面处理液喷嘴30。在处理位置，从上表面处理液喷嘴30的喷出头31喷出的处理液抵达在旋转卡盘20上保持着的基板W的上表面上。另外，通过喷嘴基座33的转动，上表面处理液喷嘴30能够在旋转基座21的保持面21a的上方摆动。
另外，在本实施方式的清洗处理单元1中，除了上述的上表面处理液喷嘴30之外，还设置有两个上表面处理液喷嘴60、65。本实施方式的上表面处理液喷嘴60、65具有与上述的上表面处理液喷嘴30相同的结构。即，上表面处理液喷嘴60在喷嘴臂部62的前端安装喷出头而构成，通过与喷嘴臂部62的基端侧相连结的喷嘴基座63，如箭头AR64所示，在旋转卡盘20的上方的处理位置与比处理杯40更靠外侧的待机位置之间呈圆弧状移动。同样，上表面处理液喷嘴65在喷嘴臂部67的前端安装喷出头而构成，通过与喷嘴臂部67的基端侧相连结的喷嘴基座68，如箭头AR69所示，在旋转卡盘20的上方的处理位置与比处理杯40更靠外侧的待机位置之间呈圆弧状移动。至少包含纯水的多种处理液也被供给到上表面处理液喷嘴60、65，在处理位置，向在旋转卡盘20上保持的基板W的上表面喷出处理液。另外，也可以是上表面处理液喷嘴60、65中的至少一个为双流体喷嘴，该双流体喷嘴将纯水等清洗液与加压了的气体混合而生成液滴，将该液滴与气体的混合流体向基板W喷射。另外，在清洗处理单元1设置的喷嘴数并不限定为3根，只要是1根以上即可。
另一方面，以插通旋转轴24的内侧的方式沿着铅垂方向设置下表面处理液喷嘴28。下表面处理液喷嘴28的上端开口形成在与旋转卡盘20所保持的基板W的下表面中央相对的位置上。多种处理液也向下表面处理液喷嘴28供给。从下表面处理液喷嘴28喷出的处理液抵达旋转卡盘20所保持的基板W的下表面。
将旋转卡盘20包围的处理杯40具有可相互独立升降的内杯41、中杯42以及外杯43。内杯41具有如下形状：将旋转卡盘20的周围包围，相对于穿过旋转卡盘20所保持的基板W的中心的旋转轴CX基本上旋转对称。该内杯41一体具有：俯视呈圆环状的底部44；从底部44的内周边向着上方竖立起来的圆筒状的内壁部45；从底部44的外周边向上方竖立起来的圆筒状的外壁部46；从内壁部45与外壁部46之间竖立起来并且上端部一边描绘出圆滑的圆弧一边向着中心侧(向着旋转卡盘20所保持的基板W的旋转轴CX逐渐接近的方向)斜上方延伸的第一引导部47；从第一引导部47与外壁部46之间向上方竖立起来的圆筒状的中壁部48。
内壁部45形成为如下长度：在内杯41上升到最上部的状态下，在罩构件23与凸缘状构件25之间保持着适当的间隙而被容置着。中壁部48形成为如下长度：在内杯41与中杯42最接近的状态下，在中杯42的后述的第二引导部52与处理液分离壁53之间保持着适当的间隙而被容置着。
第一引导部47具有一边描绘出圆滑的圆弧一边向着中心侧(向着基板W的旋转轴CX逐渐接近的方向)斜上方延伸的上端部47b。另外，内壁部45与第一引导部47之间构成为用于收集使用完的处理液并进行废弃的废弃槽49。第一引导部47与中壁部48之间构成为用于收集并回收使用完的处理液的圆环状的内侧回收槽50。而且，中壁部48与外壁部46之间构成为用于收集并回收与内侧回收槽50不同种类的处理液的圆环状的外侧回收槽51。
废弃槽49上连接有将收集到该废弃槽49中的处理液排出并将废弃槽49内强制排气用的省略了图示的排气液机构。排气液机构例如沿着废弃槽49的周向等间隔地设置4个。另外，内侧回收槽50以及外侧回收槽51上连接有用于将内侧回收槽50以及外侧回收槽51中分别收集的处理液回收到在基板处理装置1的外部设置的回收罐中的回收机构(都省略了图示)。另外，内侧回收槽50以及外侧回收槽51的底部相对于水平方向倾斜微小的角度，在最低的位置处连接着回收机构。由此，流入内侧回收槽50以及外侧回收槽51的处理液被顺利地回收。
中杯42具有如下形状：将旋转卡盘20的周围包围，相对于穿过旋转卡盘20所保持的基板W的中心的旋转轴CX基本上旋转对称。该中杯42一体具有第二引导部52和与该第二引导部52相连结的圆筒状的处理液分离壁53。
第二引导部52在内杯41的第一引导部47的外侧，具有与第一引导部47的下端部成为同轴圆筒状的下端部52a、从下端部52a的上端一边描绘出圆滑的圆弧一边向着中心侧(向着基板W的旋转轴CX逐渐接近的方向)斜上方延伸的上端部52b、上端部52b的前端部向下方折回而形成的折返部52c。下端部52a在内杯41与中杯42最接近的状态下，在第一引导部47与中壁部48之间保持着适当的间隙而被容置在内侧回收槽50内。另外，上端部52b被设置成与内杯41的第一引导部47的上端部47b在上下方向上重叠，在内杯41与中杯42最接近的状态下，与第一引导部47的上端部47b保持着极微小的间隔而与引导部47的上端部47b相接近。而且，上端部52b的前端向下方折回而形成的折返部52c形成为如下长度：在内杯41与中杯42最接近的状态下，折返部52c与第一引导部47的上端部47b的前端在水平方向上重叠。
另外，第二引导部52的上端部52b形成为越向下方则壁厚越厚，处理液分离壁53具有以从上端部52b的下端外周边部向下方延伸的方式设置的圆筒形状。处理液分离壁53在内杯41与中杯42最接近的状态下，在中壁部48与外杯43之间保持着适当的间隙而被容置在外侧回收槽51内。
外杯43具有如下形状：在中杯42的第二引导部52的外侧，将旋转卡盘20的周围包围，相对于穿过旋转卡盘20所保持的基板W的中心的旋转轴CX基本上旋转对称。该外杯43具有作为第三引导部的功能。外杯43具有与第二引导部52的下端部52a成为同轴圆筒状的下端部43a、从下端部43a的上端一边描绘出圆滑的圆弧一边向着中心侧(向着基板W的旋转轴CX逐渐接近的方向)斜上方延伸的上端部43b、上端部43b的前端部向下方折回而形成的折返部43c。
下端部43a在内杯41与外杯43最接近的状态下，在中杯42的处理液分离壁53与内杯41的外壁部46之间保持着适当的间隙而被容置在外侧回收槽51内。另外，上端部43b被设置成与中杯42的第二引导部52在上下方向上重叠，在中杯42与外杯43最接近的状态下，与第二引导部52的上端部52b保持着极微小的间隔而与第二引导部52的上端部52b相接近。而且，上端部43b的前端部向下方折回而形成的折返部43c形成为，在中杯42与外杯43最接近的状态下，折返部43c与第二引导部52的折返部52c在水平方向上重叠。
另外，内杯41、中杯42以及外杯43可相互独立升降。即，针对内杯41、中杯42以及外杯43的每一个分别单独设置升降机构(省略图示)，由此分别独立升降。作为这样的升降机构，可采用例如滚珠螺杆机构、气缸等公知的各种机构。
间隔板15被设置成在处理杯40的周围将腔室10的内侧空间上下隔开。间隔板15可以是将处理杯40包围的1张板状构件，也可以是将多个板状构件连接在一起组合而成。另外，间隔板15上形成在厚度方向上贯穿的贯穿孔或者切缺部也可以，本实施方式中形成有穿过用于支撑上表面处理液喷嘴30、60、65的喷嘴基座33、63、68的支撑轴用的贯穿孔。
间隔板15的外周端与腔室10的侧壁11相连结。另外，间隔板15的包围处理杯40的端缘部形成为比外杯43的外径大的直径的圆形形状。所以，间隔板15不会成为外杯43升降的障碍。
另外，在腔室10的侧壁11的一部分上，在底板壁13的附近设置有排气导管18。排气导管18与省略图示的排气机构相连通而连接着。从风机过滤器单元14供给并在腔室10内流下的清洁空气之中，在处理杯40与间隔板15之间通过的空气从排气导管18排出到装置外。
照相机70在腔室10内设置在间隔板15的上方。图4是示出照相机70与上表面处理液喷嘴30的位置关系的图。照相机70具有例如作为固体拍摄元件之一的CCD、电子快门、镜头等光学***。上表面处理液喷嘴30通过喷嘴基座33而在旋转卡盘20所保持的基板W的上方的处理位置(图4的虚线位置)与比处理杯40更靠外侧的待机位置(图4的实线位置)之间往复移动。处理位置是从上表面处理液喷嘴30向着旋转卡盘20所保持的基板W的上表面喷出处理液来进行清洗处理的位置。待机位置是在上表面处理液喷嘴30不进行清洗处理时停止处理液的喷出而进行待机的位置。也可以在待机位置设置容置上表面处理液喷嘴30的喷出头31的待机舱室。
照相机70设置于在其摄影视野内至少包含处理位置处的上表面处理液喷嘴30的前端、也就是说包含喷出头31的附近的位置。本实施方式中，如图4所示，照相机70被设置在可对处理位置处的上表面处理液喷嘴30从前方上方进行拍摄的位置。所以，照相机70能够拍摄包含处理位置处的上表面处理液喷嘴30的前端的拍摄区域。照相机70的拍摄区域中包含旋转卡盘20所保持的基板W的表面来作为上表面处理液喷嘴30的背景。同样，照相机70也能够拍摄包含处理位置处的上表面处理液喷嘴60、65的前端的拍摄区域。另外，在照相机70设置在图2、图4所示的位置的情况下，由于上表面处理液喷嘴30、60在照相机70的摄影视野内横向移动，因此能够恰当地拍摄在处理位置附近的动作，但是上表面处理液喷嘴65在照相机70的摄影视野内是在纵深方向上移动的，因此也有可能不能恰当的拍摄在处理位置附近的移动量。这种情况下，也可以在照相机70之外另外设置上表面处理液喷嘴65专用的照相机。
另外，如图3所示，照明部71在腔室10内被设置在间隔板15的上方。通常，腔室10内是暗室，因此在照相机70进行摄影时，照明部71对处理位置附近的上表面处理液喷嘴30、60、65照射光。
图5是照相机70以及控制部9的框图。作为基板处理装置100中所设置的控制部9的硬件的结构与一般的计算机相同。即，控制部9具有进行各种运算处理的CPU、存储基本程序的作为读取专用的存储器的ROM、存储各种信息的作为读写自由的存储器的RAM以及预先存储控制用软件、数据等的磁盘等而构成。通过控制部9的CPU执行规定的处理程序，基板处理装置100的各动作机构被控制部9控制，基板处理装置100中进行处理。
图5所示的判定部91以及设定部93是通过控制部9的CPU执行规定的处理程序而在控制部9内实现的功能处理部。详细内容后述，判定部91通过对由照相机70拍摄的图像进行图像处理来进行各种判定处理，设定部93设定判定部91进行判定处理用的参数、区域。另外，控制部9内的存储部92由上述的RAM或者磁盘构成，存储由照相机70拍摄的图像的数据或输入值或者由设定部93设定的参数等。
接着，针对具有上述结构的基板处理装置100的动作进行说明。基板处理装置100中的基板W的通常处理顺序是，主搬运机械手103将从分度器102接受的未处理的基板W搬入各清洗处理单元1中，在该清洗处理单元1中对基板W进行了清洗处理之后，主搬运机械手103从该清洗处理单元1搬出处理完的基板W并送回到分度器102。各清洗处理单元1中的典型的基板W的清洗处理顺序的概略是，向基板W的表面供给药液而进行规定的药液体处理，之后，供给纯水而进行纯水冲洗处理，之后使基板W高速旋转，进行甩脱干燥处理。
在由清洗处理单元1进行基板W的处理之际，将基板W保持在旋转卡盘20上，并且处理杯40进行升降动作。在进行药液体处理时，例如仅外杯43上升，在外杯43的上端部43b与中杯42的第二引导部52的上端部52b之间，形成将旋转卡盘20所保持的基板W的周围包围的开口。在该状态下基板W与旋转卡盘20一起旋转，从上表面处理液喷嘴30以及下表面处理液喷嘴28向基板W的上表面以及下表面供给药液。所供给的药液由于基板W的旋转带来的离心力而沿着基板W的上表面以及下表面流动，不久从基板W的端缘部向侧方飞散。由此，进行基板W的药液体处理。从旋转的基板W的端缘部飞散的药液被外杯43的上端部43b接住，沿着外杯43的内面流下，并回收到外侧回收槽51中。
另外，在进行纯水冲洗处理时，例如内杯41、中杯42以及外杯43都上升，旋转卡盘20所保持的基板W的周围被内杯41的第一引导部47包围。在该状态下，基板W与旋转卡盘20一起旋转，从上表面处理液喷嘴30以及下表面处理液喷嘴28向基板W的上表面以及下表面供给纯水。所供给的纯水由于基板W的旋转带来的离心力而沿着基板W的上表面以及下表面流动，不久从基板W的端缘部向侧方飞散。由此，进行基板W的纯水冲洗处理。从旋转的基板W的端缘部飞散的纯水沿着第一引导部47的内壁流下，从废弃槽49排出。另外，在将纯水利用与药液不同的路径进行回收的情况下，也可以是使中杯42以及外杯43上升，在中杯42的第二引导部52的上端部52b与内杯41的第一引导部47的上端部47b之间，形成将旋转卡盘20所保持的基板W的周围包围的开口。
另外，在进行甩脱干燥处理时，内杯41、中杯42以及外杯43都下降，内杯41的第一引导部47的上端部47b、中杯42的第二引导部52的上端部52b以及外杯43的上端部43b都位于旋转卡盘20所保持的基板W的下方。在该状态下，基板W与旋转卡盘20一起高速旋转，附着在基板W上的水滴由于离心力而被甩掉，从而进行干燥处理。
而在第一实施方式中，在从上表面处理液喷嘴30向基板W的上表面喷出处理液时，判定部91对利用照相机70拍摄处理位置的上表面处理液喷嘴30而得到的图像进行规定的图像处理，来判定处理液有无喷出。下面针对该技术进行详细说明。另外，在此针对判定从上表面处理液喷嘴30喷出处理液的情况进行说明，而针对其它的上表面处理液喷嘴60、65也相同。
图6以及图7是示出判定部91的判定处理的顺序的流程图。图6中示出用于判定处理的事前准备的顺序，图7中示出成为处理对象的基板W被搬入到清洗处理单元1中时的判定处理的顺序。图6中示出顺序的事前准备在成为实际的处理对象的基板W的处理过程之前执行，例如在基板处理装置100的维护保养作业时实施即可。
首先，在维护保养作业等之际，在进行上表面处理液喷嘴30的示教(teaching)时，使上表面处理液喷嘴30移动到示教位置(步骤S11)。所谓示教是指对上表面处理液喷嘴30教授适当的动作的作业，将上表面处理液喷嘴30的停止位置修正为适当的位置(示教位置)。所以，在示教时，在使上表面处理液喷嘴30移动到示教位置时，上表面处理液喷嘴30准确地移动到适当的处理位置。另外，所谓适当的处理位置是指只要在该处理位置从上表面处理液喷嘴30喷出处理液即可进行所要求的基板处理的位置。
当上表面处理液喷嘴30移动到适当的处理位置时，由照相机70对包含上表面处理液喷嘴30的前端的拍摄区域进行拍摄(步骤S12)。图8是示出照相机70对包含处理位置处的上表面处理液喷嘴30的前端的拍摄区域进行拍摄而得到的图像的一个例子的图。拍摄区域PA中包含位于旋转卡盘20所保持的基板W的上方的处理位置处的上表面处理液喷嘴30的前端。另外，在维护保养时，由于也存在旋转卡盘20上未保持有基板W的情况，因此在拍摄区域PA不一定包含有基板W也可以。
接着，从在步骤S12中拍摄得到的图像裁剪出参照图案(步骤S13)。在步骤S12中的拍摄时刻，通过示教，上表面处理液喷嘴30准确地位于适当的处理位置。因此，在步骤S12中由照相机70拍摄得到的图像可成为示出上表面处理液喷嘴30的适当的处理位置的喷嘴位置基准图像(第二基准图像)。在步骤S13中，从这样的喷嘴位置基准图像如图8所示那样将包含上表面处理液喷嘴30的前端部分的一部分图像区域作为参照图案RP而裁剪出。该裁剪只要是例如在示教时作业人员一边观察在步骤S12中拍摄的图像一边手动指定成为参照图案RP的区域即可。被裁剪出的参照图案RP和在图像内的坐标一起被存储到控制部9的存储部92中(步骤S14)。
接着，作业人员设定位置异常判定的阈值(步骤S15)。在此设定的阈值在后述的上表面处理液喷嘴30的位置异常的判定(图7的步骤S26)中使用，是在步骤S12中拍摄的喷嘴位置基准图像的参照图案RP中的喷嘴位置与步骤S25中确定的图像中的喷嘴位置之间的偏差的阈值。若在此设定的阈值低，则两图像中的喷嘴位置的偏差即使小也判定上表面处理液喷嘴30的位置异常。即，判定基准变严。步骤S15中设定的阈值被存储到存储部92中。
接着，在步骤S12中拍摄得到的图像内设定喷出判定区域(步骤S16)。如图8中例示的那样，在照相机70对拍摄区域PA进行拍摄得到的图像中，除了上表面处理液喷嘴30的前端附近以外，还映入旋转卡盘20所保持的基板W、清洗处理单元1内的机器等。在判定从上表面处理液喷嘴30喷出处理液的情况之际，最好使这样的背景的影响尽可能的少，特别是需要排除在基板W的表面反射的处理液的像的影响。为此，在步骤S16中，在照相机70对拍摄区域PA进行拍摄得到的图像之中，设定包含从上表面处理液喷嘴30的前端起至旋转卡盘20所保持的基板W为止的一部分的喷出判定区域SP。该设定也是只要作业人员一边观察在步骤S12中拍摄的图像一边手动进行区域指定即可。所设定的喷出判定区域SP被存储到控制部9的存储部92中。另外，在此设定的喷出判定区域SP与上述的参照图案RP不同，并不是图像本身，完全是照相机70对拍摄区域PA进行拍摄得到的图像中的区域，例如由示出图8的喷出判定区域SP的四边形的坐标数据来表示。
接着喷出判定区域SP的设定，作业人员设定喷出判定的阈值(步骤S17)。在此设定的阈值在后述的处理液的喷出判定(图7的步骤S28)中使用，是照相机70拍摄的处理液喷出前后的图像的差分的阈值。若在此设定的阈值低，则即使是差分很小，也很容易判定从上表面处理液喷嘴30喷出了处理液。步骤S17中设定的阈值被存储在存储部92中。
如以上那样针对上表面处理液喷嘴30进行事前准备。与从步骤S11至步骤S17示出的内容相同的事前准备针对其它的上表面处理液喷嘴60、65也执行(步骤S18)。这样的事前准备只要在进行示教时预先实施就足够了，只要实施一次，直到变更示教位置之前都不需要再次实施。另外，针对固定的下表面处理液喷嘴28不进行上述这样的事前准备处理。
接着，针对在进行了图6所示的事前准备之后对成为处理对象的基板W进行处理时的顺序，参照图7进行说明。首先，成为处理对象的基板W利用主搬运机械手103被搬入到清洗处理单元1中(步骤S21)。所搬入的基板W由旋转卡盘20在水平姿势下保持。与此同时，进行升降动作，使得处理杯40到达规定的高度位置。
在成为新的处理对象的基板W被保持在旋转卡盘20上之后，上表面处理液喷嘴30开始从待机位置向处理位置移动(步骤S22)。上表面处理液喷嘴30的移动是按照预先设定的规程(记述了基板W的处理顺序以及条件的规程)而通过控制部9控制喷嘴基座33来进行的。另外，控制部9在该规程中记述了从上表面处理液喷嘴30喷出处理液规定时间以上(例如5秒以上)的情况下，在与上表面处理液喷嘴30开始移动的时刻相同的时刻指示判定部91进行喷出判定。控制部9进行喷出判定的指示的时刻，严格来说与上表面处理液喷嘴30开始移动的时刻也可以不相同，但是优选持有余量地进行，以使得在上表面处理液喷嘴30停止移动之前，判定部91能够进行步骤S23以后的处理。
接受了喷出判定的指示的判定部91，使照相机70开始连续拍摄(步骤S23)。照相机70对拍摄区域PA以一定的间隔连续拍摄。例如，照相机70以33毫秒的间隔进行连续拍摄(每1秒30帧)。即，照相机70从旋转卡盘20保持着成为处理对象的新的基板W并且上表面处理液喷嘴30从待机位置向处理位置开始移动的时刻起开始进行视频摄影。另外，由于照相机70开始连续拍摄的时刻，也是上表面处理液喷嘴30从待机位置开始移动的时刻，因此上表面处理液喷嘴30还未到达拍摄区域PA。
在照相机70开始连续拍摄之后，判定部91判定上表面处理液喷嘴30的移动的停止(步骤S24)。上表面处理液喷嘴30的移动本身是按照上述的规程而通过控制部9控制喷嘴基座33来进行的，该移动的停止也由控制部9控制。判定部91独立于控制部9的控制，根据照相机70通过连续拍摄而获取的多个图像来判定上表面处理液喷嘴30是否停止移动。具体而言，判定部91逐一计算照相机70对拍摄区域PA连续拍摄而获取的连续的图像的差分，根据该差分是否为一定值以下来判定上表面处理液喷嘴30的移动的停止。所谓连续的图像的差分的计算，是指将通过连续拍摄而获取的多个图像中的某一个图像与其下一个图像的差分的图像中的全像素的灰度值的绝对值累计计算而求得总和。
图9是示出拍摄区域PA内的上表面处理液喷嘴30的移动的图。在拍摄区域PA内上表面处理液喷嘴30移动着之际，当照相机70对拍摄区域PA连续拍摄时，某一个图像与其下一个图像之间，上表面处理液喷嘴30的位置不同，这样的两图像的差分中，留下处理液喷嘴30的像。相对于此，在拍摄区域PA中上表面处理液喷嘴30在处理位置(图9中的虚线位置)停止了移动之后，当照相机70对拍摄区域PA连续拍摄时，在某一个图像与其下一个图像之间，上表面处理液喷嘴30的位置相同，这样的两图像的差分中，上表面处理液喷嘴30也消失了。因此，若照相机70对拍摄区域PA连续拍摄而获取的连续的图像的差分(某一个图像与其下一个图像的差分)的图像中的全像素的灰度值的总和为一定值以下，则判定部91判定上表面处理液喷嘴30停止了移动。另外，为了防止噪声等造成的误判定，例如判定部91针对连续的5张图像计算某一个图像与其下一个图像的差分(这种情况下计算4个差分)，若该差分全部为一定值以下，则判定上表面处理液喷嘴30停止了移动也可以。
接着，判定部91将由照相机70连续获取的图像中的在步骤S24中被判定为上表面处理液喷嘴30停止了移动的时刻的图像确定为处理液喷出判定用的喷出基准图像(第一基准图像)(步骤S25)。所确定的喷出基准图像被存储在控制部9的存储部92中。这样得到的喷出基准图像是对上表面处理液喷嘴30到达处理位置而停止了的时刻的拍摄区域PA进行拍摄得到的图像。在上表面处理液喷嘴30到达处理位置而停止了的时刻，还未从上表面处理液喷嘴30进行处理液的喷出。所以，喷出基准图像是在移动到处理位置的上表面处理液喷嘴30喷出处理液之前照相机70对拍摄区域PA进行拍摄得到的图像。
另外，从步骤S21至步骤S25的工序是每当成为新的处理对象的基板W被搬入清洗处理单元1时执行的处理。即，在本实施方式中，每当将搬入清洗处理单元1中的成为新的处理对象的基板W保持在旋转卡盘20上并且上表面处理液喷嘴30移动到处理位置时获取喷出基准图像。
接着，判定部91将喷嘴位置基准图像与喷出基准图像进行比较来判定上表面处理液喷嘴30的处理位置的位置异常(步骤S26)。喷嘴位置基准图像是在示教时上表面处理液喷嘴30e准确地位于处理位置时照相机70对拍摄区域PA进行拍摄获取的图像。喷出基准图像是将成为处理对象的基板W保持在旋转卡盘20上且上表面处理液喷嘴30移动到处理位置停止了之际照相机70对拍摄区域PA进行拍摄获取的图像。所以，若将喷嘴位置基准图像与喷出基准图像进行比较，就能够判定移动到成为处理对象的基板W的上方的上表面处理液喷嘴30是否是在适当的处理位置停止。
具体而言，判定部91将在步骤S13中裁剪出的喷嘴位置基准图像的参照图案RP和与该参照图案RP对应的喷出基准图像中的一部分区域的图像进行比较，计算两图像中的上表面处理液喷嘴30的坐标的差(位置偏离)。该比较中可使用公知的图案匹配的方法。从而在通过图案匹配而计算的上表面处理液喷嘴30的位置偏离为在步骤S15中设定的阈值以上的情况下，判定部91判定上表面处理液喷嘴30的位置异常。在判定上表面处理液喷嘴30的位置异常的情况下，控制部9进行规定的异常应对处理(例如发出警告、停止处理等)。另一方面，在所计算的上表面处理液喷嘴30的位置偏离比在步骤S15中设定的阈值小的情况下，判定部91判定上表面处理液喷嘴30的位置无异常。
在上表面处理液喷嘴30到达处理位置而停止了之后，通过控制部9的控制而使基板W旋转，并且从上表面处理液喷嘴30开始喷出处理液。而判定部91根据由照相机70连续拍摄得到的图像来判定从上表面处理液喷嘴30喷出处理液的情况。
判定部91在处理液喷出的判定之际进行喷出判定区域SP的移动(步骤S27)。喷出判定区域SP是在喷嘴位置基准图像内作为包含从上表面处理液喷嘴30的前端至基板W止的一部分的区域而在步骤S16中设定的。在上述的步骤S26中，计算喷嘴位置基准图像中的上表面处理液喷嘴30的位置与喷出基准图像中的上表面处理液喷嘴30的位置之间的位置偏离。在步骤S27中，根据该计算结果，判定部91进行喷出判定区域SP的移动。即，使喷出判定区域SP移动在步骤S26中计算的位置偏离量。
在步骤S24中判定上表面处理液喷嘴30的移动停止之后，照相机70也对拍摄区域PA进行连续拍摄。即，照相机70在上表面处理液喷嘴30开始移动的同时开始对拍摄区域PA进行连续拍摄(步骤S23)，之后持续进行一定间隔下的连续拍摄。
判定部91将在移动到处理位置的上表面处理液喷嘴30喷出处理液之前由照相机70对拍摄区域PA进行拍摄获取的喷出基准图像与之后由照相机70对拍摄区域PA进行拍摄获取的监视对象图像进行比较，来判定从上表面处理液喷嘴30喷出处理液的情况(步骤S28)。更详细而言，判定部91将在判定了上表面处理液喷嘴30的移动停止之后由照相机70连续获取的多个监视对象图像与喷出基准图像按顺序进行比较，来判定从上表面处理液喷嘴30喷出处理液的情况。
监视对象图像是在判定上表面处理液喷嘴30的移动停止了的时刻之后(也就是说确定了喷出基准图像之后)由照相机70对拍摄区域PA进行拍摄获取的图像。由于在判定上表面处理液喷嘴30的移动停止之后也由照相机70对拍摄区域PA进行连续拍摄，因此获取以一定间隔拍摄的多个监视对象图像。而由于从上表面处理液喷嘴30在处理位置停止移动起经过规定时间之后处理液开始喷出，因此在上述多个监视对象图像之中的某一个时刻以后得到的图像中拍摄到处理液的喷出。判定部91将这样的多个监视对象图像与喷出基准图像按顺序比较，来判定从上表面处理液喷嘴30喷出处理液的情况。
图10A、图10B是示出喷出基准图像以及监视对象图像的图。图10A示出喷出基准图像的喷出判定区域SP，图10示出处理液开始喷出之后的监视对象图像的喷出判定区域SP。另外，图12是示意性地示出处理液喷出判定的算法的一个例子的图。判定部91针对喷出判定区域SP中所包含的全像素，累计计算多个监视对象图像之中的1张监视对象图像中的喷出判定区域SP的各像素的灰度值与对应于该像素的喷出基准图像中的喷出判定区域SP的像素的灰度值之间的差分的绝对值。即，判定部91计算出构成图10A的各像素的灰度值与对应于该像素的构成图10B的像素的灰度值之间的差分的绝对值的总和。另外，喷出基准图像以及监视对象图像的喷出判定区域SP都是在步骤S27中移动了的区域。因此，即使是处理位置处的上表面处理液喷嘴30的停止位置从示教位置偏离了不被判定为位置异常的程度，喷出判定区域SP作为包含从上表面处理液喷嘴30的前端起至基板W止的的一部分的区域也被准确地设定。
接着，判定部91将如上述那样计算出的差分的总和与在步骤S17中设定的阈值进行比较。而在差分的总和为在步骤S17中预先设定的阈值以上的情况下，判定部91判定从上表面处理液喷嘴30正在喷出处理液。另一方面，在差分的总和比该阈值小的情况下，判定部91判定从上表面处理液喷嘴30未喷出处理液。判定部91针对在判定上表面处理液喷嘴30的移动停止了的时刻之后由照相机70对拍摄区域PA进行拍摄获取的多个监视对象图像按顺序进行这样的比较。
图11是示出差分的总和与阈值的比较的图。在该图的纵轴上表示累计计算像素灰度值的差分的绝对值得到的总和。在该图的横轴上按顺序表示在判定上表面处理液喷嘴30的移动停止了的时刻之后获取的多个监视对象图像的号码。从上表面处理液喷嘴30喷出处理液之前的时刻的监视对象图像(图11中直至10号的监视对象图像)与图10A所示的喷出基准图像基本上相同。因此，监视对象图像中的喷出判定区域SP的各像素的灰度值与对应于该像素的喷出基准图像中的喷出判定区域SP的像素的灰度值之间的差分的绝对值的总和相对较低，比在步骤S17中预先设定的阈值TH小。
相对于此，在从上表面处理液喷嘴30开始喷出处理液之后的监视对象图像(图11中的11号之后的监视对象图像)中，如图10B所示那样，包含着所喷出的处理液的图像。因此，监视对象图像中的喷出判定区域SP的各像素的灰度值与对应于该像素的喷出基准图像中的喷出判定区域SP的像素的灰度值之间的差分的绝对值的总和相对较高，比在步骤S17中预先设定的阈值TH大。
判定部91在判定从上表面处理液喷嘴30正在喷出处理液的状态持续2秒以上的情况下，也就是说，若拍摄间隔为33毫秒，则针对60张以上的监视对象图像判定处理液正在喷出的情况下，判断从上表面处理液喷嘴30正在稳定地确实地喷出处理液。另一方面，即使是从判定上表面处理液喷嘴30的移动停止了的时刻起经过了规定时间(例如5秒)，像素灰度值的差分的总和都未变为阈值以上，则判定从上表面处理液喷嘴30未喷出处理液，在此情况下判断处理液的喷出异常。判定部91对处理液喷出的判定结果例如可以在附设于控制部9的显示器等中显示。另外，在判定从上表面处理液喷嘴30喷出处理液的情况异常的情况下，控制部9进行处理停止等异常对应处理也可以。
以上是针对上表面处理液喷嘴30的判定处理，在使用其它的上表面处理液喷嘴60、65的情况下，按照与图7所示相同的顺序能够针对上表面处理液喷嘴60或者上表面处理液喷嘴65进行判定处理。
在第一实施方式中，将在移动到处理位置的上表面处理液喷嘴30喷出处理液之前由照相机70对拍摄区域PA进行拍摄获取的喷出基准图像与之后由照相机70对拍摄区域PA进行拍摄获取的监视对象图像进行比较，来判定从上表面处理液喷嘴30喷出处理液的情况。每当将搬入清洗处理单元1的成为新的处理对象的基板W保持在旋转卡盘20上并且上表面处理液喷嘴30が移动到处理位置时获取喷出基准图像。
在照相机70对拍摄区域PA进行拍摄得到的图像中，除了上表面处理液喷嘴30的前端附近之外，也包含着在旋转卡盘20上保持的基板W、清洗处理单元1内的机器等。为了尽可能的排除这样的背景的影响，特别是在基板W的表面反射的处理液的像的影响，预先设定喷出判定区域SP，利用喷出基准图像以及监视对象图像的喷出判定区域SP的差分与阈值进行比较。
但是，如图8所示，并不能从喷出判定区域SP将旋转卡盘20所保持的基板W的表面的图像除去。如已经记述的那样，在基板W的表面上形成抗蚀膜或者绝缘膜等各种的膜而形成图案，其结果是根据基板W的种类不同，表面反射率有很大不同。
若如第一实施方式那样，由于每当旋转卡盘20将成为新的处理对象的基板W保持着并且上表面处理液喷嘴30移动到处理位置时获取喷出基准图像，因此喷出基准图像以及监视对象图像双方都包含相同的基板W的表面图像作为背景。所以，在喷出基准图像与监视对象图像之间的差分中，基板W的表面反射率的大小无论怎样，其影响都被排除。其结果是，成为处理对象的基板W的种类无论怎样，都能够确实的判定从上表面处理液喷嘴30喷出处理液的情况。
另外，若由照相机70对拍摄区域PA连续拍摄获取的连续的图像的差分为一定值以下，则判定上表面处理液喷嘴30停止了移动，因此自动判定上表面处理液喷嘴30的移动停止。因此，在上表面处理液喷嘴30在处理位置停止了移动之后，不用发送特别的触发信号，就能够由照相机70进行拍摄而判定从上表面处理液喷嘴30喷出处理液的情况。其结果是，有关处理液喷出判定的硬件结构也可以简单化。
另外，判定部91除了处理液喷出的判定之外，也进行上表面处理液喷嘴30移动到处理位置时的位置异常的判定。由于维护保养时的调整失误或者历时变化等，上表面处理液喷嘴30从示教位置偏离而喷出处理液，在此情况下，得不到原本期待的结果，成为处理不良的原因。在本实施方式中，由于也进行上表面处理液喷嘴30的位置异常的判定，因此能够防止因上表面处理液喷嘴30的位置偏离而造成的处理不良的发生。
〈第二实施方式〉
接着，针对本发明的第二实施方式进行说明。第二实施方式的基板处理装置100的装置结构与第一实施方式完全相同。另外，第二实施方式中的基板W的通常的处理顺序也与第一实施方式相同。第二实施方式与第一实施方式不同之处是判定用参数的设定方法。在第一实施方式中是作业人员手动设定判定用参数，而在第二实施方式中则是由设定部93进行判定用参数的自动设定。
在第二实施方式中，也是在从上表面处理液喷嘴30向基板W的上表面喷出处理液时，判定部91针对由照相机70对处理位置的上表面处理液喷嘴30进行摄影得到的图像进行规定的图像处理，来判定上表面处理液喷嘴30的位置偏离以及处理液喷出的有无。下面针对该技术进行详细说明。另外，在此针对有关上表面处理液喷嘴30的判定处理进行说明，但是针对其它的上表面处理液喷嘴60、65也相同。
图14是示出第二实施方式的设定判定用参数的顺序的流程图。另一方面，判定部91的判定处理的顺序与图7所示的流程图相同。图14中示出顺序的判定用参数的设定是在成为实际的处理对象的基板W的处理过程之前执行的，例如在基板处理装置100的维护保养作业时实施即可。
首先，与第一实施方式相同，在维护保养作业等时，在进行上表面处理液喷嘴30的示教时使上表面处理液喷嘴30移动到示教位置(步骤S31)。所谓示教是指向上表面处理液喷嘴30教授适当的动作的作业，将上表面处理液喷嘴30的停止位置修正为适当的位置(示教位置)。因此在示教时，当使上表面处理液喷嘴30移动到示教位置时，上表面处理液喷嘴30准确地移动到适当的处理位置。另外，所谓适当的处理位置是指若在该处理位置从上表面处理液喷嘴30喷出处理液就进行所要求的基板处理的位置。
在上表面处理液喷嘴30移动到适当的处理位置时，由照相机70对包含上表面处理液喷嘴30的前端的拍摄区域进行拍摄(步骤S32)。图8是示出照相机70对处理位置处的包含上表面处理液喷嘴30的前端的拍摄区域进行拍摄得到的图像的一个例子的图。在拍摄区域PA中包含位于旋转卡盘20所保持的基板W的上方的处理位置的上表面处理液喷嘴30的前端。另外，由于在维护保养时也存在有在旋转卡盘20上未保持有基板W的情况，因此在拍摄区域PA不必一定含有基板W也是可以的。
接着，设定部93从在步骤S32中拍摄得到的图像中裁剪出参照图案(步骤S33)。在步骤S32中的拍摄时刻，通过示教，上表面处理液喷嘴30准确地位于适当的处理位置。因此，在步骤S32中由照相机70拍摄得到的图像可成为表示上表面处理液喷嘴30的适当的处理位置的喷嘴位置基准图像。在步骤S33中，设定部93从这样的喷嘴位置基准图像自动设定如图8所示那样包含上表面处理液喷嘴30的前端部分的一部分图像区域来作为参照图案RP。下面针对设定部93对参照图案RP的设定继续说明。
设定部93在上表面处理液喷嘴30准确地位于处理位置时，确定由照相机70对拍摄区域PA进行拍摄获取的喷嘴位置基准图像中的上表面处理液喷嘴30的坐标。图15A～图15C是示出确定上表面处理液喷嘴30的坐标用的图像处理的图。图15A中所示的是上表面处理液喷嘴30准确地位于处理位置时由照相机70对拍摄区域PA进行拍摄得到的图像，也就是说是与图8相同的喷嘴位置基准图像。
获取喷嘴位置基准图像之后，通过控制部9的控制而使得上表面处理液喷嘴30向着规定方向移动规定量。上表面处理液喷嘴30的移动方向可以是图4中的顺时针方向或者逆时针方向中的任一个。即，在拍摄区域PA中，上表面处理液喷嘴30可以向右方向或者左方向中的任一个方向移动。上表面处理液喷嘴30的移动量并不特别限定，只要比上表面处理液喷嘴30的直径大即可。
准确地位于处理位置的上表面处理液喷嘴30向着规定方向移动规定量并停止时，照相机70对拍摄区域PA进行拍摄而获取参照图像。图15B所示的是这样获取的参照图像的一个例子。图15A中所示的喷嘴位置基准图像与图15B中所示的参照图像之间的不同仅仅是上表面处理液喷嘴30的位置。
接着，设定部93计算出图15A的喷嘴位置基准图像与图15B的参照图像之间的差分的绝对值而获取差分图像。更详细而言，针对全像素计算出喷嘴位置基准图像中所包含的各像素的灰度值与对应于该像素的参照图像的像素的灰度值之间的差分的绝对值而获取差分图像。图15C所示的是这样获取的差分图像的一个例子。
照相机70通过对完全相同的拍摄区域PA进行拍摄而获取喷嘴位置基准图像以及参照图像，除了上表面处理液喷嘴30的位置，两图像的背景(例如基板W的表面或者清洗处理单元1内的构造物)相同。因此，在作为喷嘴位置基准图像与参照图像之间的差分的差分图像中，如图15C所示，基板W表面等的背景完全消失，仅提取喷嘴位置基准图像以及参照图像中所包含的上表面处理液喷嘴30的图像。由于差分图像是喷嘴位置基准图像与参照图像之间的差分的绝对值，因此在双方的图像中包含的共计两个上表面处理液喷嘴30残留在差分图像中。在图15C的例子中，差分图像中所包含的两个上表面处理液喷嘴30之中的右侧的部分是准确地位于适当的处理位置的上表面处理液喷嘴30的图像。
接着，设定部93在差分图像中沿着线PX获取灰度值曲线，其中该线PX是沿着X轴方向通过两个上表面处理液喷嘴30双方的前端部(喷出头31)的线。图16中示出沿着差分图像中的线PX的灰度值曲线。在该图中，灰度值相对高的两个部分对应于差分图像中的两个上表面处理液喷嘴30。设定部93确定其中的右侧的部分、也就是说与准确地位于适当的处理位置的上表面处理液喷嘴30对应的部分的两端的坐标X1、X2。该坐标X1、X2是准确地位于处理位置的上表面处理液喷嘴30在差分图像中的宽度方向上的两端的坐标。由于差分图像中的右侧的上表面处理液喷嘴30的坐标与喷嘴位置基准图像中的上表面处理液喷嘴30的坐标相同，因此坐标X1、X2也是喷嘴位置基准图像中的上表面处理液喷嘴30在宽度方向上的两端的坐标。另外，在灰度值曲线中，灰度值相对高的两个部分中的哪一个部分是与准确地位于处理位置的上表面处理液喷嘴30对应的部分，能够根据获取参照图像时的移动方向容易地识别出。
接着，设定部93沿着线PY获取灰度值曲线，其中该线PY是在差分图像中沿着Y轴方向通过坐标X1与坐标X2之间的线。图17中示出沿着差分图像中的线PY的灰度值曲线。由于通过坐标X1与坐标X2之间的线PY在差分图像中通过准确地位于处理位置的上表面处理液喷嘴30，因此在图17中，灰度值相对高的部分与准确地位于处理位置的上表面处理液喷嘴30对应。设定部93确定灰度值高的部分的端部，也就是说确定灰度值急剧减小的位置的坐标y1。该坐标y1是准确地位于处理位置的上表面处理液喷嘴30在差分图像中的前端的坐标。所以，坐标y1也是喷嘴位置基准图像中的上表面处理液喷嘴30的前端的坐标。
如以上这样，设定部93根据作为喷嘴位置基准图像与参照图像之间的差分的差分图像中的灰度值曲线确定上表面处理液喷嘴30在宽度方向上的两端以及前端的坐标。设定部93根据所确定的上表面处理液喷嘴30在宽度方向上的两端以及前端的坐标确定喷嘴位置基准图像中的参照图案RP的坐标。具体而言，设定部93将使喷嘴位置基准图像中的上表面处理液喷嘴30在宽度方向上的两端的坐标X1、X2持有若干余量的坐标X1－α，X2+α作为参照图案RP在宽度方向上的两端的坐标。另外，设定部93将从喷嘴位置基准图像中的上表面处理液喷嘴30的前端的坐标y1离开规定的距离的坐标y1－β，y1+γ作为参照图案RP在上下方向上的两端的坐标。只要确定了宽度方向上的两端以及上下方向上的两端的坐标，就确定了矩形区域的参照图案RP。
这样设定部93确定喷嘴位置基准图像中的上表面处理液喷嘴30的坐标，将包含上表面处理液喷嘴30的前端的矩形区域设定为参照图案RP。由设定部93设定的参照图案RP本身与第一实施方式的图8所示的相同。如该图所示，参照图案RP中包含有上表面处理液喷嘴30的前端部分。由设定部93裁剪出的参照图案RP与喷嘴位置基准图像内的坐标(宽度方向上的两端的坐标X1－α，X2+α以及上下方向上的两端的坐标y1－β，y1+γ)一起被存储在控制部9的存储部92中(步骤S34)。
接着，设定部93设定位置异常判定的阈值(步骤S35)。在此设定的阈值在上表面处理液喷嘴30的位置异常的判定(图7的步骤S26)中使用，是在步骤S32中拍摄的喷嘴位置基准图像的参照图案RP中的喷嘴位置与在步骤S25中确定的图像中的喷嘴位置之间的偏离的阈值。若在步骤S35中设定的阈值低，则即使两图像中的喷嘴位置的偏离小，也判定上表面处理液喷嘴30的位置异常。即，判定基准变得严格。设定部93将预先规定的值(例如2mm)设定为位置异常判定的阈值。在步骤S35中设定的阈值被存储在存储部92中。
接着，从准确地位于适当的处理位置的上表面处理液喷嘴30试验性地喷出处理液，并且照相机70对拍摄区域PA以一定间隔连续拍摄而获取一系列的图像(步骤S36)。即，照相机70从准确地位于处理位置的上表面处理液喷嘴30喷出处理液之前起直到喷出中都进行着视频摄影。在步骤S36中获取的多个图像被保存在存储部92中。
接着，设定部93在步骤S32中拍摄得到的图像内进行喷出判定区域的设定(步骤S37)。如图8中例示的那样，在照相机70对拍摄区域PA进行拍摄得到的图像中，除了上表面处理液喷嘴30的前端附近以外，还映入旋转卡盘20所保持的基板W、清洗处理单元1内的机器等。优选在判定从上表面处理液喷嘴30喷出处理液的情况之际，尽可能的减小这些背景的影响，特别是需要将在基板W的表面反射的处理液的像的影响排除。因此，在步骤S37中，在照相机70对拍摄区域PA进行拍摄获取的图像中设定喷出判定区域SP，该喷出判定区域SP包含从上表面处理液喷嘴30的前端喷出的处理液到达旋转卡盘20所保持的基板W上为止的液柱部分。
设定部93在上表面处理液喷嘴30的喷出宽度上加上或者减去若干的余量来作为喷出判定区域SP的宽度。另外，设定部93在上表面处理液喷嘴30的前端与旋转卡盘20所保持的基板W之间的距离上加上或者减去若干的余量来作为喷出判定区域SP的长度。只要确定了宽度以及长度，就确定了矩形的喷出判定区域SP。另外，上表面处理液喷嘴30的喷出宽度以及上表面处理液喷嘴30的前端与旋转卡盘20所保持的基板W之间的距离都是预先规定的值。
设定部93将确定了宽度以及长度的喷出判定区域SP在喷嘴位置基准图像中设定在上表面处理液喷嘴30的前端的喷出处理液的一侧(下侧)。上表面处理液喷嘴30的前端的坐标(X1，y1)、(X2，y1)在裁剪出上述的参照图案RP时求得。设定部93相对于该上表面处理液喷嘴30的前端的坐标设定喷出判定区域SP，确定喷出判定区域SP的坐标。
这样设定部93根据上表面处理液喷嘴30的喷出宽度以及上表面处理液喷嘴30的前端与旋转卡盘20所保持的基板W之间的距离，相对于喷嘴位置基准图像中的上表面处理液喷嘴30设定喷出判定区域SP。该喷出判定区域SP中至少包含喷嘴位置基准图像之中的从上表面处理液喷嘴30的前端喷出的处理液到达在旋转卡盘20上保持的基板W上的液柱部分。由设定部93设定的喷出判定区域SP被存储在控制部9的存储部92中。另外，在此设定的喷出判定区域SP与上述的参照图案RP不同，并不是图像本身，而一直是照相机70对拍摄区域PA进行拍摄获取的图像中的区域，由表示喷出判定区域SP的矩形区域的坐标表示。
接着喷出判定区域SP的设定，设定部93设定喷出判定的阈值(步骤S38)。在此设定的阈值在处理液的喷出判定(图7的步骤S28)中使用，是照相机70拍摄的处理液喷出前后的图像的差分的阈值。若在此设定的阈值很低，则即使是差分很小，也容易判定从上表面处理液喷嘴30喷出了处理液。
设定部93使用在步骤S36中连续拍摄的从上表面处理液喷嘴30喷出处理液前后的一系列的图像来设定喷出判定的阈值。设定部93针对喷出判定区域SP中所包含的全像素，累计计算在步骤S36中获取的多个图像的每一个中的喷出判定区域SP的各像素的灰度值与对应于该像素的喷嘴位置基准图像中的喷出判定区域SP的像素的灰度值之间的差分的绝对值。在步骤S36中获取的多个图像之中包含从上表面处理液喷嘴30未喷出处理液时的图像和喷出处理液时的图像。
在步骤S36中拍摄的从上表面处理液喷嘴30喷出处理液前后的图像与图10A、图10B所示的图相同。图10A中示出从上表面处理液喷嘴30未喷出处理液时的图像的喷出判定区域SP，图10B中示出从上表面处理液喷嘴30喷出处理液时的图像的喷出判定区域SP。
设定部93计算出从上表面处理液喷嘴30未喷出处理液时由照相机70对拍摄区域PA进行拍摄获取的图像与喷嘴位置基准图像之间的在喷出判定区域SP的差分。即，设定部93计算出构成图10A的各像素的灰度值与对应于该像素的喷嘴位置基准图像的像素的灰度值之间的差分的绝对值的总和。同样，设定部93计算出从上表面处理液喷嘴30喷出处理液时由照相机70对拍摄区域PA进行拍摄获取的图像与喷嘴位置基准图像之间的喷出判定区域SP的差分。即，设定部93计算出构成图10B的各像素的灰度值与对应于该像素的喷嘴位置基准图像的像素的灰度值之间的差分的绝对值的总和。
图18是用于说明喷出判定的阈值设定的图。该图的纵轴表示累计计算像素灰度值的差分的绝对值而得到的总和。该图的横轴表示在步骤S36中连续拍摄的图像的号码。在步骤S36中进行连续拍摄而获取的多个图像之中比较初期的图像是从上表面处理液喷嘴30未喷出处理液时的图像(图10A)。图18中在图像的号码N1以前标示的是这样的从上表面处理液喷嘴30未喷出处理液时的图像与喷嘴位置基准图像之间的喷出判定区域SP的差分的总和。而其最大值是C1。
另一方面，在步骤S36中连续拍摄而获取的多个图像之中比较后期的图像是从上表面处理液喷嘴30正在喷出处理液时的图像(图10B)。图18中在图像的号码N1之后标示的是这样的从上表面处理液喷嘴30正在喷出处理液时的图像与喷嘴位置基准图像之间的喷出判定区域SP的差分的总和。而其最小值是C2。
设定部93将从上表面处理液喷嘴30未喷出处理液时由照相机70对拍摄区域PA进行拍摄获取的图像与喷嘴位置基准图像之间的喷出判定区域SP的差分的最大值C1，和从上表面处理液喷嘴30正在喷出处理液时由照相机70对拍摄区域PA进行拍摄获取的图像与喷嘴位置基准图像之间的喷出判定区域SP的差分的最小值C2，这两者的中间值设定为阈值TH。所谓中间值，例如可以是最大值C1与最小值C2的平均值((C1+C2)/2)，也可以是距离该平均值在规定范围内的任意的值。设定部93所设定的阈值TH被存储在存储部92中。
如以上那样针对上表面处理液喷嘴30进行事前准备(判定用参数的设定)。与从步骤S31至步骤S38所示的部分相同的事前准备针对其它的上表面处理液喷嘴60、65也执行(步骤S39)。这样的事前准备只要在进行示教时预先实施就足够，只要实施一次，在变更示教位置之前都不需要再次实施。另外，针对固定的下表面处理液喷嘴28不进行上述这样的事前准备处理。
在进行图14所示的判定用参数的设定之后，有关对成为处理对象的基板W进行处理时的顺序，与第一实施方式相同(图7)。但是，在第二实施方式中，根据图14所示的顺序，使用由设定部93设定的判定用参数(各种阈值等)来执行图7的判定处理。
在第二实施方式中也是将移动到处理位置的上表面处理液喷嘴30喷出处理液之间由照相机70对拍摄区域PA进行拍摄获取的喷出基准图像与之后由照相机70对拍摄区域PA进行拍摄获取的监视对象图像进行比较，判定从上表面处理液喷嘴30喷出处理液的情况。而每当将搬入到清洗处理单元1中的成为新的处理对象的基板W保持在旋转卡盘20上并且上表面处理液喷嘴30移动到处理位置时，获取喷出基准图像。
在由照相机70对拍摄区域PA进行拍摄得到的图像中，除了上表面处理液喷嘴30的前端附近以外，还包含旋转卡盘20所保持的基板W、清洗处理单元1内的机器等。为了尽可能的排除这些背景的影响，特别是排除在基板W的表面反射的处理液的像的影响，由设定部93预先设定喷出判定区域SP，利用喷出基准图像以及监视对象图像的喷出判定区域SP的差分与阈值进行比较。
但是，如图8所示，并不能从喷出判定区域SP将旋转卡盘20所保持的基板W的表面的图像除去。如已经记述的那样，在基板W的表面上形成抗蚀膜或者绝缘膜等各种的膜而形成图案，其结果是根据基板W的种类不同，表面反射率有很大不同。
若如第二实施方式那样，由于每当旋转卡盘20保持成为新的处理对象的基板W并且上表面处理液喷嘴30移动到处理位置时获取喷出基准图像，因此喷出基准图像以及监视对象图像双方都包含有相同的基板W的表面图像来作为背景。所以，在喷出基准图像与监视对象图像的差分中，基板W的表面反射率的大小无论怎样，其影响都被排除。其结果是，与第一实施方式相同，成为处理对象的基板W的种类无论怎样，都能够确实地判定从上表面处理液喷嘴30喷出处理液的情况。
另外，判定部91除了处理液喷出的判定之外，还进行上表面处理液喷嘴30移动到处理位置时的位置异常的判定。由于维护保养时的调整失误或者历时变化等，上表面处理液喷嘴30从示教位置偏离而喷出处理液，在此情况下，不能得到原本期待的结果，成为处理不良的原因。在本实施方式中，由于也进行上表面处理液喷嘴30的位置异常的判定，因此能够检测出上表面处理液喷嘴30的位置偏离，能够防止由于该位置偏离造成的处理不良的发生。
从而在第二实施方式中，由控制部9的设定部93进行上表面处理液喷嘴30的位置异常判定以及处理液喷出判定中所需要的参照图案RP的设定、喷出判定区域SP的设定以及阈值的设定。因此，即使装置的作业人员不具备图像处理的知识或有关判定算法的知识，或者没有充分掌握上述知识，由于由设定部93自动设定参照图案RP、喷出判定区域SP以及阈值，因此也能够稳定且确实地进行上表面处理液喷嘴30的位置异常判定以及处理液喷出判定。
〈第三实施方式〉
接着，针对本发明的第三实施方式进行说明。第三实施方式的基板处理装置100的装置结构与第一实施方式完全相同。另外，第三实施方式中的基板W的通常的处理顺序也与第一实施方式相同。第三实施方式与第一实施方式的不同之处是处理液喷出的判定方法。在第三实施方式中，根据像素的亮度值的散布度来判定处理液喷出的有无。
在第三实施方式中也是在从上表面处理液喷嘴30向基板W的上表面喷出处理液时，判定部91针对由照相机70拍摄得到的图像进行规定的图像处理而判定处理液喷出的有无。下面针对该技术进行详细说明。另外，在此针对上表面处理液喷嘴30的处理液喷出判定进行说明，但是针对其它的上表面处理液喷嘴60、65也相同。
由于示出判定处理用的事前准备以及判定处理的顺序的流程图本身与图6以及图7所示的相同，因此一边参照图6以及图7一边继续说明。但是，在第三实施方式中，流程图中示出的各顺序的内容与第一实施方式不同。
首先，在维护保养作业等时，在进行上表面处理液喷嘴30的示教时使上表面处理液喷嘴30移动到示教位置(步骤S11)。所谓示教是指对上表面处理液喷嘴30教授适当的动作的作业，将上表面处理液喷嘴30的停止位置修正为适当的位置(示教位置)。所以，在示教时，在使上表面处理液喷嘴30移动到示教位置时，上表面处理液喷嘴30准确地移动到适当的处理位置。另外，所谓适当的处理位置是指只要在该处理位置从上表面处理液喷嘴30喷出处理液就可进行所要求的基板处理的位置。
当上表面处理液喷嘴30移动到适当的处理位置时，由照相机70对包含上表面处理液喷嘴30的前端的拍摄区域进行拍摄(步骤S12)。图19是示出由照相机70对包含处理位置处的上表面处理液喷嘴30的前端的拍摄区域进行拍摄得到的图像(静止图像)的一个例子的图。在拍摄区域PA中至少包含位于旋转卡盘20所保持的基板W的上方的处理位置处的上表面处理液喷嘴30的前端。所以，在拍摄区域PA中包含旋转卡盘20所保持的基板W的表面来作为上表面处理液喷嘴30的背景。另外，由于在维护保养时也有在旋转卡盘20上未保持有基板W的情况，因此也可以是在拍摄区域PA不必一定包含基板W。
接着，从在步骤S12中拍摄得到的图像中裁剪出参照图案(步骤S13)。在步骤S12中的拍摄时刻，通过示教，上表面处理液喷嘴30准确地位于适当的处理位置。因此，在步骤S12中由照相机70拍摄得到的图像可成为示出上表面处理液喷嘴30的适当的处理位置的喷嘴位置基准图像。在步骤S13中，从这样的喷嘴位置基准图像如图19所示那样裁剪出包含上表面处理液喷嘴30的前端部分的一部分图像区域来作为参照图案RP。该裁剪例如在示教时作业人员一边观察在步骤S12中拍摄的图像一边手动指定成为参照图案RP的区域来进行即可。被裁剪出的参照图案RP与图像内的坐标一起被存储在控制部9的存储部92中(步骤S14)。
接着，作业人员设定位置异常判定的阈值(步骤S15)。在此设定的阈值在上表面处理液喷嘴30的位置异常的判定(图7的步骤S26)中使用，是在步骤S12中摄影的喷嘴位置基准图像的参照图案RP中的喷嘴位置与在步骤S25中确定的图像中的喷嘴位置之间的偏离的阈值。若在此设定的阈值很低，则即使是两图像中的喷嘴位置的偏离很小，也判定上表面处理液喷嘴30的位置异常。即，判定基准变得严格。在步骤S15中设定的阈值被存储在存储部92中。
接着，在步骤S12中拍摄得到的图像内进行喷出判定区域的设定(步骤S16)。如图19中例示的那样，在由照相机70对拍摄区域PA进行拍摄得到的图像中，除了上表面处理液喷嘴30的前端附近以外，还映入旋转卡盘20所保持的基板W、清洗处理单元1内的机器等。优选在判定从上表面处理液喷嘴30喷出处理液的情况之际，尽可能的减少这些背景的影响。因此，在步骤S16中，将照相机70对拍摄区域PA进行拍摄获取的图像中的由从上表面处理液喷嘴30喷出的处理液覆盖住的区域的一部分设定为喷出判定区域SP。在本实施方式中，在从适当的处理位置的上表面处理液喷嘴30喷出起至处理液抵达旋转卡盘20所保持的基板W上为止的期间内形成的处理液的液柱的一部分上设定喷出判定区域SP。也就是说，如图19所示，将喷出判定区域SP设定在适当的处理位置的上表面处理液喷嘴30的前端正下方。该设定也是只要作业人员一边观察在步骤S12中拍摄的图像一边手动指定区域来进行即可。所设定的喷出判定区域SP被存储在控制部9的存储部92中。另外，在此设定的喷出判定区域SP与上述的参照图案RP不同，并不是图像本身，一直是由照相机70对拍摄区域PA进行拍摄获取的图像中的区域，例如由表示图19的喷出判定区域SP的四边形的坐标数据表示。
接着喷出判定区域SP的设定，作业人员设定喷出判定的阈值(步骤S17)。在此设定的阈值在处理液的喷出判定(图7的步骤S28)中使用，是构成喷出判定区域SP的像素的亮度值的标准偏差的阈值。在后面还要详细叙述，而在此设定的阈值越大，则越容易判定从上表面处理液喷嘴30喷出处理液的情况。在步骤S17中设定的阈值被存储在存储部92中。
如以上那样针对上表面处理液喷嘴30进行事前准备。与从步骤S11至步骤S17示出的内容相同的事前准备针对其它的上表面处理液喷嘴60、65也执行(步骤S18)。这样的事前准备只要在进行示教时预先实施就足够了，只要实施一次，直到变更示教位置之前都不需要再次实施。另外，针对固定的下表面处理液喷嘴28不进行上述这样的事前准备处理。
接着，针对在进行了图6所示的事前准备之后针对成为处理对象的基板W进行处理时的顺序参照图7进行说明。首先，成为处理对象的基板W通过主搬运机械手103而被搬入到清洗处理单元1中(步骤S21)。被搬入的基板W利用旋转卡盘20而以水平姿势被保持着。并且，处理杯40进行升降动作以到达规定的高度位置。
在成为新的处理对象的基板W被保持在旋转卡盘20上之后，上表面处理液喷嘴30从待机位置向着处理位置开始移动(步骤S22)。上表面处理液喷嘴30的移动是按照预先设定的规程(记述了基板W的处理顺序以及条件的规程)并通过控制部9控制喷嘴基座33来进行的。另外，控制部9在该规程中记述了从上表面处理液喷嘴30喷出处理液规定时间以上(例如5秒以上)的情况下，在与上表面处理液喷嘴30开始移动的时刻相同的时刻指示判定部91进行喷出判定。控制部9指示进行喷出判定的时刻，严格来说与上表面处理液喷嘴30开始移动的时刻也可以不相同，但是优选持有余量的进行，以使得在上表面处理液喷嘴30停止移动之前，判定部91能够进行步骤S23以后的处理。
接受了喷出判定的指示的判定部91，使照相机70开始连续拍摄(步骤S23)。照相机70对拍摄区域PA以一定的间隔连续拍摄。例如，照相机70以33毫秒的间隔进行连续拍摄(每1秒30帧)。即，照相机70从旋转卡盘20保持着成为处理对象的新的基板W并且上表面处理液喷嘴30从待机位置向处理位置开始移动的时刻起开始进行视频摄影。另外，由于照相机70开始连续拍摄的时刻，也是上表面处理液喷嘴30从待机位置开始移动的时刻，因此上表面处理液喷嘴30还未到达拍摄区域PA。
在照相机70开始连续拍摄之后，判定部91判定上表面处理液喷嘴30的移动的停止(步骤S24)。上表面处理液喷嘴30的移动本身是按照上述的规程而通过控制部9控制喷嘴基座33来进行的，该移动的停止也由控制部9控制。判定部91独立于控制部9的控制，根据照相机70通过连续拍摄而获取的多个图像来判定上表面处理液喷嘴30是否停止移动。具体而言，判定部91逐一计算照相机70对拍摄区域PA连续拍摄而获取的连续的图像的差分，根据该差分是否为一定值以下来判定上表面处理液喷嘴30的移动的停止。所谓连续的图像的差分的计算，是指将通过连续拍摄而获取的多个图像中的某一个图像与其下一个图像的差分的图像中的全像素的灰度值的绝对值累计计算而求得总和。
图20是示出拍摄区域PA内的上表面处理液喷嘴30的移动的图。在拍摄区域PA内上表面处理液喷嘴30移动着之际，当照相机70对拍摄区域PA连续拍摄时，某一个图像与其下一个图像之间，上表面处理液喷嘴30的位置不同，这样的两图像的差分中，留下处理液喷嘴30的像。相对于此，在拍摄区域PA中上表面处理液喷嘴30在处理位置(图20中的虚线位置)停止了移动之后，当照相机70对拍摄区域PA连续拍摄时，在某一个图像与其下一个图像之间，上表面处理液喷嘴30的位置相同，这样的两图像的差分中，上表面处理液喷嘴30也消失了。因此，若照相机70对拍摄区域PA连续拍摄而获取的连续的图像的差分(某一个图像与其下一个图像的差分)的图像中的全像素的灰度值的总和为一定值以下，则判定部91判定上表面处理液喷嘴30停止了移动。另外，为了防止噪声等造成的误判定，例如判定部91针对连续的5张图像计算某一个图像与其下一个图像的差分(这种情况下计算4个差分)，若该差分全部为一定值以下，则判定上表面处理液喷嘴30停止了移动也可以。
接着，判定部91将由照相机70连续获取的图像中的在步骤S24中判定上表面处理液喷嘴30停止了移动的时刻的图像确定为喷嘴位置判定用图像(步骤S25)。所确定的喷嘴位置判定用图像被存储在控制部9的存储部92中。这样得到的喷嘴位置判定用图像是对上表面处理液喷嘴30到达处理位置而停止了的时刻的拍摄区域PA进行拍摄得到的图像。另外，喷嘴位置判定用图像也可以是在步骤S24中判定上表面处理液喷嘴30停止了移动的时刻以后的任意的1张拍摄区域PA的图像。
接着，判定部91将喷嘴位置基准图像与喷嘴位置判定用图像进行比较来判定上表面处理液喷嘴30的处理位置的位置异常(步骤S26)。喷嘴位置基准图像是在示教时上表面处理液喷嘴30准确地位于处理位置时由照相机70对拍摄区域PA进行拍摄获取的图像。喷嘴位置判定用图像则是在旋转卡盘20保持着成为处理对象的基板W并且上表面处理液喷嘴30移动到处理位置并停止时由照相机70对拍摄区域PA进行拍摄获取的图像。所以，若将喷嘴位置基准图像与喷嘴位置判定用图像进行比较，就能够判定移动到成为处理对象的基板W的上方的上表面处理液喷嘴30是否是在适当的处理位置停止。
具体而言，判定部91将在步骤S13中裁剪出的喷嘴位置基准图像的参照图案RP与对应于该参照图案RP的喷嘴位置判定用图像中的一部分区域图像进行比较，计算两图像中的上表面处理液喷嘴30的坐标的差(位置偏离)。该比较能够使用公知的图案匹配的方法。而在通过图案匹配计算出的上表面处理液喷嘴30的位置偏离为在步骤S15中设定的阈值以上的情况下，判定部91判定上表面处理液喷嘴30的位置异常。在判定上表面处理液喷嘴30的位置异常的情况下，控制部9进行规定的异常应对处理(例如发出警告、停止处理等)。另一方面，在计算出的上表面处理液喷嘴30的位置偏离比在步骤S15中设定的阈值小的情况下，判定部91判定上表面处理液喷嘴30的位置无异常。
通过控制部9的控制，一边使上表面处理液喷嘴30移动到处理位置一边使基板W旋转。另外，作为典型，是在上表面处理液喷嘴30到达处理位置并停止之后从上表面处理液喷嘴30开始喷出处理液。从而判定部91在上表面处理液喷嘴30停止之后根据由照相机70连续拍摄而获取的图像来判定从上表面处理液喷嘴30有无喷出处理液。
判定部91在处理液喷出的判定之际进行喷出判定区域SP的移动(步骤S27)。喷出判定区域SP是在喷嘴位置基准图像内作为由从上表面处理液喷嘴30喷出的处理液覆盖的区域的一部分而在步骤S16中设定的。在上述的步骤S26中，计算喷嘴位置基准图像中的上表面处理液喷嘴30的位置与喷嘴位置判定用图像中的上表面处理液喷嘴30的位置之间的位置偏离。在步骤S27中，根据该计算结果，判定部91进行喷出判定区域SP的移动。即，使喷出判定区域SP移动在步骤S26中计算的位置偏离量。
在步骤S24中判定上表面处理液喷嘴30的移动停止之后也是由照相机70对拍摄区域PA进行连续拍摄。即，照相机70在上表面处理液喷嘴30开始移动的同时对拍摄区域PA开始连续拍摄(步骤S23)，之后持续进行一定间隔下的连续拍摄。
判定部91根据在步骤S24中判定上表面处理液喷嘴30的移动停止了之后由照相机70对拍摄区域PA进行连续拍摄而得到的图像，判定从上表面处理液喷嘴30喷出处理液的情况(步骤S28)。拍摄区域PA中包含有喷出判定区域SP(参照图19)。所以，对拍摄区域PA进行连续拍摄，也是由照相机70对喷出判定区域SP进行连续拍摄。而在上表面处理液喷嘴30的移动停止后由照相机70对喷出判定区域SP进行连续拍摄而获取的图像成为判定处理液喷出用的喷出判定用图像。判定部91将喷出判定用图像中所包含的像素的亮度值的标准偏差与在步骤S17中设定的阈值进行比较来判定从上表面处理液喷嘴30有无喷出处理液。
喷出判定区域SP是在喷嘴位置基准图像内由从上表面处理液喷嘴30喷出的处理液覆盖的区域的一部分，是当从照相机70侧观察时所喷出的处理液映入到比位于背景中的物件更靠眼前的位置处的区域的一部分。在本实施方式中被设定为从上表面处理液喷嘴30对基板W喷出处理液而形成的液柱的一部，即被设定为映在比位于背景中的基板W更靠眼前的位置处的液柱的一部分。因此，在从处理位置的上表面处理液喷嘴30正常的喷出处理液时，处理液映入到从照相机70所见的整个喷出判定区域SP上。另一方面，在从上表面处理液喷嘴30未喷出处理液时，被保持在旋转卡盘20上的基板W的表面映入到从照相机70所见的整个喷出判定区域SP上。在此，由于基板W的表面是高反射率的镜面，因此在从上表面处理液喷嘴30未喷出处理液时，在基板W的表面反射的腔室10内的结构物等映入到从照相机70所见的喷出判定区域SP上。
其结果是，如图21所示，在从上表面处理液喷嘴30未喷出处理液时，腔室10内的结构物等作为图像要素进入到由照相机70对喷出判定区域SP进行拍摄而得到的喷出判定用图像上。另一方面，如图22所示，在从上表面处理液喷嘴30正在喷出处理液时，仅所喷出的处理液映入到由照相机70对喷出判定区域SP进行拍摄而得到的喷出判定用图像上。
判定部91针对在步骤S24中判定上表面处理液喷嘴30停止了移动之后由照相机70对喷出判定区域SP进行连续拍摄而获取的多个判定用图像逐一进行处理液喷出判定用的图像运算处理。具体而言，判定部91按照下面的公式(1)，计算判定用图像中所包含的像素的亮度值的标准偏差σ，将得到的标准偏差σ与在步骤S17中设定的阈值进行比较来判定从上表面处理液喷嘴30有无喷出处理液。
公式(1)
σ = ( S 1 - m ) 2 + ( S 2 - m ) 2 + ( S 3 - m ) 2 + · · · + ( S n - m ) 2 n · · · ( 1 )
在公式(1)中，n为判定用图像中所包含的像素的像素数，S1、S2、S3、……、Sn是各像素的亮度值(与由照相机70获取的像素的灰度值对应)，m是判定用图像中所包含的像素的亮度值的平均值。图23是示出如图21所示那样处理液未被喷出时的判定用图像的像素的亮度值的一个例子的图。在处理液未被喷出时，由于腔室10内的结构物等作为图像要素进入到喷出判定用图像中，因此在喷出判定用图像内形成图案而使得像素的亮度值的散布度(偏差)变大。其结果是，喷出判定用图像的像素的亮度值的标准偏差σ也变大，在图23的例子中标准偏差σ＝23.1。
相对于此，图24是示出如图22所示那样处理液正在被喷出时的判定用图像的像素的亮度值的一个例子的图。在处理液正在被喷出时，由于仅所喷出的处理液映入到喷出判定用图像上，因此喷出判定用图像内的像素的亮度值被均匀化而散布度变小。其结果是，喷出判定用图像的像素的亮度值的标准偏差σ也变小，在图24的例子中标准偏差σ＝5.4。
图23以及图24的例子中的标准偏差σ如以上所述那样，但是从上表面处理液喷嘴30未喷出处理液时的喷出判定用图像的像素的亮度值的标准偏差σ大概在20～30的范围内。另外，在从上表面处理液喷嘴30正在喷出处理液时的喷出判定用图像的像素的亮度值的标准偏差σ大概在5～10的范围内。因此，在步骤S17中作为处理液喷出判定用的阈值优选在10～20的范围内设定，在第三实施方式中阈值被设定为15。
如图24的例子那样，判定部91在喷出判定用图像的像素的亮度值的标准偏差σ比作为阈值的15小时，判定从上表面处理液喷嘴30正在喷出处理液。另一方面，如图23的例子那样，判定部91在喷出判定用图像的像素的亮度值的标准偏差σ比作为阈值的15大时，判定从上表面处理液喷嘴30未喷出处理液。另外，在亮度值的标准偏差σ与阈值相同的情况下，怎样判定都可以。
判定部91在判定从上表面处理液喷嘴30正在喷出处理液的状态例如持续2秒以上的情况下，也就是说若拍摄间隔为33毫秒，则针对60张以上的喷出判定用图像，亮度值的标准偏差σ持续地比阈值小，持续地判定处理液正在被喷出，在这种情况下，判定从上表面处理液喷嘴30稳定且确实地正在喷出处理液。另一方面，在从判定上表面处理液喷嘴30停止了移动的时刻起经过了规定时间(例如5秒)，标准偏差σ还未变得比阈值小，判定从上表面处理液喷嘴30未喷出处理液，在此情况下，判断处理液喷出异常。判定部91对处理液喷出的判定结果例如可以在控制部9所附设的显示器等上显示。另外，在判定从上表面处理液喷嘴30喷出处理液的状况异常的情况下，可以使得控制部9进行处理停止等异常应对处理。
以上内容是针对上表面处理液喷嘴30的喷出判定处理，而在使用其它的上表面处理液喷嘴60、65的情况下，利用与上述的内容相同的顺序能够针对上表面处理液喷嘴60或者上表面处理液喷嘴65进行喷出判定处理。
在第三实施方式中，计算由照相机70对喷出判定区域SP进行拍摄而获取的喷出判定用图像中所包含的像素的亮度值的标准偏差σ，将所得到的标准偏差σ与预先设定的阈值进行比较来判定从上表面处理液喷嘴30有无喷出处理液。即，在第三实施方式中，在进行处理液喷出判定之际，不需要在从上表面处理液喷嘴30未喷出处理液时拍摄的成为基准的比较用的图像。
另外，在第三实施方式中，是在上表面处理液喷嘴30到达处理位置而停止了之后开始喷出处理液的，但是也存在如下这样的情况：在上表面处理液喷嘴30到达处理位置而停止之前就开始喷出处理液。在极端的情况下，也有在上表面处理液喷嘴30从待机位置开始移动的同时就开始喷出处理液的情况。即使是在这样的情况下，若如第三实施方式那样，则不需要成为基准的比较用的图像，仅根据在判定上表面处理液喷嘴30停止了移动之后由照相机70对喷出判定区域SP进行拍摄而获取的喷出判定用图像，就能够判定从上表面处理液喷嘴30有无喷出处理液，因此能够确实的检测出从上表面处理液喷嘴30喷出处理液的情况。
另外，由于利用了如下现象，即在从上表面处理液喷嘴30未喷出处理液时，腔室10内的结构物等被基板W的表面反射而映入照相机70，因此利用简单的照明和拍摄***就能够实现，不需要严格的光线调整。
另外，由于若照相机70对拍摄区域PA进行连续拍摄而获取的连续的图像的差分为一定值以下，就判定上表面处理液喷嘴30停止了移动，因此是自动判定上表面处理液喷嘴30的移动停止。所以，在上表面处理液喷嘴30在处理位置停止了移动之后，不发送特别的触发信号，就能够由照相机70进行拍摄来判定从上表面处理液喷嘴30喷出处理液的情况。其结果是，能够使得有关处理液喷出判定的硬件结构也简单化。
另外，判定部91除了处理液喷出的判定之外，还进行上表面处理液喷嘴30移动到处理位置时的位置异常的判定。在由于维护保养时的调整失误或者历时变化等使得上表面处理液喷嘴30从示教位置偏离而喷出处理液的情况下，不能得到原本期待的结果，成为处理不良的原因。在本实施方式中，由于也进行上表面处理液喷嘴30的位置异常的判定，因此能够防止由于上表面处理液喷嘴30的位置偏离而造成的处理不良的发生。
〈变形例〉
以上针对本发明的实施方式进行了说明，但是本发明在不脱离其宗旨的基础上在如上所述之外能够进行各种变更。例如，在第一以及第二实施方式中，判定部91在判定上表面处理液喷嘴30停止移动时，是根据由照相机70连续拍摄而获取的连续的图像的差分是否为一定值以下来进行判定的，但是并不限于此，也可以根据各图像与喷嘴位置基准图像的比较来进行判定。即，判定部91将由照相机70对拍摄区域PA进行连续拍摄而获取的多个图像与示教时获取的喷嘴位置基准图像之间进行图案匹配，在上表面处理液喷嘴30的坐标变动量为一定值以下时判定上表面处理液喷嘴30停止了移动。即使在这种情况下，优选判定部91例如针对连续的5张图像与喷嘴位置基准图像进行图案匹配，当上表面处理液喷嘴30的坐标变动量稳定的变为一定值以下时，判定上表面处理液喷嘴30停止了移动。
另外，在第一以及第二实施方式中判定从上表面处理液喷嘴30喷出处理液的情况的算法也可以是如图13所示那样。判定部91将多个监视对象图像之中的1张中的喷出判定区域SP的各像素的灰度值与对应于该像素的喷出基准图像中的喷出判定区域SP的像素的灰度值之间的差分的绝对值，针对喷出判定区域SP中所包含的全像素进行累计计算，在这一点上与第一实施方式(图12)相同。在图13所示的例子中，判定部91将像素灰度值的差分的总和以喷出判定区域SP的面积进行归一化而进行喷出基准图像与监视对象图像的比较。即，判定部91将像素灰度值的差分的总和用喷出判定区域SP的面积来除而计算出单位面积下的差分的总和。从而判定部91将以喷出判定区域SP的面积进行了归一化的像素灰度值的差分的总和与在步骤S17中预先设定的阈值之间进行比较来判定从上表面处理液喷嘴30喷出处理液的情况。在第一实施方式中，若改变在步骤S16中设定的喷出判定区域SP的尺寸，则对应于此也要改变像素灰度值的差分的总和，其结果是也要必须改变在步骤S17中设定的阈值。在图13所示的例子中，由于将像素灰度值的差分的总和以喷出判定区域SP的面积进行了归一化，因此即使在步骤S16中设定的喷出判定区域SP的尺寸发生了改变的情况下，在步骤S17中设定的阈值不用改变也能够运用。
而且，在图13的例子中，判定部91计算出喷出基准图像与规定数量的监视对象图像之间的差分的移动平均值，进行该移动平均值与阈值的比较。即，判定部91例如针对连续的最近的5张监视对象图像分别计算出与喷出基准图像之间的像素灰度值的差分的总和，并计算出该差分的总和的平均值。从而判定部91将像素灰度值的差分的总和的平均值与在步骤S17中预先设定的阈值之间进行比较来判定从上表面处理液喷嘴30喷出处理液的情况。若差分的移动平均为在步骤S17中设定的阈值以上，则判定从上表面处理液喷嘴30正在喷出处理液。若使用这样的移动平均值，就能够缓和由照相机70进行连续拍摄而获取的多个监视对象图像中所包含的噪声或偏差的影响，能够进行更加准确的喷出判定处理。
另外，在第二实施方式中，根据上表面处理液喷嘴30的喷出宽度以及上表面处理液喷嘴30的前端与旋转卡盘20所保持的基板W之间的距离来设定喷出判定区域SP，但是也可以将其替换，设定部93根据在步骤S36中获取的图像来设定喷出判定区域SP。更详细而言，设定部93将在步骤S36中获取的图像之中的从上表面处理液喷嘴30正在喷出处理液时的图像(图10B)二值化而提取所喷出的处理液的液柱部分，将该提取部分设定为喷出判定区域SP。在这种情况下，优选相对于拍摄区域PA将照相机70和照明部71设置在相同侧，使得照相机70能够接收由处理液的液柱部分反射的光。
另外，也可以使用在步骤S36中获取并且保存在存储部92中的图像，针对喷出判定区域SP以及喷出判定用的阈值TH进行验证。具体而言，针对在步骤S36中获取并且保存在存储部92中的从上表面处理液喷嘴30喷出处理液前后的图像，判定部91使用在步骤S37中设定的喷出判定区域SP以及在步骤S38中设定的阈值TH进行步骤S28的喷出判定。即，通过使用在步骤S36中获取的图像进行模拟，来验证喷出判定区域SP以及阈值TH的妥当性。若如此，则不用实际使用清洗处理单元1，就能够验证由设定部93自动设定的喷出判定区域SP以及阈值TH的妥当性。
另外，在第三实施方式中，在从上表面处理液喷嘴30喷出处理液而形成的液柱的一部分上设定喷出判定区域SP，但是并不限于此，喷出判定区域SP只要是从上表面处理液喷嘴30喷出的处理液映入的区域的一部分即可。例如，也可以是在从上表面处理液喷嘴30喷出并且抵达基板W上的处理液在基板W的表面上扩散而将该表面覆盖住的区域的一部分上设定喷出判定区域SP。即使是像这样设定喷出判定区域SP，在从上表面处理液喷嘴30正在喷出处理液时，处理液也映入到从照相机70所见的整个喷出判定区域SP上，能够进行与第三实施方式相同的判定处理。可是，从上表面处理液喷嘴30开始喷出处理液起至该处理液在基板W的表面上扩散而覆盖基板W的表面为止，期间具有若干时间间隔，因此如第三实施方式那样在从上表面处理液喷嘴30喷出处理液而形成的液柱的一部分上设置喷出判定区域SP的方法，能够更迅速地检测出处理液的喷出。
另外，在第三实施方式中，将像素的亮度值的标准偏差σ与阈值进行比较来判定从上表面处理液喷嘴30有无喷出处理液，但是替代标准偏差σ而使用表示其它的散布度的指标也可以。作为表示替代了标准偏差σ的散布度的指标，可采用例如由像素的亮度值的最大值与最小值的差定义的范围、表现分布的扩散程度的分散等。即使是在使用这样的表示标准偏差以外的散布度的指标的情况下，通过将亮度值的散布度与预先设定的阈值进行比较，也能够判定从上表面处理液喷嘴30有无喷出处理液。
另外，为了使未喷出处理液时的判定用图像中所包含的像素的亮度值的标准偏差σ确实的变大，也可以在从上表面处理液喷嘴30未喷出处理液时由旋转卡盘20所保持的基板W的表面反射并由照相机70拍摄的腔室10内的部位上形成反差大的图案。例如，在由基板W的表面反射并由照相机70拍摄的腔室10的内壁上描绘出如图25至图27所示那样的反差大的图案。
在图25所示的例子中，在腔室10的内壁上描绘着两种不同颜色相间的方格图案。另外，图26所示的例子是格子图案。而且，图27所示的例子是条纹图案。通过使图25至图27所示那样的图案形成在由照相机70间接拍摄的腔室10的内壁上，从而在从上表面处理液喷嘴30未喷出处理液时，由基板W的表面反射的图25至图27所示那样的图案映入到从照相机70所见的喷出判定区域SP上。其结果是，在处理液未被喷出时，在喷出判定用图像上形成图25至图27所示那样的反差大的图案，使得像素的亮度值的散布度显著变大。
在由基板W的表面反射并且由照相机70拍摄的腔室10内的部位是无图案的壁面的情况下，即使是在处理液未被喷出时，喷出判定用图像的亮度值被均匀化，像素的亮度值的散布度变小，也有可能导致作出处理液正在喷出这样的误判定。通过在由基板W的表面反射并且由照相机70拍摄的腔室10内的部位上形成图25至图27所示那样的反差大的图案，能够使得处理液未被喷出时的喷出判定用图像中的像素的亮度值的散布度确实的比阈值大，能够防止误判定而确实的检测出处理液的喷出。
另外，根据基板处理装置100的不同，成为处理对象的基板并不限于半导体用途的基板，也可以是太阳能电池用途的基板或者液晶显示装置等平板显示器中使用的玻璃基板。
而且，只要是从可移动的喷嘴向基板喷出处理液来进行规定的处理的装置，都能够适用本发明的技术。例如，除了上述实施方式的单张式的清洗处理装置之外，从喷嘴向旋转的基板喷出光致抗蚀液来进行抗蚀剂涂敷的旋转涂敷装置(旋涂机)、从喷嘴向着在表面形成有膜的基板的端缘部喷出膜的除去液的装置或者从喷嘴向着基板的表面喷出蚀刻液的装置等中也可以适用本发明的技术。

Claims (41)

1.一种基板处理装置，其特征在于，
具有：
基板保持部，其用于保持基板，
杯部，其将所述基板保持部的周围包围，
喷嘴，其用于喷出处理液，
驱动部，其使所述喷嘴在所述基板保持部所保持的基板的上方的处理位置与比所述杯部更靠外侧的待机位置之间进行移动，
拍摄部，其对包含所述处理位置处的所述喷嘴的前端的拍摄区域进行拍摄，
判定部，其将在移动到所述处理位置的所述喷嘴喷出处理液之前由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的第一基准图像与之后对所述拍摄区域进行拍摄而获取的监视对象图像进行比较，来判定从所述喷嘴喷出处理液的情况；
所述拍摄部每当在所述基板保持部保持着成为新的处理对象的基板并且所述喷嘴移动到所述处理位置时获取第一基准图像。
2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
还具有存储部，该存储部用于存储判定区域，该判定区域是在由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的图像之中的包含从所述喷嘴的前端起至所述基板保持部所保持的基板为止的一部分的区域，
若第一基准图像以及监视对象图像的在所述判定区域的差分为规定的阈值以上，所述判定部就判定从所述喷嘴正在喷出处理液。
3.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
所述拍摄部从所述基板保持部保持着成为新的处理对象的基板并且所述喷嘴从所述待机位置向着所述处理位置开始移动的时刻起，以规定间隔连续对所述拍摄区域进行拍摄，
若由所述拍摄部对所述拍摄区域进行连续拍摄而获取的连续的图像的差分为一定值以下，所述判定部就判定所述喷嘴停止了移动。
4.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，
所述判定部将由所述拍摄部连续获取的图像之中的在判定所述喷嘴停止了移动的时刻的图像作为第一基准图像。
5.如权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，
所述判定部将在判定所述喷嘴停止移动之后由所述拍摄部连续获取的多个监视对象图像与第一基准图像按顺序进行比较，来判定从所述喷嘴喷出处理液的情况。
6.如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，
所述判定部以所述判定区域的面积进行归一化，来进行第一基准图像与监视对象图像的比较。
7.如权利要6所述的基板处理装置，其特征在于，
若第一基准图像与规定数量的监视对象图像之间的差分的移动平均值为规定的阈值以上，所述判定部就判定从所述喷嘴正在喷出处理液。
8.如权利要求4～7中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
所述判定部将在所述喷嘴准确地位于所述处理位置时由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的第二基准图像与第一基准图像进行比较，来判定所述喷嘴在所述处理位置处的位置异常。
9.如权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，
若第二基准图像以及第一基准图像中的所述喷嘴的坐标的差为规定的阈值以上，所述判定部就判定所述喷嘴的位置异常。
10.如权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，
所述判定部根据第二基准图像与第一基准图像的比较结果，来使第一基准图像以及监视对象图像中的所述判定区域的位置移动。
11.一种基板处理方法，其特征在于，
具有：
保持工序，将成为新的处理对象的基板保持在基板保持部上，
喷嘴移动工序，在成为新的处理对象的基板被保持在所述基板保持部上之后，使用于喷出处理液的喷嘴从比包围所述基板保持部的周围的杯部更靠外侧的待机位置向着所述基板保持部所保持的基板的上方的处理位置移动，
拍摄工序，通过拍摄部对包含所述处理位置处的所述喷嘴的前端的拍摄区域进行拍摄，
喷出判定工序，将在移动到所述处理位置的所述喷嘴喷出处理液之前由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的第一基准图像与之后对所述拍摄区域进行拍摄而获取的监视对象图像进行比较，来判定从所述喷嘴喷出处理液的情况；
在所述拍摄工序中，每当在所述基板保持部保持着成为新的处理对象的基板并且所述喷嘴移动到所述处理位置时获取第一基准图像。
12.如权利要求11所述的基板处理方法，其特征在于，
还具有预先设定判定区域的工序，所述判定区域是在由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的图像之中的包含从所述喷嘴的前端起至所述基板保持部所保持的基板为止的一部分的区域，
在所述喷出判定工序中，若第一基准图像以及监视对象图像的在所述判定区域的差分为规定的阈值以上，就判定从所述喷嘴正在喷出处理液。
13.如权利要求12所述的基板处理方法，其特征在于，
在所述拍摄工序中，从所述基板保持部保持着成为新的处理对象的基板并且所述喷嘴从所述待机位置向着所述处理位置开始移动的时刻起，以规定间隔连续对所述拍摄区域进行拍摄，
还具有停止判定工序，在该停止判定工序中，若由所述拍摄部对所述拍摄区域进行连续拍摄而获取的连续的图像的差分为一定值以下，就判定所述喷嘴停止了移动。
14.如权利要求13所述的基板处理方法，其特征在于，
将由所述拍摄部连续获取的图像之中的在判定所述喷嘴停止了移动的时刻的图像作为第一基准图像。
15.如权利要求14所述的基板处理方法，其特征在于，
在所述喷出判定工序中，将在判定所述喷嘴停止了移动之后由所述拍摄部连续获取的多个监视对象图像与第一基准图像按顺序进行比较，来判定从所述喷嘴喷出处理液的情况。
16.如权利要求15所述的基板处理方法，其特征在于，
在所述喷出判定工序中，以所述判定区域的面积进行归一化，来进行第一基准图像与监视对象图像的比较。
17.如权利要求16所述的基板处理方法，其特征在于，
在所述喷出判定工序中，若第一基准图像与规定数量的监视对象图像之间的差分的移动平均值为规定的阈值以上，就判定从所述喷嘴正在喷出处理液。
18.如权利要求14～17中任一项所述的基板处理方法，其特征在于，
还具有位置判定工序，在该位置判定工序中，将在所述喷嘴准确地位于所述处理位置时由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的第二基准图像与第一基准图像进行比较，来判定所述喷嘴在所述处理位置处的位置异常。
19.如权利要求18所述的基板处理方法，其特征在于，
在所述位置判定工序中，若第二基准图像以及第一基准图像中的所述喷嘴的坐标的差为规定的阈值以上，就判定所述喷嘴的位置异常。
20.如权利要求18所述的基板处理方法，其特征在于，
在所述喷出判定工序中，根据第二基准图像与第一基准图像的比较结果来使第一基准图像以及监视对象图像中的所述判定区域的位置移动。
21.一种基板处理装置，其特征在于，
具有：
基板保持部，其用于保持基板；
杯部，其将所述基板保持部的周围包围；
喷嘴，其用于喷出处理液；
驱动部，其使所述喷嘴在所述基板保持部所保持的基板的上方的处理位置与比所述杯部更靠外侧的待机位置之间进行移动；
拍摄部，其对包含所述处理位置处的所述喷嘴的前端的拍摄区域进行拍摄；
设定部，其确定在所述喷嘴准确地位于所述处理位置时由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的位置基准图像中的所述喷嘴的坐标，将包含所述喷嘴的前端的矩形区域设定为参照图案；
判定部，其将在所述基板保持部保持着成为处理对象的基板并且所述喷嘴移动到所述处理位置时由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的图像中的与所述参照图案对应的一部分区域的图像与所述位置基准图像中的所述参照图案进行比较，来判定所述喷嘴在所述处理位置处的位置异常。
22.如权利要求21所述的基板处理装置，其特征在于，
所述设定部根据差分图像来确定所述喷嘴的坐标，该差分图像是在准确地位于所述处理位置的所述喷嘴向着规定方向移动了规定量时由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的参照图像与所述位置基准图像之间的差分。
23.如权利要求22所述的基板处理装置，其特征在于，
所述设定部根据所述差分图像中的灰度值曲线来确定所述喷嘴的宽度方向上的两端以及前端的坐标。
24.如权利要求21～23中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
所述设定部根据所述喷嘴的喷出宽度以及所述喷嘴的前端与所述基板保持部所保持的基板之间的距离设定喷出判定区域，该喷出判定区域包含所述位置基准图像中的从所述喷嘴的前端喷出的处理液到达所述基板保持部所保持的基板为止的液柱部分，
所述判定部将在移动到所述处理位置的所述喷嘴喷出处理液之前由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的喷出基准图像中的所述喷出判定区域与之后对所述拍摄区域进行拍摄而获取的监视对象图像中的所述喷出判定区域进行比较，来判定从所述喷嘴喷出处理液的情况。
25.如权利要求24所述的基板处理装置，其特征在于，
所述设定部将最大值与最小值之间的中间的值设定为阈值，该最大值是指在从所述喷嘴未喷出处理液时由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的图像与所述位置基准图像之间的在所述喷出判定区域的差分的最大值，该最小值是指在从所述喷嘴正在喷出处理液时由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的图像与所述位置基准图像之间的在所述喷出判定区域的差分的最小值，
所述判定部将所述监视对象图像与所述喷出基准图像之间的在所述喷出判定区域的差分和所述阈值进行比较，来判定从所述喷嘴喷出处理液的情况。
26.一种基板处理方法，其特征在于，具有：
图案设定工序，确定在用于喷出处理液的喷嘴准确地位于应被保持在基板保持部上的基板的上方的处理位置时由拍摄部对包含该处理位置处的喷嘴的前端的拍摄区域进行拍摄而获取的位置基准图像中的所述喷嘴的坐标，将包含所述喷嘴的前端的矩形区域设定为参照图案；
位置判定工序，将在所述基板保持部保持着成为处理对象的基板并且所述喷嘴从比包围着所述基板保持部的周围的杯部更靠外侧的待机位置移动到所述处理位置时由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的图像中的与所述参照图案对应的一部分区域的图像与所述位置基准图像中的所述参照图案进行比较，来判定所述喷嘴在所述处理位置处的位置异常。
27.如权利要求26所述的基板处理方法，其特征在于，
在所述图案设定工序中，根据差分图像来确定所述喷嘴的坐标，该差分图像是在准确地位于所述处理位置的所述喷嘴向着规定方向移动了规定量时由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的参照图像与所述位置基准图像之间的差分。
28.如权利要求27所述的基板处理方法，其特征在于，
在所述图案设定工序中，根据所述差分图像中的灰度值曲线来确定所述喷嘴的宽度方向上的两端以及前端的坐标。
29.如权利要求26～28中任一项所述的基板处理方法，其特征在于，还具有：
区域设定工序，根据所述喷嘴的喷出宽度以及所述喷嘴的前端与所述基板保持部所保持的基板之间的距离设定喷出判定区域，该喷出判定区域包含所述位置基准图像中的从所述喷嘴的前端喷出的处理液到达所述基板保持部所保持的基板为止的液柱部分；
喷出判定工序，将在移动到所述处理位置的所述喷嘴喷出处理液之前由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的喷出基准图像中的所述喷出判定区域与之后对所述拍摄区域进行拍摄而获取的监视对象图像中的所述喷出判定区域进行比较，来判定从所述喷嘴喷出处理液的情况。
30.如权利要求29所述的基板处理方法，其特征在于，
还具有阈值设定工序，在该阈值设定工序中，将最大值与最小值之间的中间的值设定为阈值，该最大值是指在从所述喷嘴未喷出处理液时由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的图像与所述位置基准图像之间的在所述喷出判定区域的差分的最大值，该最小值是指在从所述喷嘴正在喷出处理液时由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的图像与所述位置基准图像之间的在所述喷出判定区域的差分的最小值，
在所述喷出判定工序中，将所述监视对象图像与所述喷出基准图像之间的在所述喷出判定区域的差分和所述阈值进行比较，来判定从所述喷嘴喷出处理液的情况。
31.如权利要求30所述的基板处理方法，其特征在于，还具有：
保存工序，将在从所述喷嘴未喷出处理液时以及正在喷出处理液时由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的在所述阈值设定工序中使用的图像进行保存；
验证工序，使用通过所述保存工序而保存的图像，对在所述区域设定工序中设定的所述喷出判定区域以及在所述阈值设定工序中设定的所述阈值进行验证。
32.一种基板处理装置，其特征在于，
具有：
腔室，其用于容置基板，
基板保持部，其用于在所述腔室内保持基板，
杯部，其将所述基板保持部的周围包围，
喷嘴，其用于喷出处理液，
驱动部，其使所述喷嘴在所述基板保持部所保持的基板的上方的处理位置与比所述杯部更靠外侧的待机位置之间进行移动，
拍摄部，其用于对判定区域进行拍摄，该判定区域是在从所述处理位置的所述喷嘴正在喷出处理液时该处理液映入，并且在从所述喷嘴停止喷出处理液时所述基板保持部所保持的基板的表面映入的区域，
判定部，其根据所述拍摄部对所述判定区域进行拍摄而获取的判定图像，来判定从所述喷嘴喷出处理液的情况；
所述判定部在所述判定图像中所包含的像素的亮度值的散布度比规定的阈值小时判定从所述喷嘴正在喷出处理液，在所述散布度比所述阈值大时判定从所述喷嘴未喷出处理液。
33.如权利要求32所述的基板处理装置，其特征在于，
所述散布度是标准偏差。
34.如权利要求32所述的基板处理装置，其特征在于，
所述拍摄部对所述判定区域进行连续拍摄而获取多个判定图像，
所述判定部在所述多个判定图像之中的规定数量的判定图像中持续的出现所述散布度比所述阈值小的情况时，判定从所述喷嘴正在喷出处理液。
35.如权利要求32～34中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
在从所述喷嘴停止喷出处理液时由所述基板保持部所保持的基板的表面反射并且由所述拍摄部拍摄的所述腔室内的部位上形成图案。
36.如权利要求35所述的基板处理装置，其特征在于，
所述图案是两种不同颜色相间的方格图案。
37.如权利要求35所述的基板处理装置，其特征在于，
所述图案是格子图案。
38.如权利要求35所述的基板处理装置，其特征在于，
所述图案是条纹图案。
39.一种基板处理方法，其特征在于，具有：
保持工序，将成为新的处理对象的基板搬入腔室内并且保持在基板保持部上，
喷嘴移动工序，在将成为新的处理对象的基板保持在所述基板保持部上之后，使用于喷出处理液的喷嘴从比包围所述基板保持部的周围的杯部更靠外侧的待机位置向着所述基板保持部所保持的基板的上方的处理位置移动，
拍摄工序，对判定区域进行拍摄，该判定区域是在从所述处理位置的所述喷嘴正在喷出处理液时该处理液映入，并且在从所述喷嘴停止喷出处理液时所述基板保持部所保持的基板的表面映入的区域，
判定工序，根据在所述拍摄工序中对所述判定区域进行拍摄而获取的判定图像，来判定从所述喷嘴喷出处理液的情况；
在所述判定工序中，在所述判定图像中所包含的像素的亮度值的散布度比规定的阈值小时判定从所述喷嘴正在喷出处理液，在所述散布度比所述阈值大时判定从所述喷嘴未喷出处理液。
40.如权利要求39所述的基板处理方法，其特征在于，
所述散布度是标准偏差。
41.如权利要求39或40所述的基板处理方法，其特征在于，
在所述拍摄工序中，对所述判定区域进行连续拍摄而获取多个判定图像，
在所述判定工序中，在所述多个判定图像之中的规定数量的判定图像中持续的出现所述散布度比所述阈值小的情况时，判定从所述喷嘴正在喷出处理液。
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