CN104830234A - A向蓝宝石手机盖板抛光液及制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种A向蓝宝石手机盖板抛光液及制备方法，其中，所述抛光液为水悬浮液，包括如下质量百分比的组分：

Description

A向蓝宝石手机盖板抛光液及制备方法
技术领域
本发明涉及蓝宝石手机盖板的双面抛光技术，更具体的说，涉及一种A向蓝宝石手机盖板抛光液及制备方法。
背景技术
蓝宝石晶体因为生长方向不同(沿C轴或者A轴)，可分为A向蓝宝石晶体与C向蓝宝石晶体，A向蓝宝石晶体符合晶体生长方向选用原子最密面的原则，A向蓝宝石晶体的平均质量要远远高于C向生长的蓝宝石晶体，所以将现有的C向蓝宝石手机盖板抛光液用于A向蓝宝石手机盖板的抛光，抛光速率低，手机盖板表面质量不佳。
目前美国苹果公司仅是将A向蓝宝石晶片应用于苹果手机后方相机镜头和指纹芯片上。在未来，苹果公司很有可能用A向蓝宝石晶片取代铝硅酸盐玻璃材料，成为iPhone手机屏幕，现在已有华为、金立等公司已采用A向蓝宝石晶片作为手机盖板。研究表明A向蓝宝石手机盖板的去除速率低、表面质量差、加工成本高。
现阶段关于A向蓝宝石抛光液的报道较少，例如，中国专利(申请号201410294295.8)“一种蓝宝石手机面板A向抛光液制备方法”提及使用了抛光液，但全文对其组分并未报道，只是简单的阐述了抛光的工艺要求，且抛光所需工艺要求均高于目前平均水平。为了满足蓝宝石手机面板发展的需求，拥有去除量高、表面质量好的A向蓝宝石化学机械抛光液成为急待解决的重要问题。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于，提供一种A向蓝宝石手机盖板抛光液及制备方法，以解决现有抛光过程中去除速率低、表面质量差等技术问题。
本发明解决上述技术问题的技术方案为：提供一种A向蓝宝石手机盖板抛光液，所述抛光液为水悬浮液，包括如下质量百分比的组分：
在本发明提供的A向蓝宝石手机盖板抛光液中，所述硅溶胶中二氧化硅颗粒的尺寸为40～110纳米。
在本发明提供的A向蓝宝石手机盖板抛光液中，所述络合剂为甘氨酸、柠檬酸、乙二胺四乙酸、酒石酸中的至少一种。
在本发明提供的A向蓝宝石手机盖板抛光液中，所述抛光助剂为过硫酸盐、碘酸盐、高氯酸盐中的一种。
在本发明提供的A向蓝宝石手机盖板抛光液中，所述表面活性剂为十六烷基三甲基溴化铵、辛基苯基聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚、聚丙烯酸钠中的至少一种。
在本发明提供的A向蓝宝石手机盖板抛光液中，所述消泡剂为甲基硅油、聚醚中的至少一种。
在本发明提供的A向蓝宝石手机盖板抛光液中，所述抛光液还包括pH调节剂，所述pH调节剂为三乙醇胺、碳酸钠、四甲基氢氧化铵、乙二胺、氢氧化钠中的一种，调节所述抛光液的pH值至8.5～11。
本发明还提供一种A向蓝宝石手机盖板抛光液的制备方法，在搅拌作用下，将硅溶胶加入至去离子水中分散稀释，然后依次加入抛光助剂、络合剂、表面活性剂、消泡剂、pH调节剂，其中，各组分的质量百分比如下：
实施本发明，具有如下有益效果：使用本发明提供的抛光液对A向蓝宝石手机盖板进行抛光，可以使A向蓝宝石盖板的表面粗糙度小于0.3nm，抛光速率大于2μm/hr，并可以有效消除划痕、橘皮、凹凸等表面缺陷。
具体实施方式
下面将结合实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
A向蓝宝石晶体的平均质量要远远高于C向生长的蓝宝石晶体，A向蓝宝石手机盖板的市场前景良好，但是A向蓝宝石手机盖板加工难度较大，C向蓝宝石手机盖板抛光液不能用于A向蓝宝石手机盖板的抛光生产。本发明的主要创新点在于：提供一种A向蓝宝石手机盖板抛光液及制备方法，使用硅溶胶作为A向蓝宝石手机盖板化学机械抛光的抛光液主磨料，配合络合剂、抛光助剂等辅助剂，快速、高效的完成A向蓝宝石手机盖板的化学机械抛光过程，抛光效果好、良品率高。
在本发明提供的较佳实施例中，A向蓝宝石手机盖板抛光液为水悬浮液，包括如下质量百分比的组分：
本实施例中，上述组分在水中分散成均匀的悬浮液，除上述组分外，余量为水，即不足100％的部分可以全部为水。硅溶胶作为主磨料，配合抛光机械与A向蓝宝石手机盖板表面发生物理摩擦作用，起到抛光作用。抛光液中含有络合剂与抛光助剂，其中络合剂可以与A向蓝宝石手机盖板中的铝离子形成可以溶解的络合物或硬度小的络合物，在抛光机的机械作用下，随着抛光液的流动，脱离蓝宝石晶片表面，快速消除蓝宝石晶片表面的毛刺、粗糙部位，从而提高抛光速率，另外，络合剂还可以防止抛光材料表面玷污或吸附，络合剂的选择对A向蓝宝石手机盖板化学机械抛光有着用非常重要的意义。同时，抛光助剂本身是不与蓝宝石发生化学反应，具有较强的氧化性能，但它可以起到类似催化剂的作用，使得络合剂与蓝宝石晶片中的铝离子处于一种比较活跃的状态，加快了化学反应速率，从而提高抛光速率。表面活性剂和消泡剂存在，使得抛光过程具有稳定、均匀的溶液环境，保证产品的一致性。
在本发明提供的另一较佳实施例中，所述抛光液具有上述质量百分比的组分，特别的是所述硅溶胶中二氧化硅颗粒的尺寸为40～110纳米，更优选的，硅溶胶中二氧化硅颗粒的尺寸为80～110纳米，以提供足够的物理摩擦作用。另外，所述硅溶胶优选的质量百分比为10％～20％。
在本发明提供的另一较佳实施例中，所述抛光液中，所述络合剂为甘氨酸、柠檬酸、乙二胺四乙酸(下文简称为EDTA)、酒石酸中至少一种，所述络合剂优选的质量百分比为0.5％～1％。
在本发明提供的另一较佳实施例中，所述抛光液中，所述抛光助剂为过硫酸盐、碘酸盐、高氯酸盐中的一种，所述抛光助剂优选的质量百分比为0.1％～1％。选用的过硫酸盐、碘酸盐、高氯酸盐以钾盐、钠盐、铵盐为最佳，例如，过硫酸盐可以为过硫酸钾、过硫酸钠、过硫酸铵，碘酸盐可以为碘酸钾、碘酸钠、碘酸铵，高氯酸盐可以为高氯酸钾、高氯酸钠、高氯酸铵。
在本发明提供的另一较佳实施例中，所述抛光液中，所述表面活性剂为十六烷基三甲基溴化铵(下文简称为CTAB)、辛基苯基聚氧乙烯醚(曲拉通X-100，下文简称为X-100)、壬基酚聚氧乙烯醚(下文简称为TX-10)、聚丙烯酸钠(下文简称为PAAS)中的至少一种，所述表面活性剂优选的质量百分比为0.1％～0.5％。
在本发明提供的另一较佳实施例中，所述抛光液中，所述消泡剂为甲基硅油、聚醚中的至少一种，所述消泡剂优选的质量百分比为0.01％～0.05％。
在本发明提供的另一较佳实施例中，所述抛光液中，所述pH调节剂为三乙醇胺、碳酸钠、四甲基氢氧化铵、乙二胺、氢氧化钠中的一种，调节所述抛光液的pH值至8.5～11。
实施例1-5
在机械搅拌作用下，将硅溶胶加入至去离子水中分散稀释，然后依次加入抛光助剂、络合剂、表面活性剂、消泡剂，并使用pH调节剂调节抛光液的pH值，其中具体配比见表1。
表1.实施例1-5中各组分配比
采用上述抛光液对A向蓝宝石手机盖板进行化学机械抛光，工艺条件见表2：
表2.实施例及对比例的工艺条件
抛光机 HAMAI-16B(双面)
盘面尺寸(mm) 1160
抛光垫 SUBA 800
转速(rpm) 35
压力(g/cm2) 300
抛光液流量(L/min) 1
抛光时间(min) 150
被加工工件 5.5寸蓝宝石手机盖板(A向)
抛光完成后，用清洗剂对蓝宝石手机盖板进行超声洗涤和干燥，然后检测盖板的表面形貌与抛光速率。用电子千分尺和精密天平测量抛光前后的厚度差与质量差，综合评价去除速率；采用原子力显微镜检查盖板表面质量，结果见表3。
表3.实施例及对比例的抛光结果
本发明提供的A向蓝宝石手机盖板抛光液的制备方法，工艺简单，易于生产，采用本发明提供的制备方法所得抛光液对A向蓝宝石手机盖板进行抛光，可获得良好的表面质量以及较高去除速率。
显然，上面描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

Claims (8)

1.A向蓝宝石手机盖板抛光液，其特征在于，所述抛光液为水悬浮液，包括如下质量百分比的组分：
2.根据权利要求1所述的A向蓝宝石手机盖板抛光液，其特征在于，所述硅溶胶中二氧化硅颗粒的尺寸为40～110纳米。
3.根据权利要求1所述的A向蓝宝石手机盖板抛光液，其特征在于，所述络合剂为甘氨酸、柠檬酸、乙二胺四乙酸、酒石酸中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的A向蓝宝石手机盖板抛光液，其特征在于，所述抛光助剂为过硫酸盐、碘酸盐、高氯酸盐中的一种。
5.根据权利要求1所述的A向蓝宝石手机盖板抛光液，其特征在于，所述表面活性剂为十六烷基三甲基溴化铵、辛基苯基聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚、聚丙烯酸钠中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的A向蓝宝石手机盖板抛光液，其特征在于，所述消泡剂为甲基硅油、聚醚中的至少一种。
7.根据权利要求1所述的A向蓝宝石手机盖板抛光液，其特征在于，所述抛光液还包括pH调节剂，所述pH调节剂为三乙醇胺、碳酸钠、四甲基氢氧化铵、乙二胺、氢氧化钠中的一种，调节所述抛光液的pH值至8.5～11。
8.A向蓝宝石手机盖板抛光液的制备方法，其特征在于，在搅拌作用下，将硅溶胶加入至去离子水中分散稀释，然后依次加入抛光助剂、络合剂、表面活性剂、消泡剂，其中，各组分的质量百分比如下：
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105111942A (zh) * 2015-09-10 2015-12-02 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司 微结晶蓝宝石抛光液
CN105462504A (zh) * 2015-12-11 2016-04-06 蓝思科技（长沙）有限公司 一种c向蓝宝石抛光液及其制备方法
CN105463466A (zh) * 2015-11-22 2016-04-06 全椒县志宏机电设备设计有限公司 一种用于不锈钢材质的机械设备的抛光液及其制备方法
CN105505316A (zh) * 2015-12-23 2016-04-20 北京国瑞升科技股份有限公司 蓝宝石粗磨用研磨助剂、研磨液及它们的制备方法
CN105575794A (zh) * 2016-03-09 2016-05-11 德米特（苏州）电子环保材料有限公司 一种中性抛光浆及其制备方法
CN106700944A (zh) * 2016-12-09 2017-05-24 北京国瑞升科技股份有限公司 一种合成碱、a向蓝宝石抛光液及其制备方法
CN106883769A (zh) * 2017-04-17 2017-06-23 黄美香 一种硅溶胶抛光液
CN107189693A (zh) * 2017-05-12 2017-09-22 江南大学 一种a向蓝宝石化学机械抛光用抛光液及其制备方法
CN107987732A (zh) * 2017-12-19 2018-05-04 北京航天赛德科技发展有限公司 一种用于蓝宝石平面抛光的抛光液及其制备方法
CN107987731A (zh) * 2017-12-19 2018-05-04 北京航天赛德科技发展有限公司 一种用于蓝宝石3d抛光的抛光液及其制备方法
CN116063929A (zh) * 2023-01-03 2023-05-05 广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院 一种a向蓝宝石衬底抛光液及其制备方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103450812A (zh) * 2013-01-10 2013-12-18 湖南皓志新材料股份有限公司 一种用于蓝宝石衬底的抛光液
CN104109480A (zh) * 2013-04-18 2014-10-22 天津西美半导体材料有限公司 双面抛光机用蓝宝石衬底抛光液
CN104449399A (zh) * 2014-11-25 2015-03-25 河北工业大学 一种适用于蓝宝石a面的化学机械抛光组合物

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103450812A (zh) * 2013-01-10 2013-12-18 湖南皓志新材料股份有限公司 一种用于蓝宝石衬底的抛光液
CN104109480A (zh) * 2013-04-18 2014-10-22 天津西美半导体材料有限公司 双面抛光机用蓝宝石衬底抛光液
CN104449399A (zh) * 2014-11-25 2015-03-25 河北工业大学 一种适用于蓝宝石a面的化学机械抛光组合物

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105111942B (zh) * 2015-09-10 2017-06-30 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司 微结晶蓝宝石抛光液
CN105111942A (zh) * 2015-09-10 2015-12-02 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司 微结晶蓝宝石抛光液
CN105463466A (zh) * 2015-11-22 2016-04-06 全椒县志宏机电设备设计有限公司 一种用于不锈钢材质的机械设备的抛光液及其制备方法
CN105462504A (zh) * 2015-12-11 2016-04-06 蓝思科技（长沙）有限公司 一种c向蓝宝石抛光液及其制备方法
CN105505316A (zh) * 2015-12-23 2016-04-20 北京国瑞升科技股份有限公司 蓝宝石粗磨用研磨助剂、研磨液及它们的制备方法
CN105575794A (zh) * 2016-03-09 2016-05-11 德米特（苏州）电子环保材料有限公司 一种中性抛光浆及其制备方法
CN106700944B (zh) * 2016-12-09 2018-08-21 北京国瑞升科技股份有限公司 一种合成碱、a向蓝宝石抛光液及其制备方法
CN106700944A (zh) * 2016-12-09 2017-05-24 北京国瑞升科技股份有限公司 一种合成碱、a向蓝宝石抛光液及其制备方法
CN106883769A (zh) * 2017-04-17 2017-06-23 黄美香 一种硅溶胶抛光液
CN107189693A (zh) * 2017-05-12 2017-09-22 江南大学 一种a向蓝宝石化学机械抛光用抛光液及其制备方法
CN107189693B (zh) * 2017-05-12 2021-12-28 江南大学 一种a向蓝宝石化学机械抛光用抛光液及其制备方法
CN107987731A (zh) * 2017-12-19 2018-05-04 北京航天赛德科技发展有限公司 一种用于蓝宝石3d抛光的抛光液及其制备方法
CN107987732A (zh) * 2017-12-19 2018-05-04 北京航天赛德科技发展有限公司 一种用于蓝宝石平面抛光的抛光液及其制备方法
CN107987732B (zh) * 2017-12-19 2019-12-24 北京航天赛德科技发展有限公司 一种用于蓝宝石平面抛光的抛光液及其制备方法
CN107987731B (zh) * 2017-12-19 2020-05-22 北京航天赛德科技发展有限公司 一种用于蓝宝石3d抛光的抛光液及其制备方法
CN116063929A (zh) * 2023-01-03 2023-05-05 广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院 一种a向蓝宝石衬底抛光液及其制备方法

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