CN103389843B

CN103389843B - 电极元件以及包含该电极元件的触摸屏

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Publication number: CN103389843B
Application number: CN201310170404.0A
Authority: CN
Inventors: 李秀振; 朴宰完; 李相侑; 李裁洪; 崔泳秀
Original assignee: LG Innotek Co Ltd
Current assignee: LG Innotek Co Ltd
Priority date: 2012-05-09
Filing date: 2013-05-09
Publication date: 2017-08-11
Anticipated expiration: 2033-05-09
Also published as: TWI607366B; TW201407452A; US9681540B2; JP2013235593A; EP2662758A2; EP2662758A3; US20130299222A1; CN103389843A

Abstract

本发明公开了一种电极元件。所述电极元件包括：基底以及在所述基底上的网格形状的电极。

Description

电极元件以及包含该电极元件的触摸屏

技术领域

本发明涉及一种电极元件以及包含该电极元件的触摸屏。

背景技术

近来，触摸屏已经用于各种电器，触摸屏通过用输入装置（诸如触控笔或手指）触摸显示装置上所显示的图像来执行输入功能。

触摸屏可以有代表性地分为电阻型触摸屏和电容型触摸屏。在电阻型触摸屏中，当对输入装置施加压力时，根据电极之间的连接检测电阻的变化，从而检测触点的位置。在电容型触摸屏中，当用户的手指触及电容型触摸屏时，通过检测电极之间的电容变化来检测触点的位置。

在电阻型触摸屏中，其反复使用会使其性能降低，并引起划痕。因此，对耐用性优异且寿命长的电容型触摸屏的兴趣增加了。

最广泛地用于触摸屏透明电极的氧化铟锡（ITO）很昂贵，并且基底的弯曲和弯折很容易在物理上对其造成影响，使得其电极特性劣化。因此，ITO或许不适合柔性装置。另外，当ITO用于大尺寸触摸屏时，会发生与高阻抗相关的问题。

为了解决所述问题，积极地进行了替代电极的研发。具体说，尽管通过用金属材料制成网格形状来形成ITO的替代物，但由于网格形状之故，会发生Moire现象。当条纹图形相互重叠时就会发生Moire现象。由于相邻条纹图形彼此重叠，条纹图形的厚度增加，使得重叠的条纹图形与其它条纹图形相比更加突出。为了克服Moire现象，在形成网格形状的金属材料上提供雾化膜，使得Moire现象弱化。然而，由于雾化膜之故，触摸屏的透光性下降，使得显示器的整体性能下降。另外，触摸屏的厚度也会增加。

同时，在金属的情形中，由于光的反射，可见性增加，从而会看到透明电极的图形。

发明内容

实施例提供一种可靠性提高的电极元件。

根据所述实施例，提供一种电极元件。所述电极元件包括：基底；以及在所述基底上的网格形状的电极。

如上所述，所述电极元件包括具有弯曲网格形状的电极。因此，在包括本实施例所述的电极元件的显示器上看不到所述电极的图形。换言之，即使所述电极包括金属，也看不到所述图形。另外，所述电极可以应用于大尺寸显示器。

所述电极可以包括从铜（Cu）、铝（Al）、镍（Ni）、锡（Sn）、锌（Zn）、金（Au）、银（Ag）及其合金所构成的组中选出的一种。这些材料可以替换现有的氧化铟锡（ITO）。这些材料在价格上有优势，并且可以通过简单的过程来形成。另外，由于这些材料具有优异的导电性，因此，这些材料可以改进所述电极的特性。

根据所述实施例，由于所述电极设置为弯曲网格形状，从而防止了Moire现象。另外，根据所述实施例，可以不用附加雾化膜来克服Moire现象。换言之，可以在不增加厚度和不损失透光性的情况下防止Moire现象。因此，显示器的整个性能和可靠性能够得到提高。

所述实施例所述的触摸屏的透明电极包括透明电极部和围绕该透明电极部的防反射部。所述透明电极部可以包括金属材料。所述金属材料可以替代现有的ITO，并在价格上有优势，也能通过简单的过程来形成。由于所述透明电极部具有网格形状，因此，在有源区不会看到所述透明电极部的图形。换言之，尽管所述透明电极部包括金属，但也不会看到所述图形。另外，当所述透明电极部通过印刷过程形成时，印刷质量可以提高，并且可以确保高质量触摸屏。

通过氧化所述透明电极部的一部分来形成防反射部，使得通过防反射部可以防止光反射。换言之，所述防反射部的设置使得可以防止可见性因包含金属材料的透明电极部的光反射而增加。具体说，由于所述防反射部不仅可以形成在所述透明电极部的顶面上，而且可以形成在所述透明电极部的侧面上，因此，所述透明电极的光学特性可以得到改善。

根据实施例所述的触摸屏的制造方法，可以制造出具有上述效果的触摸屏。

根据实施例所述的触摸屏，所述触摸屏的电极基底包括形成在一个基底的两个表面上的传感电极层，使得所述触摸屏的结构和制造过程得以最小化。因此，可以减少原材料，并能以低成本制造所述触摸屏。

另外，根据实施例，由于所述触摸屏的电极基底具有简单结构，因此，可以提供优异的耐用性和优异的光学特性。

此外，根据实施例，使用低电阻金属，使得可以在大面积上实现触摸。另外，由于所述实施例可应用于电容型触摸屏，因此，所述实施例能够比光学传感触摸方案具有更优异的灵敏度和性能。

附图说明

图1是平面图，示出了根据一个实施例所述的电极元件；

图2是平面图，示出了根据一个实施例所述的电极元件；

图3是平面图，示出了根据一个实施例所述的电极元件；

图4是平面图，示出了根据一个实施例所述的电极元件；

图5是平面图，示意地示出了根据一个实施例所述的触摸屏；

图6是放大图，示出了图5中的A部；

图7是沿着图6中的B-B’线截取的剖视图；

图8和图9是剖视图，示出了根据一个实施例所述的触摸屏的制造方法；

图10是剖视图，示出了根据一个实施例所述的电极元件；

图11是放大图，示出了根据一个实施例所述的电极元件；

图12是平面图，示出了根据一个实施例所述的电极元件；

图13是流程图，示出了根据一个实施例所述的电极元件的制造方法。

具体实施方式

在下面的实施例的描述中，应该明白，当一个层（膜）、区域、图形或结构被称作是在基底、另一个层（膜）、区域、焊盘或图形“之上”或“之下”时，它可以是“直接”或“间接”地在所述另一层（膜）、区域、图形或结构之上或之下，或者也可以有一个或多个中间层。每个层的这种位置参考附图来描述。

为方便或清楚计，附图中所示的每个层（膜）、区域、图形或结构的厚度和尺寸可能会夸大、省略或示意地画出。另外，每个层（膜）、区域、图形或结构的尺寸不完全反映实际尺寸。

下面将参考附图详细描述实施例。

将参考图1到图4详细描述一个实施例所述的电极元件。图1到图4是平面图，示出了一个实施例所述的电极元件。

参看图1，一个实施例所述的电极元件可以包括基底10和电极20。

基底10可以包括聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）膜或玻璃，但本实施例不限于此。基底10可以包括各种材料，使得电极20可以形成。

电极20可以形成在基底10上。

电极20可以具有网格形状。

所述网格包括曲线。所述网格可以包括若干曲线。具体说，参看图1，所述网格可以包括第一曲线C1、第二曲线C2、第三曲线C3和第四曲线C4。

第一曲线C1沿第一方向延伸。

第一曲线C1可以是正弦波形。换言之，第一曲线C1可以包括第一谷V1和第一峰P1。第一谷V1是第一曲线C1的最低部。换言之，第一谷V1是波谷。第一峰P1与第一谷V1相反。第一峰P1是第一曲线C1的最高部。换言之，第一峰P1是波峰。

第二曲线C2沿第一方向延伸。第二曲线C2可以设置在第一曲线C1的上方或下方。换言之，多个第一和第二曲线C1和C2可以沿着与第一方向交叉的第二方向排列。

第二曲线C2可以是正弦波形。换言之，第二曲线C2可以包括第二谷V2和第二峰P2。第二谷V2是第二曲线C2的最低部。换言之，第二谷V2是波谷。第二峰P2与第二谷V2相反。第二峰P2是第二曲线C2的最高部。换言之，第二峰P2是波峰。

参看图1，第一和第二谷V1和V2可以排列在同一线L1上。详细地说，第一和第二谷V1和V2可以排列在与第二方向平行的一条线L1上。换言之，第一和第二曲线C1和C2可以是这样一种结构，其中，具有相同形状的曲线重复排列。

同时，类似地，第三曲线C3沿第二方向延伸。

第三曲线C3可以是正弦波形。换言之，第三曲线C3可以包括第三谷V3和第三峰P3。第三谷V3是第三曲线C3的最低部。换言之，第三谷V3是波谷。第三峰P3与第三谷V3相反。第三峰P3是第三曲线C3的最高部。换言之，第三峰P3是波峰。

第四曲线C4沿第二方向延伸。第四曲线C4可以设置在第三曲线C3的上方或下方。换言之，多个第三和第四曲线C3和C4可以沿着第二方向排列。

第四曲线C4可以是正弦波形。换言之，第四曲线C4可以包括第四谷V4和第四峰P4。第四谷V4是第四曲线C4的最低部。换言之，第四谷V4是波谷。第四峰P4与第四谷V4相反。第四峰P4是第四曲线C4的最高部。换言之，第四峰P4是波峰。

参看图1，第三和第四谷V3和V4可以排列在同一线L2上。详细地说，第三和第四谷V3和V4可以排列在与第一方向平行的一条线L2上。换言之，第三和第四曲线C3和C4可以是这样一种结构，其中，具有相同形状的曲线重复排列。

根据所述实施例，尽管描述了第一到第四曲线C1到C4具有正弦波形，但所述实施例不限于此。所述曲线可以是具有所述幅度和周期的各种波形。

网线的线宽可以在0.01μm到10μm的范围内。由于制造过程的特性之故，不可以形成线宽为0.01μm或小于0.01μm的网线。如果线宽为10μm或大于10μm，电极20的图形不会被看到。优选地，所述网线的线宽可以为约5μm。

由于电极20具有网格形状，因此，电极20的图形在包含所述实施例所述的电极元件的显示器上不会被看到。换言之，尽管电极20由金属制成，电极20的图形却不会被看到。另外，电极20可以应用到大尺寸显示器中。

电极20可以包括从铜（Cu）、铝（Al）、镍（Ni）、锡（Sn）、锌（Zn）、金（Au）、银（Ag）及其合金所构成的组中选出的一种。这些材料可以替换现有的氧化铟锡（ITO）。这些材料在价格上有优势，并且可以通过简单的过程来应用。另外，由于这些材料具有优异的导电性，因此，这些材料可以改进电极20的性能。

如上所述，电极20具有弯曲网格的形状，从而防止了因网格设计而发生Moire现象。Moire现象是因为条纹图形彼此周期性重叠而发生的。根据Moire现象，由于相邻条纹图形彼此重叠，条纹图形的宽度增加，使得重叠的条纹图形与其它条纹图形相比更加突出。

详细地说，在电极20分别形成在两层膜上的触摸屏结构情形中，Moire现象发生在分别形成在所述膜上的电极20之间。另外，典型的触摸屏板结合在用作液晶板的LCD或OLED上。Moire现象发生在触摸屏板上的电极20和液晶板上的黑色矩阵之间。在这种情形中，根据所述实施例，电极20设置为弯曲网格形状，使得可以防止Moire现象。另外，根据所述实施例，可以不用附加雾化膜来克服Moire现象。换言之，可以在不增加厚度和不损失透光性的情况下防止Moire现象。因此，显示器的整个性能和可靠性可以得到提高。

同时，将参考图2描述一个实施例所述的电极元件。参看图2，电极20设置为包括第一到第四曲线C1到C4的网格形状。在这种情形中，第一曲线C1的第一谷V1和第二曲线C2的第二峰P2排列在同一线L3上。换言之，第一谷V1和第二峰P2排列在平行于第二方向同一线L3上。换言之，第一和第二曲线C1和C2可以具有这样一种结构，其中，形状彼此相反的曲线重复排列。

类似地，第三曲线C3的第三谷V3和第四曲线C4的第四峰P4排列在同一线L4上。换言之，第三谷V3和第四峰P4可以排列在平行于第一方向的一条线L4上。换言之，第三和第四曲线C3和C4可以具有这样一种结构，其中，形状彼此相反的曲线重复排列。

同时，在下文中，将参考图3描述一个实施例所述的电极元件。参看图3，电极20设置为圆网格形状。换言之，所述网格包括圆。详细地说，所述网格可以包括第一圆O1、第二圆O2、第三圆O3和第四圆O4。

第一和第二圆O1和O2沿第一方向排列。换言之，第一和第二圆O1和O2可以沿第一方向平行设置。

第三和第四圆O3和O4沿第二方向排列。换言之，第三和第四圆O3和O4可以沿第二方向平行设置。

在这种情形中，第三圆O3可以设置在第一和第二圆O1和O2之间。换言之，第三圆O3可以与第一和第二圆O1和O2交叉。

同时，参看图4，根据一个实施例所述的电极元件包括设置在基底10上呈网格形状的电极20。所述网格具有圆形。在该网格中，各种尺寸的圆可以随机设置。

下面将参考图5到图7描述一个实施例所述的触摸屏。图5是平面图，示意地示出了一个实施例所述的触摸屏。图6是放大图，示出了图5中的A部。图7是沿图6中的B-B’线截取的剖视图。

参看图5到图7，根据本实施例所述的触摸屏包括基底100，在基底100中限定了用于检测输入装置（例如，手指）的位置的有源区AA和设置在有源区AA周围部分的无源区UA。在这种情形中，在有源区AA内可以设置能够进行检测的透明电极210。

在这种情形中，在有源区AA内可以设置能够检测所述输入装置的透明电极210。此外，在无源区UA中可以设置使透明电极210彼此连接的导线300。此外，无源区UA中可以设置与导线300连接的外部电路。无源区UA中可以设置外虚设层（outer dummy layer）101，外虚设层101可以具有图标102。

如果所述输入装置（例如手指）触摸所述触摸屏，那么，在所述输入装置所触摸的部分发生电容变化，并且电容发生变化的触摸部可以被检测为触摸点。

下面将更详细地描述触摸屏。

基底100可以包括各种材料以支持形成在基底100上的透明电极210、导线300和电路板。例如，基底100可以包括玻璃基底或塑料基底。

外虚设层101形成在基底100的无源区UA中。外虚设层101上可以覆盖有具有预定颜色的材料，使得导线300和将导线300连接到外部电路的印刷电路板不能从外部看到。外虚设层101可以具有适合其希望外观的颜色。例如，外虚设层101可以包括黑色色素以呈现黑色。另外，可以通过各种方法在外虚设层101中形成希望的图标102。外虚设层101可以通过沉积、印刷、或湿涂法形成。

透明电极210可以形成在基底100上。透明电极210可以检测输入装置（例如手指）是否进行了触摸。

参看图6，透明电极210可以包括第一电极212和第二电极214。

第一电极212包括多个用来检测输入装置（例如手指）是否进行了触摸的第一传感部212a和用来使第一传感部212a彼此连接的第一连接电极部212b。第一连接电极部212b沿第一方向（附图中的X轴方向）将第一传感部212a彼此连接起来，使得第一电极212可以沿所述第一方向延伸。

类似地，第二电极214包括多个用来检测输入装置（例如手指）是否进行了触摸的第二传感部214a和用来使第二传感部214a彼此连接的第二连接电极部214b。第二连接电极部214b沿第二方向（附图中的Y轴方向）将第二传感部214a彼此连接起来，使得第二电极214可以沿所述第二方向延伸。

绝缘层250可以设置在第一和第二连接电极部212b和214b之间，以防止它们之间发生电短路。绝缘层250可以包括透明绝缘材料，以使第一电极212与第二电极214绝缘。

同时，透明电极210可以包括至少两层。在这种情形中，这些层可以包括相同的材料，后面对此将有进一步描述。

详细地说，参看图7，透明电极210包括透明电极部216和防反射部218。

透明电极部216设置在基底100上。透明电极部216可以直接与基底100接触。

透明电极部216可以包括金属。详细地说，透明电极部216包括可氧化金属。例如，透明电极部216包括铜（Cu）。铜（Cu）可以替换现有的ITO，它在价格上有优势，并且可以通过简单的过程形成。

参看图6，透明电极部216可以具有网格形状。详细地说，透明电极部216包括网线216a和网孔216b。在这种情形中，网线216a的线宽可以在1μm到10μm的范围内。由于制造过程的特性之故，不可以形成1μm或小于1μm的网线。如果线宽为10μm或大于10μm，则透明电极部216的图形不会被看到。优选地，网线216a的线宽可以为约5μm。

同时，如图6所示，网孔216b可以具有矩形形状，但所述实施例不限于此。网孔216b可以具有各种形状，诸如多边形（包括菱形、五边形、或六边形）或圆形。

由于透明电极部216具有网格形状，因此，透明电极部216的图形在有源区AA中不会被看到。换言之，尽管透明电极部216包括金属，但图形不会被看到。另外，尽管透明电极部216应用于大尺寸触摸屏，但触摸屏的阻抗可以减小。另外，当透明电极部216通过印刷过程形成时，可以提高印刷质量，并且可以确保高质量触摸屏。

此后，防反射部218可以设置在透明电极部216上。透明电极部216可以垂直地与防反射部218接触。

另外，防反射部218可以围绕透明电极部216。防反射部218可以覆盖透明电极部216的侧面和顶面。因此，防反射部218可以直接与透明电极部216和基底100接触。

防反射部218可以包括氧化物。详细地说，防反射部218可以包括金属氧化物。当透明电极部216包括第一金属时，防反射部218可以包括含有该第一金属的氧化物。

防反射部218通过氧化透明电极部216的一部分来形成。换言之，防反射部218通过将透明电极部216的一部分变暗来形成，从而防止光发生反射。

例如，当透明电极部216包括铜（Cu）时，防反射部218可以包括铜氧化物（CuO或Cu₂O）。同时，尽管铜氧化物呈现各种颜色，诸如红、褐或黑，但为了吸收光以及防止光反射，黑色是有利的。因此，为了获得呈现黑色的CuO的成分，必须适当地调节氧化条件。

透明电极部216可以包括呈现优异导电性同时通过氧化形成黑色氧化物的金属材料，如除了C之外还有Ag、Ni、Cr和Co。

防反射部218的厚度T可以在10nm到100nm的范围内。如果防反射部218的厚度T小于10nm，则防反射层218不会执行防反射功能。另外，如果防反射层218的厚度T大于100nm，则要相对地减少透明电极部216的厚度，使得透明电极210的导电性会降低。

防反射部218的设置使得可以防止可见性因透明电极部216的光反射而增加。具体说，由于防反射部218不仅形成在透明电极部216的顶面上，而且形成在透明电极部216的侧面上，因此，防反射部218是有利的。因此，可以改善透明电极210的光学特性。

根据现有技术，在形成包含金属材料的透明电极部之后，在透明电极部上另外地沉积防反射层，使得当透明电极部图形化时，防反射层随着透明电极部同时图形化。然而，在这种情形中，由于防反射层没有形成在透明电极部的侧面，因此，仍然会引起光反射。

之后，在无源区UA中形成导线300。导线300可以使电信号施加到透明电极210上。导线300形成在无源区UA中，使得导线300不会被看到。

同时，尽管未示出，但可以进一步提供与所述导线连接的电路板。该电路板可以包括各种印刷电路板。例如，该电路板可以包括柔性印刷电路板（FPCB）。

下面将参考图8和图9描述一个实施例所述的触摸屏的制造方法。为清楚起见，与上面的描述相同或相似的部分的细节就省略了。

图8和图9是剖视图，示出了本实施例所述的触摸屏的制造方法。

参看图8，在准备好基底100之后，可以在基底100上形成透明电极。具体地说，透明电极部216可以形成在基底100上。

透明电极部216可以通过印刷方法形成。通过在基底100上直接涂覆印刷油墨，可以形成透明电极部216。例如，可以通过平板印刷方法形成透明电极部216。具体说，当使用反转平板印刷方法时，可以印刷出精细图形。换言之，可以形成透明电极部216，同时确保具有网格形状的透明电极部216的印刷质量，但本实施例不限于此。换言之，在沉积过程之后，通过图形化过程可以形成透明电极部216。

之后，参看图9，通过氧化透明电极部216的一部分可以形成防反射部218。可以通过干氧化过程或湿氧化过程形成防反射部218。干氧化过程为在氧气氛中进行热处理，而湿氧化过程使用溶液。

例如，可以通过等离子体氧化过程来形成防反射部218。根据等离子体氧化过程，如果在电解质中将电压施加在阳极和阴极上，则可以产生等离子体。在这种情形中，等离子体与金属反应，使得在金属的表面上形成膜。然而，本实施例不限于此，可以通过各种氧化方案来形成防反射部218。

在这种情形中，通过调节氧化时间可以调节防反射部218的厚度T。

下面将参考图10和图12描述一个实施例所述的触摸屏的电极基底。

图10是剖视图，示出了一个实施例所述的触摸屏的电极元件。

将参考图10描述一个实施例所述的触摸屏的电极基底的结构。

如图10所示，所述触摸屏的电极基底包括基底230和传感电极层210和220。

基底230包括聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂（PET）、聚碳酸酯（PC）、聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）、三醋酸纤维素（TAC）和聚醚砜（PES）中的一者。传感电极层210和220形成在基底230的一个表面和基底230的相反的表面上。

详细地说，如图10所示，第一传感电极层210形成在基底230的上表面上，而第二传感电极层220形成在基底230的下表面上。

第一传感电极层210包括第一树脂层211和第一电极图形部212。

第一电极图形部212形成在第一树脂层211中。第一树脂层211在其表面形成有刻出的精细图形，而金属填充在该刻出的精细图形中，从而形成第一电极图形部212。在这种情形中，第一树脂层211包括光固化树脂层（UV树脂）。填充在所述刻出的精细图形中的金属可以包括银（Ag）、铂（Pt）、钨（W）、银-碳（Ag-C）、铜（Cu）、铝（Al）、镍（Ni）、铬（Cr）和镍-磷（Ni-P）之一。

上述第一电极图形部212不从第一树脂层211的表面凸起。

第二电极图形部222形成在具有第一传感电极层210的基底230的下表面。换言之，第一和第二传感电极层210和220形成在基底230的两个表面上，同时彼此对称。

类似于第一传感电极层210，第二传感电极层220包括树脂层221和第二电极图形部222。

第二电极图形部222形成在第二树脂层221中。第二树脂层221在其表面形成有刻出的精细图形，而金属填充在该刻出的精细图形中，从而形成第二电极图形部222。在这种情形中，第二树脂层221包括光固化树脂层（UV树脂）。填充在所述刻出的精细图形中的金属可以包括银（Ag）、铂（Pt）和钨（W）之一。

上述第二电极图形部222不从第二树脂层221的表面凸起。

图11是剖视图，示出了一个实施例所述的传感电极层。下面将参考图11详细描述所述传感电极层的结构。

如图11所示，所述传感电极层包括树脂层211和形成在树脂层211中的电极图形部212。

树脂层211在其表面形成有刻出的精细图形，而金属填充在该刻出的精细图形中，从而形成第一电极图形部212。在这种情形中，优选地，每个第一电极图形部212的宽度310和深度320可以形成在1μm到10μm的范围内。第一电极图形部212之间的距离优选在100μm到500μm的范围内。另外，优选地，树脂层211的厚度340可以在5μm到30μm的范围内。

图2是俯视图，示出了一个实施例所述的触摸屏的电极基底。

如图12所示，电极图形部212和222设置在树脂层中。

当俯视所述一个实施例所述的触摸屏的电极基底时，电极图形部212和222彼此交叉，构成网格形状。

图13是流程图，示出了一个实施例所述的触摸屏的电极基底的制造方法。

根据一个实施例，当制造触摸屏的电极基底时，首先在基底的表面上形成第一传感电极层，基底的上下表面为底部朝上放置，然后在基底上形成第二电极层。

下面将更详细地描述触摸屏的电极基底的制造方法。

在基底上形成第一树脂层（步骤S510）。

在这种情形中，优选地，可以使用模具形成第一树脂层，所述模具包括镍（Ni）。

在具有上述结构的第一树脂层的表面形成刻出的精细图形（步骤S515），并在所述刻出的精细图形中分配金属糊剂（步骤S520）。当如上所述分配了金属糊剂时，通过狭缝式模头（slot die）薄厚度的金属被涂布，并且只对分配方向上的前表面进行分配过程。

去掉从第一树脂层表面凸起的金属糊剂（步骤S530）。更详细地说，优选地，使用例如刀具等工具刮去从第一树脂层表面凸起的金属糊剂，并对刮后的表面进行清洁处理，此为刮除过程。

因此，在第一传感电极层的第一树脂层的刻出的精细图形中填充了金属，并对所述刻出的精细图形中所填充的金属糊剂进行干燥，从而形成第一电极图形部（步骤S540）。在这种情形中，当对金属糊剂进行干燥时，使用热风或IR加热器。

同时，在如上所述形成了第一电极图形部之后，可以附加进行第一传感电极层表面的擦拭过程，以便改善第一传感电极层的表面状态。所述擦拭过程可以包括使用无纺布的过程或使用刀片的挤压过程，并且可以使用附加的溶剂。

之后，将基底底面朝上放置，使得基底的上下部分互换（步骤S550），并在基底上形成第二树脂层（步骤S560）。在这种情形中，类似于第一树脂层，可以使用模具形成第二树脂层，所述模具优选包括镍（Ni）。

在具有所述结构的第二树脂层的表面形成刻出的精细图形（步骤S565），并在所述刻出的精细图形中分配金属糊剂（步骤S570）。类似地，优选地，当分配了金属糊剂时，通过狭缝式模头薄厚度金属被涂布，并且只对分配方向上的前表面进行该分配过程。

之后，去掉从第二树脂层表面凸起的金属糊剂（步骤S580）。使用例如刀具等工具刮去从第二树脂层表面凸起的金属糊剂，并对刮后的表面进行清洁处理，此为刮除过程。

因此，在第二传感电极层的第二树脂层的刻出的精细图形中填充了金属，并对填充的金属糊剂进行干燥，从而形成第二电极图形部（步骤S590）。在这种情形中，当对金属糊剂进行干燥时，优选使用热风或IR加热器。

同时，在如上所述形成了第二电极图形部之后，可以附加进行第二传感电极层表面的擦拭过程，以便改善第二传感电极层的表面状态。所述擦拭过程可以包括使用无纺布的过程或使用刀片的挤压过程，并且可以使用附加的溶剂。

上述实施例中所描述的特征、结构和效果包括在本发明的至少一个实施例中，并且不必只限于一个实施例。然而，所述实施例所属领域的技术人员也可以对所述实施例中所描述的特征、结构和效果进行组合或变型以在其它实施例中实施。因此，与所述组合和变型相关的内容应该被解释成包括在本发明的范围内。

此外，尽管到此为止主要描述了所述实施例，但它们只是示例性的，并不限制本发明。因此，本发明所属领域的技术人员会明白，在不偏离所述实施例的基本特性的范围内可以实施那些没有例示出的各种变型和应用。例如，可以对所述示例性实施例中所详细描述的构成元件进行变型，以进行实施。此外，与这些变型和应用相关的差异应该被解释成包括在所附权利要求书所指定的本发明的范围内。

Claims

1.一种电极元件，包括：

基底；

在所述基底上的网格形状的电极；以及

在所述电极上的防反射部，

其中，所述防反射部覆盖所述电极的侧面和顶面，

其中，所述电极包括第一金属，

其中，所述防反射部包括具有第一金属的氧化物，

其中，所述防反射部具有黑色，

其中，所述防反射部的厚度在10nm到100nm的范围内，

其中，所述电极与所述基底直接接触，

其中，所述防反射部与所述电极和所述基底直接接触，

其中，所述电极包括网线和网孔，

其中，所述防反射部只设置在所述网线上。

2.如权利要求1所述的电极元件，其中，所述基底包括UV树脂层。

3.如权利要求1所述的电极元件，其中，所述电极包括曲线。

4.如权利要求3所述的电极元件，其中，所述曲线具有正弦波形。

5.如权利要求3所述的电极元件，其中，所述曲线包括沿第一方向延伸的第一和第二曲线，所述第一曲线包括第一谷和与所述第一谷相反的第一峰，而所述第二曲线包括第二谷和与所述第二谷相反的第二峰。

6.如权利要求5所述的电极元件，其中，所述第一谷与所述第二谷或所述第二峰成直线排列。

7.如权利要求5所述的电极元件，其中，所述第二曲线平行于所述第一曲线排列。

8.如权利要求5所述的电极元件，其中，所述第二曲线与所述第一曲线相邻。

9.如权利要求3所述的电极元件，其中，所述曲线具有圆形形状。

10.如权利要求9所述的电极元件，其中，所述曲线包括沿第一方向排列的第一和第二圆、以及沿与所述第一方向交叉的第二方向排列的第三和第四圆，并且所述第三圆设置在所述第一和第二圆之间。