CN102854667A - 一种液晶装置及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种液晶装置，涉及液晶显示领域。所述液晶装置包括：密封胶，依次位于密封胶上方的保护膜OC、黑矩阵层BM和彩膜基板，以及依次位于密封胶下方的保护层PVX和阵列基板；保护膜OC上设置有第一槽或第一通孔，密封胶的上部位于第一槽或第一通孔的内部；和/或，保护层PVX上设置有第二槽，密封胶的下部位于第二槽的内部。所述液晶装置及其制造方法，通过在密封胶的上部结构（保护膜OC和/或黑矩阵层BM）或者下部结构（保护层PVX）设置孔或槽，增大了注胶空间的高度，进而增大了密封胶的湿面积，提高了液晶装置的粘结力，从而在使用普通的的材料、设备和工艺的情况下即可实现窄边框液晶面板制造，降低了生产成本。

Description

一种液晶装置及其制造方法
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域，特别涉及一种液晶装置及其制造方法。
背景技术
窄边框是电视工业设计上的最新理念，有效的提升了显示面积,实现了超宽视屏，并且为多屏拼接等应用提供了方便。
窄边框电视的边框一般只有普通液晶电视边框宽度的一半左右，在生产的过程中可以将密封胶的宽度变窄来实现窄边框。目前实现边框变窄的主要方案有：密封胶厂商需要改进密封胶的配方来确保密封胶具有细线化特性，这样在保证产品质量的前提下，通过减少密封胶的下胶量实现窄边框；优化工艺，在设备能力范围内将下胶量减到最少，以实现窄边框；改造设备，让设备的压力控制***更为精确，能将密封胶的控制更精确，实现密封胶的细化涂布。
图1a和图1b是通过上述方法实现的窄边框液晶面板的结构示意图，图1a中彩膜基板100、黑矩阵层BM200、保护膜OC300、密封胶400、保护层PVX500和阵列基板600从上至下依次设置，图1b中在密封胶400的两侧还设置有挡墙700。图1a和图1b中的窄边框液晶面板的密封胶湿面积相同均为W0×D0。其中，W0表示密封胶的宽度；D0表示密封胶的高度，由彩膜基板100和阵列基板600之间的间隔决定。
上述方案虽然可以实现窄边框，但是均需要对现有量产产线的材料、设备或者工艺进行改造，需要消耗大量的物力、人力和财力来进行测试，成本较高。
发明内容
（一）要解决的技术问题：提供一种液晶装置及其制造方法，以更低的成本实现窄边框液晶装置的制造。
（二）技术方案
为解决上述技术问题，本本发明还提供一种液晶装置，包括：密封胶，依次位于所述密封胶上方的保护膜OC、黑矩阵层BM和彩膜基板，以及依次位于所述密封胶下方的保护层PVX和阵列基板；
所述保护膜OC上设置有第一槽或第一通孔，所述密封胶的上部位于所述第一槽或第一通孔的内部；和/或，
所述保护层PVX上设置有第二槽，所述密封胶的下部位于所述第二槽的内部。
其中，对应于所述保护膜OC的第一通孔，所述黑矩阵层BM的下部设置有第三槽，所述密封胶的上部同时位于所述第三槽的内部。
其中，所述第三槽的深度小于等于所述黑矩阵层BM的厚度；所述第二槽的深度小于所述保护层PVX的厚度。
其中，所述液晶装置为窄边框液晶面板。
本发明还提供一种液晶装置的制造方法，其包括步骤：
A：在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜OC，并在所述保护膜OC上生成第一槽或第一通孔；
B：在阵列基板上沉积保护层PVX，对应所述第一槽或第一通孔的位置在所述保护层PVX上生成第二槽；
C：在所述彩膜基板和阵列基板之间填充密封胶，所述密封胶的上部位于所述第一槽或第一通孔的内部，下部位于所述第二槽的内部；
其中，所述步骤A与步骤B无先后顺序。
其中，当在所述保护膜OC上生成第一通孔时，所述步骤A进一步包括步骤：
A100：在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜OC；
A200：在所述保护膜OC上生成第一通孔；
A300：采用狭缝掩膜法或者灰调掩膜法，对应所述第一通孔的位置，在所述黑矩阵层BM生成第三槽。
其中，所述步骤C中，所述密封胶的上部同时位于所述第三槽的内部。
其中，所述步骤B中，使用正性光刻胶在所述保护层PVX上生成第二槽。
本发明还提供一种液晶装置的制造方法，其包括步骤：
S1：在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜OC，并在所述保护膜OC上生成第一槽或第一通孔；
S2：在阵列基板上沉积保护层PVX；
S3：在所述彩膜基板和阵列基板之间填充密封胶，所述密封胶的上部位于所述第一槽或第一通孔的内部，下部粘接所述保护层PVX；
其中，所述步骤S1与步骤S2无先后顺序。
本发明还提供一种液晶装置的制造方法，包括步骤：
P1：在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜OC；
P2：在阵列基板上沉积保护层PVX，在所述保护层PVX上生成第二槽；
P3：在所述彩膜基板和阵列基板之间填充密封胶，所述密封胶的上部粘接所述保护膜OC，下部位于所述第二槽的内部；
其中，所述步骤P1与步骤P2无先后顺序。
（三）有益效果
本发明所述液晶装置及其制造方法，通过在密封胶的上部结构（保护膜OC和/或黑矩阵层BM）或者下部结构（保护层PVX）设置孔或者槽，增大了注胶空间的高度，增大了密封胶的湿面积，提高了液晶装置的粘结力，从而在使用普通的的材料、设备和工艺的情况下即可实现窄边框液晶面板制造，降低了生产成本。
附图说明
图1a~b是现有的窄边框液晶面板的结构示意图；
图2是本发明实施例1所述液晶装置的结构示意图；
图3是本发明实施例2所述液晶装置的结构示意图；
图4是本发明实施例3所述液晶装置的结构示意图；
图5是本发明实施例4所述液晶装置的制造方法流程图；
图6是本发明实施例5所述液晶装置的制造方法流程图；
图7是本发明实施例6所述液晶装置的制造方法流程图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
实施例1
图2是本发明实施例1所述液晶装置的结构示意图，如图2所示，所述液晶装置包括：密封胶400，依次位于所述密封胶400上方的保护膜OC300、黑矩阵层BM200和彩膜基板100，以及依次位于所述密封胶400下方的保护层PVX500和阵列基板600。
所述保护膜OC300上设置有第一通孔，所述第一通孔贯穿所述保护膜OC300。所述黑矩阵层BM200上设置有第三槽。所述第一通孔与所述第三槽对应设置，孔径和形状相同并且连通成一体。所述密封胶400的上部同时位于所述第一通孔和所述第三槽的内部。
所述保护层PVX500上设置有第二槽，所述密封胶400的下部位于所述第二槽的内部。
其中，所述第一通孔与所述第三槽的深度为d1，d1的最大值为所述保护膜OC300和所述黑矩阵层BM200的厚度之和；所述第二槽的深度为d2；所述密封胶400的湿面积为W0×（D0+d1+d2）。相比图1a和图1b中的方案，本实施例中密封胶的湿面积增大值为W0×（d1+d2）。基于这些增大的密封胶湿面积，显著提高了液晶装置的粘结效果，因此，本实施例所述液晶装置只需采用普通的材料、设备和工艺即可实现窄边框，从而降低了制造成本。
实施例2
图3是本发明实施例2所述液晶装置的结构示意图，如图3所示，本实施例所述液晶装置与实施例1所述液晶装置基本相同，其不同之处在于，本实施例中只在保护膜OC300上设置第一槽，而未在黑矩阵层BM200设置第三槽，也未在保护层PVX500上设置第二槽。其中，密封胶400的上部位于所述第一槽内部，下部与所述保护层PVX500相粘接。这种设计方式也可以增大密封胶400的湿面积，其湿面积增加值为W0×d3，因此，也能够在保证液晶装置的粘结效果的情况下实现窄边框；同时，由于在制造过程中减少了对黑矩阵层BM200和保护层PVX500的刻蚀过程，显然可以提高生产效率，降低生产成本。
其中，所述第一槽可以替换为贯穿所述保护膜OC300的第一通孔，即所述密封胶400的上部刚好与所述黑矩阵层BM200的下表面相粘接，这样的好处在于最大化增大密封胶400的厚度，同时避免对黑矩阵层BM200的刻蚀过程。
实施例3
图4是本发明实施例3所述液晶装置的结构示意图，如图4所示，与实施例2相类似，本实施例所述液晶装置只在保护层PVX500上设置第二槽，而未在黑矩阵层BM200上设置第三槽，也未在保护膜OC300上设置第一槽或者第一通孔。这种设计方式也可以增大密封胶400的湿面积，其湿面积增加值为W0×d4，因此，也能够在保证液晶装置的粘结效果的情况下实现窄边框。
其中，当所述阵列基板600上存在过孔时，所述第二槽的深度d4不能达到或者超过所述保护层PVX500的厚度，以免所述阵列基板600上的电极裸露。
实施例4
图5是本发明实施例4所述液晶装置的制造方法流程图，如图5所示，所述方法包括步骤：
A：在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜OC，并在保护膜OC上生成第一通孔或者第一槽。
其中，当在所述保护膜OC上生成第一通孔时，所述步骤A可以进一步包括步骤：
A100：在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜OC；
A200：使用负性光刻胶在所述保护膜OC上生成第一通孔，所述第一通孔贯穿所述保护膜OC。其中，本步骤曝光过程中，除了密封胶涂布的区域完全避光外，其他的区域都100%透光设计。
A300：使用正性光刻胶，并采用狭缝掩膜法或者灰调掩膜法，对应所述第一通孔的位置，在所述黑矩阵层BM生成第三槽。
按照该种方式得到的液晶面板如图2所示，密封胶的上部同时位于所述第一通孔和第三槽的内部。另外，当不需生成第三槽时，可以省略步骤A300。同时，还可以调整所述步骤A200，以控制在保护膜OC上生成图3所示的第一槽，而非第一通孔。
B：在阵列基板上沉积保护层PVX，对应所述第一通孔或者第一槽的位置在保护层PVX上生成第二槽。本步骤中使用正性光刻胶，并使用灰调掩膜法，以控制密封胶固化的程度，再通过干刻和灰化工艺的结合，在所述保护层PVX上生成第二槽。根据不同产品保护层PVX的不同厚度，设计密封胶区域Mask的曝光量，控制第二槽的深度不能导致阵列基板上的电极裸露。
C：在所述彩膜基板和阵列基板之间填充密封胶，所述密封胶的上部位于所述第一通孔或者第一槽的内部，下部位于所述第二槽的内部。
另外，其中所述步骤A与步骤B无先后顺序，即其两者的先后顺序可以根据实际生产情况颠倒。
实施例5
图6是本发明实施例5所述液晶装置制造方法的流程图，如图6所示，所述方法包括步骤：
S1：在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜OC，并在保护膜OC上生成第一通孔或者第一槽；
S2：在阵列基板上沉积保护层PVX；
S3：在所述彩膜基板和阵列基板之间填充密封胶，所述密封胶的上部位于所述第一通孔或者第一槽的内部，下部粘接所述保护层PVX；
其中，所述步骤S1与步骤S2无先后顺序。
本实施例所述方法可用于生产制造图3所示的液晶装置。
实施例6
图7是本发明实施例6所述液晶装置的制造方法流程图，如图7所示，所述方法包括步骤：
P1：在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜OC；
P2：在阵列基板上沉积保护层PVX，在所述保护层PVX上生成第二槽；
P3：在所述彩膜基板和阵列基板之间填充密封胶，所述密封胶的上部粘接所述保护膜OC，下部位于所述第二槽的内部；
其中，所述步骤P1与步骤P2无先后顺序。
本实施例所述方法适于制造图4所示的液晶装置。
本发明实施例所述液晶装置及其制造方法，通过在密封胶的上部结构（保护膜OC和/或黑矩阵层BM）或者下部结构（保护层PVX）设置孔或者槽，增大了注胶空间的高度，进而增大了密封胶的湿面积，提高了液晶装置的粘结力，从而在使用普通的材料、设备和工艺的情况下即可实现窄边框液晶面板制造，降低了生产成本。
以上实施方式仅用于说明本发明，而并非对本发明的限制，有关技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，还可以做出各种变化和变型，因此所有等同的技术方案也属于本发明的范畴，本发明的专利保护范围应由权利要求限定。

Claims (10)

1.一种液晶装置，包括：密封胶，依次位于所述密封胶上方的保护膜OC、黑矩阵层BM和彩膜基板，以及依次位于所述密封胶下方的保护层PVX和阵列基板；
其特征在于，所述保护膜OC上设置有第一槽或第一通孔，所述密封胶的上部位于所述第一槽或第一通孔的内部；和/或，
所述保护层PVX上设置有第二槽，所述密封胶的下部位于所述第二槽的内部。
2.如权利要求1所述的液晶装置，其特征在于，对应于所述保护膜OC的第一通孔，所述黑矩阵层BM的下部设置有第三槽，所述密封胶的上部同时位于所述第三槽的内部。
3.如权利要求2所述的液晶装置，其特征在于，所述第三槽的深度小于等于所述黑矩阵层BM的厚度；所述第二槽的深度小于所述保护层PVX的厚度。
4.如权利要求1所述的液晶装置，其特征在于，所述液晶装置为窄边框液晶面板。
5.一种液晶装置的制造方法，其特征在于，包括步骤：
A：在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜OC，并在所述保护膜OC上生成第一槽或第一通孔；
B：在阵列基板上沉积保护层PVX，对应所述第一槽或第一通孔的位置在所述保护层PVX上生成第二槽；
C：在所述彩膜基板和阵列基板之间填充密封胶，所述密封胶的上部位于所述第一槽或第一通孔的内部，下部位于所述第二槽的内部；
其中，所述步骤A与步骤B无先后顺序。
6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，当在所述保护膜OC上生成第一通孔时，所述步骤A进一步包括步骤：
A100：在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜OC；
A200：在所述保护膜OC上生成第一通孔；
A300：采用狭缝掩膜法或者灰调掩膜法，对应所述第一通孔的位置，在所述黑矩阵层BM生成第三槽。
7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述步骤C中，所述密封胶的上部同时位于所述第三槽的内部。
8.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述步骤B中，使用正性光刻胶在所述保护层PVX上生成第二槽。
9.一种液晶装置的制造方法，其特征在于，包括步骤：
S1：在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜OC，并在所述保护膜OC上生成第一槽或第一通孔；
S2：在阵列基板上沉积保护层PVX；
S3：在所述彩膜基板和阵列基板之间填充密封胶，所述密封胶的上部位于所述第一槽或第一通孔的内部，下部粘接所述保护层PVX；
其中，所述步骤S1与步骤S2无先后顺序。
10.一种液晶装置的制造方法，其特征在于，包括步骤：
P1：在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜OC；
P2：在阵列基板上沉积保护层PVX，在所述保护层PVX上生成第二槽；
P3：在所述彩膜基板和阵列基板之间填充密封胶，所述密封胶的上部粘接所述保护膜OC，下部位于所述第二槽的内部；
其中，所述步骤P1与步骤P2无先后顺序。
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