CN102531384A - 玻璃盖片及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明的目的在于提供一种玻璃盖片及其制造方法，其在实现压缩层测定的容易化的同时，即使通过短时间的处理也可以充分发挥离子交换性能，由此能够高效地进行制造，能够提高机械强度。本发明涉及一种玻璃盖片，其在主表面具有压缩应力层，作为玻璃组成，其含有SiO2：50～70摩尔％、Al2O3：3～20摩尔％、Na2O：5～25摩尔％、Li2O：多于0摩尔％且为2.5摩尔％以下、K2O：0～5.5摩尔％和B2O3：0～小于3摩尔％；另外涉及一种玻璃盖片的制造方法，该方法包括以下工序：(1)将玻璃原料熔融而得到熔融玻璃；(2)通过下拉法将所得到的熔融玻璃成型为板状，得到玻璃基板；(3)在所得到的玻璃基板表面形成压缩应力层。

Description

玻璃盖片及其制造方法
技术领域
本发明涉及玻璃盖片及其制造方法。
背景技术
以往，薄板玻璃被用作对例如便携式电话、PDA、数码相机、FPD等的液晶画面等进行保护的玻璃盖片或便携式终端装置的壳体用的玻璃盖片。近年来，这些便携式电话和PDA等存在更加薄型、高功能化的趋势，并要求很高的机械强度。因此，对薄板玻璃基板的强度进行了化学强化的钢化玻璃被用作了玻璃盖片。
这种钢化玻璃例如通过离子交换处理来进行化学强化。离子交换处理通常为下述方法：将玻璃浸渍到温度为350～550℃左右的含有钾和/或钠的熔融盐中，由此使玻璃表面的钠离子、锂离子与离子交换盐中的钾离子或钠离子交换，在玻璃表面形成压缩应力层。
由此，作为制造钢化玻璃的玻璃材料，开发了各种组成的玻璃。特别是，为了制造上述经化学强化的玻璃盖片等，提出了机械强度和耐热性高的玻璃(例如，专利文献1等)。
该钢化玻璃中，例如，对Li2O+Na2O+K2O的含量进行了规定等，组合使用了离子交换成分，但实质上不含有Li2O。由此，即考虑到了玻璃的失透性、热膨胀系数和耐热冲击性、应力缓和值等，又实现了应变点等的提高。
若应变点升高，则玻璃化转变温度(Tg)也具有升高的趋势，从耐热性提高的观点出发，这样会具有良好的特性。但是，能够确保与该玻璃组成对应的预定的压缩应力值的最佳离子交换处理温度上升。例如，如专利文献1的84段等中所记载的那样，在比较低的温度(440～450℃)下进行离子交换处理时，为了得到20μm以上的优选的压缩应力层深度，需要6小时左右的时间。这样，会产生制造效率显著降低的问题。
若含有Li2O，则能够有效降低玻璃化转变温度。还认为这样能够缩短离子交换时间。但是，若大量含有Li2O，例如在连续进行的离子交换处理时，熔融盐(离子交换盐)的Li浓度会在短时间内上升，因此离子交换被抑制，从而会产生导致压缩应力降低的问题。
此外，通过在玻璃组成中含有许多Li2O，能够有效降低Tg。另外，这样还能够提高离子交换性能。由此，提出了各种在玻璃组成中含有Li2O的玻璃(例如，专利文献2和3等)。
如上所述，通常，为钢化玻璃带来其所需要的应力的压缩应力层是通过将玻璃表面的钠离子、锂离子与离子交换盐中的钾离子、钠离子进行交换而形成的。作为该应力的指标的压缩应力值和压缩应力层的厚度通常利用下述方式求得：在保持钢化玻璃的形态的状态下，将通过这些离子交换而变化的玻璃表面的折射率(换言之“双折射性”)作为线条图案进行观察，由此求出这些值。
但是，若大量含有Li2O，则无法观察上述起因于折射率的线条图案，无法在保持钢化玻璃的形态的状态下测定压缩应力值和压缩应力层的厚度。或者，即使能够观察较浅的线条图案，也可能无法测定正确的压缩应力值和压缩应力层的厚度。因此，为了测定所得到的钢化玻璃的强度，需要破坏钢化玻璃板。另外，还会产生该测定前的工序烦杂等新的问题。
由此，需要实现离子交换处理温度的降低及离子交换时间的缩短与压缩应力层的测定的容易性及耐热性之间等的需权衡取舍的关系的平衡。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2010-180076号公报
专利文献2：日本特开2004-131314号公报
专利文献3：US2009/0142568A1
发明内容
本发明是鉴于上述课题而进行的，其目的之一在于提供一种在实现压缩应力层测定的容易化的同时、通过提高离子交换性能而能够高效地进行制造的玻璃盖片及其制造方法。
另外，另一个目的在于提供一种可提高离子交换性能且具有良好的机械强度的玻璃盖片；以及提供一种即使通过短时间的处理也能够充分发挥离子交换性能、提高机械强度的玻璃盖片的制造方法。
本发明包括以下方案。
[1]一种玻璃盖片A，其在主表面具有压缩应力层，作为玻璃组成，其含有
SiO2：50～70摩尔％、
Al2O3：3～20摩尔％、
Na2O：5～25摩尔％、
Li2O：多于0摩尔％且为2.5摩尔％以下、
K2O：0～5.5摩尔％和
B2O3：0～小于3摩尔％。
[2]如[1]所述的玻璃盖片A，其还含有MgO：3～15摩尔％。
[3]如[1]或[2]所述的玻璃盖片A，其含有Na2O+Li2O+K2O：15.5～30摩尔％。
[4]如[1]～[3]的任一项所述的玻璃盖片A，其含有多于12摩尔％的Na2O。
[5]如[1]～[4]的任一项所述的玻璃盖片A，其中，以摩尔％换算，Li2O/(Na2O+Li2O+K2O)大于0且为0.2以下。
[6]一种玻璃盖片A的制造方法，其包括以下工序：
(1)将玻璃原料熔融而得到熔融玻璃；
(2)通过下拉法将所得到的熔融玻璃成型为板状，得到玻璃基板，作为玻璃组成，所述玻璃基板含有
SiO2：50～70摩尔％、
Al2O3：3～20摩尔％、
Na2O：5～25摩尔％
Li2O：多于0摩尔％且为2.5摩尔％以下、
K2O：0～5.5摩尔％和、
B2O3：0～小于3摩尔％；
(3)在所得到的玻璃基板表面形成压缩应力层。
[7]一种钢化玻璃A，其在主表面具有压缩应力层，作为玻璃组成，其含有
SiO2：50～70摩尔％、
Al2O3：3～20摩尔％、
Na2O：5～25摩尔％、
Li2O：多于0摩尔％且为2.5摩尔％以下、
K2O：0～5.5摩尔％和
B2O3：0～小于3摩尔％。
[8]一种玻璃盖片B，其在主表面具有压缩应力层，作为玻璃组成，其含有
SiO2：45～70质量％、
Al2O3：5～25质量％、
Na2O：9～25质量％、
Li2O：多于0质量％且为2.5质量％以下、
B2O3：0～3质量％和
MgO：多于0质量％且为10质量％以下。
[9]如[8]所述的玻璃盖片B，其还含有K2O：0～15质量％，
以质量％换算，MgO/(Li2O+Na2O+K2O)为0.11以上。
[10]如[8]或[9]所述的玻璃盖片B，其还含有ZrO2：0～5质量％。
[11]如[8]～[10]的任一项所述的玻璃盖片B，其还含有K2O：0～15质量％，
Li2O+Na2O+K2O为30质量％以下。
[12]如[8]～[11]的任一项所述的玻璃盖片B，其中，SiO2-1/2Al2O3为57.5质量％以下。
[13]如[8]～[12]的任一项所述的玻璃盖片B，其中，所述压缩应力层的压缩应力为400MPa以上，且应力深度为20μm以上。
[14]如[8]～[13]的任一项所述的玻璃盖片B，其中，K2O多于0质量％且为10质量％以下。
[15]一种玻璃盖片B的制造方法，其包括以下工序：
(1)将玻璃原料熔融而得到熔融玻璃；
(2)通过下拉法将所得到的熔融玻璃成型为板状，得到玻璃基板，作为玻璃组成，所述玻璃基板含有
SiO2：45～70质量％、
Al2O3：5～25质量％、
Na2O：9～25质量％、
Li2O：多于0质量％且为2.5质量％以下、
B2O3：0～3质量％和
MgO：多于0质量％且为10质量％以下；
(3)在所得到的玻璃基板表面形成压缩应力层。
[16]如[15]所述的玻璃盖片B的制造方法，其中，在形成所述压缩应力层的工序中，形成压缩应力为400MPa以上且应力深度为20μm以上的压缩应力层。
根据本发明，能够制造实现了压缩应力层测定的容易化的玻璃盖片，同时能够提高离子交换性能，高效地制造玻璃盖片。
另外，从其他观点出发，能够提供机械强度优异的玻璃盖片。
此外，能够提高离子交换性能，即使在短时间内也可以进行充分的离子交换处理，能够提高玻璃盖片的生产效率。
具体实施方式
本申请中，玻璃盖片为表示钢化玻璃的一个用途的术语，例如，主要表示保护便携式电话、PDA、数码照相机、FPD等便携式电子设备的显示画面等的部件、保护太阳能电池的部件或者用于便携式终端装置等的壳体的部件。在此，保护显示画面等的部件也可以兼具触控面板用途。
另外，钢化玻璃是指化学强化后的玻璃板，玻璃基板是指化学强化前的玻璃板。
[玻璃盖片]
本实施方式的玻璃盖片在其主表面具有压缩应力层。另外，其端面也形成有压缩应力层。
(玻璃盖片A的组成)
作为玻璃盖片A的玻璃组成，可以举出
SiO2：45～80摩尔％、
Al2O3：3～25摩尔％、
Na2O：3～30摩尔％、
Li2O：多于0摩尔％且小于4摩尔％、
K2O：0～10摩尔％和
B2O3：0～10摩尔％。
作为特别优选的玻璃组成，可以举出上述[1]的玻璃组成。
(玻璃盖片B的组成)
作为玻璃盖片B的玻璃组成，可以举出
SiO2：45～75质量％、
Al2O3：3～25质量％、
Na2O：3～30质量％、
Li2O：多于0质量％且为2.5质量％以下、
B2O3：0～10质量％和
MgO：0～15质量％。
作为特别优选的玻璃组成，可以举出上述[8]的玻璃组成。
(SiO2)
SiO2是构成用于玻璃基板的玻璃的网络骨架的必要成分，具有提高玻璃的化学耐久性和耐热性的效果。
作为SiO2的含量，可以举出45～80摩尔％，从其他观点出发，可以举出40～75质量％。
SiO2的含量小于上述下限时，虽然为了对玻璃基板进行形状加工而进行蚀刻时的蚀刻速率处于提高的趋势，但难以实现玻璃化，并且也不能充分地获得上述效果。
若SiO2的含量超过上述上限，则玻璃容易产生失透，粘性显著提高，玻璃原料难以熔融和成型。另外，由于粘性上升而难以实现玻璃的均质化，因此难以利用下拉法对玻璃进行廉价的大量生产。此外，热膨胀率过度降低，热膨胀系数难以与金属或有机类粘接剂等周边材料匹配。并且，由于低温粘性过度上升而使离子交换速度降低，因此在通过离子交换进行了化学强化的情况下也无法得到充分的强度。另外，由于其他成分量相对减少，因而无法得到所期望的特性。
需要说明的是，低温粘性表示107.6～1014.5dPa·s时的温度，本实施方式中，表示1014.5dPa·s时的粘性。
因此，SiO2的适合含量为50～70摩尔％，优选为53～67摩尔％，更优选为53～65摩尔％，进一步优选为55～65摩尔％，特别优选为58～63摩尔％。
从其他观点出发，SiO2的适合含量为50～70摩尔％，优选为53～67摩尔％，更优选为58～67摩尔％、60～67摩尔％、63～67摩尔％。
从其他观点出发，SiO2的适合含量为45～70质量％，优选为50～68质量％，更优选为53～67质量％，进一步优选为55～65质量％，特别优选为60～65质量％。
(Al2O3)
Al2O3是用于玻璃基板的玻璃的必要成分，具有提高玻璃的化学耐久性、耐热性、离子交换性能以及通过蚀刻进行形状加工时的蚀刻速率的作用。
作为Al2O3的含量，可以举出3～25摩尔％，从其他观点出发，可以举出3～25质量％。
Al2O3的含量小于上述下限时，无法充分地获得上述效果。
另一方面，若Al2O3的含量超过上述上限，则玻璃的液相温度上升，玻璃的成型困难。因此，难以利用下拉法对玻璃进行廉价的大量生产。另外，由于耐酸性过分地降低，因此作为玻璃盖片不是优选的。此外，由于玻璃容易产生失透，并且耐失透性也降低，因而不能应用于下拉法。
因此，Al2O3的含量优选为3～20摩尔％，更优选为3～17摩尔％，进一步优选为3～15摩尔％，特别优选为6～11摩尔％。
从其他观点出发，Al2O3的适合含量为5～25质量％，优选为7～20质量％，更优选为8～18质量％，进一步优选为9～16质量％，特别优选为10～14质量％、11～13质量％。
另外，在设SiO2含量(摩尔％)为X、设Al2O3含量(摩尔％)为Y时，X-(1/2·Y)优选为70摩尔％以下，更优选为64摩尔％以下。若X-1/2·Y为70摩尔％以下，则可以有效地提高玻璃基板的蚀刻速率。X-1/2·Y的优选的范围更优选为63摩尔％以下，更优选为62摩尔％以下，更进一步优选为61.5摩尔％以下。
另一方面，若上述X-1/2·Y小于45摩尔％，则虽然蚀刻速率为5μm/分钟以上，但是由于失透温度变高，因此耐失透性降低。因此，为了一并实现耐失透性与蚀刻速率的提高，上述X-1/2·Y优选为4摩尔％以上，更优选为50摩尔％以上，进一步优选为55以上，特别优选为57摩尔％以上。
因此，X-1/2·Y例如优选为45～70摩尔％、50～64摩尔％、55～63摩尔％、55～62摩尔％、57～61.5摩尔％。
在设SiO2含量(质量％)为X、设Al2O3含量(质量％)为Y时，X-(1/2·Y)优选为65质量％以下，更优选为57.5质量％以下，进一步优选为57质量％以下。由此，能够实现玻璃的性能与蚀刻速率的平衡。
另一方面，若上述X-1/2·Y小于30质量％，则虽然蚀刻速率为5μm/分钟以上，但是由于失透温度变高，因而耐失透性降低。因此，为了一并实现耐失透性与蚀刻速率的提高，上述X-1/2·Y优选为30质量％以上，更优选为50质量％以上，进一步优选为55质量％以上。
因此，X-1/2·Y例如优选为30～65质量％、40～65质量％、45～65质量％、50～60质量％、50～57质量％、45～57.5质量％。
(Na2O)
Na2O是离子交换成分，并且是降低用于玻璃基板的玻璃的高温粘性并提高玻璃的熔融性及成型性的必要成分。此外，Na2O还是改善玻璃的耐失透性的成分。
作为Na2O的含量，可以举出3～30摩尔％，从其他观点出发，可以举出3～30质量％。
Na2O的含量小于上述下限时，玻璃的熔融性降低，从而用于熔融的成本增高。另外，玻璃中所含的Na离子和熔融盐(离子交换盐)中所含的离子半径大的K离子的交换性能降低，在玻璃表面无法得到具有充分的强度的压缩应力层。并且，热膨胀率过度降低，导致热膨胀系数难以与金属或有机类粘接剂等周边材料匹配。另外，玻璃容易发生失透，耐失透性也降低，因此无法应用于下拉法。因此，难以进行廉价的玻璃的大量生产。
另一方面，若含量超过上述上限，则玻璃的化学耐久性变差。并且，热膨胀率过度变大，热膨胀系数难以与金属或有机类粘接剂等周边材料匹配。
因此，Na2O的含量适合为5～25摩尔％，优选为5～24摩尔％，更优选为9～23摩尔％，进一步优选为10～20摩尔％，进一步优选含有多于12摩尔％的Na2O，特别优选为多于12摩尔％～22摩尔％、多于12摩尔％～20摩尔％、14～18摩尔％。
从其他观点出发，Na2O的含量适合为9～25质量％，优选为9～23质量％，更优选为10～20质量％，进一步优选为12～18质量％，进一步优选为13～17质量％，特别优选为15质量％～17质量％。
由此，能够实现玻璃的熔化性、成型性能与化学耐久性的平衡。
(Li2O)
Li2O是离子交换成分之一，并且是降低用于玻璃基板的玻璃的粘度并提高玻璃的熔融性及成型性的成分。此外，Li2O还是提高玻璃基板的杨氏模量的成分。另外，Li2O能够有效地降低玻璃化转变温度和应变点等，因而能够降低离子交换处理温度。由此，能够防止离子交换处理温度超过离子交换盐的分解温度这样的不利情况的发生。另外，通过微量地导入Li2O，能够降低碱金属氧化物的总导入量，并提高玻璃基板的化学耐久性。此外，还可以兼具降低玻璃的热膨胀系数的作用。另外，离子半径小的Li离子与Na离子和K离子均进行离子交换，因此在使用了含有K离子的熔融盐(离子交换盐)的化学钢化玻璃中，对于表面压缩应力层的形成有效。
另一方面，若Li2O的含量过多，由于会出现下述不利情况：对玻璃基板进行强化的工序即离子交换处理中的离子交换盐劣化加快，因此，使得玻璃盖片的制造成本具有增高的趋势。另外，若Li2O的含量过多，则不仅耐热性过度降低，而且由于低温粘性过度降低，由此在化学强化后的加热工序中发生应力缓和，可能会使压缩应力层的应力值降低。若Li2O的含量过多，则在离子交换处理后的钢化玻璃中，无法观察起因于折射率的线条图案，无法在保持钢化玻璃的形态的状态下测定压缩应力值和压缩应力层的厚度。或者，即使能够观察较浅的线条图案，也无法测定正确的压缩应力值和压缩应力层的厚度。
另外，随着化学强化中使用的熔融盐(离子交换盐)的Li离子浓度的上升，导致离子交换受到抑制，因此导致压缩应力的降低。此外，化学强化时可能会导致熔融盐(离子交换盐)的劣化。
作为Li2O的含量，可以举出超过0～小于4摩尔％，从其他观点出发，可以举出超过0～2.5质量％。
特别是，玻璃组成A中，Li2O的含量多于0摩尔％是适合的，即玻璃组成含有Li2O成分是适合的，优选为0.001摩尔％以上，更优选为0.1摩尔％以上，进一步优选为0.2摩尔％以上。另外，适合为2.5％摩尔以下，优选为小于1.0摩尔％，优选为小于0.8摩尔％，更优选为0.6摩尔％以下，特别优选为0.5摩尔％以下。
因此，Li2O的含量例如可以举出超过0～2.5摩尔％、0.001～2.5摩尔％、0.001～小于1.0摩尔％、0.1～小于0.8摩尔％、0.2～0.6摩尔％、0.2～0.5摩尔％。
特别是，玻璃组成B中，Li2O的含量多于0质量％、即玻璃组成含有Li2O成分，Li2O的适合含量为2.5质量％以下，优选为多于0质量％且为2质量％以下，更优选为多于0质量％且为1.5质量％以下，进一步优选为多于0质量％且为1质量％以下，进一步优选为多于0质量％且为0.5质量％以下，特别优选为0.1质量％～0.5质量％、0.2质量％～0.5质量％。
(K2O)
K2O是能够提高玻璃基板的离子交换性能的可选成分。另外，K2O还是降低玻璃的高温粘性、提高玻璃的熔融性及成型性、同时改善耐失透性的成分。另外，与其他碱成分相比，K2O是易于提高应变点的成分。另外，在通过Na离子和K离子的离子交换而实施化学强化时，该成分还会增大所形成的压缩应力层的应力深度。
若玻璃中所含的碱成分单独为Na2O，则在使用环境中接触的水分容易与来自玻璃的碱离子进行交换，玻璃的化学耐久性可能会劣化，但通过共存K2O，利用混合碱效果，能够防止Na离子的溶出并且提高化学耐久性。
另一方面，若K2O的含量过多，则在通过Na离子和K离子的离子交换而实施化学强化时，所形成的压缩应力具有减小的趋势。并且，低温粘性降低，热膨胀率过度增大，热膨胀系数难以与金属和有机类粘接剂等周边材料匹配，另外，具有因玻璃平衡变差所引起的耐失透性降低的趋势，因此在应用下拉法进行玻璃基板的制造时，大量含有使耐失透性降低的K2O不是优选的。
作为K2O的含量，例如可以举出0～10摩尔％，从其他观点出发，可以举出0～15质量％。
特别是，玻璃组成A中，K2O的适合含量为5.5摩尔％以下，优选为4.0摩尔％以下，优选为3.6摩尔％以下，优选为2.6摩尔％以下，更优选为2.4摩尔％以下，进一步优选为2.0摩尔％以下，特别优选为1.9摩尔％以下。另外，由于K2O是可选成分，因此不是必须含有，但优选多于0摩尔％，即优选玻璃组成含有K2O成分，K2O成分优选为0.1摩尔％以上，更优选为1.0摩尔％以上，进一步优选为1.2摩尔％以上。
因此，K2O的含量例如可以举出0～5.5摩尔％、超过0～5.5摩尔％、0.1～4.0摩尔％、0.5～3.6摩尔％、1.0～2.6摩尔％、1.0～2.4摩尔％、1.0～2.0摩尔％、1.2～1.9摩尔％。
另外，特别是玻璃组成B中，K2O的适合含量为0质量％～15质量％，优选为0质量％～10质量％，更优选为多于0质量％且为10质量％以下，进一步优选为0.5～8质量％，进一步优选为0.5～5质量％，特别优选为1～4质量％、1～3质量％。
通过含有K2O，能够缩短离子交换处理的时间，特别是提高低温下的离子交换处理，能够提高玻璃盖片的生产率。
另外从其他观点出发，通过抑制K2O的含量，能够防止热线膨胀系数的增大。
(Na2O+Li2O+K2O)
作为Na2O、Li2O和K2O的总含量，例如，可以举出3～35摩尔％，从其他观点出发，可以举出3～35质量％。
Na2O、Li2O和K2O的总含量小于上述下限时，离子交换无法充分进行，无法充分地获得强度，难以应用于玻璃盖片。即，这些碱金属均是化学强化的必要成分或者促进化学强化的成分，因此若总含量过小，则化学强化时间变长，生产效率降低。
若Na2O、Li2O和K2O的总含量过多，则玻璃会产生起因于碱成分的虹彩(ヤケ)，因此不是优选的。还有玻璃的化学耐久性劣化。另外，玻璃的应变点也显著降低。
特别是，玻璃组成A中，Na2O、Li2O和K2O的适合总含量为8摩尔％以上，优选为10摩尔％以上、12摩尔％以上、14摩尔％以上，特别是，更优选为15.5摩尔％以上，进一步优选为16摩尔％以上、17摩尔％以上。另外，优选为30摩尔％以下，优选为25摩尔％以下，优选为22摩尔％以下，更优选为20.5摩尔％，进一步优选为20摩尔％以下。
因此，Na2O、Li2O和K2O的总含量可以举出8～30摩尔％、10～25摩尔％、12～22摩尔％、14～20.5摩尔％、15.5～20摩尔％。
另外，特别是玻璃组成B中，Li2O、Na2O和K2O适合的总含量为30质量％以下，优选为9～30质量％，更优选为12～27质量％，进一步优选为14～25质量％，进一步优选为15～23质量％，特别优选为16～22质量％、17～20质量％。
由此，能够有效且充分地进行离子交换，能够充分地获得强度。另外，能够防止因玻璃平衡的变差所引起的失透温度的上升，同时能够兼顾机械强度与耐失透性，能够提高生产率。此外，通过使碱金属氧化物的导入量在上述合适的范围，能够提高玻璃的化学耐久性，防止虹彩(ヤケ)等。
Li2O/(Na2O+Li2O+K2O)
对于Li2O/(Na2O+Li2O+K2O)，以摩尔％换算，可以举出大于0且为0.4以下；从其他观点出发，以质量％换算，可以举出大于0且为0.3以下。
特别是，玻璃组成A中，以摩尔％换算，Li2O/(Na2O+Li2O+K2O)大于0，优选为0.0005以上，更优选为0.001以上，进一步优选为0.002以上，特别优选为0.005以上。另外，Li2O/(Na2O+Li2O+K2O)为0.2以下是适合的，Li2O/(Na2O+Li2O+K2O)优选为0.1以下，优选为0.05以下，优选为0.045以下。
因此，对于Li2O/(Na2O+Li2O+K2O)，以摩尔％换算，可以举出超过0～0.2、0.0005～0.1、0.001～0.05、0.002～0.05、0.005～0.045。
另外，特别是，玻璃组成B中，以质量％换算，Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)优选为0.15以下。
通过使Li2O/(Na2O+Li2O+K2O)在上述范围，能够观察本实施方式的化学强化后的玻璃盖片的起因于折射率的线条图案，能够非破坏地测量压缩应力值和压缩应力层的厚度。这样，能够容易地测定压缩应力值和压缩应力层的厚度，所以能够有效地进行与压缩应力相关的规定规范(スペツク)的检查，并实现高度的品质管理。
另外，能够抑制应变点和Tg的上升，提高低温下的离子交换性能，防止热线膨胀系数的增大。此外，能够抑制化学强化处理中的交换盐的短时间内的劣化。
Na2O/(Li2O+Na2O+K2O)
作为Na2O/(Li2O+Na2O+K2O)，以摩尔％换算，其可以举出0.8～0.99，从其他观点出发，以重量％换算，其可以举出0.6～0.98。
若Na2O/(Li2O+Na2O+K2O)过大，则无法得到混合碱效果，玻璃的化学耐久性可能显著变差。
特别是，玻璃组成A中，以摩尔％换算，Na2O/(Li2O+Na2O+K2O)优选为0.8～0.99，更优选为0.8～0.98。
另外，特别是，玻璃组成B中，以质量％换算，Na2O/(Li2O+Na2O+K2O)优选为0.6～0.99，更优选为0.6～0.98。
通过为该范围，作为利用了Na和K的离子交换的化学钢化玻璃，能够形成良好的表面压缩应力。
本实施方式的玻璃盖片还可以任意地含有B2O3、MgO、CaO、ZrO2等或其他成分作为玻璃组成。
(B2O3)
B2O3是降低玻璃的粘性并促进用于玻璃基板的玻璃的熔化以及澄清的可选成分。
作为B2O3的含量，可以举出0～10摩尔％，从其他观点出发，可以举出0～10质量％。
特别是，玻璃组成A中，B2O3的适合含量为0～小于3摩尔％，优选为0～2摩尔％，更优选为0～1摩尔％，更优选为0～0.1摩尔％，特别优选除去杂质之外不刻意地使其含有B2O3且B2O3小于0.01摩尔％。
另外，特别是玻璃组成B中，B2O3的适合含量为0～3质量％，优选为0～2质量％，更优选为0～1质量％，进一步优选为0～0.1质量％，更进一步优选除去杂质之外不刻意地使其含有B2O3且B2O3小于0.01质量％。
通过为上述范围，能够实现玻璃的均质化，防止挥发所引起的玻璃的不均匀和与之相伴的蚀刻不匀，实现高精度的形状加工，防止因应变点的降低所导致的热处理中的玻璃的变形。
(MgO)
MgO是降低用于玻璃基板的玻璃的粘性并促进玻璃的熔化及澄清的可选成分。另外，该成分是提高玻璃的溶解性的有效成分，但不会降低离子交换时的碱离子的交换速度。此外，在碱土金属中，MgO使玻璃的密度上升的比例小，因此，MgO是用于使所得到的玻璃轻量化并提高熔融性的有效的成分，其是提高成型性并提高玻璃的应变点及杨氏模量的成分，还具有降低玻璃化转变温度的效果。此外，由于例如采用氢氟酸对含有MgO的玻璃进行蚀刻时所形成的析出物的溶解度大，所形成的析出物的生成速度比较慢，因此，结晶物附着于蚀刻中的玻璃表面的情况相对较少。因此，为了在改善玻璃的熔化性的同时得到快的蚀刻速率，优选含有MgO。
另一方面，若MgO的含量过多，则玻璃的液相温度急剧上升，成型性变差。另外，还产生耐失透性的降低，具有难以利用下拉法对玻璃进行廉价的大量生产的趋势。
作为MgO的含量，可以举出0～20摩尔％，从其他观点出发，可以举出0～15质量％。
特别是，玻璃组成A中，MgO的适合含量为0～15摩尔％，优选为1～15摩尔％，优选为3～15摩尔％，优选为3～12摩尔％，优选为3～10摩尔％，优选为5～10摩尔％，更优选为超过6～10摩尔％。
另外，特别是，玻璃组成B中，MgO的含量多于0质量％，即玻璃组成含有MgO成分，MgO为10质量％以下是适合的，并优选为1～10质量％，更优选为2～9质量％，进一步优选为3～8质量％，进一步优选为4～7质量％，特别优选为4～6质量％。
通过为该范围，能够在更低的温度下进行玻璃的熔融，能够进一步降低玻璃盖片制造的成本。另外，还能够兼顾离子交换性能与应变点的提高，适合于要求高机械强度的玻璃盖片。这是因为，在该范围时，能够在玻璃基板的表面形成充分的压缩应力层，即使在进行热处理时，也能够防止表面所形成的压缩应力层的应力缓和或消失。
MgO/(Li2O+Na2O+K2O)
MgO具有通过适量的导入而提高玻璃的耐候性、同时改善熔化性、促进离子交换的效果。碱金属若过量导入则会恶化耐候性，使玻璃的应变点显著降低。因此，需要将MgO与Li2O+Na2O+K2O的导入比例调整到适当的范围。
作为MgO/(Li2O+Na2O+K2O)，以摩尔％换算，可以举出0～1.5，从其他观点出发，以质量％换算，可以举出0～1。
若MgO/(Li2O+Na2O+K2O)过小，则Li2O+Na2O+K2O的效果处于支配地位，耐候性变差。另外，玻璃的应变点显著降低，玻璃的耐热性下降。
另一方面，若MgO/(Li2O+Na2O+K2O)过大，则液相温度变高，玻璃的失透稳定性显著降低。
特别是，玻璃组成A中，以摩尔％换算，MgO/(Li2O+Na2O+K2O)为0.11以上是适合的，并优选为0.11～1.2，更优选为0.15～1.2，进一步优选为0.2～1.0，特别优选为0.2～0.8。
另外，特别是，玻璃组成B中，以质量％换算，MgO/(Li2O+Na2O+K2O)为0.11以上是适合的，并优选为0.11～0.8，更优选为0.15～0.6，进一步优选为0.2～0.6，特别优选为0.2～0.5。
(CaO)
CaO是降低用于玻璃基板的玻璃的粘性并促进玻璃的熔化及澄清的可选成分。另外，由于CaO在碱土金属中使玻璃的密度上升的比例小，因此，CaO是用于使所得到的玻璃轻量化并提高熔融性的有利的成分，其还是提高成型性并提高玻璃的应变点及杨氏模量的成分。另外，CaO是提高玻璃的熔化性的有效成分，但不使玻璃的液相温度急剧上升，其通过对MgO的一部分进行置换而导入。此外，CaO具有降低离子交换时的碱离子的交换速度的作用。
另一方面，若CaO的含量过多，则由于产生耐失透性的降低，因而具有难以利用下拉法对玻璃进行廉价的大量生产的趋势。另外，还具有离子交换性能和蚀刻效率降低的趋势。此外，还存在例如蚀刻效率降低，并且例如与MgO相比，采用氢氟酸进行蚀刻时所形成的析出物的溶解度小，析出速度非常快，而因此附着于所蚀刻的玻璃的表面的趋势。附着于玻璃表面的析出物量显著时，会抑制蚀刻反应，降低蚀刻速率，降低玻璃的加工品质。
作为CaO的含量，可以举出0～15摩尔％，从其他观点出发，可以举出0～15质量％。
特别是，玻璃组成A中，CaO的适合含量为0～10摩尔％，优选为0～8摩尔％，更优选为0～6摩尔％，更优选为0～4摩尔％，进一步优选为0～1摩尔％。
另外，特别是，玻璃组成B中，CaO的适合含量为0～2质量％，优选为0～1质量％，更优选为0～0.5质量％，进一步优选为0～0.1质量％，更进一步优选除去杂质之外不刻意地使其含有CaO并且CaO小于0.01质量％。
需要说明的是，要求极高的蚀刻加工品质的情况下，优选实质上不含有CaO。
另外，为了降低熔融粘性和失透温度，优选与MgO一起共存CaO。
(SrO、BaO)
SrO和BaO的总含量可以举出0～10质量％。
SrO或BaO是降低玻璃的粘性并促进玻璃的熔融玻璃的熔化及澄清的可选成分。可以通过将MgO的一部分置换成SrO和BaO来导入SrO和BaO。通过将MgO的一部分置换成这些成分，能够降低玻璃的液相温度。
另一方面，由于含有SrO、BaO，所以玻璃的密度上升，难以实现玻璃盖片的轻量化。另外，若含有较多的这些成分，则使离子交换时的碱离子的交换速度降低。
特别是，玻璃组成A中，SrO含量和BaO含量的总量优选为3摩尔％以下，优选为1摩尔％以下，进一步优选实质上不含有SrO和BaO。因此，SrO含量和BaO含量的总量优选为0～3摩尔％，优选为0～1摩尔％，进一步优选实质上不含有SrO和BaO。
(SrO、BaO、ZnO)
SrO、BaO和ZnO的总含量可以举出0～10质量％。
特别是，玻璃组成B中，SrO、BaO和ZnO的总含量优选为0～5质量％，更优选为0～3质量％，进一步优选为0～1质量％。
从有效地防止玻璃的密度的上升以及离子交换速度的降低的观点出发，SrO含量和BaO含量的总含量优选为3质量％以下，优选为1质量％以下，进一步优选小于0.01质量％、实质上不含有SrO和BaO。因此，SrO含量和BaO含量的总含量优选为0～3质量％，优选为0～1质量％，进一步优选为0～0.01质量％、实质上不含有SrO和BaO。
(MgO+CaO+SrO+BaO:RO)
作为MgO、CaO、SrO、BaO的总含量，可以举出0～20摩尔％，从其他观点出发，可以举出0～15质量％。
若MgO、CaO、SrO、BaO的总含量超过15质量％，则化学耐久性降低。另一方面，通过含有这些成分，能够提高玻璃的熔融性和耐热性。
特别是，玻璃组成A中，MgO、CaO、SrO、BaO适合的总含量为3～20摩尔％，优选为3～18摩尔％，更优选为5～15摩尔％，进一步优选为6～13摩尔％。
另外，特别是，玻璃组成B中，MgO、CaO、SrO、BaO适合的总含量为0～15质量％，优选为0质量％～10质量％，更优选为0质量％～7质量％，进一步优选为2～7质量％，进一步优选为3～7质量％，特别优选为4～7质量％。
(ZrO2)
ZrO2是显著提高离子交换性能并且提高玻璃的失透温度附近的粘性和应变点的可选成分。另外，ZrO2还是提高玻璃的耐热性和化学耐久性的成分，在提高弹性模量方面也有效。
另一方面，若ZrO2的含量过多，则可能失透温度上升、耐失透性降低。另外，玻璃的液相温度显著上升。此外，由于ZrO2的熔点高，所以其是难熔的成分，因此会引起原料的一部分堆积在熔化炉的底部等问题。若这些未熔化的成分混入玻璃坯料中，则会作为夹杂物引起玻璃品质变差。
作为ZrO2的含量，可以举出0～8摩尔％，从其他观点出发，可以举出0～15质量％。
特别是，玻璃组成A中，为了防止耐失透性的降低，ZrO2的含量优选为0～8摩尔％，更优选为0～6摩尔％，进一步优选为0～4摩尔％，进一步优选为0～2摩尔％。
另一方面，通过含有ZrO2，能够有效地提高在应用于便携式电话等的玻璃盖片、应用于触控面板显示器等的玻璃盖片中重要的耐热性、与玻璃基板的化学强化处理的时间缩短和机械强度的提高有关的离子交换性能。因此，ZrO2的含量适合为0.1摩尔％以上，优选为0.5摩尔％以上，更优选为1摩尔％以上，进一步优选为1.5摩尔％以上。因此，ZrO2的含量适合为0.1～6摩尔％，优选为0.5～4摩尔％以上，更优选为1～2摩尔％。
另一方面，希望降低玻璃的密度时，优选使ZrO2的含量小于0.1摩尔％，此外，特别优选除去杂质之外不刻意地使其含有ZrO2。
另外，特别是，玻璃组成B中，ZrO2的含量优选为0～5质量％，更优选为0～3质量％，进一步优选为0～1质量％，更进一步优选除去杂质之外不刻意地使其含有ZrO2且ZrO2的含量小于0.01质量％。
(TiO2)
TiO2是显著提高离子交换性能并且降低玻璃的高温粘性的可选成分。另外，TiO2还是提高玻璃的耐热性和化学耐久性的成分。此外，在提高玻璃的失透温度附近的粘性和应变点、提高弹性模量的方面有效。
另一方面，若TiO2的含量过多，则耐失透性降低。另外，通过紫外线透过率降低，从而玻璃为着色状态，对于玻璃盖片等而言不是优选的。此外，使用紫外线固化树脂进行处理的情况下，会产生无法使紫外线固化树脂充分固化的不利情况。
作为TiO2的含量，可以举出0～10摩尔％，从其他观点出发，可以举出0～10质量％。
特别是，玻璃组成A中，TiO2的含量优选为0～8摩尔％，更优选为0～5摩尔％，进一步优选为0～3摩尔％，更进一步优选除去杂质之外不刻意地使其含有TiO2且TiO2的含量小于0.01摩尔％。
另外，特别是玻璃组成B中，TiO2的含量优选为0～5质量％，更优选为0～小于3质量％，进一步优选为0～1质量％，更进一步优选小于0.01质量％且除去杂质之外不刻意地使其含有。
(澄清剂)
本实施方式的玻璃盖片可以含有用于澄清的澄清剂。作为澄清剂，只要是对环境的负担小并且玻璃的澄清性优异则没有特别限定，例如，可以举出选自Sn、Fe、Ce、Tb、Mo和W的金属氧化物的组中的至少一种。
澄清剂通常在小于0.001摩尔％时，不能获得其效果，若超过1摩尔％，则会导致失透或着色等，因此其总含量优选为0.001～1摩尔％。另外，从其他观点出发，优选为0.001～1质量％。
其中，分别以SnO2、Fe2O3、CeO2表示上述各氧化物时，优选为下述范围。
由于SnO2是容易使玻璃失透的成分，因此为了提高澄清性且不发生失透，其适合的含量为0～0.5摩尔％，优选为0.01～0.5摩尔％。另外，从其他观点出发，其适合的含量为0～0.8质量％，优选为0～0.5质量％，更优选为0.01～0.5质量％。
由于Fe2O3是使玻璃着色的成分，因此为了提高澄清性并得到合适的透过率，其适合的含量为0～0.1摩尔％，优选为0.01～0.05摩尔％。另外，从其他观点出发，其适合的含量为0～0.2质量％，优选为0～0.1质量％，更优选为0.01～0.05质量％。
特别是，在对玻璃要求透明性/紫外线透过性的情况下，优选Fe2O3的含量小于0.02摩尔％，特别优选除去杂质之外不刻意地使其含有Fe2O3。另外，从其他观点出发，优选Fe2O3的含量小于0.02质量％，特别优选除去杂质之外不刻意地使其含有Fe2O3。
CeO2的适合含量为0～0.5摩尔％，优选为0.01～0.5摩尔％。另外，从其他观点出发，其适合的含量为0～0.8质量％，优选为0～0.5质量％，更优选为0.01～0.5质量％。
另外，如玻璃盖片等那样，特别要求玻璃具有高透过率的情况下，作为澄清剂，优选使用SO3。SO3的含量适合为0～0.5摩尔％，优选为0.001～0.5摩尔％。另外，从其他观点出发，其适合的含量为0～0.5质量％，优选为0.001～0.5质量％。
在使用SO3作为澄清剂的情况下，通过使成为SO3源的硫酸钠等硫酸盐与碳在熔融工序中共存，能够获得更高的澄清效果。
As2O3、Sb2O3在熔融玻璃中产生伴随价数波动的反应，具有对玻璃进行澄清的效果，但由于这些物质对环境造成的负担大，因此，在本实施方式的玻璃盖片中优选实质上不含有As2O3、Sb203。
PbO和F具有提高玻璃的熔融性并对玻璃进行澄清的效果，但由于这些物质对环境造成的负担大，因此，在本实施方式的玻璃盖片中优选实质上不含有PbO和F。
在此，“实质上不含有”是指除去杂质之外不刻意地添加且含量小于0.01摩尔％或小于0.001重量％。
Nb2O5、La2O3等稀土类氧化物是提高用于玻璃基板的玻璃的杨氏模量的可选成分。另一方面，若含量过多，则耐失透性降低。因此，稀土类氧化物的适合含量为3摩尔％以下，优选为1摩尔％以下，更优选除去杂质之外不刻意地添加且含量小于0.1摩尔％。另外，从其他观点出发，适合的含量为3质量％以下，优选为1质量％以下，更优选除去杂质之外不刻意地添加且含量小于0.1质量％。
Co、Ni等对玻璃进行着色的这样的过渡金属元素适合为1摩尔％以下，优选为0.5摩尔％以下，更优选除去杂质之外不刻意地添加且含量小于0.05摩尔％。另外，从其他观点出发，适合的含量为0.1质量％以下，优选为0.05质量％以下，更优选除去杂质之外不刻意地添加且含量小于0.01质量％。
如上所述，关于玻璃组成A和玻璃组成B，有些部分分别举出优选的组成的范围进行了说明，但当然也可以组合玻璃组成A和玻璃组成B的优选范围。
(玻璃盖片的物性)
本实施方式的玻璃盖片可以根据用途适当调整其厚度。
例如，用于玻璃盖片的钢化玻璃适合为3.0mm左右以下，优选为2.0mm左右以下，更优选为1.3mm以下，特别优选为0.8mm以下、0.5mm以下、0.3mm以下。该厚度越薄越能够轻量化，适合于玻璃盖片、触控面板显示器基板等。但是，若钢化玻璃的厚度过薄，则难以得到所期望的强度，因此适合的厚度为0.05mm以上，优选为0.1mm以上，优选为0.2mm以上。
因此，厚度例如可以举出0.05～3.0mm、0.1～2.0mm、0.2～1.3mm、0.2～1.0mm、0.2～0.8mm、0.2～0.5mm。
需要说明的是，即使是离子交换处理后的钢化玻璃，其厚度与用于钢化玻璃的玻璃基板之间没有实质上的变化。
在玻璃盖片的全部表面形成有应力压缩层。应力压缩层可以根据玻璃组成、离子交换处理方法、条件等适当调整其厚度。例如，适合为10μm以上，优选为30μm以上，更优选为50μm以上。压缩应力层的厚度越大，则即使玻璃基板具有较深的伤痕，玻璃基板也难以破裂。另一方面，若在玻璃基板表面形成极大的压缩应力层，则在伤痕极深的情况下可能会飞散，因此压缩应力层的厚度适合为150μm以下。需要说明的是，玻璃盖片的厚度薄至0.7mm以下或0.5mm以下时，压缩应力层的厚度适合为100μm以下。
因此，应力压缩层的厚度例如可以举出10～150μm、20～100μm、20～85μm、30～70μm、35～65μm。
本实施方式的玻璃盖片适合的压缩应力值例如为300MPa左右以上，优选为400MPa以上，优选为500MPa以上，优选为550MPa以上，优选为600MPa以上。
因此，压缩应力值例如可以举出200～1060MPa、300～950MPa、400～800MPa、500～800MPa。
通过使该应力压缩层为预定的厚度和/或预定的压缩应力值，能够得到即使板厚较薄也难以破损的玻璃盖片。即，能够对本实施方式的玻璃盖片提供充分的强度，例如，适合用于保护显示器等。
另一方面，压缩应力值越高则玻璃的强度越高，在钢化玻璃内部形成与压缩应力均衡的内部拉伸应力，强化后的玻璃破损时的冲击也变大。为了降低该冲击，本实施方式的化学强化后的玻璃盖片的压缩应力值适合为950MPa以下，优选为800MPa以下。
(玻璃盖片)
近年来，为了实现轻量化，玻璃盖片具有薄板化的趋势。与之相伴，要求压缩层深度薄但是具有预定值以上的压缩应力值。具体地说，优选板厚为0.2～1.3mm且压缩层深度为20～85μm、压缩应力值为200MPa～1060MPa，进一步优选板厚为0.2～1.0mm且压缩层深度为30～70μm、压缩应力值为300MPa～950MPa，进一步优选板厚为0.2～0.8mm且压缩层深度为35～65μm、压缩应力值为400MPa～800MPa。
用于本实施方式的玻璃盖片的玻璃基板通常具有各种特性。
(玻璃化转变温度(Tg))
用于本实施方式的玻璃盖片的玻璃基板的玻璃化转变温度(Tg)为500℃以上，优选为510℃以上，更优选为530℃以上，进一步优选为560℃以上。Tg可以利用公知的差示热膨胀计等进行测定。
例如，可以将玻璃加工成
Figure BDA0000125454610000201
长20mm的圆柱状，利用差示热膨胀计(ThermoPlus2 TMA8310)进行测定。
通过使Tg为500℃以上，可以抑制耐热性的降低，并可以防止通过离子交换处理在玻璃基板的主表面和端面形成的压缩层因各种成膜等后工序中的加热处理而产生应力缓和或消失。
另一方面，若Tg为700℃以上则离子交换性能降低，因而优选为700℃以下，更优选为650℃以下，进一步优选为630℃以下、620℃以下、600℃以下。
因此，作为Tg，例如可以举出500～700℃、510～650℃、530～620℃、560～600℃。
(蚀刻速率)
用于本实施方式的玻璃盖片的玻璃基板通常蚀刻速率适合为3.0μm/分钟以上，优选为3.7μm/分钟以上、4.0μm/分钟以上，更优选为4.3μm/分钟以上。在此，蚀刻速率是指在含有浓度为10质量％的氟化氢的22℃的蚀刻溶液中(蚀刻环境)下，由蚀刻20分钟时的玻璃基板单面的蚀刻量(厚度变化)所测定的值。
通过使蚀刻速率在上述范围内，能够提高玻璃的形状加工和利用了蚀刻的端面处理速度等，能够提高生产能力。
需要说明的是，蚀刻速率越高则玻璃制品的生产能力越高，但为了提高蚀刻速率而增加Al2O3的含量，则失透温度也上升。因此，为了兼顾耐失透性和蚀刻速率提高，构成本实施方式的玻璃基板的玻璃的适合蚀刻速率为10μm/分钟以下，优选为8μm/分钟以下，更优选为7μm/分钟以下。
因此，蚀刻速率例如可以举出3.0～10μm/分钟、3.7～8μm/分钟、4～8μm/分钟、4.3～7μm/分钟。
(密度)
用于本实施方式的玻璃盖片的玻璃基板的适合密度为2.8g/cm3以下，优选为2.7g/cm3以下，进一步优选为2.6g/cm3以下。玻璃的密度越小则越能够实现玻璃的轻量化，适合于玻璃盖片和触控面板显示器基板等。密度可以通过公知的阿基米德法进行测定。
(线热膨胀系数)
用于本实施方式的玻璃盖片的玻璃基板的100℃至300℃的线热膨胀系数适合为50×10-7～120×10-7/℃，优选为60×10-7～120×10-7/℃，更优选为90×10-7～110×10-7/℃或85×10-7～115×10-7/℃。
热膨胀系数可以利用公知的差示热膨胀计等进行测定。例如，可以将玻璃加工成
Figure BDA0000125454610000211
长20mm的圆柱状，利用差示热膨胀计(Thermo Plus2 TMA8310)进行测定。其为根据热膨胀系数的测定结果计算出100～300℃的温度范围中的平均热膨胀系数而得到的值。
由此，热膨胀系数容易与金属、有机类粘接剂等周边材料匹配，能够防止周边构件的剥离等。
(失透温度(T1))
用于本实施方式的玻璃盖片的玻璃基板适合的失透温度为1200℃以下，优选为1150℃以下，优选为1145℃以下，进一步优选为1100℃以下，更进一步优选为1000℃以下、950℃以下。在此，失透温度通过公知的方法、例如以下方法进行测定。
将玻璃基板粉碎，并使其通过2380μm的筛网，将留在1000μm的筛网上的玻璃粒浸渍在乙醇中，在进行超声波清洗后，在恒温槽中使其干燥，将25g上述玻璃粒放入宽度为12mm、长度为200mm、深度为10mm的铂舟上，以成为大致一定的厚度，在具有800～1200℃的温度梯度的电炉内保持24小时后，将其从炉中取出，利用40倍的光学显微镜观察玻璃内部发生的失透，将观察到失透的最高温度作为失透温度。
失透温度与玻璃化转变温度之差越小，则越能够防止制板时的玻璃的失透(提高耐失透性)。即，失透温度与玻璃化转变温度之差越小则越能够提高耐失透性，适合于下拉法，能够以更低的温度成型，因此还能够降低玻璃制造成本。
(高温粘性)
用于本实施方式的玻璃盖片的玻璃基板适合的高温粘性(200dPa·s的温度)为1700℃以下，优选为1600℃以下。
由此，能够防止熔融温度的上升和对熔融炉等玻璃制造设备造成的负担的增大。另外，还能够改善玻璃的气泡品质(气泡的含量)。
玻璃的高温粘性(200dPa·s的温度)可以通过将玻璃在1600℃进行4小时的熔融并除泡，然后采用试样下拉式自动测定粘度测定装置进行测定而求出该值。
(液相粘度)
用于本实施方式的玻璃盖片的玻璃基板或化学强化用玻璃基板的液相粘度优选为160000dPa·s以上，更优选为300000dPa·s以上，进一步优选为400000dPa·s以上，更进一步优选为500000dPa·s以上。通过为这样的液相粘度，适合于下拉法(特别是溢流下拉法)，还能够降低制造成本。
需要说明的是，为了利用下拉法(特别是溢流下拉法)稳定地进行制造，优选液相粘度为160000dPa·s以上且失透温度(液相温度)为1200℃以下。为了在抑制失透的发生的同时更稳定地进行化学钢化玻璃基板和玻璃盖片的制造，优选液相粘度为300000dPa·s以上且失透温度为1100℃以下，更优选液相粘度为400000dPa·s以上且失透温度为1000℃以下。
(应变点)
用于本实施方式的玻璃盖片的玻璃基板适合的应变点为460℃以上，优选为465℃以上，更优选为470℃以上。应变点可以通过下述方式求得：例如，将玻璃截断并研削加工成3mm见方、长度为55mm的棱柱形状，采用梁弯曲测定装置(东京工业株式会社制造)进行测定，并根据梁弯曲法(ASTM C-598)通过计算求出应变点。
由此，能够防止通过耐热性的降低或离子交换处理而在玻璃基板的主表面和端面形成的压缩应力层因各种成膜等后工序中的加热处理而产生应力缓和或消失。
另一方面，若应变点为660℃以上则离子交换性能降低，因此适合的应变点为660℃以下，更优选为610℃以下，更优选为590℃以下，更优选为585℃以下，更进一步优选为570℃以下、550℃以下。
因此，应变点例如可以举出460～660℃、460～610℃。特别是，玻璃盖片B中，优选为465～590℃、465～585℃，玻璃盖片A中，优选为470～570℃、470～550℃。
[玻璃盖片的制造方法]
玻璃盖片作为具有上述玻璃组成的物质，例如可以包含下述工序而进行制造。
(1)将玻璃原料熔融而得到熔融玻璃；
(2)通过下拉法将所得到的熔融玻璃成型为板状，得到玻璃基板；
(3)在所成型的玻璃基板表面形成压缩应力层。
(1)工序
对提供上述各成分的玻璃原料进行称量和调和，并供给到耐火砖、铂或铂合金等的熔融容器中，在进行加热、熔融后，进行澄清均质化，从而制备具有所期望的组成的熔融玻璃。
(2)工序
通过下拉法将工序(1)中制备的熔融玻璃成型为板状。
下拉法可以根据日本特开2009-203080号公报等中所述的公知的方法进行。根据下拉法，使熔融玻璃从沟槽状的流路的两侧流溢，使流溢的熔融玻璃沿着位于流路的下侧的楔状的成型体的两侧的侧面流动。这样制作两条熔融玻璃的液流，在成型体的最下端使两条熔融玻璃的液流汇合。通过设置在下方的拉伸辊对汇合而成的带状的玻璃进行拉伸。由此，熔融玻璃成型为预定的厚度的带状玻璃，退火和冷却后将带状玻璃截断，由此得到玻璃基板。
作为成型为板状的方法，有下拉法、浮法、重新引下法、碾出法等，在本实施方式中，适合采用下拉法、特别是溢流下拉法。
与利用浮法等其他成型方法的情况相比，通过采用下拉法所得到的玻璃基板的蚀刻速率提高。
另外，还因为所得到的玻璃基板的主表面是热成型而成的表面，因此具有极高的平滑性。由此，不需要成型后的研磨工序，因而能够降低制造成本，还能够进一步提高生产率。
此外，使用下拉法而成型的玻璃基板的两主表面具有均匀的组成，在后述的离子交换中，由于没有在主表面之间的离子交换速度之差，因此能够防止因组成差别而导致的离子交换后的翘曲。即，能够生产防止了翘曲的玻璃盖片，并且能够提高生产能力且成本也得以降低。
此外，通过使用下拉法进行成型，能够获得具有没有细纹的表面状态的玻璃基板，而且还能提高玻璃基板本身的强度。
成型为板状的玻璃基板优选加工成所期望的形状。例如，在玻璃基板的表面形成压缩应力层的工序之前，可以通过蚀刻处理实施形状加工，也可以使用基于喷砂的形状加工、利用了切割器或激光等的形状加工等物理方法。
该情况下，后述的工序(3)的在玻璃基板的表面形成压缩应力层的工序与进行形状加工的工序中哪一个先进行均可。考虑到形状加工性，优选在玻璃基板的表面形成压缩应力层的工序之前实施进行形状加工的工序。
例如，以将蚀刻应用于形状加工的情况为例进行说明。
蚀刻如下进行。
(a)首先，在板状的玻璃基板的两主表面上涂布抗蚀剂材料。此处使用的抗蚀剂材料没有特别限定，对蚀刻剂具有耐受性的材料是适合的。例如，玻璃通常进行含有氢氟酸的水溶液的湿蚀刻、或氟类气体的干蚀刻，因此对氢氟酸耐受性优异的材料等是适合的。另外，作为蚀刻剂，可以使用包含氢氟酸、硫酸、硝酸、盐酸和/或氟硅酸等酸的混合酸。
(b)接着，隔着具有所期望的形状的图案的光掩模对抗蚀剂材料进行曝光。
(c)然后，将抗蚀剂材料显影，在玻璃基板的被蚀刻区域以外的区域形成抗蚀图案，并对玻璃基板的被蚀刻区域进行蚀刻。
作为将抗蚀剂材料显影的显影液，可以根据抗蚀剂材料、蚀刻剂、玻璃基板的材料而适当选择，例如，可以举出KOH、NaOH等碱溶液。
蚀刻可以为湿蚀刻和干蚀刻的任意一种，但湿蚀刻是适合的。另外，可以仅将玻璃基板浸渍于蚀刻液中，也可以利用喷雾蚀刻液的喷蚀法等。
在使用湿蚀刻剂作为蚀刻剂的情况下，对玻璃基板进行各向同性的蚀刻。由此，玻璃基板的端面形成中央部最朝外方突出且从该中央部朝两主表面侧缓缓地弯曲的倾斜面。需要说明的是，倾斜面与主表面的交界以及倾斜面彼此的交界优选形成带有圆度的形状。
通过这样利用蚀刻进行形状加工，复杂的形状也可以仅通过对掩模图案进行调整就能够容易地实现。另外，通过利用蚀刻进行形状加工，还能够进一步提高生产率并使加工成本得以降低。
此外，以形成于玻璃基板的两主表面上的抗蚀图案作为掩模，在从两主表面对玻璃基板进行蚀刻时，能够均等地从两主表面进行蚀刻。即，通过具有均匀的组成，蚀刻的尺寸精度良好。
另外，由于能够得到具有非常平滑的端面的玻璃盖片，因而作为应用于便携式电话等的玻璃盖片和应用于触控面板显示器的玻璃盖片的端面的截面形状良好。即，能够防止产生在通过机械加工进行形状加工时必然产生的细纹，并且能够进一步提高玻璃盖片的机械强度。
(3)工序
在所得到的玻璃基板的表面形成压缩应力层。
在玻璃基板的表面形成压缩应力层的方法有物理强化法和化学强化法，在本实施方式的玻璃盖片中，采用通过化学强化法形成压缩应力层的方法。
化学强化法是在玻璃的应变点以下的温度下通过离子交换而在玻璃基板的表面导入离子半径大的碱离子的方法。
例如，将清洗完毕的玻璃基板在保持在350～550℃左右(优选为400～550℃左右)的由KNO395％和NaNO35％构成的处理浴中或由KNO3100％构成的处理浴中浸渍约1～25小时、优选约1～5小时、更优选1～3小时，使玻璃表层部的Na+离子和/或Li+离子与处理浴中的K+离子交换，以进行化学强化。由此，可以形成压缩应力层。离子交换处理时的温度、时间、离子交换盐的种类和浓度等可以适当变更。例如，作为离子交换盐，可以为硝酸钾(KNO3)、硝酸钠(NaNO3)的单盐，但优选为它们的混合盐。
利用具有本实施方式的玻璃组成的玻璃基板，即使以更低的离子交换处理温度进行离子交换处理，也可以在比较短的时间内进行离子交换处理。
另外，即使在利用复合盐进行化学强化的情况下，也可以在不使钢化玻璃破损的情况下测定压缩应力层的厚度、压缩应力值。
实施例
以下，对本实施方式的玻璃盖片及其制造方法的实施例进行详细说明。
(玻璃基板的制造)
以形成表1(实施例1A～42A)和表2(实施例1B～24B)以及比较例1A、2A、1B～4B所示的玻璃组成的方式，利用作为通常的玻璃原料的二氧化硅、氧化铝、碳酸钠、碳酸钾、碱式碳酸镁、碳酸锂、碳酸钙、氧化锆、氧化硼和/或澄清剂(例如氧化锡、硫酸钠)来调合玻璃原料(配合料)。
将调合后的配合料用铂坩埚在1550℃下保持4小时。将其在电炉内加热，制成熔融玻璃。在炉外使其向铁板上流出并进行冷却，从而成为玻璃块。将该玻璃在电炉中以600℃(实施例1A～42A、比较例1A、2A)或500～700℃(实施例1B～24B、比较例1B～4B)保持30分钟。之后，断开炉的电源，使其渐渐冷却至室温，得到板状的玻璃。对于所得到的玻璃，利用后述方法对失透温度、玻璃化转变温度、应变点、密度和热膨胀系数进行测定。需要说明的是，关于失透温度、玻璃化转变温度、应变点、密度和热膨胀系数，即使对于如下进行了化学强化后所得到的玻璃盖片，其结果也与此大致相同。
然后，对所得到的玻璃块实施截断、研磨等机械加工，制成50×40mm、厚度为约0.7mm的玻璃基板。
接下来，将清洗完毕的玻璃基板在保持在450℃的由KNO395％和NaNO35％构成的处理浴中(实施例1A～42A、比较例1A、2A)或KNO3100％的处理浴中(实施例1B～24B、比较例1B～4B)浸渍约2小时，以进行化学强化。结束化学强化的钢化玻璃在清洗槽中依次进行浸渍、清洗、干燥，从而得到玻璃盖片。
对于如上所述得到的玻璃基板，评价玻璃化转变温度以及能否利用蚀刻进行形状加工。
另外，对于钢化玻璃(玻璃盖片)，测定压缩应力值和压缩应力层的厚度。其结果示于下表中。表1中的组成以摩尔％表示。
表1-1
  实施例   1A   2A   3A   4A   5A   6A   7A
  SiO2   65.2   64.6   64.0   64.5   63.9   63.3   64.8
  Al2O3   7.6   7.8   8.1   7.5   7.5   8.0   7.8
  B2O3
  Li2O   0.1   0.3   0.6   0.8   0.1   0.7   0.1
  Na2O   18.4   15.7   12.9   18.2   18.1   12.8   19.7
  K2O   2.0   1.8   1.5   1.3   2.0   1.4   1.0
  MgO   6.6   9.8   12.9   6.5   6.4   12.8   6.5
  CaO
  ZrO2   1.0   2.0   1.0
  SnO2   0.1   0.1   0.1   0.1
  SO3   0.1   0.1   0.1
  Na2O+Li2O+K2O   20.5   17.8   15.0   20.3   20.2   14.9   20.8
  Li2O/(Na2O+Li2O+K2O)   0.005   0.017   0.040   0.039   0.005   0.047   0.005
  SiO2-(1/2Al2O3)   61.4   60.6   59.9   60.7   60.1   59.3   61.0
  Tg(℃)   535   578   613   543   577   619   541
  能否测量压缩层   ○   ○   ○   ○   ○   ○   ○
  能否进行蚀刻形状加工   ○   ○   ○   ○   ○   ○   ○
表1-2
  实施例   8A   9A   10A   11A   12A   13A   14A
  SiO2   64.9   64.5   64.2   64.8   64.7   64.6   64.6
  Al2O3   7.7   7.9   8.0   7.7   7.8   7.8   8.8
  B2O3
  Li2O   0.3   0.1   0.3   0.5   0.7   0.1   0.3
  Na2O   17.0   18.4   17.0   15.8   16.3   15.6   15.7
  K2O   1.8   1.0   0.8   2.1   1.4   2.0   1.8
  MgO   8.2   8.1   9.7   9.1   9.1   9.8   8.8
  CaO
  ZrO2
  SnO2   0.1   0.1
  SO3   0.1   0.1   0.1   0.1   0.1
  Na2O+Li2O+K2O   19.1   19.5   18.1   18.4   18.4   17.7   17.8
  Li2O/(Na2O+Li2O+K2O)   0.016   0.005   0.017   0.027   0.038   0.006   0.017
  SiO2-(1/2Al2O3)   61.0   60.6   60.2   60.9   60.8   60.6   60.1
  Tg(℃)   553   564   579   562   566   583   579
  能否测量压缩层   ○   ○   ○   ○   ○   ○   ○
  能否进行蚀刻形状加工   ○   ○   ○   ○   ○   ○   ○
表1-3
  实施例   15A   16A   17A   18A   19A   20A   21A
  SiO2   64.8   65.8   65.3   65.3   65.3   64.8   64.8
  Al2O3   8.7   7.7   8.7   8.7   8.7   8.7   8.7
  B2O3
  Li2O   0.5   0.7   0.1   0.3   0.5   0.7   0.003
  Na2O   15.8   15.8   15.2   15.8   15.8   15.8   15.8
  K2O   2.1   1.9   2.5   1.8   2.1   1.9   2.6
  MgO   8.1   8.1   8.1   8.1   7.6   8.1   8.1
  CaO
  ZrO2
  SnO2   0.1   0.1
  SO3   0.1   0.1   0.0   0.1   0.1   0.1
  Na2O+Li2O+K2O   18.4   18.4   17.8   17.9   18.4   18.4   18.4
  Li2O/(Na2O+Li2O+K2O)   0.027   0.038   0.006   0.017   0.027   0.038   0.0001
  SiO2-(1/2Al2O3)   60.4   61.9   60.9   60.9   60.9   60.4   60.4
  Tg(℃)   564   556   584   578   573   568   583
  能否测量压缩层   ○   ○   ○   ○   ○   ○   ○
  能否进行蚀刻形状加工   ○   ○   ○   ○   ○   ○   ○
表1-4
  实施例   22A   23A   24A   25A   26A   27A   28A
  SiO2   64.8   64.8   64.7   64.3   64.8   65.8   65.5
  Al2O3   8.7   8.7   8.7   8.6   8.7   7.7   8.0
  B2O3
  Li2O   0.02   0.08   0.21   0.84   0.80   0.40   0.1
  Na2O   15.8   15.8   15.7   15.6   15.8   15.8   15.9
  K2O   2.6   2.6   2.5   2.5   1.8   2.2   1.9
  MgO   8.1   8.1   8.1   8.1   8.1   8.1   8.5
  CaO
  ZrO2
  SnO2   0.1   0.1   0.1   0.1   0.1   0.1   0.1
  SO3
  Na2O+Li2O+K2O   18.4   18.4   18.5   19.0   18.4   18.4   17.9
  Li2O/(Na2O+Li2O+K2O)   0.001   0.005   0.011   0.044   0.044   0.022   0.006
  SiO2-(1/2Al2O3)   60.4   60.4   60.3   59.9   60.4   61.9   61.5
  Tg(℃)   578   576   568   551   560   558   574
  能否测量压缩层   ○   ○   ○   ○   ○   ○   ○
  能否进行蚀刻形状加工   ○   ○   ○   ○   ○   ○   ○
表1-5
  实施例   29A   30A   31A   32A   33A   34A   35A
  SiO2   65.0   65.5   65.5   65.5   64.5   68.3   68.7
  Al2O3   8.5   8.0   8.0   8.0   8.0   6.1   8.0
  B2O3
  Li2O   0.3   0.1   0.4   0.8   0.4   0.1   0.3
  Na2O   15.9   16.0   16.0   16.0   16.0   13.6   14.2
  K2O   1.7   1.9   1.6   1.2   1.6   2.2   1.1
  MgO   8.5   8.5   8.5   8.5   8.5   3.5   3.5
  CaO   3.7   3.6
  ZrO2   1.0   2.5   0.6
  SnO2   0.1   0.1   0.1
  SO3   0.1   0.1   0.1   0.1
  Na2O+Li2O+K2O   17.9   18.0   18.0   18.0   18.0   15.9   15.6
  Li2O/(Na2O+Li2O+K2O)   0.017   0.006   0.022   0.044   0.022   0.006   0.019
  SiO2-(1/2Al2O3)   60.8   61.5   61.5   61.5   60.5   65.2   64.7
  Tg(℃)   577   573   568   560   582   594   585
  能否测量压缩层   ○   ○   ○   ○   ○   ○   ○
  能否进行蚀刻形状加工   ○   ○   ○   ○   ○   △   △
表1-6
  实施例   36A   37A   38A   39A   40A   41A   42A
  SiO2   65.4   67.3   64.5   65.0   65.2   63.7   64.8
  Al2O3   9.4   7.8   8.0   8.0   7.5   9.0   8.2
  B2O3   1.0
  Li2O   0.5   0.7   0.05   2.0   0.3   0.1   0.1
  Na2O   15.1   15.0   21.0   15.0   13.2   15.9   13.3
  K2O   1.8   1.5   4.0   3.1   5.3
  MgO   3.5   3.5   6.5   8.0   8.8   8.2   8.3
  CaO   3.7   3.6
  ZrO2   0.6   0.6   2.0
  SnO2   0.1   0.1   0.1   0.1
  SO3   0.1   0.1   0.1
  Na2O+Li2O+K2O   17.4   17.2   21.0   17.0   17.5   19.1   18.7
  Li2O/(Na2O+Li2O+K2O)   0.029   0.041   0.002   0.118   0.017   0.005   0.005
  SiO2-(1/2Al2O3)   60.7   63.4   60.5   61.0   61.5   59.2   60.7
  Tg(℃)   581   560   549   586   565   574   568
  能否测量压缩层   ○   ○   ○   △   ○   ○   ○
  能否进行蚀刻形状加工   △   △   ○   ○   ○   ○   ○
表1-7
  比较例   1A   2A
  SiO2   66.1   65.0
  Al2O3   8.3   8.0
  B2O3
  Li2O   12.0   4.0
  Na2O   10.6   15.0
  K2O
  MgO   8.0
  CaO
  ZrO2   2.9
  SnO2   0.1   0.1
  SO3
  Na2O+Li2O+K2O   22.6   19.0
  Li2O/(Na2O+Li2O+K2O)   0.531   0.211
  SiO2-(1/2Al2O3)   62.0   61.0
  Tg(℃)   496   518
  能否测量压缩层   ×   ×
  能否进行蚀刻形状加工   ○   ○
表2-1
Figure BDA0000125454610000301
表2-2
Figure BDA0000125454610000311
表2-3
Figure BDA0000125454610000321
表2-4
(失透温度(Tl))
将玻璃基板粉碎，并使其通过2380μm的筛网，将留在1000μm的筛网上的玻璃粒浸渍在乙醇中，在进行超声波清洗后，在恒温槽中使其干燥，将25g上述玻璃粒放入宽度为12mm、长度为200mm、深度为10mm的铂舟上，以成为大致一定的厚度，在具有700～1200℃的温度梯度的电炉内保持24小时后，将其从炉中取出，利用40倍的光学显微镜观察玻璃内部发生的失透，将观察到失透的最高温度作为失透温度。
(玻璃化转变温度)
关于玻璃化转变温度，将玻璃加工成
Figure BDA0000125454610000332
长20mm的圆柱状，利用差示热膨胀计(Thermo Plus2 TMA8310)测定玻璃化转变温度Tg。
(应变点)
应变点通过下述方式求得：将玻璃截断并研削加工成3mm见方、长度为55mm的棱柱形状，采用梁弯曲测定装置(东京工业株式会社制造)进行测定，并根据梁弯曲法(ASTM C-598)通过计算求出应变点。
(线热膨胀系数)
关于热膨胀系数，将玻璃加工成长20mm的圆柱状，利用差示热膨胀计(Thermo Plus2 TMA8310)进行测定，计算出100～300℃的温度范围中的平均热膨胀系数。
(密度)
密度通过公知的阿基米德法进行测定。
(能否利用蚀刻进行形状加工)
将玻璃基板截断、研削并研磨成20～50mm×20～40mm×0.7mm的大小，清洗后，在装入容器中的HF水溶液400ml(浓度为10质量％、温度为22℃)中浸渍20分钟，观察蚀刻后的玻璃基板的端面。之后，对玻璃基板进行水洗，测定试验前后的厚度和质量，计算出玻璃基板的蚀刻速率。蚀刻速率为3.0μm/分钟以上且在玻璃基板端面没有观察到析出物的玻璃基板适合于利用蚀刻的形状加工，因此评价为○，将蚀刻速率为3.0μm/分钟以上但在玻璃基板端面观察到析出物的玻璃基板评价为△，将蚀刻速率小于3.0的玻璃基板评价为×。
(压缩应力值和压缩应力层的厚度的测量)
对于所得到的玻璃盖片(钢化玻璃)，利用表面应力计(有限会社折原制作所制造、FSM-6000LE)对干涉条纹的条数和其间隔进行观察，并计算出玻璃表面附近的压缩应力层的压缩应力值和压缩应力层的厚度。
在计算时，各玻璃盖片的折射率(nd)采用通过折射率测量计(Shimadzu DeviceCorporation制造KPR-200)测量的值。需要说明的是，以各玻璃盖片的光弹性常数为28[(nm/cm)/MPa]来进行计算。
将能够观察到起因于折射率的线条图案且能够利用上述表面应力计测定压缩应力值和压缩应力层的厚度的玻璃盖片评价为○，将起因于折射率的线条图案浅但能够利用上述表面应力计测定压缩应力值和压缩应力层的厚度的玻璃盖片评价为△，将无法观察到起因于折射率的线条图案且无法测定压缩应力值和压缩应力层的厚度的玻璃盖片评价为×。
需要说明的是，实施例26A～27A、31A、33A所示的玻璃盖片的压缩应力层的压缩层深度和压缩应力值的测定结果示于下表中。
表3
  实施例   压缩层深度(μm)   压缩应力值(MPa)
  26A   37   526
  27A   41   516
  31A   38   555
  33A   35   604
另外，浸渍到保持在450℃的由KNO395％和NaNO35％构成的处理浴中约5小时而进行了化学强化的情况下的实施例26A～27A、31A、33A所示的玻璃盖片的压缩应力层的压缩层深度和压缩应力值的测定结果示于下表中。
表4
  实施例   压缩层深度(μm)   压缩应力值(MPa)
  26A   51.2   515
  27A   60   446
  31A   53.7   494
  33A   49.4   554
(连续熔化式的玻璃盖片的制造)
采用具备由耐火砖制成的熔解槽和由铂制成的搅拌槽等的连续熔解装置，将以实施例31A和实施例12B所示的组成而调合的玻璃原料在1520℃下进行熔解，并在1550℃下进行澄清、在1350℃下进行搅拌后，通过下拉法将其制作成厚度为0.7mm的薄板状的玻璃基板。
接下来，通过丝网印刷法在玻璃基板的两主表面上形成厚度为20μm的玻璃盖片形状的酚类热固化性树脂图案，对该酚类热固化性树脂图案在200℃下实施15分钟的烘焙处理。以酚类热固化树脂图案作为掩模，采用氢氟酸(15质量％)和硫酸(24质量％)的混合酸水溶液(40℃)作为蚀刻剂，以从两主表面侧对被蚀刻区域进行蚀刻的方式将玻璃基板切取成预定的形状。
之后，利用NaOH溶液使在玻璃上残存的酚类热固化树脂溶解，从而将其从玻璃上剥离，并进行冲洗处理。
接下来，将清洗完毕的玻璃基板浸渍到保持在450℃的由KNO395％和NaNO35％构成的处理浴中约5小时(实施例31A)或浸渍到由KNO3100％构成的处理浴中约2小时(实施例12B)，以进行化学强化。结束化学强化的钢化玻璃在清洗槽中依次进行浸渍、清洗、干燥。
其结果是，可以得到品质良好、且能够在保持形态的状态下(未破坏)测定压缩层的深度和压缩应力值的玻璃盖片和钢化玻璃。另外，还可以缩短离子交换处理时间。
工业实用性
本实施方式的玻璃盖片可以期待应用于便携式电话、数码照相机、便携式信息终端(PDA)等的玻璃盖片、触控面板、平面显示器等各种显示器的玻璃盖片和玻璃基板、磁盘用基板、太阳能电池用玻璃盖片、固态图像传感器用玻璃盖片等各种用途中。

Claims (16)

1.一种玻璃盖片，其在主表面具有压缩应力层，作为玻璃组成，其含有
SiO2：50～70摩尔％、
Al2O3：3～20摩尔％、
Na2O：5～25摩尔％、
Li2O：多于0摩尔％且为2.5摩尔％以下、
K2O：0～5.5摩尔％和
B2O3：0～小于3摩尔％。
2.如权利要求1所述的玻璃盖片，其还含有MgO：3～15摩尔％。
3.如权利要求1或2所述的玻璃盖片，其含有Na2O+Li2O+K2O：15.5～30摩尔％。
4.如权利要求1～3的任一项所述的玻璃盖片，其含有多于12摩尔％的Na2O。
5.如权利要求1～4的任一项所述的玻璃盖片，其中，以摩尔％换算，Li2O/(Na2O+Li2O+K2O)大于0且为02以下。
6.一种玻璃盖片的制造方法，其包括以下工序：
(1)将玻璃原料熔融而得到熔融玻璃；
(2)通过下拉法将所得到的熔融玻璃成型为板状，得到玻璃基板，作为玻璃组成，所述玻璃基板含有
SiO2：50～70摩尔％、
Al2O3：3～20摩尔％、
Na2O：5～25摩尔％、
Li2O：多于0摩尔％且为2.5摩尔％以下、
K2O：0～5.5摩尔％和
B2O3：0～小于3摩尔％；
(3)在所得到的玻璃基板表面形成压缩应力层。
7.一种钢化玻璃，其在主表面具有压缩应力层，作为玻璃组成，其含有
SiO2：50～70摩尔％、
Al2O3：3～20摩尔％、
Na2O：5～25摩尔％、
Li2O：多于0摩尔％且为2.5摩尔％以下、
K2O：0～5.5摩尔％和
B2O3：0～小于3摩尔％。
8.一种玻璃盖片，其在主表面具有压缩应力层，作为玻璃组成，其含有
SiO2：45～70质量％、
Al2O3：5～25质量％、
Na2O：9～25质量％、
Li2O：多于0质量％且为2.5质量％以下、
B2O3：0～3质量％和
MgO：多于0质量％且为10质量％以下。
9.如权利要求8所述的玻璃盖片，其还含有K2O：0～15质量％，
以质量％换算，MgO/(Li2O+Na2O+K2O)为0.11以上。
10.如权利要求8或9所述的玻璃盖片，其还含有ZrO2：0～5质量％。
11.如权利要求8～10的任一项所述的玻璃盖片，其还含有K2O：0～15质量％，
Li2O+Na2O+K2O为30质量％以下。
12.如权利要求8～11的任一项所述的玻璃盖片，其中，SiO2-1/2Al2O3为57.5质量％以下。
13.如权利要求8～12的任一项所述的玻璃盖片，其中，所述压缩应力层的压缩应力为400MPa以上，且应力深度为20μm以上。
14.如权利要求8～13的任一项所述的玻璃盖片，其中，K2O多于0质量％且为10质量％以下。
15.一种玻璃盖片的制造方法，其包括以下工序：
(1)将玻璃原料熔融而得到熔融玻璃；
(2)通过下拉法将所得到的熔融玻璃成型为板状，得到玻璃基板，作为玻璃组成，所述玻璃基板含有
SiO2：45～70质量％、
Al2O3：5～25质量％、
Na2O：9～25质量％、
Li2O：多于0质量％且为2.5质量％以下、
B2O3：0～3质量％和
MgO：多于0质量％且为10质量％以下；
(3)在所得到的玻璃基板表面形成压缩应力层。
16.如权利要求15所述的玻璃盖片的制造方法，其中，在形成所述压缩应力层的工序中，形成压缩应力为400MPa以上且应力深度为20μm以上的压缩应力层。
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