CN101937845A - 一种二极管台面处理工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明主要公开了一种二极管台面处理工艺,主要由台面腐蚀、钝化、清洗、高纯水超声清洗四大步骤构成;其特征在于:所述台面清洗为:采用氢氧化钠或氢氧化钾清洗液,在温度为25±3;时间为120-300秒下一次清洗完成。采用上述台面处理工艺,对台面用清洗溶液进行一次性处理,省料省时;另外该工艺处理所得的成品的高温特征为:150℃的温度下,漏电流为小于30毫安。
Description
技术领域
本发明涉及一种二极管台面处理工艺,具体是一种由台面腐蚀、钝化、清洗、高纯水超声清洗四大步骤构成的二极管台面处理工艺。
背景技术
传统的台面清洗为用氨水、双氧水和水进行两次清洗或用铬酸进行清洗,该工艺的缺点在于清洗液用料多增加成本;清洗工序多降低效率;所得产品在150℃的温度下,漏电流为50毫安,产品性能一般。
发明内容
本发明的主要任务在于提供一种二极管台面处理工艺,具体是一种能有效减少台面处理工艺,降低成本,提高产品性能的二极管台面处理工艺。
为了解决以上技术问题,本发明的一种二极管台面处理工艺,主要由台面腐蚀、钝化、清洗、高纯水超声清洗四大步骤构成;其特征在于:所述台面清洗为:采用氢氧化钠或氢氧化钾清洗液,在温度为25±3;时间为120-300秒下一次清洗完成。
进一步地,所述氢氧化钠或氢氧化钾浓度为0.3%±5。
本发明的优点在于:采用上述台面处理工艺,对台面用清洗溶液进行一次性处理,省料省时;另外该工艺处理所得的成品的高温特征为:150℃的温度下,漏电流为小于30毫安。
附图说明
图为本发明的结构示意图。
具体实施方式
如图所示,所述二极管由电极1、焊片2、芯片3、焊片4、电极5焊接为一体,焊接后在两电极之间用硅橡胶或聚酰亚胺胶6密封,再在其组成的整体外表面用环氧树脂进行封装组成。
接下来对上述的芯片台面进行处理,具体步骤如下:
首先进行台面腐蚀:选取混合酸作腐蚀液,具体为:硫酸∶硝酸∶氢氟酸∶冰乙酸(体积比)=4∶9∶9∶12,然后在温度为25±3的温度下腐蚀120-300秒,腐蚀一次。
第二步是台面钝化。钝化时,使用的为体积比为:双氧水∶磷酸∶水(体积比)=2∶1∶3的溶剂,将芯片台面置于该溶剂中,以70-85℃的温度钝化120-300秒,钝化一次。
第三步清洗:清洗液为浓度0.3%±5的氢氧化钠或氢氧化钾溶液,清洗温度为25±3;清洗时间为120-300秒,清洗一次。
最后进行高纯水循环超声清洗:在常温下,按以下标准清洗一次即可:高纯水流量为3吨/小时,超声频率控制在50-150赫兹;清洗时间为240-600秒。
Claims (2)
1.一种二极管台面处理工艺,主要由台面腐蚀、钝化、清洗、高纯水超声清洗四大步骤构成;其特征在于:所述台面清洗为:采用氢氧化钠或氢氧化钾清洗液,在温度为25±3℃;时间为120-300秒下一次清洗完成。
2.根据权利要求1所述的一种二极管台面处理工艺,其特征在于:所述氢氧化钠或氢氧化钾浓度为0.3%±5。
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