CN101691654A - 制造涂层切削工具的方法 - Google Patents
制造涂层切削工具的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101691654A CN101691654A CN200810161059A CN200810161059A CN101691654A CN 101691654 A CN101691654 A CN 101691654A CN 200810161059 A CN200810161059 A CN 200810161059A CN 200810161059 A CN200810161059 A CN 200810161059A CN 101691654 A CN101691654 A CN 101691654A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- coating
- etching step
- ion
- ion etching
- blade
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 title claims abstract description 35
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 84
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 77
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 39
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 claims abstract description 27
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 26
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 18
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract description 6
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 6
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 24
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 23
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 claims description 4
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910010060 TiBN Inorganic materials 0.000 claims description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 4
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 4
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 abstract 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 26
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 7
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 5
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 4
- 238000007514 turning Methods 0.000 description 4
- 208000037656 Respiratory Sounds Diseases 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 3
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 3
- 229910000851 Alloy steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002015 acyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 229910001018 Cast iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 240000004859 Gamochaeta purpurea Species 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 241001074085 Scophthalmus aquosus Species 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000000541 cathodic arc deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 230000008676 import Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000004005 microsphere Substances 0.000 description 1
- 229910052961 molybdenite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N molybdenum disulfide Chemical compound S=[Mo]=S CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052982 molybdenum disulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
- C23C14/5873—Removal of material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0641—Nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
- C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
- C23C14/325—Electric arc evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
- C23C14/5826—Treatment with charged particles
- C23C14/5833—Ion beam bombardment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
- C23C30/005—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process on hard metal substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
- Drilling Tools (AREA)
Abstract
本发明涉及一种制造涂层切削工具的方法,包括以下步骤:提供基片;并且在所述基片上沉积阴极电弧蒸镀PVD涂层,所述涂层为氮化物、氧化物、硼化物、碳化物、碳氮化物、碳氧氮化物或上述的组合,其中在所述沉积过程中所述涂层经历多于一个的离子蚀刻步骤。由于PVD涂层的光滑度增加,根据本发明制造出来的切削工具将展示出提高的工具寿命,光滑度增加则是由于表面缺陷的数目降低而引起的。
Description
技术领域
本发明涉及一种制造PVD涂层切削工具的方法,包括以下步骤:沉积PVD涂层,其中,在沉积期间,所述涂层经受多于一个的离子蚀刻步骤。由于PVD涂层的光滑度增加,根据本发明制造出来的切削工具将展示出提高的工具寿命,光滑度增加本身则是由于表面缺陷数目降低而引起的。
背景技术
当今大多数切削工具都涂覆有PVD或者CVD涂层,例如Ti(C,N)、TiN、(Ti,Al)N、(Ti,Si)N、(Al,Cr)N或者Al2O3。PVD涂层通常比CVD涂层更薄并且经常在韧度是关键的应用中使用,例如铣削。与CVD涂层相比较,PVD涂层具有几种吸引人的性能,例如,压应力、更为精细的颗粒的涂层和更好的容忍载荷变化的能力。不幸的是,大多数电弧沉积PVD涂层遭受存在金属大粒子的影响,该金属大粒子也被称为大粒子或者小滴,它们以小球体形式存在于涂层表面上或者被埋在涂层内部。在涂层沉积期间,这些大粒子能够减弱带电金属离子的进入通量,因此在紧邻大粒子的周围中的涂层中产生空隙。由于随后在大粒子和涂层之间的粘着性降低,因此大粒子会在沉积过程期间或紧接着沉积过程之后或者甚至在加工期间脱落。这可导致涂层质量不良,而且涂层具有空隙、气孔,或者在极端情形中甚至导致直达至基片的孔。
当具有大粒子的涂层被例如用于铣削操作时,存在碎屑将机械地和/或化学地与凸出的大粒子相互作用的风险。当碎屑在切削工具表面之上流动时,小部分的涂层可以被剥离,从而在涂层中形成孔或者气孔。这种孔或者空隙可能是裂纹的起始点。在切削刃上存在裂纹将最终导致切削刃碎裂或者切削工具破裂。
离子蚀刻是各种沉积工艺开始时的一个共同步骤。基片通常在沉积之前被离子蚀刻以去除表面污染物和本身的氧化物与氮化物。
US6033734描述了在沉积PVD涂层之前在金属基片表面上执行的不同的蚀刻工艺。所述蚀刻工艺是一种通过使用Cr和/或Mo离子执行的金属蚀刻工艺。
然而,已经作出一点尝试,以使用离子蚀刻作为中间步骤。
EP0756019描述了一种制造用于在冲孔操作中使用的材料变形工具的PVD涂层的方法。由(Ti,Al)N、(Ti,Al,Y)N或者(Ti,Al,Cr)N或者上述的任何多层所构成的PVD层被沉积。然后,例如利用喷砂或者金属离子蚀刻对表面进行机械处理,以去除任何小滴并且实现光滑表面。然后,在顶部上沉积由MoS2构成的第二、低摩擦的PVD涂层。
EP1533210A描述了一种用于沉积PVDα-Al2O3的方法。基片首先被涂覆有能够经受利用氩或者利用金属离子的离子轰击的第一硬质涂层。被轰击表面然后经受氧化过程,由此形成氧化物表面层。在该氧化物表面层上沉积Al2O3层,这层将是α-Al2O3。
本发明的一个目的在于提供一种制造涂层切削工具的方法,该涂层切削工具减少了涂层内部及其表面上的大粒子数量,由此导致涂层中的孔、空隙和气孔的数量降低。
本发明的另一个目的在于提供一种制造涂层切削工具的方法,该涂层切削工具具有更少的月牙洼磨损、更少的后刀面磨损、更少的熔结(fritting)、以及延长的工具寿命。
本发明的另一个目的在于提供一种制造涂层切削工具的方法,该方法使得能够沉积更厚PVD涂层而不存在熔结和裂开的风险。
根据本发明,提供一种制造涂层切削工具的方法,包括以下步骤:提供基片;并且利用阴极电弧蒸镀PVD沉积工艺在所述基片上沉积涂层,所述涂层为氮化物、氧化物、硼化物、碳化物、碳氮化物、碳氧氮化物或上述的组合,并且其中所述沉积工艺还包括使得所述涂层经历多于一个的单独中间离子蚀刻步骤。能够实现具有降低的大粒子数量的更加光滑的PVD涂层并且因此能够达到在上面披露的目的。
附图说明
图1示出根据现有技术沉积的PVD沉积(Ti,Al)N涂层的抛光截面。
图2示出根据本发明沉积的涂层的抛光截面。
图3是图2中的涂层的特写视图。
图4和图5分别示出图1和图2中的涂层的顶视FEGSEM图像。
图6示出大粒子如何被嵌入涂层中并且因此被新的涂层覆盖的TEM明场图像。
具体实施方式
本发明涉及一种制造涂层切削工具的方法,包括以下步骤:提供基片;并且利用阴极电弧蒸镀PVD沉积工艺在所述基片上沉积涂层,所述涂层为氮化物、氧化物、硼化物、碳化物、碳氮化物、碳氧氮化物或上述的组合,并且其中所述沉积工艺还包括使得所述涂层经历多于一个的单独中间离子蚀刻步骤。通过利用沉积腔室执行离子蚀刻步骤。
通过离子轰击实现离子蚀刻步骤,以若干单独中间步骤的形式,这意指实际沉积在蚀刻步骤期间停止并且然后在蚀刻步骤之后继续,即,离子蚀刻步骤与沉积步骤交替进行。所使用的离子能够是氩离子或者金属离子。离子蚀刻将去除涂层的凸出部分以及不良粘附到涂层其余部分的涂层材料,例如大粒子。该方法使得能够实现具有降低的所谓大粒子的表面缺陷数量的光滑的PVD涂层。
离子蚀刻能够在适合于沉积PVD涂层的任何温度下执行,但是优选地在450-600℃的温度下。在蚀刻步骤期间的压力优选地为1-5μbar,更加优选地1-3μbar。
在本发明的一个实施例中,使用氩离子。通过点燃填充有氩气的沉积腔室中的等离子体而获得氩离子。氩离子朝向被保持在负电势下的基片加速,该负电势优选在80-250V之间,更优选在100-200V之间。
在本发明的另一实施例中,使用金属离子。金属离子被如下实现:在被抽真空的沉积腔室中的特殊蚀刻靶材处产生等离子体,并且因此形成朝向被保持在高负电势下的基片加速的金属离子的稠密蒸汽,所述高负电势优选在150-1500V之间,更优选在200-1000V之间。金属离子优选是Ti、Zr、Cr、Nb、V、Mo中的一种或者多种,更优选为Cr或者Mo。
在本发明的一个实施例中,离子蚀刻步骤是中间步骤,这意指离子蚀刻步骤将与沉积步骤交替进行。在蚀刻期间,没有沉积发生。当离子蚀刻步骤是中间步骤并且这种操作被重复多次时,大粒子被部分地或者完全地去除,并且当它们脱落时余留的空隙将在下次沉积阶段期间被新的涂层材料填充。因此,有效地避免了深且大的气孔,从而产生具有最少的表面缺陷的稠密、均质涂层。
在本发明的另一实施例中,在完成PVD涂层沉积之后执行另外的离子蚀刻步骤,作为最后步骤。这将使得PVD涂层具有光滑表面。
所沉积的PVD涂层能够具有适用于切削工具的任何组分,例如氮化物、氧化物、硼化物、碳化物、碳氮化物、碳氧氮化物或者上述的组合。优选地是,涂层包括(Al,Ti)N、TiN、Ti(C,N)、(Al,Cr)N、CrN、AlO、(Ti,Si)N、TiBN、TiB、(Ti,Al,X)N中的一种或者多种构成的一层或者多层,其中X能够是Si、B、C、Ta、V、Y、Cr、Hf、Zr中的一种或者多种,更优选地,涂层是(Al,Ti)N、(Ti,Si)N、TiBN、(Ti,Al,X)N中的一种或者多种构成的一层或者多层,其中X如上所限定,并且最优选地,涂层为(Al,Ti)N。
根据本发明使用的PVD涂层能够是均质或者是多层涂层。能够在均质组分的层中或在均为均质但具有不同组分的层之间以多于一个的中间步骤的形式而执行离子蚀刻,或者在多层涂层中以多于一个的中间步骤的形式而执行离子蚀刻,或上述的任何组合。多层涂层在这里意指包括至少5个,优选地至少10个的单独层的涂层。然而,它能够包括多达几千个单独层。
在本发明的方法中包括的离子蚀刻步骤能够被应用于大多数的PVD技术,但是在其中大粒子更加显著的阴极电弧沉积中特别令人感兴趣。
PVD涂层的厚度能够在较宽范围中,因为根据本发明的方法使得能够沉积比传统的PVD涂层更厚的涂层。涂层厚度能够是0.1-10μm,优选地0.5-6μm并且最优选地1-5μm。
适用于本发明的基片优选地为切削工具刀片,或者圆形工具,例如钻、端铣刀等。基片优选地由硬质合金、金属陶瓷、陶瓷、立方氮化硼或者高速钢中的任何一种制成。
本发明还涉及一种根据上述过程制造的切削工具。
已经发现根据本发明制造的切削工具将由于大粒子数量降低而获得更加光滑的涂层。光滑涂层将引起多个改进。例如,在刀具表面上,碎屑将更容易流动,仅与涂层较轻地相互作用,因此降低涂层裂开的风险。光滑涂层还将由于较低温度而给出增加的抗月牙洼磨损性,并降低切削刃积屑、坑口磨损、刃线熔结和裂纹的风险,并且还最大程度降低了圆形工具的碎屑堵塞以及随后工具断裂的风险。具有较轻摩擦磨损的更加光滑的涂层还将允许更厚的涂层而不存在粘着问题。
在进入和离开工作材料期间引起冲击载荷的车削中的间断切削中,光滑涂层也是有益的。在此情形中光滑涂层将显著地降低严重断裂的风险。
实例1
利用标准Ti0.33Al0.67N涂层涂覆根据操作类型(车削、铣削等)而具有不同几何形状的CNMG120408-MM、R290-12T308M-KM和R390-11T0308M-PM的硬质合金刀片。在N2气氛中通过阴极电弧蒸镀沉积涂层并且刀片被安装在3维旋转基台上。从两对Ti0.33Al0.67靶材沉积(Ti,Al)N涂层。
通过沉积4μm厚的层而根据现有技术涂覆刀片A,该层厚是在后刀面那侧的中部中测得的。
根据本发明涂覆刀片B。应用与刀片A相同的沉积条件,只是在已经沉积0.7-0.8μm厚度的层之后,停止沉积,并且利用氩气填充反应腔室。向刀片施加负偏压,并且点燃等离子体,并且利用氩离子轰击刀片。在离子轰击之后,沉积重新开始,并且新的Ti0.33Al0.67N层被沉积。这种过程被重复6次,直至实现4μm的总涂层厚度。作为最后步骤,在沉积周期终止且腔室被打开之前,执行表面处理,其中刀片再次经受离子轰击。
在图1中能够看见刀片A的涂层的截面形式的SEM图片。该图片表明能够看见气孔,在气孔处小滴已经落出,仅留下覆盖基片的非常薄的涂层。在图2和3中能够看见刀片B的涂层的SEM图片。在图2中,能够看见顶表面更加光滑,具有较少的气孔和空隙。仍然能够看见嵌入涂层中的一些大粒子,但是这些大粒子被牢固地附着住而并没有空隙围绕它们。图3是图2的特写图,在图3中涂层中明显可见几条细线。这是由于离子轰击过程造成的。离子将优先地蚀刻较轻的元素,如Al,留下富Ti的区域。图4和图5分别示出图1和图2的涂层的顶视FEGSEM(场发射电子扫描显微镜)图像。
实例2
根据实例1的刀片而涂覆立方氮化硼刀片,但是不同之处在于,在此情形中涂层为从2对Ti靶材沉积的均质TiN涂层。根据现有技术而沉积刀片C,达到4μm的涂层厚度,该厚度是在后刀面那侧的中部测得的。根据本发明,以相同方式沉积刀片D,不同之处在于,在沉积之后利用氩填充腔室,等离子体被点燃并且利用氩离子轰击刀片。
实例3
利用在N2气氛中通过阴极电弧蒸镀沉积的非周期性的多层(Ti,Al)N而涂覆具有几何形状CNMG120408-MM的硬质合金铣削刀片,并且该刀片被安装在3维旋转基台上,所述基台被布置成用于获得非周期性的结构。从同时运行的两对Ti0.33Al0.67靶材和一对Ti靶材沉积多层。根据现有技术涂覆的刀片E达到4μm的涂层厚度,该厚度是在刀片前刀面的中部测得的。
在沉积刀片F(本发明)期间,在已经沉积具有1.5μm厚度的层之后,沉积停止并且利用氩填充反应腔室。负偏压被施加到刀片。等离子体被点燃,并且利用氩离子轰击刀片。在离子轰击之后,沉积重新开始并且沉积另外的1.5μm厚度,刀片被离子蚀刻并且沉积其余涂层。作为最后步骤,在沉积周期终止并且腔室被打开之前,执行表面处理,其中刀片再次经受离子轰击。总涂层厚度为4μm。
对实例4-8的解释:
下面的表达/术语通用于金属切削中,并且在下面的表格中予以解释:
Vc(m/分钟):切削速度,单位:米每分钟
fz(mm/齿):进给速率,单位:毫米每齿
z:(数量)刀具中的齿数
ae(mm):切削径向深度,单位:毫米
ap(mm):切削轴向深度,单位:毫米
D(mm):刀具直径,单位:毫米
实例4
在下面的切削条件期间,在车削操作中测试来自实例1的具有几何形状CNMG120408-MM的刀片A(现有技术)和B(本发明):
工件材料:硬质钢ovako 825B
Vc=110m/分钟
fz=0.3mm/转
a=2mm
冷却剂:乳剂
工具寿命标准为超过0.3mm的后刀面磨损或者刀片失效。刀片A(现有技术)在该应用中持续14分钟,而刀片B(本发明)则持续21分钟。
实例5
在铣削操作中测试并且比较来自实例1的具有几何形状R290-12T308M-KM的刀片A(现有技术)和B(本发明)。
工件材料:CGI(蠕墨铸铁)Sintercast公司
Vc=300m/分钟,
fz=0.15mm/齿
ae=50mm
ap=3mm
z=3
D=63mm
注:干条件
刀片A(现有技术)在该应用中仅仅持续32分钟,而刀片B(本发明)持续45分钟。用于延长工具寿命的磨损类型中的决定性差异在于更少的熔结。
实例6
在下面的切削条件期间,在铣削操作中测试具有几何形状R390-11T0308M-PM的根据实例1涂覆的刀片A(现有技术)和B(本发明):
工件材料:低合金钢,SS2244
Vc=150m/分钟
fz=0.15mm/齿
ae=25mm
ap=3mm
z=2
D=25mm
注:冷却剂:乳剂
工具寿命标准是大于0.2mm的后刀面磨损或者大于0.3mm的熔结。
刀片A(现有技术)在该应用中持续30分钟而刀片B(本发明)持续37分钟。
在增加的Vc=200m/分钟下,刀片A(现有技术)持续20分钟而刀片B(本发明)持续25分钟。
用于延长工具寿命的磨损类型中的决定性差异在于刀刃线中的碎裂更轻,以及更轻的后刀面磨损。令人感兴趣的是,刀片B(本发明)示出磨损是缓慢且稳态加重的,而刀片A(现有技术)则遭受更为严重的失效。
实例7
在车削操作中测试具有几何形状CNGA120408T01030AWH的立方氮化硼刀片C(现有技术)和D(本发明)。测试本体具有环的形式,所述的环具有10mm的插孔,该插孔带有90度进口和出口角度。进给速率从0.20mm/转逐步增加并且对于每一次切削增加0.02mm/转。
工件材料:低合金钢SS2258,HRC=56。
刀架:C5-DCLNL-35060-12
Vc=120m/分钟
Fn=Ap
ap=起初0.20mm/转,对于每一次切削以0.02mm/转逐步增加
注:干条件
工具寿命标准为刀片断裂。
刀片C(现有技术)在0.34mm/转的进给速率下遭受刀片断裂,而刀片D(本发明)则保持完好直至进给速率达到0.50mm/转。
实例8
在下面的切削条件期间,在车削操作中测试来自实例3的具有几何形状CNMG120408-MM的刀片E(现有技术)和F(本发明):
工件材料:硬质钢ovako 825B
Vc=160m/分钟
fz=0.3mm/转
a=2mm
冷却剂:乳剂
工具寿命标准是超过0.45mm的后刀面磨损或者刀片失效。刀片E(现有技术)在该应用中持续17分钟,而刀片F(本发明)则持续21分钟。用于延长工具寿命的磨损类型中的决定性差异是更好的抗月牙洼磨损性。
Claims (11)
1.一种制造涂层切削工具的方法,包括以下步骤:提供基片;并且利用阴极电弧蒸镀PVD沉积工艺在所述基片上沉积涂层,其中所述涂层为氮化物、氧化物、硼化物、碳化物、碳氮化物、碳氧氮化物或上述的组合,其特征在于,所述沉积工艺还包括使得所述涂层经历多于一个的单独中间离子蚀刻步骤。
2.根据权利要求1的方法,其特征在于,利用氩离子执行所述离子蚀刻步骤。
3.根据权利要求1的方法,其特征在于,利用金属离子执行所述离子蚀刻步骤。
4.根据权利要求3的方法,其特征在于,利用离子Ti、Zr、Cr、Nb、V、Mo中的一种或者多种执行所述离子蚀刻步骤。
5.根据权利要求4的方法,其特征在于,利用离子Cr或者Mo中的一种或者多种执行所述离子蚀刻步骤。
6.根据权利要求1-5中任一项的方法,其特征在于,在完成涂层的沉积之后执行所述涂层的最后的离子蚀刻步骤。
7.根据前面权利要求中任一项的方法,其特征在于,所述PVD涂层包括(Al,Ti)N、TiN、Ti(C,N)、(Al,Cr)N、CrN、AlO、(Ti,Si)N、TiBN、TiB、(Ti,Al,X)N中的一种或者多种构成的一层或者多层,X可以是Si、B、C、Ta、V、Y、Cr、Hf、Zr中的一种或者多种。
8.根据前面权利要求中任一项的方法,其特征在于,所述PVD涂层包括(Al,Ti)N、(Ti,Si)N、TiBN、(Ti,Al,X)N中的一种或者多种构成的一层或者多层,X可以是Si、B、C、Ta、V、Y、Cr、Hf、Zr中的一种或者多种。
9.根据前面权利要求中任一项的方法,其特征在于,所述PVD涂层包括(Al,Ti)N构成的一层或者多层。
10.根据前面权利要求中任一项的方法,其特征在于,所述基片由硬质合金、金属陶瓷、陶瓷、立方氮化硼或者高速钢制成。
11.一种根据权利要求1-10中任一项制造的涂层切削工具。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SE0702140-5 | 2007-09-26 | ||
SE0702140 | 2007-09-26 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN101691654A true CN101691654A (zh) | 2010-04-07 |
CN101691654B CN101691654B (zh) | 2012-12-19 |
Family
ID=40083601
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2008101610593A Expired - Fee Related CN101691654B (zh) | 2007-09-26 | 2008-09-26 | 制造涂层切削工具的方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7989093B2 (zh) |
EP (1) | EP2042261A3 (zh) |
JP (2) | JP2009078351A (zh) |
KR (1) | KR20090032016A (zh) |
CN (1) | CN101691654B (zh) |
IL (1) | IL194193A0 (zh) |
Cited By (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102328473A (zh) * | 2011-08-03 | 2012-01-25 | 四川欧曼机械有限公司 | 一种立方氮化硼刀具及其制造方法 |
CN102328118A (zh) * | 2011-08-03 | 2012-01-25 | 四川欧曼机械有限公司 | 一种硬质合金钻头 |
CN102517539A (zh) * | 2012-01-09 | 2012-06-27 | 西南大学 | 一种提高硬质涂层与基体界面结合强度的方法 |
CN102732846A (zh) * | 2011-04-07 | 2012-10-17 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 被覆件及其制造方法 |
CN102899613A (zh) * | 2012-10-29 | 2013-01-30 | 西安浩元涂层技术有限公司 | AlTiN高速切削刀具涂层的制备方法 |
CN103249869A (zh) * | 2010-11-23 | 2013-08-14 | 山高刀具公司 | 涂层切削工具刀片 |
CN103518018A (zh) * | 2011-03-18 | 2014-01-15 | 艾伦.伦纳菲乔德 | 刀片状工具及其制备方法 |
CN103774090A (zh) * | 2014-02-07 | 2014-05-07 | 上海理工大学 | 一种含有氮化钒纳米***层的高硬度TiSiN涂层及其制备方法 |
CN104703735A (zh) * | 2012-10-02 | 2015-06-10 | 住友电工硬质合金株式会社 | 表面被覆切削工具及其制造方法 |
CN105683412A (zh) * | 2013-07-15 | 2016-06-15 | 通用汽车环球科技运作有限责任公司 | 涂层工具以及制造和使用涂层工具的方法 |
CN105848824A (zh) * | 2014-11-20 | 2016-08-10 | 南廷雨 | 硬质合金切削刀具的制造方法及通过该方法制造的切削刀具 |
CN106660110A (zh) * | 2014-08-20 | 2017-05-10 | 日立金属株式会社 | 压铸用被覆模具的制造方法 |
CN108103454A (zh) * | 2017-11-30 | 2018-06-01 | 厦门金鹭特种合金有限公司 | 一种高光滑涂层刀具及其制作方法 |
CN109666887A (zh) * | 2018-12-28 | 2019-04-23 | 广东工业大学 | 一种TiAlN硬质涂层及其制备方法和应用 |
CN110129740A (zh) * | 2019-04-23 | 2019-08-16 | 北京沃尔德金刚石工具股份有限公司 | 涂层刀具的制备及涂层表面处理方法和涂层刀具 |
CN110643936A (zh) * | 2019-10-14 | 2020-01-03 | 四川大学 | 一种适合铣削加工用的多层复合涂层及其制备方法 |
CN110643953A (zh) * | 2019-10-14 | 2020-01-03 | 四川大学 | 一种适合铣削加工用的氧化铝/钛铝氮复合涂层及其制备方法 |
CN110643952A (zh) * | 2019-10-14 | 2020-01-03 | 四川大学 | 一种抗氧化的氧化铝/氮化钛硅复合涂层及其制备方法 |
CN110643951A (zh) * | 2019-10-14 | 2020-01-03 | 四川大学 | 一种抗高温氧化的铝铬硅氮与氧化铝多层复合涂层及其制备方法 |
CN110643935A (zh) * | 2019-10-14 | 2020-01-03 | 四川大学 | 一种抗月牙洼磨损的氮化铝钛/氧化铝复合涂层及其制备方法 |
CN114423882A (zh) * | 2019-09-12 | 2022-04-29 | 塞梅孔公司 | 多层涂层 |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2072636B1 (en) * | 2007-12-21 | 2016-08-31 | Sandvik Intellectual Property AB | Method of making a coated cutting tool |
JP2011051060A (ja) * | 2009-09-02 | 2011-03-17 | Mitsubishi Materials Corp | 表面被覆切削工具 |
CN102653044A (zh) * | 2011-03-02 | 2012-09-05 | 五冶集团上海有限公司 | 捣固焦炉装煤车托煤底板的制作方法 |
US8475943B2 (en) * | 2011-07-08 | 2013-07-02 | Kennametal Inc. | Coated article having yttrium-containing coatings applied by physical vapor deposition and method for making the same |
JP6014959B2 (ja) * | 2012-06-29 | 2016-10-26 | 住友電工ハードメタル株式会社 | 表面被覆切削工具 |
DE102012023260A1 (de) * | 2012-11-29 | 2014-06-05 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | Verfahren zur Strukturierung von Schichtoberflächen und Vorrichtung dazu |
JP6417959B2 (ja) * | 2014-01-22 | 2018-11-07 | 三菱マテリアル株式会社 | 硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具 |
CN104141110B (zh) * | 2014-07-22 | 2016-08-10 | 桂林电子科技大学 | 一种金属表面沉积铁+钒+钛+氮化钛的多层混合纳米强化层的制备工艺 |
US11274362B2 (en) * | 2014-08-29 | 2022-03-15 | Toufic Azar | Bioresorbable materials, bioresorbable medical devices, bioresorbable coatings for implantable medical devices and method of manufacturing the same using vapor deposition |
KR101629473B1 (ko) * | 2015-03-05 | 2016-06-10 | 주식회사 대우경금속 | 금속의 경도 향상 방법 |
CN111771011B (zh) | 2018-02-27 | 2022-07-05 | 日立金属株式会社 | 被覆构件及其制造方法 |
EP4048824A4 (en) * | 2019-10-25 | 2024-08-07 | Applied Materials Inc | PROCESS FOR DEPOSIT OF HIGH QUALITY PVD COATINGS |
CN113046698A (zh) * | 2021-03-12 | 2021-06-29 | 上海妙壳新材料科技有限公司 | 一种金属钢板板圆盘滚刀刃等离子注入钛方法 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61210190A (ja) * | 1985-03-14 | 1986-09-18 | Nippon Denso Co Ltd | 薄膜形成装置 |
CH667361GA3 (zh) * | 1986-02-04 | 1988-10-14 | ||
US5690796A (en) | 1992-12-23 | 1997-11-25 | Balzers Aktiengesellschaft | Method and apparatus for layer depositions |
DE19523550A1 (de) | 1995-06-28 | 1997-01-02 | Hauzer Holding | PVD-Hartstoffbeschichtung |
DE19547305A1 (de) | 1995-12-18 | 1997-06-19 | Univ Sheffield | Verfahren zum Beschichten von metallischen Substraten |
SE9603721L (sv) | 1996-10-10 | 1998-04-11 | Sandvik Ab | Efterbehandlad diamantbelagd kropp |
JPH11254241A (ja) * | 1998-03-09 | 1999-09-21 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 耐酸化・耐摩耗被膜付き工具 |
US6503373B2 (en) * | 2000-01-13 | 2003-01-07 | Ingersoll-Rand Company | Method of applying a coating by physical vapor deposition |
DE10005614A1 (de) * | 2000-02-09 | 2001-08-16 | Hauzer Techno Coating Europ B | Verfahren zur Herstellung von Beschichtungen sowie Gegenstand |
JP4560964B2 (ja) * | 2000-02-25 | 2010-10-13 | 住友電気工業株式会社 | 非晶質炭素被覆部材 |
JP3924438B2 (ja) * | 2001-03-29 | 2007-06-06 | 京セラ株式会社 | センサ付き切削工具およびその作製方法 |
CN100413998C (zh) * | 2002-08-08 | 2008-08-27 | 株式会社神户制钢所 | α型晶体结构为主体的氧化铝被膜相关技术 |
JP4205546B2 (ja) * | 2003-09-16 | 2009-01-07 | 株式会社神戸製鋼所 | 耐摩耗性、耐熱性および基材との密着性に優れた積層皮膜の製造方法 |
CA2562402C (en) * | 2004-04-19 | 2011-10-11 | Pivot A.S. | A hard, wear-resistant aluminum nitride based coating |
JP4535255B2 (ja) * | 2004-09-07 | 2010-09-01 | 三菱マテリアル株式会社 | 高硬度鋼の高速切削加工で表面被覆層がすぐれた耐摩耗性および耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具の製造方法 |
US20060219325A1 (en) * | 2005-03-31 | 2006-10-05 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) | Method for producing alpha-alumina layer-formed member and surface treatment |
SE529431C2 (sv) * | 2005-12-14 | 2007-08-07 | Sandvik Intellectual Property | Belagt hårdmetallskär, sätt att framställa detta samt dess användning för svarvning |
-
2008
- 2008-09-17 EP EP08164479.1A patent/EP2042261A3/en not_active Withdrawn
- 2008-09-18 IL IL194193A patent/IL194193A0/en unknown
- 2008-09-18 US US12/233,095 patent/US7989093B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2008-09-25 JP JP2008246191A patent/JP2009078351A/ja active Pending
- 2008-09-26 CN CN2008101610593A patent/CN101691654B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-09-26 KR KR1020080094496A patent/KR20090032016A/ko not_active Application Discontinuation
-
2012
- 2012-06-20 JP JP2012138625A patent/JP2012213852A/ja active Pending
Cited By (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9180522B2 (en) | 2010-11-23 | 2015-11-10 | Seco Tools Ab | Coated cutting tool insert |
CN103249869A (zh) * | 2010-11-23 | 2013-08-14 | 山高刀具公司 | 涂层切削工具刀片 |
CN103249869B (zh) * | 2010-11-23 | 2016-05-18 | 山高刀具公司 | 涂层切削工具刀片 |
CN103518018A (zh) * | 2011-03-18 | 2014-01-15 | 艾伦.伦纳菲乔德 | 刀片状工具及其制备方法 |
CN102732846A (zh) * | 2011-04-07 | 2012-10-17 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 被覆件及其制造方法 |
CN102328118A (zh) * | 2011-08-03 | 2012-01-25 | 四川欧曼机械有限公司 | 一种硬质合金钻头 |
CN102328473A (zh) * | 2011-08-03 | 2012-01-25 | 四川欧曼机械有限公司 | 一种立方氮化硼刀具及其制造方法 |
CN102517539A (zh) * | 2012-01-09 | 2012-06-27 | 西南大学 | 一种提高硬质涂层与基体界面结合强度的方法 |
CN104703735B (zh) * | 2012-10-02 | 2016-08-17 | 住友电工硬质合金株式会社 | 表面被覆切削工具及其制造方法 |
CN104703735A (zh) * | 2012-10-02 | 2015-06-10 | 住友电工硬质合金株式会社 | 表面被覆切削工具及其制造方法 |
CN102899613A (zh) * | 2012-10-29 | 2013-01-30 | 西安浩元涂层技术有限公司 | AlTiN高速切削刀具涂层的制备方法 |
CN102899613B (zh) * | 2012-10-29 | 2014-06-18 | 西安浩元涂层技术有限公司 | AlTiN高速切削刀具涂层的制备方法 |
CN105683412A (zh) * | 2013-07-15 | 2016-06-15 | 通用汽车环球科技运作有限责任公司 | 涂层工具以及制造和使用涂层工具的方法 |
CN105683412B (zh) * | 2013-07-15 | 2018-11-13 | 通用汽车环球科技运作有限责任公司 | 涂层工具以及制造和使用涂层工具的方法 |
CN103774090B (zh) * | 2014-02-07 | 2016-01-20 | 上海理工大学 | 一种含有氮化钒纳米***层的高硬度TiSiN涂层及其制备方法 |
CN103774090A (zh) * | 2014-02-07 | 2014-05-07 | 上海理工大学 | 一种含有氮化钒纳米***层的高硬度TiSiN涂层及其制备方法 |
CN106660110A (zh) * | 2014-08-20 | 2017-05-10 | 日立金属株式会社 | 压铸用被覆模具的制造方法 |
CN105848824A (zh) * | 2014-11-20 | 2016-08-10 | 南廷雨 | 硬质合金切削刀具的制造方法及通过该方法制造的切削刀具 |
CN108103454B (zh) * | 2017-11-30 | 2019-10-11 | 厦门金鹭特种合金有限公司 | 一种高光滑涂层刀具及其制作方法 |
CN108103454A (zh) * | 2017-11-30 | 2018-06-01 | 厦门金鹭特种合金有限公司 | 一种高光滑涂层刀具及其制作方法 |
CN109666887B (zh) * | 2018-12-28 | 2021-04-06 | 广东工业大学 | 一种TiAlN硬质涂层及其制备方法和应用 |
CN109666887A (zh) * | 2018-12-28 | 2019-04-23 | 广东工业大学 | 一种TiAlN硬质涂层及其制备方法和应用 |
CN110129740A (zh) * | 2019-04-23 | 2019-08-16 | 北京沃尔德金刚石工具股份有限公司 | 涂层刀具的制备及涂层表面处理方法和涂层刀具 |
CN114423882A (zh) * | 2019-09-12 | 2022-04-29 | 塞梅孔公司 | 多层涂层 |
CN110643953A (zh) * | 2019-10-14 | 2020-01-03 | 四川大学 | 一种适合铣削加工用的氧化铝/钛铝氮复合涂层及其制备方法 |
CN110643951A (zh) * | 2019-10-14 | 2020-01-03 | 四川大学 | 一种抗高温氧化的铝铬硅氮与氧化铝多层复合涂层及其制备方法 |
CN110643935A (zh) * | 2019-10-14 | 2020-01-03 | 四川大学 | 一种抗月牙洼磨损的氮化铝钛/氧化铝复合涂层及其制备方法 |
CN110643952A (zh) * | 2019-10-14 | 2020-01-03 | 四川大学 | 一种抗氧化的氧化铝/氮化钛硅复合涂层及其制备方法 |
CN110643951B (zh) * | 2019-10-14 | 2021-04-30 | 四川大学 | 一种抗高温氧化的铝铬硅氮与氧化铝多层复合涂层及其制备方法 |
CN110643935B (zh) * | 2019-10-14 | 2021-04-30 | 四川大学 | 一种抗月牙洼磨损的氮化铝钛/氧化铝复合涂层及其制备方法 |
CN110643953B (zh) * | 2019-10-14 | 2021-04-30 | 四川大学 | 一种适合铣削加工用的氧化铝/钛铝氮复合涂层及其制备方法 |
CN110643936A (zh) * | 2019-10-14 | 2020-01-03 | 四川大学 | 一种适合铣削加工用的多层复合涂层及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009078351A (ja) | 2009-04-16 |
JP2012213852A (ja) | 2012-11-08 |
CN101691654B (zh) | 2012-12-19 |
US7989093B2 (en) | 2011-08-02 |
US20090081479A1 (en) | 2009-03-26 |
KR20090032016A (ko) | 2009-03-31 |
IL194193A0 (en) | 2009-08-03 |
EP2042261A2 (en) | 2009-04-01 |
EP2042261A3 (en) | 2015-02-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101691654B (zh) | 制造涂层切削工具的方法 | |
CN101463461B (zh) | 制造涂层切削刀具的方法及根据该方法制成的切削刀具 | |
EP1736565B1 (en) | Method for depositing composite coatings for finishing of hardened steels | |
CN107636190B (zh) | 具有多层电弧pvd涂层的刀具 | |
US8709583B2 (en) | PVD coated tool | |
US8206812B2 (en) | Coated cutting tool | |
KR101820165B1 (ko) | 다층 코팅된 절삭 공구 | |
JP2017177239A (ja) | 表面被覆切削工具、およびその製造方法 | |
KR100576321B1 (ko) | 고인성 절삭공구/내마모성 공구 | |
WO2005053887A1 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
JP2010526680A (ja) | 切削工具 | |
US9849516B2 (en) | Coated cutting tool and method for manufacturing the same | |
KR102450097B1 (ko) | 절삭공구용 경질 피막 | |
CA2853137A1 (en) | Drill having a coating | |
JP2023506294A (ja) | 被覆切削工具 | |
CN109562461B (zh) | 耐熔敷崩刀性及耐剥离性优异的表面包覆切削工具 | |
JP2001181825A (ja) | 複合高硬度材料 | |
CN114761606B (zh) | 其上形成有硬质涂膜的切削工具 | |
JP5376375B2 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
JP4080481B2 (ja) | 表面被覆切削工具およびその製造方法 | |
JP5376374B2 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
JP2005335040A (ja) | 表面被覆切削工具 | |
RU27098U1 (ru) | Режущий инструмент с многослойным покрытием | |
JP2007144565A (ja) | 表面被覆切削工具 | |
JP2005138211A (ja) | 表面被覆切削工具 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20121219 Termination date: 20190926 |
|
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |