KR20090032016A - 코팅된 절삭 공구를 제조하는 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 코팅된 절삭 공구를 제조하는 방법에 관한 것으로, 기재를 제공하고 음극 아크 증발 PVD 증착 공정으로 상기 기재에 코팅을 증착하는 것을 포함하고, 이 코팅은 질화물, 산화물, 붕소화물, 탄화물, 탄질화물, 탄질산화물 또는 이들의 조합물이며, 증착 공정시 코팅이 하나 이상의 이온 에칭 단계를 거치는 것을 포함한다.

본 발명에 따른 절삭 공구는 표면 결함이 감소되어 PVD 코팅의 매끄러움이 향상됨으로써 수명이 증가할 것임을 보여준다.

음극 아크 증발 PVD 증착 공정

Description

코팅된 절삭 공구를 제조하는 방법{METHOD OF MAKING A COATED CUTTING TOOL}

본 발명은 PVD 코팅을 증착하는 것을 포함하며 PVD 코팅된 절삭 공구를 제조하는 방법에 관한 것이며, 증착시 코팅은 하나 이상의 이온 에칭 단계를 거치게 된다. 본 발명에 따라 제조되는 절삭 공구는 표면 결함이 감소되어 PVD 코팅의 매끈함이 향상됨으로써 증가된 공구 수명을 갖는다.

오늘날, 대부분의 절삭 공구는 Ti(C,N), TiN, (Ti,Al)N, (Ti,Si)N, (Al, Cr)N 또는 Al₂O₃ 와 같은 PVD 또는 CVD 코팅으로 코팅된다. PVD 코팅은 일반적으로 CVD 코팅보다 얇고, 인성이 필수적인 밀링과 같은 적용에 종종 사용된다. PVD 코팅은 CVD 코팅과 비교하여 예를 들면, 압축 응력, 미세 입자 코팅, 하중 변화를 견디는 데 있어 더 양호한 능력에 있어서 몇 가지 유익한 특성을 갖는다. 불행히도, 대부분의 아크 증착 PVD 코팅은 코팅 내부에 묻혀있는 또는 코팅의 표면상에 존재하는 작은 구형의 매크로 또는 액적이라고도 불리는 금속 거대입자로 인한 문제점이 있다. 코팅을 증착할 때, 상기 거대 입자들은 대전된 금속 이온의 유입 플럭스를 차단할 수 있어 거대 입자의 인접한 주변에서 코팅에 공극을 만든다. 결과적으로 코팅과 거대 입자 사이의 부착이 감소하여, 거대 입자는 증착 공정 또는 가공 직후 또는 가공 중에 떨어져 나갈 수 있다. 이로써 공극, 세공 또는 극단적인 경우에는 기재까지 하방으로의 구멍을 가지는 열등한 품질의 코팅이 될 수도 있다.

예를 들어 밀링 작업시 거대 입자를 가지는 코팅이 사용될 때, 칩이 돌출된 거대 입자와 기계적 및/또는 화학적으로 상호 작용할 위험이 있다. 칩이 절삭 공구 표면을 이동할 때, 코팅의 작은 부분이 떨어져 나가 코팅에 구멍 또는 세공을 남기게 된다. 절삭날의 균열은 결국 날의 칩핑 또는 절삭 공구의 파손을 발생시킬 것이다.

이온 에칭은 모든 종류의 증착 공정의 일반적인 단계이다. 이 기재는 일반적으로 표면 오염물과 본래의 산화물과 질화물을 제거하기 위해 증착 이전에 이온 에칭된다.

US 6,033,734 는 PVD 코팅을 증착하기 전에 금속 기재 표면상에 이온 수행되는 상이한 에칭 공정을 설명한다. 이 에칭은 Cr 및/또는 Mo 이온을 사용함으로써 수행되는 금속 에칭 공정이다.

그러나, 이온 에칭을 중간 단계로 사용하는 몇 가지 시도가 있어왔다.

EP 0756019 는 펀칭 작업에서 사용되는 재료 변형 공구를 위한 PVD 코팅을 만드는 방법을 설명한다. (Ti,Al)N, (Ti,Al,Y)N 또는 (Ti,Al,Cr)N 또는 이들의 어떠한 다중 층으로 구성된 PVD 층이 증착된다. 그리고 나서 이 표면은 매 끈한 표면을 얻기 위해 또한 어떠한 액적을 제거하기 위해 예를 들어 금속 이온 에칭 또는 샌드 블라스팅 (sand blasting) 으로 기계적으로 처리된다. 그리고 나서, MoS₂ 로 구성되는 저마찰의 제 2 PVD 코팅이 상부에 증착된다.

EP 1 533 210A 은 PVDα- Al₂O₃ 을 증착하는 공정을 설명한다. 우선, 기재는 아르곤 또는 금속이온으로 이온 충돌을 받을 수 있는 제 1 경질 코팅으로 코팅된다. 그리고 충돌 표면은 산화 공정을 거치고, 이로써 산화물 표면층이 형성된다. 이 산화물 표면층에는 α- Al₂O₃ 인 Al₂O₃ 층이 증착된다.

본 발명의 목적은 코팅의 표면 및 내부에 있는 거대 입자의 양을 줄여 결과적으로 코팅의 세공과 공극 및 구멍의 양을 줄이는 코팅된 절삭 공구를 제조하는 방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 더 적은 크레이터 마모, 더 적은 플랭크 마모, 더 적은 프릿팅 그리고 증가된 공구 수명을 가지는 코팅된 절삭 공구를 제조하는 방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 프릿팅과 깨짐의 위험 없이 더 두꺼운 PVD 코팅을 증착시킬 수 있게 하는 코팅된 절삭 공구를 제조하는 방법을 제공하는 것이다.

본 발명에 따르면, 본 발명은 코팅된 절삭 공구를 제조하는 방법에 관한것으로 기재를 제공하고 음극 아크 증발 PVD 증착 공정으로 상기 기재에 코팅을 증착하는 것을 포함하고 여기서 코팅은 질화물, 산화물, 붕소화물, 탄화물, 탄질화물, 탄질산화물 또는 이들의 조합물이며, 증착 공정은 또한 코팅이 하나 이상의 별도의 중간 이온 에칭 단계를 거치는 것을 포함한다. 줄어든 거대 입자의 양을 가지는 매끄러운 PVD 코팅이 얻어질 수 있으며 이로써 상기 개시된 목적이 달성될 수 있다.

본 발명은 코팅된 절삭 공구를 제조하는 방법에 관한 것이며, 기재를 제공하 고, 음극 아크 증발 PVD 증착 공정으로 상기 기재에 코팅을 증착하는 것을 포함하고, 이 코팅은 질화물, 산화물, 붕소화물, 탄화물, 탄질화물, 탄질산화물 또는 이들의 조합물이며, 증착 공정은 또한 코팅이 하나 이상의 별도의 중간 이온 에칭 단계를 거치는 것을 포함한다. 이온 에칭 단계는 증착실을 이용하여 수행된다.

이온 에칭 단계는 별도의 중간 단계로서 이온 충돌에 의해 달성되며, 이는 에칭 단계가 진행되는 동안은 실제 증착이 중단되고 에칭 단계 후에 재개되는 것을 의미하며 즉, 이온 에칭 단계는 증착 단계와 번갈아 실행되는것을 의미한다. 사용되는 이온은 아르곤 이온 또는 금속이온일 수 있다. 상기 이온 에칭은 코팅의 돌출부를 제거할 수 있으며 또한 코팅의 나머지에 대한 부착성이 열등한 코팅재료 예를 들면 거대 입자도 제거할 것이다. 이 방법으로 표면 결점 소위 거대 입자의 양이 감소된 매끄러운 PVD 코팅을 얻을 수 있다.

이온 에칭은 PVD 코팅을 증착하는데 알맞은 어떠한 온도에서도 수행될 수 있으며, 그러나 450 ~ 600 ℃ 의 온도가 바람직하다. 에칭 단계에서 압력은 1 ~ 5 μbar 가 바람직하며 1 ~ 3 μbar 이 더 바람직하다.

본 발명의 일 실시형태에서 아르곤 이온이 사용된다. 아르곤 이온은 아르곤 가스로 충진된 증착실에서 플라즈마를 점화시킴으로써 얻을 수 있다. 아르곤 이온은 음전위 바람직하게는 80 ~ 250 V, 더 바람직하게는 100 ~ 200 V 에서 유지되는 기재를 향해 가속된다.

본 발명의 다른 실시형태에서는 금속 이온이 사용된다. 금속 이온은 소개되는 증착실에서 특정 에칭 타겟에서 플라즈마를 발생시키고 이로써 밀한 금속 이온 증기를 형성함으로써 얻어지고, 이 금속 이온은 고음전위에서 바람직하게는 150 ~ 1500 V, 더 바람직하게는 200 ~ 1000 V 에 유지되어 있는 기재를 향해 가속된다. 금속 이온은 바람직하게 Ti,Zr,Cr,Nb,V,Mo 중의 하나 이상이고 더 바람직하게는 Cr 또는 Mo 이다.

본 발명의 실시형태에서, 이온 에칭 단계는 중간단계인데 이는 이 이온 에칭 단계가 증착 단계와 번갈아 수행된다는 것을 의미한다. 에칭시, 증착은 일어나지 않는다. 이온 에칭 단계가 중간 단계일 때, 이 작업은 많은 횟수로 반복되며 거대 입자는 부분적으로 또는 완전히 제거되고 거대입자들이 떨어져 나갈 때 남겨진 공극은 그 다음 증착 단계에서 새로운 코팅재로 채워질 것이다. 따라서, 깊고 큰 세공이 효과적으로 회피될 수 있으며 표면 결함이 최소화된 밀하고 균질한 코팅이 얻어진다.

본 발명의 다른 실시형태에서 PVD 코팅의 증착 단계가 끝난뒤 부가적인 이온 에칭 단계가 마지막 단계로서 수행된다. 이로써 PVD 코팅은 매끈한 표면을 갖게 된다.

증착된 PVD 코팅은 절삭공구에 적절한 어떠한 조성물도 가질 수 있는데, 예를 들어 질화물, 산화물, 붕소화물, 탄화물, 탄질화물, 탄질산화물 또는 이들의 조합물을 가질 수 있다. 바람직하게, 코팅은 하나 이상의 (Al,Ti)N, TiN, Ti(C,N), (Al,Cr)N, CrN, AlO, (Ti,Si)N, TiBN, TiB, (Ti,Al,X)N (여기서, X 는 Si, B, C, Ta, V, Y, Cr, Hf, Zr 중 하나 이상 일 수 있음) 중의 하나 이상, 더 바람직하게는 (Al,Ti)N,(Ti,Si)N, TiBN, (Ti,Al,X)N (여기서 X 는 상기 정의한바와 같음), 가장 바람직하게는 (Al,Ti)N 으로 된 하나 이상의 층을 포함한다.

본 발명에 따라 사용되는 PVD 코팅은 균질한 코팅 또는 다중층의 코팅일 수 있다. 이온 에칭은 각기 균질하나 다른 조성을 갖는 층들 사이에 있는 균질한 조성의 층에 하나 이상의 중간단계로서 또는 다중층의 코팅에서 하나 이상의 중간 단계로서 또는 이들의 어떤 혼합으로 수행될 수 있다. 여기서 다중층의 코팅이라 함은 적어도 5 개 바람직하게는 적어도 10 개의 개별적인 층을 포함하는 코팅을 의미한다. 그러나, 이는 수 천개의 개별적인 층까지도 포함할 수 있다.

본 발명의 방법에 포함되어 있는 이온 에칭 단계는 거대입자가 더 현저한 음극 아크 증착에 있어서 특별히 중요하게 여겨지나 대부분의 PVD 기술에 적용될 수 있다.

본 발명에 따른 방법이 종래의 PVD 코팅보다 더 두꺼운 코팅을 증착할 수 있도록 하기 때문에 PVD 코팅의 두께는 더 광범위할 수 있다. 코팅 두께는 0.1 ~ 10 ㎛, 바람직하게는 0.5 ~ 6 ㎛, 가장 바람직하게는 1 ~ 5 ㎛ 일 수 있다.

본 발명에 적당한 기재는 바람직하게는 절삭 공구 인서트 또는 드릴 또는 엔드밀 등의 둥근 공구이다. 이 기재는 초경합금, 서멧, 세라믹, 입방 질화 붕소 또는 고속도강 중 하나로 제조될 수 있다.

또 본 발명은 전술한 공정에 따라 제조된 절삭 공구에 관한 것이다.

본 발명에 따라 제조된 절삭 공구는 줄어든 거대입자의 양으로 인해 더 매끄러운 코팅을 얻을 수 있다는 결과를 얻었다. 매끄러운 코팅은 많은 개선으로 이어질 것이다. 예를 들어, 칩은 공구 표면상에서 더 용이하게 이동할 것이며, 코팅과 가장자리에서만 상호 작용하고, 따라서 깨짐의 위험을 줄일 것이다. 매끄러운 코팅은 또한 더 낮은 온도로 인해 내크레이터 마모성을 증가시킬 것이며 구성인선, 노치 마모, 날선 프릿팅 (fritting) 과 크랙킹의 위험을 줄이며 둥근 공구에서의 칩 정체 및 그에 따른 공구 파손에 대한 위험을 최소화할 것이다. 더 적은 마찰 마모를 갖는 더 매끈한 코팅은 고착의 문제점이 없이 더 두꺼운 코팅을 가능하게 한다.

매끈한 코팅은 작업물에 진퇴할 때 충격 하중을 유발하는 선삭 가공시의 단속 절삭에서도 유익하다. 이 경우 매끈한 코팅은 심각한 파손의 위험을 상당히 감소시킬 것이다.

실시예 1

작업형태 (선삭, 밀링 등) 에 따라 상이한 기하학적 형태 CNMG120408-MM, R29012T308M-KM, 및 R390-11T0308M-PM 를 갖는 초경합금 인서트가 표준 Ti_{0 .33} Al_{0 .67} N 코팅으로 코팅되었다. 이 코팅은 N₂ 분위기에서 음극 아크 증발에 의해 증착되었으며 인서트는 3 폴드 회전 기재 테이블에 장착되었다. (Ti, Al)N 코팅은 두 쌍의 Ti_{0 .33} Al_{0 .67} - 타겟에서 증착되었다.

인서트 A 는 플랭크면의 중간에서 측정된 4 ㎛ 두께의 층을 증착함으로써 종래 기술에 따라 코팅되었다.

본 발명에 따라 인서트 B 가 코팅되었다. 0.7 ~ 0.8 ㎛ 의 층을 증착시킨 후 이 증착이 중단되며 반응기실이 아르곤 가스로 충진되었다는 점을 제외하고 는 인서트 A 와 동일한 증착 조건이 적용되었다. 음의 바이어스가 인서트에 가해졌으며 플라즈마가 점화되고 인서트에 아르곤 이온이 충돌하였다. 이온 충돌 후, 증착이 다시 시작되어 새로운 Ti_0.33 Al_0.67 N층이 증착되었다. 이 공정은 전체 코팅 두께가 4 ㎛ 에 도달할 때까지 6 회 반복되었다. 최종 단계로서, 증착 사이클이 종료되고 챔버가 개방되기 전에 인서트가 다시 이온 충돌을 받는 표면 처리가 수행되었다.

도 1 에서는 인서트 A 의 코팅의 단면의 SEM 사진을 볼 수 있다. 이 도면은, 액적이 떨어져 기재를 덮고 있는 아주 얇은 코팅층이 남겨진 곳에서 세공이 관찰됨을 보여준다. 인서트 B 의 코팅의 SEM 사진이 도 2 및 도 3 에서 나타나 있다. 도 2 에서는 더 적은 세공과 공극를 갖는 더 매끈한 상층면이 나타나 있다. 몇몇 매크로가 코팅안에 들어 있는 것을 볼 수 있되, 이들은 확실히 부착되있으며 그 주위에 공극이 없다. 도 2 의 확대도인 도 3 에서는 코팅에 다수의 얇은 선이 뚜렷히 나타나 있다. 이는 이온 충돌 공정으로 인한 것이다. 이온은 Al 과 같이 더 가벼운 원소를 우선적으로 에칭하며 Ti 부유영역을 남긴다. 도 4 및 도 5 는 각 도 1 과 도 2 의 코팅을 위에서 본 FEGSEM 이미지를 나타낸다.

실시예 2

입방 질화붕소 인서트는 실시예 1 의 인서트에 따라 코팅되었지만 이 경우, 코팅은 2 쌍의 Ti 타겟에서 증착된 균질한 TiN 코팅이다. 종래 기술에 따라 인 서트 C 는 플랭크 면의 중간에서 측정된 코팅 두께 4 ㎛ 가 이르게 증착되었다. 본 발명에 따른 인서트 D 는 증착 후 챔버가 아르곤으로 충진되고 플라즈마가 점화되어 인서트가 아르곤 이온 충돌을 받았다는 점을 제외하고 동일한 방법으로 증착되었다.

실시예 3

CNMG120408-MM 의 기하학적 형상을 갖는 초경합금 밀링 인서트는 N₂ 분위기에서 음극 아크 증발에 의해 증착된 불규칙한 (Ti,Al)N 의 다중층으로 코팅되었으며, 인서트는 불규칙한 구조를 얻기 위해 설치된 3 폴드 회전 기재 테이블에 장착되었다. 다중층은 두 쌍의 Ti_{0 .33} Al_{0 .67} - 타겟과 한쌍의 Ti- 타겟이 동시에 작동하여 증착되었다. 종래 기술에 따라 코팅된 인서트 E 는 인서트의 경사면의 중간에서 측정된 코팅의 두께는 4 ㎛ 에 이르렀다.

인서트 F 의 (본 발명의) 증착시, 1.5 ㎛ 두께의 층을 증착한 후에 증착이 중단되고, 반응기실은 아르곤으로 충진되었다. 음의 바이어스가 인서트에 적용된다. 플라즈마가 점화되었고, 인서트에는 아르곤 이온이 충돌되었다. 이온 충돌 후, 증착이 다시 시작되었고 1.5 ㎛ 가 더 증착되고, 인서트는 이온 에칭되었으며 나머지 코팅이 증착되었다. 최종 단계로서, 증착 사이클이 종료되고, 챔버가 개방되기 전에 인서트가 다시 이온 충돌을 받는 표면 처리가 수행되었다. 전체 코팅 두께는 4 ㎛ 였다.

실시예 4 ~ 실시예 8:

이하의 표현/용어는 금속 절삭에서 일반적으로 사용되는 것으로 이하에 설명되어 있다.

V_C (m/min) : 분당 미터 절삭 속력

f_Z (mm/tooth) : 이 하나당 밀리미터의 이송량

z (갯수) : 커터의 잇수

a_e (mm) : 밀리미터의 반경 방향 절삭 깊이

a_p (mm) : 밀리미터의 축방향 절삭 깊이

D (mm) : 밀리미터의 커터의 직경

실시예 4

실시예 1 의 CNMG120408-MM 기하학적 형상을 갖는 인서트 A (종래 기술) 와 인서트 B (본 발명) 는 이하의 절삭 조건을 갖는 선삭 작업에서 시험되었다.

작업물 재료 : 경강 오바코 825 B

V_C = 110 m/min

f_Z = 0.3 mm/tooth

a = 2 mm

냉각제 = 유제 (emulsion)

공구 수명 기준은 0.3 mm 를 초과하는 플랭크 마모 또는 인서트 실패이다. 인서트 A (종래 기술) 는 이 적용에서 14 분간 지속되는 반면, 인서트 B (본 발 명) 는 21 분간 지속되었다.

실시예 5

실시예 1 의 R290-12T308M-KM 기하학적 형상을 갖는 인서트 A (종래 기술) 와 인서트 B (본 발명) 는 밀링 작업시 시험 및 비교되었다.

작업물 재료 : CGI (밀한 그래파이트 철) 신터캐스트

V_C = 300 m/min

f_Z = 0.15 mm/tooth

a_e = 50 mm

a_p = 3 mm

z = 3

D = 63 mm

비고: 건식 조건

인서트 A (종래 기술) 는 이 적용에서 32 분 동안만 지속되는 반면 인서트 B (본 발명) 는 45 분간 지속된다. 공구 수명을 증가시키는 마모 타입의 결정적인 차이점은 더 적은 프릿팅이었다.

실시예 6

R390-11T0308M-PM 기하학적 형상을 갖는 실시예 1 에 따라 코팅된 인서트 A (종래 기술) 와 인서트 B (본 발명) 는 이하 절삭 조건을 갖는 밀링 작업에서 시험되었다.

작업물 재료 : 저합금강, SS2244

V_C = 150 m/min

f_Z = 0.15 mm/tooth

a_e = 25 mm

a_p = 3 mm

z = 2

D = 25 mm

비고 : 냉각제 : 유제

공구 수명 기준은 0.2 mm 이상의 플랭크 마모 또는 0.3 mm 이상의 프릿팅이다.

이 적용에서 인서트 A (종래 기술) 는 30 분간 지속되는 반면 인서트 B (본 발명) 는 37 분간 지속되었다.

증가된 속력 V_C = 200 m/min 에서, 인서트 A (종래 기술) 는 20 분간 지속되지만, 인서트 B (본 발명) 는 25 분간 지속되었다.

공구 수명을 증가시키는 마모 타입에 있어서 결정적인 차이점은 더 적은 플랭크 마모와 함께 날선에서의 더 적은 칩핑이었다. 흥미롭게도, 인서트 A (종래 기술) 는 더 심각한 실패를 겪는 반면 인서트 B (본 발명) 는 느리고 꾸준한 마모의 증가를 나타낸다.

실시예 7

CNGA120408T01030AWH 기하학적 형상을 갖는 입방 질화붕소 인서트 C (종래 기술) 와 인서트 D (본 발명) 는 선삭 작업에서 시험되었다. 시험체는 90 도의 진퇴각을 갖는 10 mm 의 잭의 링형이었다. 이송량은 0.20 mm/r 에서 시작하여 매 절삭마다 0.02 mm/r 로 상승하여 단계적으로 증가되었다.

작업물 재료 : 저합금 강 SS2258, HRC = 56

공구 홀더 : C5-DCLNL-35060-12

V_C = 120 m/min

F_n = A_P

a_p = 초기에는 0.20 mm/r 이고 매 절삭마다 단계적으로 0.02 mm/r 로 증가

비고 : 건식 조건

공구 수명 기준은 인서트의 파손이었다.

0.34 mm/r 의 이송량에서 인서트 C (종래 기술) 는 인서트 파손을 겪었고, 인서트 D (본 발명) 는 이송량이 0.50 mm/r 에 도달할 때까지 지속되었다.

실시예 8

실시예 3 의 CNMG120408-MM 기하학적 형상을 갖는 인서트 E (종래 기술) 와 인서트 F (본 발명) 는 이하의 절삭 조건을 갖는 선삭 작업에서 시험되었다.

작업물 재료 : 경강 오바코 825 B

V_C = 160 m/min

f_Z = 0.3 mm/tooth

a = 2 mm

냉각제 : 유제

공구 수명 기준은 0.45 mm 를 초과하는 플랭크 마모 또는 인서트 실패였다. 이 적용에서 인서트 E (종래 기술) 는 17 분간 지속되는 반면 인서트 F (본 발명) 은 21 분간 지속되었다. 공구 수명을 증가시키기 위한 마모 타입의 결정적인 차이점은 더 양호한 내크레이터 마모성이었다.

도 1 은 종래 기술에 따라 증착된 PVD 증착 (Ti,Al)N 코팅의 연마된 단면을 나타낸다.

도 2 는 본 발명에 따라 증착된 코팅의 연마된 단면을 나타낸다.

도 3 은 도 2 의 코팅의 확대도이다.

도 4 와 도 5 는 도 1 과 도 2 각각의 코팅의 위에서 본 FEGSEM 이미지를 나타낸다.

도 6 은 거대 입자가 어떻게 코팅에 매립되어 새로운 코팅층에 의해 덮여있는지를 보여주는 TEM 명시야상을 나타낸다.

Claims (11)

1. 코팅된 절삭 공구를 제조하는 방법으로서, 기재를 제공하고 음극 아크 증발 PVD 증착 공정으로 상기 기재에 코팅을 증착하는 것을 포함하고, 이 코팅은 질화물, 산화물, 붕소화물, 탄화물, 탄질화물, 탄질산화물 또는 이들의 조합물이며, 증착 공정은 또한 코팅이 하나 이상의 별도의 중간 이온 에칭 단계를 거치는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 코팅된 절삭 공구를 제조하는 방법.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 이온 에칭은 아르곤 이온으로 수행되는 것을 특징으로 하는 코팅된 절삭 공구를 제조하는 방법.
3. 제 1 항에 있어서, 상기 이온 에칭은 금속 이온으로 수행되는 것을 특징으로 하는 코팅된 절삭 공구를 제조하는 방법.
4. 제 3 항에 있어서, 상기 이온 에칭은 Ti, Zr, Cr, Nb, V, Mo 이온 중의 하나 이상으로 수행되는 것을 특징으로 하는 코팅된 절삭 공구를 제조하는 방법.
5. 제 4 항에 있어서, 상기 이온 에칭은 Cr 또는 Mo 이온 중의 하나 이상으로 수행되는 것을 특징으로 하는 코팅된 절삭 공구를 제조하는 방법.
6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 코팅의 최종 이온 에칭 단계는 코팅의 증착의 완료 후에 수행되는 것을 특징으로 하는 코팅된 절삭 공구를 제조하는 방법.
7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 PVD 코팅은 (Al,Ti)N, TiN, Ti(C,N), (Al,Cr)N, CrN, AlO, (Ti,Si)N, TiBN, TiB, (Ti, Al, X)N 중의 하나 이상으로 된 하나 이상의 층을 포함하며, X 는 하나 이상의 Si, B, C, Ta, V, Y, Cr, Hf, Zr, 중의 하나 이상이 될 수 있는 것을 특징으로 하는 코팅된 절삭 공구를 제조하는 방법.
8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 PVD 코팅은 (Al,Ti)N, (Ti,Si)N, TiBN, (Ti,Al,X)N 중의 하나 이상으로 된 하나 이상의 층을 포함하며, X 는 Si, B, C, Ta, V, Y, Cr, Hf, Zr 중의 하나 이상인 것을 특징으로 하는 코팅된 절삭 공구를 제조하는 방법.
9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, PVD 코팅은 (Al,Ti)N 으로 된 하나 이상의 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 코팅된 절삭 공구를 제조하는 방법.
10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서, 기재는 초경합금, 서멧, 세 라믹, 입방 질화붕소 또는 고속도강으로 제조되는 것을 특징으로 하는 코팅된 절삭 공구를 제조하는 방법.
11. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 따라 제조되는 코팅된 절삭 공구.

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